JPWO2008093442A1 - ガス処理装置 - Google Patents

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Abstract

管理が容易でメンテナンスの頻度が低く、かつ半導体製造プロセスなどの工業プロセスから排出される様々な種類の処理対象ガスを処理することのできる汎用性の高いガス処理装置を提供する。大気圧プラズマPおよび大気圧プラズマPに向けて供給される処理対象ガスFを囲繞し、その内部にて処理対象ガスFの熱分解を行う反応器12を有するガス処理装置10において、反応器12には、その内面を水Wで覆うための水供給手段16が設けられていることを特徴とする。かかる構成により、反応器12の内面略全体にいわゆる「濡れ壁」が形成される。このため、処理対象ガスF中の固形成分が反応器12の内面に接触して付着・堆積するのを防止することができると共に、該内面の劣化を遅延させることができる。

Description

本発明は、人体に有害なガス、地球温暖化ガス、オゾン層破壊ガスを含むガス、特に半導体や液晶等の製造プロセスから排出されるガスを分解処理する装置に関する。
現在、物を製造したり、処理したりする工業プロセスとして、多種多様のものが開発・実施されており、このような多種多様な工業プロセスから排出されるガス(以下、「処理対象ガス」という。)の種類も非常に多岐にわたっている。
このため、工業プロセスから排出される処理対象ガスの種類に応じて、様々な種類のガス処理方法およびガス処理装置が使い分けられている。
例えば、半導体製造プロセス一つを例にとっても、モノシラン(SiH)、塩素ガス、PFC(パーフルオロコンパウンド)など様々な種類のガスが使用されており、処理対象ガスにモノシランが含まれている場合には、熱分解式、燃焼式、吸着式あるいは化学反応式などの処理装置が使用され、処理対象ガスに塩素ガスが含まれている場合は、薬液を使った湿式や吸着式などの処理装置が使用され、処理対象ガスにPFCが含まれている場合は、触媒式、熱反応式、熱分解式、燃焼式、プラズマ式のガス処理装置が使用されている。
このように工業プロセスから排出される様々な種類の処理対象ガスに応じてガス処理装置を逐一準備すると、ユーザーにとって装置の管理が複雑になるとともに、メンテナンスに要する時間やコストが増大する。このことが結果的に製品のコストにはね返り、製品のコスト競争力の低下を招いていた。
そこで、工業プロセスから排出される処理対象ガスには高温下で熱分解可能なものが多いことから、特許文献1に示すような熱分解式のガス処理装置、すなわち反応器内に大気圧プラズマを噴出させ、この大気圧プラズマに向けて処理対象ガスを供給して分解処理する装置を用いれば、少なくとも高温下で熱分解可能な処理対象ガスは、その種類にかかわらず1つの装置で分解処理できるようになる。
特開2000−334294号公報
しかしながら、上述のようなガス処理装置を用いた場合、熱分解性の処理対象ガスのほとんどを分解処理できる(すなわち汎用性がある)ものの、処理対象ガスに伴って反応器内に進入する固形物や熱分解の際に反応器内で副生する固形成分が反応器内壁に付着・堆積したり、常時高温に曝される反応器の内面が短期間で劣化したりするようになるという問題があった。このため、従来の技術では、依然としてガス処理装置を頻繁に止めて反応器の掃除や交換等といったメンテナンスを行なわなければならず、製品コストの低減にも寄与していなかった。
本発明は、このような従来技術の問題点に鑑みて開発されたものである。それゆえに本発明の主たる課題は、管理が容易でメンテナンスの頻度が低く、かつ半導体製造プロセスなどの工業プロセスから排出される様々な種類の処理対象ガスを処理することのできる汎用性の高いガス処理装置を提供することにある。
請求の範囲第1項に記載した発明は、「大気圧プラズマPおよび大気圧プラズマPに向けて供給される処理対象ガスFを囲繞し、その内部にて処理対象ガスFの熱分解を行う反応器12を備えるガス処理装置10において、反応器12には、その内面を水Wで覆うための水供給手段16が設けられている」ことを特徴とするガス処理装置10である。
この発明では、反応器12の内面を水Wで覆うための水供給手段16が設けられているので、反応器12の内面略全体にいわゆる「濡れ壁」が形成される。このため、処理対象ガスFに伴って反応器12内に固形成分が進入する場合や処理対象ガスFを大気圧プラズマPで熱分解する際に固形成分が副生する場合、これらの固形成分は、反応器12の内面に付着する前に反応器12の内面を覆う水Wと接触してこの水Wに溶解するか、または水Wとともに反応器12外へと流される。それゆえ、反応器12内に進入した、或いは反応器12内で副生した固形成分が反応器12の内面に接触して付着・堆積するのを防止することができる。
また、このような「濡れ壁」が形成されることによって、反応器12の内面が直接高温に曝されるのを防止することができ、該内面の劣化を遅延させることができる。
また、ガス処理装置10は、処理対象ガスFの熱分解に大気圧プラズマPを用いているので、電熱ヒータを用いる場合のように、該熱分解に際して反応器12を予熱しておく必要がない。また、反応器12の内面は常に水Wで覆われており反応器12自身が高温にならないので、処理対象ガスFの熱分解を終了する際に反応器12を冷ます必要がない。したがって、この発明によれば、立ち上げ・立ち下げを瞬時に行うことのできるガス処理装置10を提供することができる。
さらに、反応器12の内面を覆う水Wは、大気圧プラズマPからの熱を受けて気化し、気化した水(水蒸気)Wはさらに熱を受けて酸素と水素とに解離する。このようにして生成された酸素および水素は、反応器12内において処理対象ガスFと反応することにより、処理対象ガスFの分解に寄与する。
なお、本明細書において、「大気圧プラズマP」とは、大気圧条件下で生成するプラズマのことであり、熱プラズマ、マイクロ波プラズマおよび火炎を含む広義のプラズマを意味する。
請求の範囲第2項に記載した発明は、請求の範囲第1項に記載のガス処理装置10において、「内部で発生させた大気圧プラズマPを反応器12に供給するプラズマ発生装置14を備えており、反応器12には、プラズマ発生装置14から供給された大気圧プラズマPを反応器12内に導入するためのプラズマ導入孔26と、処理対象ガスFを導入するための処理対象ガス導入孔28とが互いに異なる位置に設けられている」ことを特徴とする。
この発明では、プラズマ発生装置14の内部で大気圧プラズマPを発生させた後、この大気圧プラズマPを反応器12のプラズマ導入孔26を介して反応器12内に導入するようになっている。また、大気圧プラズマPと処理対象ガスFとは、反応器12において互いに異なる位置に設けられたプラズマ導入孔26と処理対象ガス導入孔28とからそれぞれ別個に反応器12内へ導入されるので、処理対象ガスFがプラズマ発生装置14内を通過しない。
このように、大気圧プラズマPをプラズマ発生装置14の内部で発生させることにより、大気圧プラズマPを発生させるための電極などを反応器12の内部に設置する必要がなくなり、反応器12の内部に設置された電極などが核となって上記固形成分が反応器12の内部に付着・堆積することがない。
さらに、処理対象ガスFがプラズマ発生装置14内を通過しないので、大気圧プラズマPを発生させる電極などが処理対象ガスFと接触して腐食するおそれがない。
請求の範囲第3項に記載した発明は、請求の範囲第1項または第2項に記載のガス処理装置10において、「反応器12の前段には、処理対象ガスFを水洗する前段湿式スクラバー18が更に設けられている」ことを特徴とするもので、これにより、処理対象ガスF自体に多くの固形成分や水溶性成分が含まれているような場合、処理対象ガスFを反応器12に供給する前に当該処理対象ガスF中から固形成分や水溶性成分を除去することができ、反応器12で処理すべき固形成分や水溶性成分の量を低減することができる。
請求の範囲第4項に記載した発明は、請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載のガス処理装置10において、「反応器12内または反応器12に処理対象ガスFを供給するガス供給路内の少なくとも一方に酸化性ガスまたは還元性ガスのいずれか一方を導入する分解助剤導入部62をさらに備える」ことを特徴とする。
この発明では、反応器12内またはガス供給路内の少なくとも一方に、分解助剤導入部62を介して酸化性ガスまたは還元性ガスのいずれか一方を導入することができる。このため、酸化性ガスを導入した場合には、処理対象ガスFを大気圧プラズマPで熱分解するだけでなく、熱分解した処理対象ガスFを酸化させることができ、これにより熱分解後の処理対象ガスFを無害な成分へと変換することができる。つまり、処理対象ガスFの除害効率を高めることができる。
一方、還元性ガスを導入した場合には、処理対象ガスFの除害効率を高めることができるとともに、大気圧プラズマPの作動ガスや空気などに由来する窒素が高温の反応器12内で酸素と結合することにより生じる窒素酸化物(NOx)を分解して無害な窒素と水とに変換することができる。
請求の範囲第5項に記載した発明は、請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載のガス処理装置10において、「水供給手段16または前段湿式スクラバー18で使用する水Wの少なくとも一方にアンモニアを供給するアンモニア供給装置64をさらに備える」ことを特徴とするものである。
この発明では、水供給手段16または前段湿式スクラバー18で使用する水Wの少なくとも一方に添加したアンモニアが高温の反応器12内に導入されたときに気化し、この気化したアンモニアが還元性ガスとして、上述したように、処理対象ガスFの除害に寄与するとともに窒素酸化物を分解する。
請求の範囲第6項に記載した発明は、請求の範囲第1項ないし第5項のいずれかに記載のガス処理装置10において、「反応器12から排出された熱分解処理後の排ガスGを水洗する後段湿式スクラバー22が設けられている」ことを特徴とするもので、これにより、処理対象ガスFを熱分解した際に発生する水溶性成分や固形成分を排ガスG中から水洗・除去できるので、熱分解後の排ガスGをより清浄な状態で大気中へと排出することができる。
請求の範囲第7項に記載した発明は、請求の範囲第3項ないし第6項のいずれかに記載のガス処理装置10において、「前段湿式スクラバー18の入口側とガス処理装置10出口側に設けられた排気ファン54の入口側とを繋ぐ常閉のバイパス配管56と、排気ファン54の入口側に接続され、ブリーザー弁58を介して反応器12から排出された熱分解処理後の排ガスGの流路に大気を導入する大気導入配管60とが設けられている」ことを特徴とするもので、これにより、反応器12内で何らかのトラブルが発生した場合には、処理対象ガスFをバイパス配管56に通流させるとともに、ブリーザー弁58を全開にして排ガスGの流路に多量の大気を導入することで、処理対象ガスFを安全な濃度にまで希釈して緊急避難的に排出することができる。
請求の範囲第8項に記載した発明は、請求の範囲第1項ないし第7項のいずれかに記載のガス処理装置10において、「水供給手段16に供給する水Wを貯留すると共に、反応器12の内面を流れた水Wが回収される水タンク20と、水タンク20に貯留された水Wの温度を測定する水温計46と、水温計46からの水温信号を受けて、水タンク20に貯留された水Wの水温が一定となるように制御する水温調整手段とを有する」ことを特徴とする。
反応器12の内面に「濡れ壁」を形成した後、水タンク20に回収される水Wは反応器12の内面を流れる際に温められて温水(或いは加熱されて熱水)となる。このため、水タンク20の水温は徐々に上昇することになる。
ところで、水供給手段16から反応器12の内面に供給される水Wの温度が高い場合、反応器12内面に供給された水Wが(大気圧プラズマPの熱を吸収して)すぐに蒸発してしまい反応器12内面の略全体に「濡れ壁」を形成することができなくなる。
そこで、この発明では、水タンク20に貯留された水Wの温度が一定となるように制御する「水温調整手段」を設けているので、水供給手段16から反応器12の内面に供給する水Wの温度を一定に保つことができ(つまり、水供給手段16から反応器12の内面に供給する水Wの温度が上昇するのを抑えることができ)、この結果、常に反応器12内面の略全体に「濡れ壁」を形成することができる。
請求の範囲第1項から第8項に係る発明によれば、反応器の内面略全体にいわゆる「濡れ壁」を形成できるので、反応器内に進入した、或いは反応器内で副生した固形成分が反応器の内面に接触して付着・堆積するのを防止することができる。したがって、固形成分が反応器の内面に付着せず、かつ内面を劣化させることのない、管理が容易でメンテナンスの頻度が低いガス処理装置を提供することができる。
また、請求の範囲第2項に係る発明によれば、固形成分が反応器の内部に付着・堆積することをさらに効果的に防止することができる。加えて、大気圧プラズマPを発生させる電極などが処理対象ガスと接触して腐食することを防止できる。
また、請求の範囲第3項〜第6項に係る発明によれば、処理対象ガスの種類にかかわらず、その全てにおいて除害効率を高めることができる。
さらに、請求の範囲第7項に係る発明によれば、ガス処理装置に何らかのトラブルが発生した場合でも、処理対象ガスを安全な濃度にまで希釈して緊急避難的に排出することができる。
また、請求の範囲第8項に係る発明によれば、水供給手段から反応器の内面に供給する水の温度を一定に保つことができるので、常に反応器内面の略全体に「濡れ壁」を形成することができ、反応器内面に固形成分が付着・堆積するのをより一層効果的に防止できると共にその劣化を防止することができる。
以上のように、本発明によれば、管理が容易でメンテナンスの頻度が低く、かつ半導体製造プロセスなどの工業プロセスから排出される様々な種類の処理対象ガスを処理することのできる汎用性の高いガス処理装置を提供することができる。
本発明の一実施例(溢流式水供給)のガス処理装置を示す構成図である。 本発明の他の実施例(分解助剤ガス導入)のガス処理装置を示す構成図である。 本発明の他の実施例(アンモニア添加)のガス処理装置を示す構成図である。 本発明の他の実施例(スプレー式水供給)のガス処理装置を示す構成図である。 本発明の他の実施例(ガスバーナー)のガス処理装置を示す構成図である。
符号の説明
10…ガス処理装置
12…反応器
12a…外筒
12b…内筒
14…プラズマ発生装置
16…水供給手段
18…前段湿式スクラバー
20…水タンク
22…後段湿式スクラバー
24…水貯留部
36…水供給配管
38…ポンプ
40…枝配管
42…排水管
44…熱交換器
46…水温計
48…水供給配管
50…新水供給配管
52…流量調整装置
54…排気ファン
56…バイパス配管
58…ブリーザー弁
60…大気導入配管
62…分解助剤導入部
64…アンモニア供給装置
66…スプレーノズル
P…プラズマジェット
F…排ガス
G…作動ガス
S…(反応筒管壁内の)空間
以下、本発明を図示実施例にしたがって説明する。図1は本実施例のガス処理装置10の概要を示した構成図である。この図が示すように、本実施例のガス処理装置10は、大略、反応器12、プラズマ発生装置14、水供給手段16、前段湿式スクラバー18、水タンク20および後段湿式スクラバー22などで構成されている。
反応器12は、後述するプラズマ発生装置14で発生させた大気圧プラズマPと処理対象ガスFとを囲繞し、その内部にて処理対象ガスFを熱分解するための装置であり、具体的には、両端面が閉塞され、水タンク20上に立設された円筒状の外筒12aと、外筒12aの内側に収容され、外筒12aよりも小径で且つ両端面が開放されると共に、軸方向一方端部(上端部)が外筒12aの上端面との間に隙間を形成するように配置され、軸方向他方端部(下端部)が外筒12aの下端面を貫通して水タンク20内に延出する円筒状の内筒12bとで構成された二重管である。
この反応器12の外筒12a内周面と内筒12b外周面との間に形成された空間には、反応器12(より具体的には内筒12b)の内面に沿って流す水Wを一時的に貯留する水貯留部24が形成されている。
また、外筒12aの上端面には、その中心にプラズマ導入孔26が設けられていると共に、該プラズマ導入孔26の周辺に1又は複数(図1に示す実施例では2つ)の処理対象ガス導入孔28が設けられている。
また、水タンク20内に延出した内筒12bの下部には熱分解処理後の処理対象ガスF(すなわち排ガスG)を内筒12bの内側から外側に向けて排出する排ガス排出孔30が設けられている。
プラズマ発生装置14は、高温の大気圧プラズマPを生成する電極を内部に備えるプラズマトーチ14aと、プラズマトーチ14aの電極に電位を印加する直流電源14bと、プラズマトーチ14aに作動ガスを供給する作動ガス供給装置14cとで構成されている。
プラズマトーチ14aは、プラズマ導入孔26から内筒12bの内部に向けて大気圧プラズマPを噴射できるように外筒12aの上端外面中央部に取り付けられている。
直流電源14bは、プラズマトーチ14aの内部に設けられた一対の電極に所定の放電電圧を印加して電極間にプラズマアークを発生させるものである。本実施例では、いわゆるスイッチング方式の電源装置を使用している。
作動ガス供給装置14cは、プラズマトーチ14aに窒素や水素、あるいはアルゴンなどの作動ガスを送給するものであり、作動ガスを貯蔵する貯蔵タンク(図示せず)、およびこの貯蔵タンクとプラズマトーチ14aとを連通する作動ガス供給配管32を有する。
本実施例の作動ガス供給装置14cには、作動ガス供給配管32に質量流量制御手段34が設けられている。この質量流量制御手段34は、作動ガス供給配管32を通じてプラズマトーチ14aに供給する作動ガスの量を一定に制御するものである。
水供給手段16は、内筒12bの内面に沿って水Wを流すための手段であって、本実施例では、上述した水貯留部24、水タンク20と水貯留部24とを連通する水供給配管36および水タンク20に貯められた水Wを水貯留部24に供給するポンプ38で構成されている。つまり、水タンク20の水Wを水貯留部24に供給し、内筒12bの上端から水Wをオーバーフローさせることによって、これらが内筒12bの内面に沿って水Wを流す水供給手段16として機能する。
前段湿式スクラバー18は、処理対象ガス発生源に接続された排ガスダクト(図示せず)より供給される処理対象ガスFに水を噴霧して当該処理対象ガスF中から固形成分や水溶性成分を水洗除去するものであり、一端が前記排ガスダクトに接続され、他端が処理対象ガス導入孔28に直結された直管形のスクラバー本体18aと、スクラバー本体18a内部に設置され、水Wなどの薬液を噴霧するスプレーノズル18bとで構成されている。また、スプレーノズル18bには、水供給配管36から分枝した枝配管40が接続されており、これによりスプレーノズル18bに水タンク20の水Wが供給されるようになっている。
本実施例では、前段湿式スクラバー18を反応器12の上端面に形成された処理対象ガス導入孔28に直結し、スプレーノズル18bから噴霧した水Wが反応器12内部に供給されるようになっている。こうすることにより前段湿式スクラバー18から反応器12に至るまでの流路や処理対象ガス導入孔28に処理対象ガスF中の固形成分が付着・堆積するのを確実に防止することができる。
また、前段湿式スクラバー18が2系統設けられているが、こうすることにより、例えば、1つのプロセスでモノシランなどの可燃性ガスとNF3などの支燃性ガスとが排出される場合において、混合することによって爆発等を引き起こす危険性があるこれらのガスをそれぞれ別系統の前段湿式スクラバー18で安全に処理することができる。
なお、本実施例では、排ガスダクトと前段湿式スクラバー18とで処理対象ガスFのガス供給路が形成されているが、処理対象ガス発生源から供給される処理対象ガスFが粉塵を含有しないあるいは粉塵の含有量が少ない場合には、当該前段湿式スクラバー18を省略するようにしてもよい。また、枝配管40にバルブ(図示せず)を取り付けることにより、スプレーノズル18bから噴霧するスプレー水Wの量を調整するとともに、スプレー水Wが不要の場合は、枝配管40を閉止することができる。
水タンク20は、内筒12bの内面に流す水Wなどを貯留する矩形箱状の水槽であり、この水タンク20には、排水管42、熱交換器44および水温計46が取り付けられている。
排水管42は、水タンク20の基準水面位置に対応する水タンク20の壁面に接続されたパイプであり、基準水面位置における水タンク20の水貯留容量を超える余剰水は、排水管42を通って系外に排出される。したがって、水タンク20内の水位は基準水面位置よりも高くならない。なお、水タンク20に反応器12を取り付けた状態で、水タンク20内の基準水面位置は、内筒12bの下端面と内筒12bの下部に設けられた排ガス排出孔30との間に位置するように設定されている。これにより、反応器12と後述する後段湿式スクラバー22とが水タンク20を介して連通するようになっている。
熱交換器44は、水タンク20に貯留された水Wを冷却する装置であり、本実施例では、耐腐食性を有する管を曲げるなどして形成された蛇管式の熱交換器44が水タンク20の底面と基準水面位置との間に配設されている。
水温計46は、水タンク20内に貯留された水Wの温度を測定するものであり、本実施例に係る水温計46には、測定した水温信号を後述する流量調整装置52に送信する機能が付与されている。
後段湿式スクラバー22は、処理対象ガスFを熱分解した際に発生する水溶性成分や固形成分を排ガスG中から水洗・除去する装置であり、直管形のスクラバー本体22aと、スクラバー本体22a内に配設された2つのスプレーノズル22b,22cと、穿孔プレート22dとを有する。
この後段湿式スクラバー22は、水タンク20の上面に立設されており、2つのスプレーノズル22b,22cから噴霧された水Wが、水タンクに戻されるようになっている。
本実施例では、スクラバー本体22a内に2つのスプレーノズル22b,22cが垂直方向に間隔を隔てて設置されており、下段に設置されたスプレーノズル22bには、前段湿式スクラバー18のスプレーノズル18bに水Wを供給する枝配管40から分枝した水供給配管48が接続されている。したがって、下段に設置されたスプレーノズル22bからは、水タンク20からポンプ38で汲み上げられた水Wが噴霧される。また、上段に設置されたスプレーノズル22cには、新水供給配管50を介して新水が供給されている。なお、本明細書において新水とは、水タンク20で貯留された後にポンプ38で反応器12などに供給される水W、つまり本発明に係るガス処理装置10内で循環使用される水Wとは異なり、外部からガス処理装置10に供給される水をいい、市水や工業用水などの使用目的を問わない。
また、新水を供給する新水供給配管50には、新水の供給量を調整する流量調整装置52が取り付けられており、この流量調整装置52は、上述した水温計46からの水温信号を受信し、水タンク20内の水温が予め設定された水温(本実施例の場合には30℃)に等しくなるようにスプレーノズル22cに供給する新水の量を調整している。したがって、本実施例では、上述した熱交換器44、新水供給配管50、流量調整装置52およびスプレーノズル22cが協働することにより「水温調整手段」として機能している。
穿孔プレート22dは、スクラバー本体22a内部空間の全面を横切るように取り付けられた板状の部材であり、その表面には排ガスGを通流させるための小さなガス通流孔が多数穿設されている。なお、この穿孔プレート22dとしては、パンチングメタルや網などが好適である。
後段湿式スクラバー22の頂部出口は、処理済みの排ガスGを大気中へ放出する排気ファン54を介して排気ダクト(図示せず)に接続されている。
また、前段湿式スクラバー18の入口側と排気ファン54の入口側とが常閉のバイパス配管56によって繋がれており、さらに、排気ファン54の入口側には、ブリーザー弁58を介して反応器12から排出された熱分解処理後の排ガスGの流路に大気を導入する大気導入配管60が接続されている。
これにより、反応器12内で何らかのトラブルが発生した場合には、バイパス配管56を常閉しているバイパスバルブ56aを全開にして処理対象ガスFをバイパス配管56に通流させると共に、ブリーザー弁58を全開にして排ガスGの流路に多量の大気を導入することで、処理対象ガスFを安全な濃度にまで希釈して緊急避難的に排出することができる。
次に、図1に示したガス処理装置10を用いて処理対象ガスFを分解する際には、まず作動ガス供給装置14cを作動させ、質量流量制御手段34によって流量を制御しつつ、作動ガスを貯蔵タンクからプラズマトーチ14aに送給する。
そして、ポンプ38を作動させて水タンク20に貯留された水Wを反応器12の水貯留部24、前段湿式スクラバー18および後段湿式スクラバー22に供給する。これにより、水貯留部24に満たされた水Wが内筒12bの上端から内筒12bの内面に溢流し、この溢流した水Wが内筒12bの内面に沿って図中下方向に流れて内筒12bの内面略全体にいわゆる「濡れ壁」を形成する。「濡れ壁」を形成した水Wの内、大気圧プラズマPの熱によって気化した分を除いて水タンク20に戻り、再びポンプ38によって反応器12などに供給される。
内筒12bの内面に「濡れ壁」が形成された後、直流電源14bを作動させることによってプラズマトーチ14aの電極間に電圧を印加し、プラズマ導入孔26から大気圧プラズマPを噴出させる。
大気圧プラズマPが噴出されると同時に、反応器12内は処理対象ガスFを熱分解可能な温度となるので、処理対象ガスFの発生源から排ガスダクトを経由して供給される処理対象ガスFを前段湿式スクラバー18に導入し、水洗する。これにより、処理対象ガスF自体に含まれている固形成分や水溶性成分が水Wに吸着しあるいは溶解することにより、当該処理対象ガスF中から除去される。なお、処理対象ガスF自体に含まれている固形成分や水溶性成分が少ない場合は、前段湿式スクラバー18における水洗を省略してもよい。
続いて、前段湿式スクラバー18で水洗した処理対象ガスFは、処理対象ガス導入孔28を通って反応器12の内部に導かれた後に大気圧プラズマPに向けて供給され、大気圧プラズマPの熱により熱分解される。
ここで、処理対象ガスFの種類が例えばモノシランなどのケイ素化合物を含む場合、処理対象ガスFを熱分解すると二酸化ケイ素(SiO)等の固形成分が生成される。この固形成分は、反応器における内筒の表面に付着・堆積する性質を持っているが、本実施例に係るガス処理装置10では、内筒12bの内面に沿って水Wを流すことにより内筒12bの内面略全体に「濡れ壁」を形成しているので、当該固形成分は、内筒12bの内面に付着する前に内筒12bの内面に沿って流れる水Wと接触して当該水Wに溶解するか、または当該水Wとともに反応器12外へと流される。
続いて、大気圧プラズマPの熱によって熱分解され、反応器12の内筒12bに設けられた排ガス排出孔30から水タンク20の内部に排出された排ガスGは、水タンク20の上面と水面との間に形成された空間を通り、水タンク20の上面に立設された後段湿式スクラバー22に導入される。
本実施例に係るガス処理装置10が備える後段湿式スクラバー22には、上述したように、上下2段にスプレーノズル22b,22cが設置されており、後段湿式スクラバー22に導入された排ガスG中に残存する固形成分や水溶性成分は、これらスプレーノズル22b,22cから噴霧された水に吸着あるいは溶解して当該排ガスGから除去される。
そして、後段湿式スクラバー22を通過した排ガスGは、(場合によっては)排気ファン54の手前において、大気導入配管60よりブリーザー弁58を介して導入された空気が混入された後、排気ファン54を介して排気ダクトに送給されて系外に放出される。
本実施例によれば、処理対象ガスFに伴って反応器12内に固形成分が進入する場合や処理対象ガスFを大気圧プラズマPで熱分解する際に固形成分が副生する場合、これらの固形成分は、内筒12bの内面に付着する前に内筒12bの内面に沿って流れる水Wと接触して当該水Wに溶解するか、または当該水Wとともに水タンク20へと流される。それゆえ、反応器12内に進入した、或いは反応器12内で副生した固形成分が内筒12bの内面に接触して付着・堆積するのを防止することができる。
また、上述したように内筒12bの内面に沿って水Wを流し、内筒12bの内面略全体に「濡れ壁」を形成することによって、内筒12bの内面が直接高温に曝されるのを防止することができ、該内面の劣化を遅延させることができる。
また、ガス処理装置10は、処理対象ガスFの熱分解に大気圧プラズマPを用いているので、電熱ヒータを用いる場合のように、該熱分解に際して反応器12を予熱しておく必要がない。また、反応器12の内面は常に水Wで覆われており反応器12自身が高温にならないので、処理対象ガスFの熱分解を終了する際に反応器12を冷ます必要がない。したがって、この発明によれば、立ち上げ・立ち下げを瞬時に行うことのできるガス処理装置10を提供することができる。
さらに、内筒12bの内面に沿って流れる水Wは、大気圧プラズマPからの熱を受けて気化し、気化した水(水蒸気)Wはさらに熱を受けて酸素と水素とに解離する。このようにして生成された酸素および水素は、反応器12内において処理対象ガスFと反応することにより、処理対象ガスFの分解に寄与する。
したがって、反応器12内に進入した、或いは反応器12内で副生した固形成分が内筒12bの内面に接触して付着・堆積するのを防止することができる。これにより、固形成分が内筒12bの内面に付着せず、かつ内面を劣化させることのない、管理が容易でメンテナンスの頻度が低いガス処理装置10を提供することができる。
また、本実施例では、プラズマ発生装置14の内部で大気圧プラズマPを発生させた後、反応器12のプラズマ導入孔26を介してこの大気圧プラズマPを反応器12内に導入するようになっている。また、大気圧プラズマPと処理対象ガスFとは、反応器12において互いに異なる位置に設けられたプラズマ導入孔26と処理対象ガス導入孔28とからそれぞれ反応器12内に導入されるので、処理対象ガスFがプラズマ発生装置14内を通過しない。
このように、大気圧プラズマPをプラズマ発生装置14の内部で発生させることにより、大気圧プラズマPを発生させるための電極などを反応器12の内部に設置する必要がなくなり、反応器12の内部に設置された電極などが核となって上記固形成分が反応器12の内部に付着・堆積することがない。
さらに、処理対象ガスFがプラズマ発生装置14内を通過しないので、大気圧プラズマPを発生させる電極などが処理対象ガスFと接触して腐食するおそれがない。
また、本実施例では、水温調整手段により水タンク20に貯留された水Wの温度が一定となるように制御されている。このため、内筒12bの内面に沿って流す水W(水供給手段16から反応器12内に供給される水W)の温度が上昇するのを抑えることができ、大気圧プラズマPの熱によって当該水Wの全てが蒸発して内筒12bの内面が露出することがなく、より確実に内筒12bの内面の略全体に「濡れ壁」を形成することができる。
なお、上述の実施例では、大気圧プラズマPとして、熱プラズマを用いる場合を示したが、この大気圧プラズマPとしてマイクロ波プラズマや火炎を用いるようにしてもよい。
また、プラズマ発生装置14には大気圧プラズマを発生させることができればどのようなタイプのプラズマ発生装置14を使用してもよいが、本実施例のように、プラズマ発生装置14のプラズマトーチ14aに「非移行型」のプラズマトーチを用いることが好適である。
すなわち、プラズマトーチのタイプには大略「非移行型」と「移行型」とがあり、「非移行型」とは、本実施例のプラズマ発生装置14のように、電極間で発生させたプラズマを所望の方向に噴射させるタイプのプラズマトーチをいう。一方、「移行型」とは、電極間でのみプラズマを形成するタイプのプラズマトーチをいう。このため、「非移行型」のプラズマトーチであれば、上述したように電極を反応器12内に設置することなく反応器12内に大気圧プラズマを供給することができる。しかし、「移行型」のプラズマトーチでは、必ず一方の電極を反応器12内に設置しなければならないので、「反応器12の内部に設置された電極などが核となって固形成分が反応器12の内部に付着・堆積することがなく、また、電極などが処理対象ガスFと接触して腐食するおそれがない」という上記効果を奏することができない。
また、後段湿式スクラバー22の上段に設置されたスプレーノズル22cのみに新水を供給する場合を示したが、水タンク20の水温上昇が速く、スプレーノズル22cからの新水のみでは水タンク20内の水温制御が困難な場合には、後段湿式スクラバー22の下段に設置されたスプレーノズル22bにも新水を供給するようにしてもよい。
本実施例に係るガス処理装置10を用いて処理対象ガスFの熱分解を行った。プラズマの直流電圧は100V程度で直流電流を60Aで常時放電とした。このとき、作動ガスとしての窒素ガスの流量は、25L(リットル)/min程度となった。
このような条件の下で100L/minの窒素にSiHを1L/min、NHを5L/minおよびNFを1L/min含む処理対象ガスを2つの前段湿式スクラバー18のそれぞれに導入し、分解処理を行った。その結果、排気ファン54の出口で測定したSiH濃度、NH濃度、NF濃度はいずれも検知限界の1ppm以下であった。
次に、本発明に係る第2実施例について、図2に基づいて説明する。第2実施例は、上述した第1実施例と比較して、反応器の内部に処理対象ガスの分解助剤として酸化性ガスあるいは還元性ガスを導入するための分解助剤導入部62をさらに備えている点が異なっている。そこで、以下ではこの分解助剤導入部62についてのみ説明し、第2実施例に係る他の部分についての構成および作用効果については、第1実施例における記載を援用することとする。
分解助剤導入部62は、分解助剤を貯蔵する分解助剤貯蔵タンク62a、分解助剤を反応器12の内部に導入する分解助剤導入ノズル62bおよび分解助剤貯蔵タンク62aと分解助剤導入ノズル62bとを連通する分解助剤導入配管62cを備えている。なお、本実施例では、反応器12の外筒12aから水貯留部24および内筒12bを貫通するようにして分解助剤導入ノズル62bが取り付けられている。
このような分解助剤導入部62を用いて酸化性ガスを導入した場合には、処理対象ガスFを大気圧プラズマPで熱分解するだけでなく、熱分解した処理対象ガスFを酸化させることができ、これにより熱分解後の排ガスGを無害な成分へと変換することができる。つまり、処理対象ガスFの除害効率を高めることができる。
例えば、処理対象ガスFが以下のようなガスである場合、酸化性ガスとして酸素を反応器12に導入することによって処理対象ガスFを反応器12の内部で酸化させて無害な水や二酸化炭素に変換することができる。
[化1]
SiH4+O2→SiO2+H2
[化2]
Si(OC254+6O2→SiO2+2CO2+10H2
[化3]
2PH3+5O2→2H3PO5
[化4]
26+3O2→2H3BO3
[化5]
2CO+O2→2CO2
また、PFCガスの場合は、酸化性ガスとして水を導入することにより、処理対象ガスFを以下のように分解することができる。
[化6]
CF4+2H2O→CO2+4HF
[化7]
2C26+6H2O+O2→4CO2+12HF
[化8]
2NF3+3H2O→6HF+NO+NO2
[化9]
SF6+4H2O→H2SO4+6HF
一方、還元性ガスを導入した場合には、処理対象ガスFの除害効率を高めることができる。例えば、還元性ガスとして水素やアンモニアを導入することにより、以下のとおりNF3を分解することができる。
[化10]
NF3+3H2→3HF+NH3
[化11]
NF3+NH3→N2+3HF
また、半導体製造プロセスの1つであるCVD(化学気相成長)プロセスにおいて、シリコン酸化膜の形成に使用されるN2O(亜酸化窒素)も同様に分解することができる。
[化12]
2O+H2→N2+H2
[化13]
3N2O+2NH3→4N2+3H2
さらに、化8に示したようにNF3を処理する場合、あるいは大気圧プラズマPの熱による高温下で、水や空気に含まれている酸素と、空気や作動ガスなどに含まれている窒素とが反応して窒素酸化物が発生する。分解助剤として還元性ガスを導入することにより、この窒素酸化物を分解して無害な窒素と水とに変換することができる。
[化14]
NO+NO2+3H2→N2+3H2
[化15]
NO+NO2+2NH3→2N2+3H2
なお、上述の例では、反応器12の外筒12aから水貯留部24および内筒12bを貫通するようにして分解助剤導入ノズル62bを取り付け、反応器12内に直接、酸性ガス又は還元性ガスのいずれか一方を導入する場合を示したが、分解助剤導入ノズル62bを処理対象ガス導入孔28近傍や前段湿式スクラバー18などに取り付け、処理対象ガスFのガス供給路にこれらのガス(すなわち分解助剤)を導入するようにしてもよい。また、反応器12内とガス供給路の両方に分解助剤のガスを導入するようにしてもよい。
第2実施例に係るガス処理装置10を用いて、水素を10L/minまたはアンモニアガスを7L/min反応器12に導入すると、第1実施例において排気ファン54の出口で100ppm程度発生していた窒素酸化物濃度がNOで10ppm、NOで1ppmに低下した。
また、50L/minの窒素にCFを200cc/min含むガスと、CO500cc/minとを混合して2つの前段湿式スクラバー18のそれぞれに導入し、分解処理を行った。さらに、空気を分解助剤として5L/min導入した。その結果、排気ファン54の出口で測定したCFの分解率は98%、COの濃度は、0.5ppmであった。
次に、本発明に係る第3実施例について、図3に基づいて説明する。第3実施例は、上述した第1実施例と比較して、前段湿式スクラバー18で使用する水Wにアンモニアを供給するアンモニア供給装置64をさらに備えている点が異なっている。そこで、以下ではこのアンモニア供給装置64についてのみ説明し、第3実施例に係る他の部分についての構成および作用効果については、第1実施例における記載を援用することとする。
アンモニア供給装置64は、アンモニアを貯蔵するアンモニア貯蔵タンク64a、アンモニア貯蔵タンク64aと枝配管40とを連通するアンモニア供給配管64bおよびアンモニア供給配管64bに取り付けられ、アンモニア貯蔵タンク64a内のアンモニアを枝配管40内に供給するアンモニア供給ポンプ64cを備えている。
このようなアンモニア供給装置64を用いて前段湿式スクラバー18で噴霧される水Wにアンモニアを添加することにより、アンモニアは、当該水Wが高温の反応器12内に導入されたときに気化し、この気化したアンモニアが第2実施例で述べたように還元性ガスとして処理対象ガスFの除害に寄与するとともに窒素酸化物を分解することができる。
なお、上述の例では、前段湿式スクラバー18で噴霧される水Wにアンモニアを添加する場合を示したが、これに替えて、或いはこれと共に水供給手段16にアンモニアを添加するようにしてもよい。
第3実施例に係るガス処理装置10を用いて、前段湿式スクラバー18に送る水Wに、25%のアンモニア水を10cc/min添加した。これにより、気化したアンモニアが還元ガスとして作用し、窒素酸化物の発生を抑えた。排気ファン54の出口濃度はNOで25ppm、NOで1ppmであった。
本発明に係る第4実施例は、図4に示すように、水供給手段16の他の例として複数のスプレーノズル66を用いることを特徴としている。本実施例では、内筒12bの内周部に4つのスプレーノズル66が取り付けられており、それぞれのスプレーノズル66には、水供給配管36が接続されている。これにより、水タンク20に貯留された水Wはポンプ38を介してそれぞれのスプレーノズル66に供給されてスプレーノズル66から噴射される。噴射された水Wは、対向する内筒12bの内面に到達して「濡れ壁」を形成する。
本発明に係る第5実施例は、図5に示すように、大気圧プラズマPとして火炎を用いる場合であり、第1実施例におけるプラズマ発生装置14に代えて火炎発生装置68を用いることを特徴としている。
火炎発生装置68は、プロパンガスを燃焼させて大気圧プラズマPの1つである火炎を発生させる装置であり、ガスバーナー68aと、プロパンガス供給装置68bと、ガスバーナー68aに燃焼用空気を供給する燃焼用空気供給装置68cとで構成されている。
プロパンガス供給装置68bは、ガスバーナー68aに燃料であるプロパンガスを供給するものであり、プロパンガスを貯蔵するプロパンガス貯蔵タンク(図示せず)、およびこのプロパンガス貯蔵タンクとガスバーナー68aとを連通するプロパンガス供給配管70を有する。
また、燃焼用空気供給装置68cは、ガスバーナー68aに燃焼用空気を供給するものであり、燃焼用空気供給ファン(図示せず)、およびこの燃焼用空気供給ファンとガスバーナー68aとを連通する燃焼用空気供給ダクト72を有する。
また、本実施例のプロパンガス供給装置68bには、プロパンガス供給配管70に質量流量制御手段74が設けられている。この質量流量制御手段74は、プロパンガス供給配管70を通じてガスバーナー68aに供給するプロパンガスの量を制御するもので、例えば、反応器12の内部温度を検出する温度計(図示せず)からの温度信号に基づいて、ガスバーナー68aに供給するプロパンガスの量を制御するマスフローコントローラである。
さらに、燃焼用空気供給装置68cには、燃焼用空気供給ダクト72に質量流量制御手段76が設けられている。この質量流量制御手段76は、燃焼用空気供給ダクト72を通じてガスバーナー68aに供給する燃焼用空気の量を制御するものであり、例えば、反応器12の内部温度を検出する温度計(図示せず)からの温度信号に基づいて、ガスバーナー68aに供給する燃焼用空気の量を制御するマスフローコントローラである。
なお、本発明に係るガス処理装置は、半導体プロセスからの処理対象ガスFに限らず、LCDプロセス、MEMS製造プロセスからの処理対象ガスFおよび冷媒用フロンの分解処理などにも用いることができる。

Claims (8)

  1. 大気圧プラズマおよび前記大気圧プラズマに向けて供給される処理対象ガスを囲繞し、その内部にて前記処理対象ガスの熱分解を行う反応器を備えるガス処理装置において、
    前記反応器には、その内面を水で覆うための水供給手段が設けられていることを特徴とするガス処理装置。
  2. 内部で発生させた前記大気圧プラズマを前記反応器に供給するプラズマ発生装置を備えており、
    前記反応器には、前記プラズマ発生装置から供給された前記大気圧プラズマを前記反応器内に導入するためのプラズマ導入孔と、前記処理対象ガスを導入するための処理対象ガス導入孔とが互いに異なる位置に設けられていることを特徴とする請求の範囲第1項に記載のガス処理装置。
  3. 前記反応器の前段には、前記処理対象ガスを水洗する前段湿式スクラバーが更に設けられていることを特徴とする請求の範囲第1項または第2項に記載のガス処理装置。
  4. 前記反応器内または前記反応器に前記処理対象ガスを供給するガス供給路内の少なくとも一方に酸化性ガスまたは還元性ガスのいずれか一方を導入する分解助剤導入部をさらに備える、請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載のガス処理装置。
  5. 前記水供給手段または前記前段湿式スクラバーで使用する水の少なくとも一方にアンモニアを供給するアンモニア供給装置をさらに備える、請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載のガス処理装置。
  6. 前記反応器から排出された熱分解処理後の排ガスを水洗する後段湿式スクラバーが設けられていることを特徴とする請求の範囲第1項ないし第5項のいずれかに記載のガス処理装置。
  7. 前記前段湿式スクラバーの入口側と前記ガス処理装置出口側に設けられた排気ファンの入口側とを繋ぐ常閉のバイパス配管と、
    前記排気ファンの入口側に接続され、ブリーザー弁を介して前記反応器から排出された熱分解処理後の排ガスの流路に大気を導入する大気導入配管とが設けられていることを特徴とする請求の範囲第3項ないし第6項のいずれかに記載のガス処理装置。
  8. 前記水供給手段に供給する水を貯留すると共に、前記反応器の内面を流れた水が回収される水タンクと、
    前記水タンクに貯留された水の温度を測定する水温計と、
    前記水温計からの水温信号を受けて、前記水タンクに貯留された水の水温が一定となるように制御する水温調整手段とを有することを特徴とする請求の範囲第1項ないし第7項のいずれかに記載のガス処理装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014529680A (ja) * 2011-08-17 2014-11-13 エドワーズ リミテッド ガス流処理装置

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101026457B1 (ko) * 2008-09-02 2011-03-31 (주)트리플코어스코리아 저압 및 대기압 플라즈마를 이용한 폐가스 제거 시스템
JP5153748B2 (ja) * 2009-10-05 2013-02-27 メタウォーター株式会社 亜酸化窒素の還元方法及び還元装置
GB2493750A (en) * 2011-08-17 2013-02-20 Edwards Ltd Apparatus for treating a gas stream
JP5540035B2 (ja) * 2012-03-22 2014-07-02 カンケンテクノ株式会社 ガス処理装置
TWI490029B (zh) * 2012-07-20 2015-07-01 Kern Energy Entpr Co Ltd 氣體回收系統
JP6196481B2 (ja) * 2013-06-24 2017-09-13 株式会社荏原製作所 排ガス処理装置
TWI495829B (zh) 2013-08-09 2015-08-11 Orient Service Co Ltd Exhaust gas treatment device
FR3019471B1 (fr) * 2014-04-04 2016-05-06 Thales Sa Dispositif de conversion d'un effluent gazeux par plasma multi-source
TWI554326B (zh) * 2014-07-07 2016-10-21 Semiconductor exhaust gas treatment equipment
KR101633404B1 (ko) * 2014-09-04 2016-06-24 주식회사 지앤비에스엔지니어링 공정 폐 가스 처리장치
BR102014028832B1 (pt) * 2014-11-19 2017-04-11 Embraer Sa processo de reciclagem para recuperar o material de reforço fibroso de materiais compósitos e sistema de tratamento de gases efluentes
KR101514195B1 (ko) * 2015-02-17 2015-04-23 주식회사 에코에너젠 에너지 저감형 DBD Plasma NOx저감장치
KR101825825B1 (ko) * 2016-08-02 2018-02-06 주식회사 에코프로 질소산화물, 염화불화탄소류, 수소염화불화탄소류, 수소불화탄소류 및 과불화화합물을 포함하는 복합 폐가스의 통합 처리 시스템
KR102362761B1 (ko) * 2017-11-22 2022-02-15 씨에스케이(주) 가스 처리 장치
US11077401B2 (en) * 2018-05-16 2021-08-03 Highvac Corporation Separated gas stream point of use abatement device
CN108895482B (zh) * 2018-05-30 2020-05-01 安徽理工大学 一种放电等离子体辅助的燃烧火焰稳定器
JP6791510B2 (ja) * 2018-12-14 2020-11-25 カンケンテクノ株式会社 排ガスのプラズマ除害方法とその装置
WO2020261518A1 (ja) * 2019-06-27 2020-12-30 カンケンテクノ株式会社 排ガス除害ユニット
KR102089599B1 (ko) * 2019-07-12 2020-03-16 성진엔지니어링(주) 반도체 폐가스 처리장치
CN115025594A (zh) * 2022-06-13 2022-09-09 中环领先半导体材料有限公司 一种外延尾气处理设备

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61263621A (ja) * 1985-05-16 1986-11-21 Kikuchi:Kk ガス濃度の調節方法
US5123836A (en) 1988-07-29 1992-06-23 Chiyoda Corporation Method for the combustion treatment of toxic gas-containing waste gas
JP2688655B2 (ja) * 1988-09-02 1997-12-10 千代田化工建設株式会社 有毒性ガスの燃焼処理法及び装置
KR100755241B1 (ko) * 2000-05-29 2007-09-04 가부시키가이샤 아도테쿠 프라즈마 테쿠노로지 피처리물처리장치 및 그것을 사용한 플라즈마설비
CN1227054C (zh) * 2000-09-07 2005-11-16 康肯科技股份有限公司 全氟化碳或全氟化物的除害方法及除害装置
JP2003010638A (ja) * 2001-06-29 2003-01-14 Kanken Techno Co Ltd プラズマ排ガス処理方法と該方法を利用した排ガス放電処理塔ならびに前記プラズマ排ガス処理塔を搭載した排ガス処理装置
TWI230094B (en) * 2003-01-14 2005-04-01 Desiccant Technology Corp Method for exhaust treatment of perfluoro compounds
JP2005205330A (ja) * 2004-01-23 2005-08-04 Kanken Techno Co Ltd パーフルオロコンパウンド排ガスのプラズマ分解処理方法および該方法を利用したプラズマ分解処理装置並びにこのプラズマ分解処理装置を搭載した排ガス処理システム
JP2006202605A (ja) * 2005-01-20 2006-08-03 Kanken Techno Co Ltd プラズマ除害機用電源装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014529680A (ja) * 2011-08-17 2014-11-13 エドワーズ リミテッド ガス流処理装置

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