JPWO2011108730A1 - 単核金属錯体、水素化還元触媒、脱水素用触媒、水素化還元生成物の製造方法、水素(h2)の製造方法および脱水素反応生成物の製造方法 - Google Patents
単核金属錯体、水素化還元触媒、脱水素用触媒、水素化還元生成物の製造方法、水素(h2)の製造方法および脱水素反応生成物の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Ar1は、芳香族性アニオン性配位子、もしくは芳香族性配位子であるか、または存在せず、
Ar2は、芳香族性を有する配位子であり、置換基を有していても有していなくても良く、置換基を有する場合、前記置換基は1でも複数でも良く、
Mは、遷移金属の原子またはイオンであり、
A1およびA2は、双方が炭素原子であるか、または、一方が炭素原子であり、且つ、他方が窒素原子であり、
Yは、アニオン性基もしくはカチオン性基であるか、または存在せず、
Lは、任意の配位子であるか、または存在せず、
mは、正の整数、0、または負の整数である。
前記本発明の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含むことを特徴とする。
前記本発明の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含むことを特徴とする。
被還元物質を水素化還元して水素化還元生成物を製造する方法であって、前記本発明の水素化還元触媒と前記被還元物質と水素(H2)とを含む溶液または分散系中で、前記被還元物質と水素(H2)との反応により前記被還元物質を還元する工程を含むことを特徴とする。
前記本発明の脱水素用触媒と水素源とを含む溶液または分散系中で、前記水素源を分解して水素(H2)を発生させる工程を含むことを特徴とする。さらに、本発明の脱水素反応生成物の製造方法は、前記本発明の脱水素用触媒と水素源とを含む溶液または分散系中で、前記水素源を分解して前記脱水素反応生成物を発生させる工程を含むことを特徴とする。
本発明者らは、前述の課題を解決するために鋭意研究の結果、前記式(1)で表される単核金属錯体が有用であることを見出した。前記式(1)で表される単核金属錯体において、芳香族性アニオン性配位子、もしくは芳香族性配位子であるAr1は、例えば、シクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジエニル基、ヘキサメチルベンゼン基、テトラメチルシクロペンタジエニル基等が挙げられる。
R1〜R5は、それぞれ独立に、水素原子または任意の置換基であり、
Ar2、M、A1、A2、Y、Lおよびmは、前記式(1)と同様である。
R0〜R5は、それぞれ独立に、水素原子または任意の置換基であり、
Ar2、M、A1、A2、Y、Lおよびmは、前記式(1)と同様である。
または、R9およびR10は、一体となって -CH=CH- を形成しても良く、前記 -CH=CH- におけるHは、それぞれ独立に、任意の置換基で置換されていても良く、
Q0は、CまたはNであり、
Q6〜Q12は、それぞれ独立に、CまたはN+であり、
または、同一のX(Xは、6〜12のいずれかの整数)を有するQXとRXのうち少なくとも一つが、一体となってNであっても良く、
M、L、mおよびR1〜R5は、前記式(2)と同様である。
Q6〜Q15は、それぞれ独立に、CまたはN+であり、
または、同一のX(Xは、6〜15のいずれかの整数)を有するQXとRXのうち少なくとも一つが、一体となってNであっても良く、
M、L、mおよびR1〜R5は、前記式(2)と同様である。
または、R9およびR10は、一体となって -CH=CH- を形成しても良く、前記 -CH=CH- におけるHは、それぞれ独立に、任意の置換基で置換されていても良く、
Q6〜Q13は、それぞれ独立に、CまたはN+であり、
または、同一のX(Xは、6〜13のいずれかの整数)を有するQXとRXのうち少なくとも一つが、一体となってNであっても良く、
M、L、mおよびR1〜R5は、前記式(2)と同様である。
または、R9およびR10は、一体となって -CH=CH- を形成しても良く、前記 -CH=CH- におけるHは、それぞれ独立に、任意の置換基で置換されていても良く、
Q0は、CまたはNであり、
Q6〜Q12は、それぞれ独立に、CまたはN+であり、
または、同一のX(Xは、6〜12のいずれかの整数)を有するQXとRXのうち少なくとも一つが、一体となってNであっても良く、
M、L、mおよびR0〜R5は、前記式(3)と同様である。
Q6〜Q15は、それぞれ独立に、CまたはN+であり、
または、同一のX(Xは、6〜15のいずれかの整数)を有するQXとRXのうち少なくとも一つが、一体となってNであっても良く、
M、L、mおよびR0〜R5は、前記式(3)と同様である。
R9およびR10は、一体となって -CH=CH- を形成しても良く、前記 -CH=CH- におけるHは、それぞれ独立に、任意の置換基で置換されていても良く、
Q6〜Q13は、それぞれ独立に、CまたはN+であり、
または、同一のX(Xは、6〜13のいずれかの整数)を有するQXとRXのうち少なくとも一つが、一体となってNであっても良く、
M、L、mおよびR0〜R5は、前記式(3)と同様である。
Irは、イリジウムの原子またはイオンであり、
L、mおよびYは、前記式(2)と同じである。
L、m、Irは、前記式(10)と同じである。
L、m、Irは、前記式(10)と同じである。
前記式(1)で表される単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩(以下、単に「化合物(1)」という場合がある)の製造方法は、特に限定されず、どのような方法により製造しても良い。
前記スキーム1中、工程1は、例えば、Kenichi Fujita, Yoshinori Takahashi, Maki Owaki, Kazunari Yamamoto, and Ryohei Yamaguchi, Organic. Letters. 2004, 6, 2785-2788等の文献を参考に、適宜反応条件を設定して行うことができる。具体的には、例えば以下のとおりである。すなわち、まず、アルコール溶媒(メタノール、エタノール等)にMX3(化合物(101)、Xはハロゲン)を溶かし、溶液とする。MX3は、例えば、水和物等であっても良い。濃度は特に制限されないが、例えば0.01〜10mol/L、好ましくは0.01〜5mol/L、より好ましくは0.1〜1mol/Lである。この溶液に、不活性ガス(窒素、アルゴン等)雰囲気下で、Ar1(化合物(102)、構造は、スキーム1中に示したとおり)を加え、反応させて、目的の錯体[Ar1RMX2]2(103)を得る。Ar1の物質量(モル数)は特に制限されないが、MX3の物質量(モル数)に対し、例えば1〜20倍、好ましくは1〜10倍、より好ましくは1〜5倍、である。反応温度は特に制限されないが、例えば30〜64℃、好ましくは50〜64℃、より好ましくは55〜62℃である。反応時間も特に制限されないが、例えば1〜30時間、好ましくは10〜24時間、より好ましくは15〜24時間である。反応終了後、得られた錯体(103)は、必要に応じ単離、精製等をしても良いし、単離、精製等をせずにそのまま次の反応工程に用いても良い。単離、精製等の方法も特に制限されず、定法にしたがって行うことが可能であり、例えば、エバポレーション、ろ過、洗浄、カラムクロマトグラフィー、再結晶法等の方法を、単独で、または適宜組み合わせて用いることができる。
前記スキーム1中、前記工程2は、例えば、Andrew Nutton, Pamela M. Bailey, and Peter M. Maitlis. Journal of the Chemical Society, Dalton Transactions. 1981, 9, 1997-2002 や Moris S. Eisen, Ariel Haskel, Hong Chen, Marilyn M. Olmstead, David P. Smith, Marcos F. Maestre, and Richard H. Fish. Organometallics, 1995, 14, 2806-2812等の文献を参考に、適宜反応条件を設定して行うことができる。具体的には、例えば以下のとおりである。すなわち、まず、銀塩(例えば、Ag2SO4等)の水溶液を調製する。濃度は特に制限されないが、例えば0.1〜28mmol/L、好ましくは1〜27mmol/L、より好ましくは10〜27mmol/Lである。この水溶液に、不活性ガス(窒素、アルゴン等)雰囲気下、前記工程1で製造した錯体[Ar1MX2]2(103)を加え、反応させて目的の錯体[Ar1M(OH2)3]m+(104)を得る。この反応は、例えば、暗下で行うことが好ましいが、これに限定されない。反応温度は特に制限されず、適宜設定可能である。反応時間も特に制限されないが、例えば0.5〜10時間、好ましくは0.5〜5時間、より好ましくは2〜5時間である。また、前記銀塩の物質量(モル数)は、特に制限されないが、錯体[Ar1MX2]2(103)の物質量(モル数)に対し、例えば1〜2倍、好ましくは1〜1.5倍、より好ましくは1〜1.05倍である。反応終了後、得られた錯体(104)は、必要に応じ単離、精製等をしても良いし、単離、精製等をせずにそのまま次の反応工程に用いても良い。単離、精製等の方法も特に制限されず、定法にしたがって行うことが可能であり、例えば、エバポレーション、ろ過、洗浄、カラムクロマトグラフィー、再結晶法、対アニオン交換沈殿法等の方法を、単独で、または適宜組み合わせて用いることができる。
本発明の水素化還元触媒は、前述のとおり、前記本発明の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含むことを特徴する。また、本発明による水素化還元生成物の製造方法は、前述のとおり、被還元物質を水素化して水素化還元生成物を製造する方法であって、前記本発明の水素化還元触媒と前記被還元物質と水素(H2)とを含む溶液または分散系中で、前記被還元物質と水素(H2)との反応により前記被還元物質を還元する工程を含むことを特徴とする。前記被還元物質は、特に限定されないが、例えば、二酸化炭素、アルデヒド、ケトン、酸化型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド(NAD+)、酸化型水溶性キノン類(例えば、酸化型コエンザイムQ10)、酸化型フラビン補酵素類縁体(例えば、酸化型リボフラビン)、デヒドロアスコルビン酸、タンニン、酸化型グルタチオン、アルドン酸、アルダル酸、アラントイン等が挙げられる。前記アルデヒドは、特に限定されず、芳香族アルデヒドでも、脂肪族アルデヒドでも良い。脂肪族アルデヒドとしては、例えば、直鎖または分枝アルキル基から誘導されるアルデヒドが挙げられ、アルキル基としては、例えば前述のとおりである。前記脂肪族アルデヒドは、より具体的には、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、2−メチルプロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド等が挙げられる。前記ケトンは、特に限定されず、芳香族ケトンでも、脂肪族ケトンでも良い。脂肪族ケトンとしては、例えば、直鎖または分枝アルキル基から誘導されるケトンが挙げられ、アルキル基としては、例えば前述のとおりである。前記脂肪族ケトンは、より具体的には、例えば、アセトン、2−ブタノン等が挙げられる。前記水素化還元生成物は、特に限定されないが、例えば、ギ酸、アルコール、還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド(NADH)、還元型水溶性ヒドロキノン類(例えば、還元型コエンザイムQ10)、ビタミンB2(還元型フラビン補酵素類縁体ともいう、例えば、還元型リボフラビン)、ビタミンC(アスコルビン酸ともいう)、フラボノイド(例えば、カテキン、クェルセチン等)、グルタチオン、還元糖(例えば、任意の単糖類、転化糖、マルトース型二糖、オリゴ糖類等)、尿酸等が挙げられる。前記アルコールは、特に限定されず、芳香族アルコールでも、脂肪族アルコールでも良い。脂肪族アルコールとしては、例えば、直鎖または分枝アルキル基から誘導されるアルコールが挙げられ、アルキル基としては、例えば前述のとおりである。前記脂肪族アルコールは、より具体的には、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、2−メチル−1−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール等が挙げられる。また、本発明における前記水素化還元生成物は、前記被還元物質が水素化された物質自体でも良いが、それが変化したものでも良い。例えば、前記被還元物質が二酸化炭素の場合、前記水素化還元生成物は、ギ酸でも良いが、ギ酸イオン等であっても良い。
本発明の脱水素用触媒は、前述のとおり、前記本発明の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含むことを特徴する。また、本発明による水素(H2)の製造方法は、前述のとおり、前記本発明の脱水素用触媒と水素源とを含む溶液または分散系中で、前記水素源を分解して水素(H2)を発生させる工程を含むことを特徴とする。さらに、本発明の脱水素反応生成物の製造方法は、前述のとおり、前記本発明の脱水素用触媒と水素源とを含む溶液または分散系中で、前記水素源を分解して前記脱水素反応生成物を発生させる工程を含むことを特徴とする。前記水素源は、特に限定されないが、例えば、本発明の還元物質の製造方法における前記還元物質と同様で良い。前記水素源は、具体的には、例えば、ギ酸、アルコール、還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド(NADH)、還元型水溶性ヒドロキノン類(例えば、還元型コエンザイムQ10)、ビタミンB2(還元型フラビン補酵素類縁体ともいう、例えば、還元型リボフラビン)、ビタミンC(アスコルビン酸ともいう)、フラボノイド(例えば、カテキン、クェルセチン等)、グルタチオン、還元糖(例えば、任意の単糖類、転化糖、マルトース型二糖、オリゴ糖類等)、尿酸等が挙げられる。前記アルコールは、特に限定されず、芳香族アルコールでも、脂肪族アルコールでも良い。脂肪族アルコールとしては、例えば、直鎖または分枝アルキル基から誘導されるアルコールが挙げられ、アルキル基としては、例えば前述のとおりである。前記脂肪族アルコールは、より具体的には、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、2−メチル−1−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール等が挙げられる。前記水素源を分解して水素(H2)を発生させると、分解生成物(前記水素源の脱水素反応生成物)が副生する。したがって、本発明の水素製造方法は、前記水素源の酸化方法、または前記分解生成物(前記水素源の脱水素反応生成物)の製造方法であるということもできる。副生する前記分解生成物(脱水素反応生成物)は、特に限定されないが、例えば、本発明の水素化還元生成物の製造方法における前記被還元物質と同様である。前記分解生成物は、より具体的には、例えば、二酸化炭素、アルデヒド、ケトン、酸化型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド(NAD+)、酸化型水溶性キノン類(例えば、酸化型コエンザイムQ10)、酸化型フラビン補酵素類縁体(例えば、酸化型リボフラビン)、デヒドロアスコルビン酸、タンニン、酸化型グルタチオン、アルドン酸、アルダル酸、アラントイン等が挙げられる。前記アルデヒドは、特に限定されず、芳香族アルデヒドでも、脂肪族アルデヒドでも良い。脂肪族アルデヒドとしては、例えば、直鎖または分枝アルキル基から誘導されるアルデヒドが挙げられ、アルキル基としては、例えば前述のとおりである。前記脂肪族アルデヒドは、より具体的には、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、2−メチルプロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド等が挙げられる。前記ケトンは、特に限定されず、芳香族ケトンでも、脂肪族ケトンでも良い。脂肪族ケトンとしては、例えば、直鎖または分枝アルキル基から誘導されるケトンが挙げられ、アルキル基としては、例えば前述のとおりである。前記脂肪族ケトンは、より具体的には、例えば、アセトン、2−ブタノン等が挙げられる。また、本発明における前記脱水素反応生成物は、前記水素源が脱水素された物質自体でも良いが、それが変化したものでも良い。例えば、前記水素源がギ酸の場合、前記脱水素反応生成物は、二酸化炭素でも良いが、炭酸イオンまたは重炭酸イオン等であっても良い。なお、本発明の水素製造方法または脱水素反応生成物製造方法においては、例えば、生成する水素および脱水素反応生成物の両方を回収して利用しても良いし、必要な方だけを回収して利用しても良い。
下記実施例において、反応の追跡は紫外可視吸収スペクトル、ESI-Mass、GCおよび1H-NMRにより行なった。全ての化学物質は試薬級である。ギ酸は、和光純薬工業株式会社から購入した。紫外可視吸収スペクトル(UV-Vis.スペクトル)測定は、島津製作所の機器(商品名UV-3100PC)を用いて行った。蛍光スペクトル測定には、島津製作所の機器(商品名RF-5300PC)を用いた。ESI-MSデータは、API-150EX mass spectrometer (商品名、PE-Sciex社製)を用い、イオンスプレーインターフェースを装備してpositive detection modeで収集した。スプレー装置は、電圧を+5.0kVに保ち、液体噴霧の補助には、加圧N2を用いた。1H-NMR測定は、日本電子(JEOL)社の機器 核磁気共鳴分光測定装置(商品名JNM-AL300、1H-NMR測定時300.4MHz)を用いた。GC分析には、島津製作所の機器(商品名GC-14B)を用いた。元素分析には、柳本製作所の商品名CHN-Corder(MT-2型)を用いた。ギ酸分解反応における水素発生量は、発生した気体を5mol/L(5M) NaOH水に通して二酸化炭素を除き、残った水素のみを水上置換法でメスシリンダー内に捕集して測定した。
前記スキーム2に従って、イリジウム単核アクア錯体(13)を製造(合成)した。詳細は、以下のとおりである。
まず、メタノール(6mL)に、ヘキサクロロイリジウムH2IrCl6(1.02g、3.87mmol)を加えて溶液とした。これに、アルゴン雰囲気下で、η5−ペンタメチルシクロペンタジエン(1.5ml)を添加した。そして、そのままアルゴン雰囲気下で攪拌しながら加熱し、37時間還流させた。攪拌後、0℃に冷却した。生じた沈殿物をガラスフィルター(G4)でろ別し、エーテルで洗浄して、真空乾燥することで、黄褐色粉末の目的とする錯体(107)すなわち[Cp*IrCl2]2を得た(H2IrCl6に基づいて計算した収率73%)。以下に、[Cp*IrCl2]2の機器分析値を示す。
元素分析:[Cp*IrCl2]2:C20H30Cl4Ir2:理論値:C,30.15%; H,3.80%. 観測値:C,30.14%; H,3.72%.
Ag2SO4(0.83g、2.66mmol)を、水(70mL)に溶かし、水溶液とした。この水溶液に、アルゴンガス雰囲気下で、前記工程1において製造した錯体(107)すなわち[Cp*IrCl2]2(0.96g、1.32mmol)を添加し、暗下において、室温(25℃)で5時間攪拌した。攪拌後、沈殿物(AgCl)をガラスフィルター(G4)でろ別し、ろ液をメンブレンフィルター(ADVANTEC社 PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)製)を通してさらにろ過し、このろ液から、エバポレーションにより水分を除去し、真空乾燥して、橙色粉末の目的とする錯体(108)すなわち[Cp*Ir(H2O)3]2+の硫酸(SO4 2-)塩を得た([Cp*IrCl2]2に基づいて計算した収率86%)。以下に、[Cp*Ir(H2O)3]2+の硫酸(SO4 2-)塩の機器分析値を示す。
元素分析:[Cp*Ir(H2O)3]2+の硫酸(SO4 2-)塩:C10H21O7SIr:理論値:C, 25.15%; H,4.43%. 観測値:C,25.39%; H,4.48%.
4-(1H-ピラゾール-1-yl)安息香酸(0.085g、0.454mmol)を、水(50mL)に加えて水溶液とした。この水溶液に、アルゴン雰囲気下で、前記工程2において製造した錯体(108)すなわち[Cp*Ir(H2O)3]2+の硫酸(SO4 2-)塩(0.20g、0.423mmol)を添加し、暗下において、12時間加熱還流した。還流後、この溶液をメンブレンフィルター(ADVANTEC社 PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)製)でろ過した。このろ液からエバポレーションにより水分を除去し、真空乾燥して、黄色粉末の目的とするイリジウム単核アクア錯体(13)すなわち[IrCp*(4-(1H-ピラゾール-1-イル-κN2)安息香酸-κC3)(H2O)]+の硫酸(SO4 2-)塩を得た([Cp*Ir(H2O)3]2+の硫酸(SO4 2-)塩に基づいて計算した収率94%)。以下に、[IrCp*(4-(1H-ピラゾール-1-イル-κN2)安息香酸-κC3)(H2O)]+の硫酸(SO4 2-)の機器分析値を示す。また、図22に、CV(サイクリックボルタンメトリー)の測定結果を示す。なお、元素分析値は、イリジウム単核アクア錯体(13)を、前記のゼロ価錯体(14)とし、結晶化により単離して測定した値である。元素分析値については、図17中にも併せて示している。
元素分析値:C20H23N2O3Ir: C, 45.18%; H, 4.36%; N, 5.27% Found: C, 44.90 %; H, 4.30% N, 5.11%.
前記スキーム2に従って、イリジウム単核アクア錯体(16)を製造(合成)した。詳細は、以下のとおりである。
1-フェニルピラゾール(1.3mL、9.8mmol)を、濃硫酸(2mL)に加えて溶液とした。これに、発煙硫酸(5mL、30% SO3)を、0℃で5分以上かけて徐々に加えた。温度を35℃に上げて、1時間このレベルを維持した。この混合物を、砕いた氷上に注いで0℃に冷却し、硫酸塩を沈殿させ、この硫酸塩をろ過し、真空乾燥して白色固体の目的とする4-(1H-ピラゾール-1-イル)ベンゼンスルホン酸を得た(1-フェニルピラゾールに基づいて計算した収率37%)。以下に、4-(1H-ピラゾール-1-イル)ベンゼンスルホン酸の機器分析値を示す。
[Cp*Ir(H2O)3]2+の硫酸(SO4 2-)塩(0.20g、0.45mmol)を、水(30mL)に加えて水溶液とした。この水溶液に、アルゴン雰囲気下で、前記工程1において製造した4-(1H-ピラゾール-1-イル)ベンゼンスルホン酸(0.1g、0.45mmol)を添加し、暗下において、16時間加熱還流した。還流後、沈殿物をろ別し、減圧下で乾燥させて、黄色粉末の目的とするイリジウム単核アクア錯体(16)すなわち[IrCp*(4-(1H-ピラゾール-1-イル-κN2)ベンゼンスルホン酸-κC3)(H2O)]+の硫酸(SO4 2-)塩を得た([Cp*Ir(H2O)3]2+の硫酸(SO4 2-)塩に基づいて計算した収率26%)。以下に、[IrCp*(4-(1H-ピラゾール-1-イル-κN2)ベンゼンスルホン酸-κC3)(H2O)]+の硫酸(SO4 2-)塩の機器分析値を示す。
元素分析:[IrCp*(4-(1H-pyrazol-1-yl-κN2)benzensulfonic acid-κC3)(H2O)]+の硫酸(SO4 2-)塩:C19H22N2O4SIr:理論値:C,40.19%; H,4.08% N,4.93%. 観測値:C,39.76%; H,4.10% N,4.95%.
(1)イリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩によるギ酸の製造および二酸化炭素の固定(実施例3)
前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩を、炭酸カリウム水溶液(0.1mM)に溶解した。この錯体水溶液(0.26mM)に、室温(30℃(303K))、脱酸素条件下、常圧(1atm)の二酸化炭素を1時間吹き込んだ。このようにして、前記錯体水溶液に二酸化炭素を飽和させた。この時の前記錯体水溶液のpHは、7.5であった。この状態で、常圧(1atm)の二酸化炭素と常圧(1atm)の水素(H2)とを、毎分50ccで、前記錯体水溶液に同時に吹き込んでバブリングさせた。このようにして、二酸化炭素固定反応(ギ酸製造反応)を開始した。この反応溶液を一定時間ごとに分取して、図1(b)に示すように、生成したギ酸について、1H-NMR測定を行った。同測定では、D2O含有キャピラリーをインターナルロックとして、水中(H2O)で測定を行った。生成したギ酸の定量には、TSP(3-(トリメチルシリル)-3,3,2,2-プロピオン酸-d4(10mM))を内部標準として用いた。この結果を、図1(a)のグラフに示す。同図において、横軸は、反応時間(h)であり、縦軸は、ギ酸イオン濃度(mM)である。図示のとおり、生成したギ酸量は、反応時間の経過に比例して増加した。触媒回転効率(TOF:Turn Over Frequency、1時間当たりの触媒の回転数)は、6.78h-1であった。この数値は、室温の水中における二酸化炭素固定反応のTOFとしては、本願出願時までに知られている世界最高値である。また、ターンオーバー数(TON:Turn Over Number、触媒1モル当たり生成するギ酸のモル数)が100を超えても触媒活性が維持されることが分かった。すなわち、実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩は、触媒活性が高く、常温常圧の水溶液中で、二酸化炭素と水素(H2)とを反応させることで二酸化炭素を固定して、ギ酸を効率良く製造することができる二酸化炭素固定用触媒として用いることができた。
前記実施例2で製造したイリジウム単核アクア錯体(16)硫酸塩を、炭酸カリウム水溶液(0.1mM)に溶解した。この錯体水溶液(0.32mM)に、室温(30℃(303K))、脱酸素条件下、常圧(1atm)の二酸化炭素を1時間吹き込んだ。このようにして、前記錯体水溶液に二酸化炭素を飽和させた。この時の前記錯体水溶液のpHは、7.4であった。この状態で、常圧(1atm)の二酸化炭素と常圧(1atm)の水素(H2)とを、毎分50ccで、前記錯体水溶液に同時に吹き込んでバブリングさせた。このようにして、二酸化炭素固定反応(ギ酸製造反応)を開始した。この反応溶液を所定の経過時間ごとに分取して、実施例1(1)と同様にして、生成したギ酸について、1H-NMR測定を行った。この結果を、図2のグラフに示す。同図において、横軸は、反応時間(h)であり、縦軸は、TONである。図示のとおり、TONは、反応時間の経過に比例して増加した。すなわち、生成したギ酸量は、反応時間の経過に比例して増加した。触媒回転効率(TOF)は、2.2h-1であった。以下の実施例においても、同様にして生成したギ酸について、1H-NMR測定を行った。
前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩を、炭酸水素カリウム/炭酸カリウム水溶液(2M)に溶解した。ギ酸生成量と前記錯体水溶液のpHとの関係を調べるために、この錯体水溶液のpHを、8.8、9.4、または9.9に調整した。この状態で、この錯体水溶液(0.18mM)を60℃(333K)、水素(H2)雰囲気下に静置することで、二酸化炭素固定反応(ギ酸製造反応)を開始した。この結果を図3に示す。図3(a)のグラフは、前記錯体水溶液のpHをそれぞれ、8.8、9.4、9.9とした場合の、反応経過時間(反応時間)とTONとの関係を示すグラフである。同図において、横軸は、反応時間(h)であり、縦軸は、TONである。なお、pHの調整は、炭酸水素カリウムと炭酸カリウムとの物質量比の調整により行った。例えば、2M炭酸水素カリウム水溶液(炭酸水素カリウムのみ)の場合、pHは8.8となり、2M炭酸カリウム水溶液(炭酸カリウムのみ)の場合、pHは約10.4となる。イリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩の濃度は、上記のとおり、炭酸水素カリウムおよび炭酸カリウムの合計濃度に対して低いため、pHに影響しない。図示のとおり、いずれのpHにおいても、TONは、反応時間の経過に比例して増加した。すなわち、生成したギ酸量は、反応時間の経過に比例して増加した。図3(b)のグラフに、前記錯体水溶液のpHとTOFとの関係を示す。また、同グラフでは、前記錯体反応溶液における炭酸イオン(CO3 2-)と重炭酸イオン(HCO3 -)との割合(同グラフの右側の軸)を示す。図示のとおり、TOFは、pHの変化に依存して変化した。すなわち、前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩の触媒活性は、pHに依存し、前記錯体水溶液のpHが高くなるほど、触媒活性が小さくなった。一方、前記炭酸イオンと前記重炭酸イオンとの関係は、pHが大きくなるほど、前記炭酸イオンの存在比が大きくなり、前記重炭酸イオンの存在比が小さくなった。このことから、前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩では、重炭酸イオン(HCO3 -)が、ギ酸生成の基質であると推測される。また、ギ酸は、前記重炭酸イオン(HCO3 -)の水素化により生成していると推測される。
前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩を、炭酸カリウム水溶液(0.1mM)に溶解した。この錯体水溶液(0.18mM)に、室温(60℃(333K))、脱酸素条件下、常圧(1atm)の二酸化炭素を1時間吹き込んだ。このようにして、前記錯体水溶液に二酸化炭素を飽和させた。この時の前記錯体水溶液のpHは、7.8であった。この状態で、常圧(1atm)の二酸化炭素と常圧(1atm)の水素(H2)とを、毎分50ccで、前記錯体水溶液に同時に吹き込んでバブリングさせた。このようにして、二酸化炭素固定反応(ギ酸製造反応)を開始した。この反応溶液を1時間ごとに分取して、生成したギ酸について1H-NMR測定を行った。この結果を、図7のグラフに示す。同図において、横軸は、反応時間(h)であり、縦軸は、TONである。図示のとおり、TONは、反応時間の経過に比例して増加した。すなわち、生成したギ酸量は、反応時間の経過に比例して増加した。TOFは、22.1h-1であった。なお、前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩を、炭酸カリウム水溶液(0.1mM)に代えて、水に溶解した場合には、この錯体水溶液に二酸化炭素を飽和させたときのpHは6.0であった。この状態で、前述と同様に二酸化炭素と水素とを、前記錯体水溶液に同時に吹き込んでバブリングさせても、ギ酸の生成は確認できなかった。なお、このように、低いpHでギ酸の生成が確認できなかったのは、後述するギ酸分解の影響が推測されるが、この推測により本発明は何ら限定ないし制限されない。
前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩を、ギ酸生成量と前記触媒濃度との関係を調べるために、その触媒濃度がそれぞれ、0.13mM、0.18mMおよび0.34mMとなるように、炭酸水素カリウム水溶液(2M)に溶解した。これらの錯体水溶液のpHは、いずれも8.8であった。なお、イリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩の濃度は、上記のとおり、炭酸水素カリウムの濃度に対して低いため、pHに影響しない。この状態で、これらの錯体水溶液を60℃(333K)、水素(H2)雰囲気下に静置することで、二酸化炭素固定反応(ギ酸製造反応)を開始した。この結果を図8に示す。図8(a)のグラフは、前記錯体水溶液における触媒濃度を、0.13mM、0.18mMおよび0.34mMとした場合の、反応時間の経過とギ酸生成量との関係を示す。同図において、横軸は、反応時間(h)であり、縦軸は、ギ酸イオン濃度(mM)である。図示のとおり、前記錯体水溶液における触媒濃度に応じて、ギ酸の生成量(製造量)が多くなった。図8(b)のグラフに、前記錯体水溶液における触媒濃度と単位時間あたりのギ酸生成量との関係を示す。同図において、横軸は、錯体(13)の濃度(mM)であり、縦軸は、単位時間当たりのギ酸生成量(104molh-1)である。図示のとおり、前記触媒濃度に比例して、前記単位時間当たりのギ酸生成量も増加した。
前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩を、ギ酸生成量と重炭酸イオン(HCO3 -)濃度との関係を調べるために、その濃度が、0.75M、1.0M、1.5Mおよび2.0Mの炭酸水素カリウム水溶液に、それぞれ溶解した。これらの錯体水溶液のpHは、炭酸水素カリウム濃度が2.0Mのとき8.8であり、前記の範囲で炭酸水素カリウム濃度を変化させても、ほぼ一定で、さほど大きく変化しなかった。この状態で、これらの錯体水溶液(0.18mM)を、60℃(333K)、水素(H2)雰囲気下に静置することで、二酸化炭素固定反応(ギ酸製造反応)を開始した。この結果を図9に示す。図9(a)のグラフは、前記炭酸水素カリウムの濃度(重炭酸イオン(HCO3 -)濃度)を、0.75M、1.0M、1.5Mおよび2.0Mとした場合の、反応時間の経過とギ酸生成量との関係を示す。同図において、横軸は、反応時間(h)であり、縦軸は、TONである。図示のとおり、前記炭酸水素カリウムの濃度(重炭酸イオン(HCO3 -)濃度)に応じて、TONは、反応時間の経過に比例して増加した。すなわち、ギ酸の生成量(製造量)が多くなった。図9(b)のグラフは、前記炭酸水素カリウムの濃度(重炭酸イオン(HCO3 -)濃度)とTOFとの関係を示す。同図において、横軸は、炭酸水素カリウムの濃度(M)であり、縦軸は、TOFである。図示のとおり、前記炭酸水素カリウムの濃度(重炭酸イオン(HCO3 -)濃度)に比例して、TOFが向上した。
前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩を、炭酸水素カリウム水溶液(2M)に溶解した。前記錯体水溶液のpHは、8.8であった。この錯体水溶液(0.18mM)を、その温度を、それぞれ30℃(303K)、40℃(313K)、50℃(323K)および60℃(333K)として、水素(H2)雰囲気下に静置することで、二酸化炭素固定反応(ギ酸製造反応)を開始した。この結果を、図10に示す。図10(a)のグラフは、前記錯体水溶液の温度を、それぞれ30℃(303K)、40℃(313K)、50℃(323K)および60℃(333K)とした場合の、反応時間の経過とTONとの関係を示すグラフである。同図において、横軸は、反応時間(h)であり、縦軸は、TONである。図示のとおり、いずれの温度においても、TONは、反応時間の経過に比例して増加した。すなわち、生成したギ酸量(製造量)は、反応時間の経過に比例して増加した。図10(b)のグラフに、前記錯体水溶液の温度の逆数と、TOFの対数との関係を示す。同図において、横軸は、温度の逆数(103T-1、K-1)であり、縦軸は、TOFの自然対数(lnTOF)である。すなわち、同図は、アレニウスプロットである。図示のとおり、lnTOFは、温度の逆数に対して、負の傾きで低下した。すなわち、lnTOFは、温度の上昇とともに上昇した。
前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩を、水に溶解し、錯体水溶液(0.2mM)とした。この水溶液に、脱酸素、1atm条件下で、ギ酸(3.3M)を添加した。この時の前記錯体水溶液の初期pH(ギ酸分解反応が起こる前すなわちギ酸添加直後のpH)を測定したところ、1.1であった。この状態で、室温(25℃(298K))で静置すると、目視で明確に確認できる気体が発生した。この気体を、GC(ガスクロマトグラフィー)で分析した結果、水素と二酸化炭素の1:1混合ガスであった。この気体を、水酸化ナトリウム(5M)にバブリングさせて、二酸化炭素を分離除去した後に、GC(ガスクロマトグラフィー)で定量分析した。また、前記初期pHを種々変化させた以外は同様の錯体水溶液を用いて同様に発生した水素を定量分析した。なお、初期pHの調整は、pH=14.1の水溶液(図11のグラフ参照)については、5M 水酸化ナトリウム水溶液の添加により行った。それ以外の水溶液の初期pHは、ギ酸(3.3M)に代えて、ギ酸とギ酸カリウムとの混合物(濃度3.3Mで一定)を用い、ギ酸とギ酸カリウムとの混合比(物質量比)を調整することにより行った。図11のグラフに、前記錯体水溶液のpHと水素発生初期速度TOFとの関係を示す。同図において、横軸は、pHであり、縦軸は、TOFである。図示のとおり、前記錯体水溶液のpHが、1以上9未満の範囲で水素の発生が確認された。前記錯体水溶液のpHが2.8付近で、TOFが最大となることが確認された。このpHでのギ酸添加から10分後までの触媒回転数に基づき算出したTOFは、1880h-1であった。この数値は、室温の水中におけるギ酸分解反応のTOFとしては、本願出願時までに知られている世界最高値である。すなわち、実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩は、触媒活性が高く、常温常圧のギ酸を含む水溶液中で、ギ酸を分解して水素(H2)を効率良く製造することができるギ酸分解触媒として用いることができた。
前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩を、水に溶解し、錯体水溶液(0.2mM)とした。この時の前記錯体水溶液の初期pH(ギ酸分解反応が起こる前のpH)を測定したところ、2.78であった。この錯体水溶液の温度を、それぞれ15℃(288K)、20℃(293K)、25℃(298K)および30℃(303K)として、この水溶液に、脱酸素、1atm条件下で、ギ酸/ギ酸カリウム水溶液(3.3M)を添加した。目視で明確に確認できる気体が発生した。この結果を、図13に示す。図13(a)のグラフは、前記錯体水溶液の温度を、それぞれ30℃(303K)、40℃(313K)、50℃(323K)および60℃(333K)とした場合の、反応経過時間とTONとの関係を示す。同図において、横軸は、反応時間(s)であり、縦軸は、TONである。図示のとおり、いずれの温度においても、TONは、反応時間の経過に比例して増加した。すなわち、発生した水素(H2)量(製造量)は、反応時間の経過に比例して増加した。図13(b)のグラフに、前記錯体水溶液の温度の逆数とTOFの対数との関係を示す。同図において、横軸は、温度の逆数(103T-1、K-1)であり、縦軸は、TOFの対数(lnTOF)である。すなわち、同図は、アレニウスプロットである。図示のとおり、TOFの対数は、温度の逆数に対して、負の傾きで低下した。すなわち、TOFの対数は、温度の上昇とともに上昇した。
前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩を、水素(H2)発生量(製造量)と前記触媒濃度との関係を調べるために、その触媒濃度がそれぞれ、0.1mM、0.2mM、0.3mMおよび0.4mMとなるように、水に溶解し、錯体水溶液とした。この時の前記錯体水溶液の初期pH(ギ酸分解反応が起こる前のpH)を測定したところ、2.78あった。この状態で、これらの錯体水溶液を25℃(298K)として、これらの水溶液に、脱酸素、1atm条件下で、ギ酸/ギ酸カリウム水溶液(3.3M)を添加した。この結果を、図14に示す。図14のグラフは、前記錯体水溶液における触媒濃度を、0.1mM、0.2mM、0.3mMおよび0.4mMとした場合の、触媒濃度と単位時間あたりの水素(H2)発生量(製造量)との関係を示す。同図において、横軸は、触媒(錯体(13))の濃度(mM)であり、縦軸は、単位時間当たりのH2発生量(mmolh-1)である。図示のとおり、発生した水素(H2)量(製造量)は、触媒濃度に比例して増加した。
前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩を、水に溶解し、錯体水溶液(0.2mM)とした。この時の前記錯体水溶液の初期pH(ギ酸分解反応が起こる前のpH)を測定したところ、2.78であった。この状態で、これらの錯体水溶液を25℃(298K)として、これらの水溶液に、脱酸素、1atm条件下で、ギ酸/ギ酸カリウム水溶液を添加した。前記ギ酸/ギ酸カリウムの濃度を、約0.3Mから約5Mとした。この結果を、図15に示す。図15のグラフは、前記ギ酸/ギ酸カリウム水溶液の濃度を約0.3Mから約5Mまで変化させた場合の、ギ酸/ギ酸カリウム水溶液の濃度とTOFとの関係を示す。同図において、横軸は、前記ギ酸/ギ酸カリウム水溶液の濃度(M)であり、縦軸は、TOFである。図示のとおり、ギ酸/ギ酸カリウム水溶液の濃度の増加に応じて、TOFが向上し、所定の制限値に達した。
下記式(21)で表されるイリジウム錯体硫酸塩を製造(合成)した。詳細は、以下のとおりである。
前記錯体製造比較例1で製造したイリジウム錯体硫酸塩(21)を、実施例3と同様に、炭酸カリウム水溶液(0.1mM)に溶解させた。この錯体水溶液(0.26mM)に、室温(30℃(303K))、脱酸素条件下、常圧(1atm)の二酸化炭素を1時間吹き込んだ。このようにして、前記錯体水溶液に二酸化炭素を飽和させた。この時の前記錯体水溶液のpHは、7.5であった。この状態で、常圧(1atm)の二酸化炭素と常圧(1atm)の水素(H2)とを、毎分10ccで、前記錯体水溶液に同時に吹き込んでバブリングさせた。このようにして、二酸化炭素固定反応(ギ酸製造反応)を開始した。この反応溶液を3時間ごとに分取して、実施例3と同様にして、1H-NMR測定を行った。1H-NMR測定の結果、ギ酸の生成が確認でき、ギ酸の生成量を決定できた。TONの時間変化をプロットすると、図23で示すように、TONは、反応開始からの時間に比例して増加した。しかし、その比例定数として求めたTOFは、1.5h-1と低く、この値は、高速液体クロマトグラフィーによりギ酸の生成量を定量して決定した非特許文献1に記載のTOFの値よりも低いことがわかった。
前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩(8mg、14μmol)を、脱酸素した水(50μL)に溶解した。この時の前記錯体水溶液のpHは、1.7であった。この状態で、常圧(1atm)の水素(H2)を、毎分50ccで、前記錯体水溶液に吹き込んで5分間バブリングさせた。これにより生じた沈殿を分離するため、遠心分離した後デカンテーションし、さらに真空乾燥して、オレンジ色粉末の目的とするイリジウム単核ヒドリド錯体(15A)すなわち[IrCp*(4-(1H-ピラゾール-1-イル-κN2)安息香酸-κC3)H]0を得た。以下に、イリジウム単核ヒドリド錯体(15A)の機器分析値(1H-NMR)を示す。また、上記反応のスキームおよびイリジウム単核ヒドリド錯体(15A)の1H-NMRチャートは、図6と同様である。
NaOH(0.6μg、0.015μmol)を水1mLに溶かし、NaOHの15μM水溶液とした。これに、同量のアセトニトリルを加え、水:アセトニトリル=1:1(体積比)の7.5μM NaOH溶液とした。そこに、前記実施例1で製造したイリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩(0.16μg、0.00028μmol)を溶かし、アルカリ中和されたイリジウム単核アクア錯体(14)の0.14μM溶液とした。ついで、この錯体溶液に、室温(25℃(298K))、脱酸素条件下、常圧(1atm)の水素(H2)を吹き込んで30分間バブリングさせた。この溶液をESI-MASSスペクトルの負イオンモードで測定すると、イリジウム単核ヒドリド錯体(15B)すなわち[IrCp*(4-(1H-ピラゾール-1-イル-κN2)安息香酸-κC3)H]-1に帰属されるスペクトルが得られた。また、水素(H2)を重水素(D2)に変える以外は同様にして反応を行うと、重水素化されたイリジウム単核ヒドリド錯体(15B)すなわち[IrCp*(4-(1H-ピラゾール-1-イル-κN2)安息香酸-κC3)D]-1に帰属されるスペクトルが得られた。以下に、イリジウム単核ヒドリド錯体(15B)の機器分析値(MS)を示す。また、図24に、上記反応のスキームおよびイリジウム単核ヒドリド錯体(15B)のマススペクトル図を示す。なお、イリジウム単核ヒドリド錯体(15B)のUV-Vis.スペクトル図は、図25および26の右下に示した。
IrCp*(4-(1H-ピラゾール-1-イル-κN2)安息香酸-κC3)D]-1 m/z=516.2
イリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩(5.8mg、0.01mmol)および水素化ホウ素ナトリウムNaBH4(7.2mg、0.19mmol)を、室温(25℃(298K))で脱酸素した重水(D2O)0.5mLに溶かし、イリジウム単核アクア錯体(13)を0.02Mおよび水素化ホウ素ナトリウムを0.38M含む水溶液(pD=14.0)とした。なお、pHは、重水酸化ナトリウム(NaOD、40wt%)を用いて調節した。これを、室温(25℃(298K))、アルゴン雰囲気下で5分間撹拌して反応させた。反応は、1H-NMRで追跡した。図25に、その結果を示す。同図上段の反応スキームにおいては、出発原料を、イリジウム単核ヒドロキシ錯体(15)として表記している。これは、実施例1および5で述べたとおり、イリジウム単核アクア錯体(13)は、塩基性条件下では多くがイリジウム単核ヒドロキシ錯体(15)に変化すると考えられるためである。同図の1H-NMRにおいて、下段は、反応前のイリジウム単核ヒドロキシ錯体(15)のチャートであり、上段は、上記反応(5分間)後のチャートである。図示のとおり、反応後は、ヒドリド配位子のピーク等、イリジウム単核ヒドリド錯体(15B)の生成を示すピークが見られた。なお、図25右下のグラフは、イリジウム単核ヒドリド錯体(15B)ナトリウム塩の0.14mM水溶液(pH=13.7)のUV-Vis.スペクトル図である。同図において、横軸は波長(nm)を表し、縦軸は吸光度を表す。
イリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩(8.7mg、0.015mmol)およびエタノール(10μL)を、室温(25℃(298K))で、脱酸素した重水(D2O)0.5mLに溶かし、イリジウム単核アクア錯体(13)を0.03Mおよびエタノールを含む水溶液(pD=14.3)とした。なお、pHの調整は、重水酸化ナトリウム(NaOD、40wt%)を加えて行った。これを、室温(25℃(298K))、アルゴン雰囲気下で60分間撹拌して反応させた。反応は、1H-NMRで追跡した。図26に、その結果を示す。同図上段の反応スキームにおいては、出発原料を、イリジウム単核ヒドロキシ錯体(15)として表記している。これは、実施例1および5で述べたとおり、イリジウム単核アクア錯体(13)は、塩基性条件下では多くがイリジウム単核ヒドロキシ錯体(15)に変化すると考えられるためである。同図の1H-NMRにおいて、下段は、反応前のイリジウム単核ヒドロキシ錯体(15)のチャートであり、中段は、反応開始5分後のチャートであり、上段は、反応開始60分後のチャートである。図示のとおり、反応後は、ヒドリド配位子のピーク等、イリジウム単核ヒドリド錯体(15B)の生成を示すピークが見られた。なお、図26右下のグラフは、イリジウム単核ヒドリド錯体(15B)ナトリウム塩の0.15mM水溶液(pH=13.7)のUV-Vis.スペクトル図である。同図において、横軸は波長(nm)を表し、縦軸は吸光度を表す。
イリジウム単核アクア錯体(13)および2−プロパノールを用いて、イリジウム単核ヒドリド錯体(15B)を製造した(実施例18)。すなわち、まず、イリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩(7.5mg、0.013mmol)および2−プロパノール(イソプロピルアルコール)(10μL)を、室温(25℃(298K))で脱酸素水0.5mLに溶かし、イリジウム単核アクア錯体(13)を0.026Mおよび2−プロパノールを含む水溶液(pH=14)とした。なお、pHの調整は、5.0M水酸化ナトリウム水溶液を加えて行った。これを、室温(25℃(298K))、アルゴン雰囲気下で10分間撹拌して反応させた。反応は、1H-NMRで追跡した。図27に、その結果を示す。同図上段の反応スキームにおいては、出発原料を、イリジウム単核ヒドロキシ錯体(15)として表記している。これは、実施例1および5で述べたとおり、イリジウム単核アクア錯体(13)は、塩基性条件下では多くがイリジウム単核ヒドロキシ錯体(15)に変化すると考えられるためである。同図左下(a)の1H-NMRにおいて、下段は、反応前のイリジウム単核ヒドロキシ錯体(15)のチャートであり、上段は、反応開始10分後のチャートである。同図において、「Cp* of (15)」は、イリジウム単核ヒドロキシ錯体(15)のη5−ペンタメチルシクロペンタジエニル基におけるメチル水素のピークを表す。「Cp* of (15B)」は、イリジウム単核ヒドリド錯体(15B)のη5−ペンタメチルシクロペンタジエニル基におけるメチル水素のピークを表す。「i-propanol」は、2−プロパノールのメチル水素のピークを表す。「Aceton」は、2−プロパノールが酸化されて生成したアセトンのメチル水素のピークを表す。「TSP」は、標準物質として加えたトリメチルシリルプロピオネートのピークを表す。また、各ピークに付した「15H」または「6H」の符号は、積分比(プロトン数比)を表す。図示のとおり、反応後は、イリジウム単核ヒドロキシ錯体(15)が還元されてイリジウム単核ヒドリド錯体(15B)になるとともに、2−プロパノールが酸化されてアセトンが生成したことを示すピークが見られた。
イリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩(0.15mg、0.25μmol)およびエタノール(100μL)を、室温(25℃(298K))で脱酸素水2.0mLに溶かし、イリジウム単核アクア錯体(13)を0.12Mおよびエタノールを82mM含む水溶液(pH=13.7)とした。なお、pHの調整は、0.5M水酸化ナトリウム水溶液を加えて行った。これを、室温(25℃(298K))、アルゴン雰囲気下で300秒間撹拌して反応させた。反応は、UV-Vis.スペクトルで追跡した。図28に、その結果を示す。図28において、左下のグラフは、前記反応追跡時のUV-Vis.スペクトルを示すグラフであり、横軸は、波長(nm)を表し、縦軸は、吸光度を表す。図示のとおり、時間経過につれて、イリジウム単核ヒドリド錯体(15B)の生成を示す波長350nm付近の吸収帯の吸光度が増大した。また、図28における右下のグラフは、左下のグラフにおける波長350nmでの吸光度の経時変化を示すグラフであり、横軸は、反応時間(秒)を表し、縦軸は、波長350nmでの吸光度を表す。また、右下のグラフにおける挿入図は、前記波長350nmでの吸光度について、反応時間とln([A]0-[A])との相関関係を示すグラフであり、横軸は、反応時間(秒)を表し、縦軸は、ln([A]0-[A])を表す。なお、[A]0は、波長350nmにおける、反応開始前(反応時間0秒)における吸光度を表し、[A]は、波長350nmにおける、任意の反応時間における吸光度を表す。lnは、自然対数を表す。図示のとおり、本実施例におけるイリジウム単核ヒドリド錯体(15B)の生成反応(または、アルコールの酸化反応、水素発生反応もしくはアルデヒド生成反応ということができる)は、一次反応であり、反応開始後約100秒で、ほぼ反応が完結した。なお、図28上段のスキームは、本実施例におけるイリジウム単核ヒドリド錯体(15B)の生成反応において推定されるメカニズムを示しているが、本発明は、これにより限定されない。
イリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩(0.15mg、0.25μmol)およびアルコール(100μL)を、室温(25℃(298K))で脱酸素水2.0mLに溶かし、イリジウム単核アクア錯体(13)を120μMおよび前記アルコールを含む水溶液(pH=13.7)とした。なお、pHの調整は、5.0M水酸化ナトリウム水溶液を加えて行った。これを、室温(25℃(298K))、アルゴン雰囲気下で300秒間撹拌して反応させた。前記アルコールとしては、メタノール、エタノール、1−プロパノール(n-propanol)、2−プロパノール(i-propanol)、または1−ブタノール(n-butanol)を用いた。反応は、UV-Vis.スペクトルで追跡した。図29に、その結果を示す。同図左側のグラフは、前記反応追跡時のUV-Vis.スペクトルを示すグラフであり、横軸は、波長(nm)を表し、縦軸は、吸光度を表す。図示のとおり、時間経過につれて、イリジウム単核ヒドリド錯体(15B)の生成を示す波長350nm付近の吸収帯の吸光度が増大した。また、同図右側のグラフは、前記波長350nmでの吸光度について、反応時間とln([A]0-[A])との相関関係を示すグラフであり、横軸は、反応時間(秒)を表し、縦軸は、ln([A]0-[A])を表す。[A]0は、波長350nmにおける、反応開始前(反応時間0秒)における吸光度を表し、[A]は、波長350nmにおける、任意の反応時間における吸光度を表す。lnは、自然対数を表す。図示のとおり、本実施例におけるイリジウム単核ヒドリド錯体(15B)の生成反応(または、アルコールの酸化反応、水素発生反応もしくはアルデヒド生成反応ということができる)は、一次反応であった。各アルコールに対応する反応速度定数kは、図29下段に、各アルコールの化学構造式と共に示したとおりである。
イリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩(0.348mg、0.6μmol)およびエタノール(10μL)を、室温(25℃(298K))で脱酸素水2.0mLに溶かし、イリジウム単核アクア錯体(13)を0.3mMおよびエタノールを含む水溶液(pH=12.9)とした。なお、pHの調整は、5.0M水酸化ナトリウム水溶液を加えて行った。これを、室温(25℃(298K))、アルゴン雰囲気下で2時間撹拌して反応させた。その後、希硫酸を加えてpHを1.0に調整し、5分間撹拌すると、水素ガス(H2)が、原料のエタノールに対して60%の収率で得られた。図30の上段のスキームに、この反応において推定される反応機構を示す。前述のように、イリジウム単核アクア錯体(13)は塩基性条件下ではイリジウム単核ヒドロキシ錯体(15)に変化すること、さらにエタノールを加えるとイリジウム単核ヒドリド錯体(15B)に変化することから、このような反応機構であると推定される。ただし、この反応機構は例示であって、本発明を限定しない。
イリジウム単核アクア錯体(13)硫酸塩(0.15mg、0.26μmol)およびNADH(還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド)を、室温(25℃(298K))で、脱酸素した0.05Mリン酸緩衝水溶液2mLに溶かし、イリジウム単核アクア錯体(13)を0.13mMおよびNADHを含む水溶液(pH=7.5)とした。なお、実施例1および図19に示したように、中性に近いpHでは、イリジウム単核アクア錯体(13)は、多くがイリジウム単核ヒドロキシ錯体(14)に変化していると考えられる。また、比較対照のために、イリジウム単核アクア錯体(13)を加えない以外は同様のNADH水溶液を作製した。図31に、これらのUV-Vis.スペクトル図を示す。同図下段左のグラフは、イリジウム単核アクア錯体(13)(イリジウム単核ヒドロキシ錯体(14))を加えないNADH水溶液において、NADH添加量(図示)を種々変化させた場合のUV-Vis.スペクトル図である。同図下段中央のグラフは、イリジウム単核アクア錯体(13)(イリジウム単核ヒドロキシ錯体(14))を加えたNADH水溶液において、NADH添加量(図示)を種々変化させた場合のUV-Vis.スペクトル図である。これらのグラフにおいて、それぞれ、横軸は、波長(nm)を表し、縦軸は、吸光度を表す。図示のとおり、イリジウム単核アクア錯体(13)(イリジウム単核ヒドロキシ錯体(14))の存在下では、UV-Vis.スペクトルが変化した。また、図31下段右のグラフに、下段中のグラフにおけるNADH添加量と、波長420nmの吸光度との相関関係を示す。下段右のグラフにおいて、横軸は、NADH添加量(μm)を表し、縦軸は、波長420nmの吸光度を表す。図示のとおり、NADH添加量が0.14μm(イリジウム単核アクア錯体(13)の約2分の1の物質量)で吸光度が飽和に達したことから、この反応では、図31上段のスキームに記載のように、脱水素反応生成物であるNAD+(酸化型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド)とイリジウム単核錯体とが、1:2付加物(アダクト)を形成していると推測される。ただし、この推測は例示であって、本発明を限定しない。
Claims (15)
- 下記式(1)で表される単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
Ar1は、芳香族性アニオン性配位子、もしくは芳香族性配位子であるか、または存在せず、
Ar2は、芳香族性を有する配位子であり、置換基を有していても有していなくても良く、置換基を有する場合、前記置換基は1でも複数でも良く、
Mは、遷移金属の原子またはイオンであり、
A1およびA2は、双方が炭素原子であるか、または、一方が炭素原子であり、且つ、他方が窒素原子であり、
Yは、アニオン性基もしくはカチオン性基であるか、または存在せず、
Lは、任意の配位子であるか、または存在せず、
mは、正の整数、0、または負の整数である。 - 前記式(1)中、
Mが、イリジウム、ルテニウム、ロジウム、コバルト、オスミウム、ニッケル、鉄、マンガン、クロム、コバルト、白金、またはパラジウムである請求項1記載の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。 - 前記式(1)中、
Yが、カルボキシ基、スルホ基、フェノール性水酸基、リン酸基、アミノ基、またはヒドロキシメチル基である請求項1記載の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。 - 前記式(1)で表される単核金属錯体が、下記式(2)で表される単核金属錯体である請求項1記載の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
R1〜R5は、それぞれ独立に、水素原子または任意の置換基であり、
Ar2、M、A1、A2、Y、Lおよびmは、前記式(1)と同様である。 - 前記式(1)で表される単核金属錯体が、下記式(3)で表される単核金属錯体である請求項1記載の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
R0〜R5は、それぞれ独立に、水素原子または任意の置換基であり、
Ar2、M、A1、A2、Y、Lおよびmは、前記式(1)と同様である。 - 前記式(2)で表される単核金属錯体が、下記式(4)で表される単核金属錯体である請求項4記載の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
または、R9およびR10は、一体となって -CH=CH- を形成しても良く、前記 -CH=CH- におけるHは、それぞれ独立に、任意の置換基で置換されていても良く、
Q0は、CまたはNであり、
Q6〜Q12は、それぞれ独立に、CまたはN+であり、
または、同一のX(Xは、6〜12のいずれかの整数)を有するQXとRXのうち少なくとも一つが、一体となってNであっても良く、
M、L、mおよびR1〜R5は、前記式(2)と同様である。 - 前記式(4)で表される単核金属錯体が、下記式(10)で表されるイリジウム単核金属錯体である請求項6記載の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
Irは、イリジウムの原子またはイオンであり、
L、mおよびYは、前記式(2)と同じである。 - 前記式(10)で表されるイリジウム単核金属錯体が、下記式(11)で表されるイリジウム単核金属錯体である請求項7記載の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
L、m、Irは、前記式(10)と同じである。 - 前記式(10)で表されるイリジウム単核金属錯体が、下記式(12)で表されるイリジウム単核金属錯体である請求項7記載の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
L、m、Irは、前記式(10)と同じである。 - 前記式(11)で表されるイリジウム単核金属錯体が、下記式(13)〜(15)、(15A)または(15B)で表されるイリジウム単核金属錯体である請求項8記載の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- 前記式(12)で表されるイリジウム単核金属錯体が、下記式(16)〜(18)、(18A)または(18B)で表されるイリジウム単核金属錯体である請求項9記載の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- 請求項1記載の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含むことを特徴する水素化還元触媒。
- 請求項1記載の単核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含むことを特徴とする脱水素用触媒。
- 被還元物質を水素化還元して水素化還元生成物を製造する方法であって、
請求項12記載の水素化還元触媒と前記被還元物質と水素(H2)とを含む溶液または分散系中で、前記被還元物質と水素(H2)との反応により前記被還元物質を還元する工程を含むことを特徴とする水素化還元生成物の製造方法。 - 水素(H2)および脱水素反応生成物の製造方法であって、
請求項13記載の脱水素用触媒と水素源とを含む溶液または分散系中で、前記水素源を分解して水素(H2)および前記脱水素反応生成物を発生させる工程を含むことを特徴とする水素(H2)および脱水素反応生成物の製造方法。
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