JPWO2010058767A1 - 液晶滴下工法用シール剤及び液晶表示素子 - Google Patents
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Abstract
Description
液晶滴下工法による液晶表示素子の製造には、例えば、光硬化性のアクリル樹脂と光重合開始剤、及び、熱硬化性のエポキシ樹脂と熱重合開始剤を含有する、光熱硬化型樹脂組成物からなる液晶滴下工法用シール剤(以下、単に「シール剤」ともいう。)が用いられる。
液晶表示部の狭額縁化に伴い、シール剤がパネル中に配置される場所も制限され、シール剤を硬化させるために紫外線を照射しても、紫外線が照射されない箇所が生じてしまうことがある。例えば、アレイの配線下には数十μm〜数百μmの紫外線が照射されない箇所が生じる。
以下に本発明を詳述する。
上記硬化性樹脂は、(メタ)アクリル基を有する硬化性樹脂とエポキシ基を有する硬化性樹脂とが共存するものである。
上記UVラジカル開始剤は、アセトニトリル中で測定した350nmにおける吸光係数が500ml・g−1・cm−1以上である。このようなUVラジカル開始剤は反応性が高く、上記硬化性樹脂と組み合わせて用いることにより、本発明の液晶滴下工法用シール剤は、紫外線が照射されない箇所がある場合でも確実に硬化させることができる。上記吸光係数が500ml・g−1・cm−1未満であると、表示ムラが発生したり、紫外線が照射されない箇所を充分に硬化させることができなかったりする。上記吸光係数の好ましい上限は30000ml・g−1・cm−1である。
上記ラジカル重合禁止剤は、例えば、2,6−ジ−t−ブチルクレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4 −エチルフェノール、ステアリルβ−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス−3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4−ブチリデンンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、3,9 −ビス[1,1−ジメチル−2−[β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]、2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、1,3,5−トリス(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンジル)−sec−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン、ハイドロキン、パラメトキシフェノール等が挙げられる。これらのラジカル重合禁止剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
なお、上記ラジカル重合禁止剤は、上記(メタ)アクリル基を有する硬化性樹脂の合成段階でも配合されているが、配合量は通常(メタ)アクリル基を有する硬化性樹脂100重量部に対して0.05重量部程度であり、最終的なシール剤にはほとんど残留はしていない。
上記熱エポキシ硬化剤は特に限定されず、例えば、有機酸ヒドラジド、イミダゾール誘導体、アミン化合物、多価フェノール系化合物、酸無水物等が挙げられる。なかでも、固形の有機酸ヒドラジドが好適である。
上記シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が好適に用いられる。
上記フィラーは、例えば、タルク、石綿、シリカ、珪藻土、スメクタイト、ベントナイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ、モンモリロナイト、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化錫、酸化チタン、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、窒化珪素、硫酸バリウム、石膏、珪酸カルシウム、ガラスビーズ、セリサイト活性白土、窒化アルミニウム等の無機フィラーや、ポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ビニル重合体微粒子、アクリル重合体微粒子等の有機フィラーが挙げられる。
EX−201(レゾルシノール型エポキシ樹脂)111gをトルエン500mLに溶解させ、これにトリフェニルホスフィン0.1gを加え、均一な溶液とした。この溶液にアクリル酸72gを還流撹拌下2時間かけて滴下後、更に還流撹拌を8時間行った。
次に、トルエンを除去することによって、全てのエポキシ基をアクリル基に変成したエポキシアクリレート(EX−201アクリル変性品)を合成した。
EX−201(レゾルシノール型エポキシ樹脂)111gをトルエン500mLに溶解させ、これにトリフェニルホスフィン0.1gを加え、均一な溶液とした。この溶液にメタクリル酸85gを還流撹拌下2時間かけて滴下後、更に還流撹拌を8時間行った。
次に、トルエンを除去することによって、全てのエポキシ基をアクリル基に変成したエポキシアクリレート(EX−201メタクリル変性品)を合成した。
N−770(フェノールノボラック型エポキシ樹脂)190gをトルエン500mLに溶解させ、この溶液にトリフェニルホスフィン0.1gを加え、均一な溶液とし、この溶液にアクリル酸36gを還流撹拌下2時間かけて滴下後、更に還流撹拌を6時間行い、次に、トルエンを除去することによって50mol%のエポキシ基をアクリル基に変性した部分アクリル化エポキシアクリレート(N−770部分アクリル変性品)を得た。
表1、2に記載した配合比に従い、各材料を、遊星式撹拌機(シンキー社製、「あわとり練太郎」)を用いて混合後、更に3本ロールを用いて混合させることにより実施例1〜7、比較例1〜7の液晶滴下工法用シール剤を調製した。
実施例及び比較例で得られた液晶滴下公報用シール剤を以下の方法により評価した。
結果を表1、2に示した。
ブラックマトリックス(BM)と透明電極とが形成された基板に、得られた液晶滴下工法用シール剤を枠を描くようにディスペンサーで描画した。続いて液晶(チッソ社製、「JC−5004LA」)の微小滴を基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに別の透明電極付き基板(BMなし)を重ね合わせた。このとき、押しつぶされたシール剤の線幅が約1.2mmであり、そのうちの0.3mmがBMと重なるように描画した。
得られた液晶表示パネルについてシール部近辺に生じる色むらを目視にて観察し、色むらが全くない場合を「◎」、色むらがほとんどない場合を「○」、少し色むらがある場合を「△」、色むらがかなりある場合を「×」と、4段階で評価した。
上記観察は、通電しない状態(非点灯)と通電した状態(点灯)とでそれぞれ行った。
得られた液晶滴下工法用シール剤100重量部に対して平均粒径5μmのポリマービーズ(積水化学工業社製、「ミクロパールSP」)3重量部を遊星式撹拌装置によって分散させ、均一な液とした。得られた液の極微量をガラス基板コーニング1737(20mm×50mm×0.7mmt)の中央部に取り、同型のガラス基板をその上に重ね合わせて液晶滴下工法用シール剤を押し広げた。その状態で100mW/cm2の紫外線を30秒照射した。その後、120℃で1時間加熱を行い、接着試験片を得た。得られた試験片について、テンションゲージを用いて接着強度を測定した(比較単位:N/cm2)。
得られた液晶滴下工法用シール剤をスライドガラス上に点状に塗布し、ガラス製の透明真空デシケータに入れ3torrの真空にした状態で蛍光灯の下に放置した。
5、20及び60分間放置後、液晶滴下工法用シール剤を塗布していないスライドガラスを、所定のギャップ間距離となるように貼り合わせた。このとき、塗布していた液晶滴下工法用シール剤が潰れるかどうかを目視にて観察し、潰れた場合を「○」と、潰れない場合を「×」と評価した。
厚さ0.7mmのコーニングガラスの半面にクロム蒸着を施した基板1と、前面にクロム蒸着を施した基板2とを準備した(図1(a))。
基板1のクロム蒸着を施した部分と、していない部分との境界部に液晶滴下工法用シール剤を点状に塗布し、基板2を貼り合わせてから充分に押しつぶした。これにより、液晶滴下工法用シール剤は基板上に大きく広がった(図1(b))。
Claims (3)
- 硬化性樹脂、UVラジカル開始剤及びラジカル重合禁止剤を含有する液晶滴下工法用シール剤であって、
前記硬化性樹脂は、(メタ)アクリル基を有する硬化性樹脂とエポキシ基を有する硬化性樹脂とが共存するものであって、前記(メタ)アクリル基とエポキシ基との比が60:40〜95:5であり、
前記UVラジカル開始剤は、アセトニトリル中で測定した350nmにおける吸光係数が500ml・g−1・cm−1以上であり、
前記ラジカル重合禁止剤の配合量が前記硬化性樹脂100重量部に対して0.1〜0.4重量部である
ことを特徴とする液晶滴下工法用シール剤。 - (メタ)アクリル基はアクリル基であることを特徴とする請求項1記載の液晶滴下工法用シール剤。
- 請求項1又は2記載の液晶滴下工法用シール剤を用いて製造されたことを特徴とする液晶表示素子。
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