JPWO2008072388A1

JPWO2008072388A1 - 水溶液、水溶液中の残留塩素の寿命を長くする方法

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Publication number: JPWO2008072388A1
Application number: JP2008549206A
Authority: JP
Inventors: 秀孝伊藤
Original assignee: 株式会社イーデオ
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Abstract

長期間に亘って残留塩素濃度が高く、消毒（殺菌）能力に優れた水溶液を提供することである。ハロゲン酸及びその塩の群の中から選ばれる少なくとも一つと、活性酸素とを含有する水溶液であって、前記ハロゲン酸は、次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、及び過塩素酸の群の中から選ばれる少なくとも一つであり、前記水溶液中に含まれる前記ハロゲン酸及びその塩の群の中から選ばれるものの総量が１０〜５００００ｐｐｍであり、前記水溶液中に含まれる活性酸素の総量が０．１〜１０００ｐｐｍである。

Description

本発明は水溶液に関する。特に、消毒液あるいは洗浄液としての能力（殺菌力、消毒力、或いは酸化力）の指標である残留塩素の寿命を延ばす技術に関する。

次亜ハロゲン酸塩（特に、次亜塩素酸塩（ＣｌＯ⁻））水溶液が、消毒（殺菌）等に使用されている。この次亜塩素酸塩の酸化力（消毒力：殺菌力）は残留次亜塩素酸の濃度で評価される。次亜塩素酸濃度は残留塩素濃度で評価される。そして、残留塩素濃度はヨウ素法又はＤＰＤ（ジエチル−p−フェニレンジアミン）法で測定される。

さて、次亜塩素酸による残留塩素の寿命は短い。この残留塩素の寿命はｐＨに依存する。そして、酸性になる程、塩素ガスが生成（式［１］，［２］参照）する。この塩素ガスは揮散する。従って、酸性になる程、次亜塩素酸の寿命は短くなる。又、生成した塩素分子は酸素を発生する。この酸素によって、次亜塩素酸が分解する。従って、益々、次亜塩素酸の寿命は短くなる。
式［１］
２ＨＣｌＯ＋２Ｈ^＋＋２ｅ⁻⇔Ｃｌ_２＋２Ｈ_２Ｏ
式［２］
Ｃｌ_２＋２Ｈ_２Ｏ⇔２Ｈ^＋＋２Ｃｌ⁻＋Ｏ_２

尚、水溶液をアルカリ性にすると、見かけ上、残留塩素の寿命が長くなる。この理由としては、主に、次の二つが挙げられる。
一つは、塩素ガスの発生が抑制（式［１］参照）されるからである。
もう一つは、次亜塩素酸が安定な塩素酸に変化（式［３］参照）するからである。
式［３］
３ＨＣｌＯ⇔ＨＣｌＯ_３＋２ＨＣｌ

この反応（式［３］）はアルカリ性になるほど進み、塩素酸濃度が高くなる。このような理由により、次亜塩素酸を含有する商品のｐＨをアルカリ性にしている場合が多い。尚、塩素酸自体は残留塩素の濃度に寄与しないので、ｐＨがアルカリ性になるほど残留塩素濃度は小さくなる。

さて、上述の通り、次亜ハロゲン酸塩、特に、次亜塩素酸塩（ＣｌＯ⁻）の消毒（殺菌）作用は、ＣｌＯ⁻の濃度によって大きく影響される。すなわち、消毒（殺菌）能力はＣｌＯ⁻の寿命によって大きく影響される。

ところで、ＣｌＯ⁻の寿命が短いことは、予め、消毒液の造り置きが出来ないことを意味する。言い換えると、前もって製造した消毒液（ＣｌＯ⁻含有水溶液）を利用でき難いことである。

従って、ＣｌＯ⁻の寿命が長いことは、予め、消毒液（ＣｌＯ⁻含有水溶液）の造り置きが可能になることを意味する。このことは、消毒液としてのコストが低廉になり、かつ、効果的な使用を可能にする。

よって、本発明が解決しようとする課題は、ＣｌＯ⁻等の酸化能力（消毒能力：殺菌能力）の寿命を長くする技術を提供することである。

さて、ＨＣｌＯ_３は、本来、ＨＣｌＯより酸化力が高い化合物である。但し、常温では、ＨＣｌＯ_３は、反応速度が小さく、見掛け上、反応しないように見える。尚、今日、ＨＣｌＯ_３は単離されていない。塩素酸塩の形で単離されているに過ぎない。そして、ＨＣｌＯ_３は常温では安定である。但し、熱によって塩素酸塩は分解（式［４］，［５］参照）する。
式［４］
４ＭＣｌＯ_３→３ＭＣｌＯ_４＋ＭＣｌ
式［５］
ＭＣｌＯ_４→ＭＣｌ＋２Ｏ_２

ところで、塩素酸塩の濃度を残留塩素濃度測定法により測定することは不可能である。これはｐＨを酸性からアルカリ性に変化させても同じである。

ＨＣｌＯ_４は、ＨＣｌＯ_３より潜在酸化力が高い。但し、ＨＣｌＯ_４は、ＨＣｌＯ_３と同様に、常温では、反応速度が小さく、見掛け上、酸化反応が起こらない。そして、ＫＩ法では過塩素酸水溶液の残留塩素濃度はゼロである。

ＮａＣｌＯ_２も、中性では、ＫＩ法で残留塩素濃度を測定すると、数ｐｐｍである。ＮａＣｌＯ_２の反応性は高くない。但し、亜塩素酸塩の水溶液を酸性にすると、ＣｌＯ_２が発生（式［６］参照）する。そして、残留塩素濃度は高くなる。
式［６］
５ＮａＣｌＯ_２＋４ＨＣｌ→４ＣｌＯ_２＋５ＮａＣｌ＋２Ｈ_２Ｏ

さて、残留塩素濃度に寄与する化学種にはＨＣｌＯ，ＣｌＯ_２が知られている。しかし、安全性の高いＨＣｌＯ，ＣｌＯ_２は寿命が短い。従って、これらの水溶液をボトリングして販売することは困難である。そこで、化学種（ＨＣｌＯ，ＣｌＯ_２が消耗するとＨＣｌＯ又はＣｌＯ_２が補給される化学種）を共存させておくことが、寿命を延ばす為には、望まれる。

この考え方の代表的な例をＨＣｌＯ_３，ＨＣｌＯの場合で説明する。
式［３］から明らかな通り、ＨＣｌＯとＨＣｌＯ_３とは可逆的な関係にある。これはＨＣｌＯの不均一化反応と称される反応である。すなわち、ＨＣｌＯ_３濃度を増加させると、ＨＣｌＯ濃度が増すことになる。しかし、ＨＣｌＯが溶解していない場合、塩素酸塩が溶解した水溶液を酸性にしても、ＨＣｌＯの生成は見られない。

ところで、ＨＣｌＯ_３水溶液にＯＨ・（ラジカル）が共存すると、残留塩素濃度の測定が可能なＣｌＯ_２が生成（式［７］参照）する。又、Ｈ_２Ｏ_２やスーパーオキシドアニオン等の活性酸素を共存させても、残留塩素濃度の測定が可能なＣｌＯ_２が生成（式［８］参照）する。
式［７］
ＣｌＯ_３ ⁻＋ＯＨ・＋３Ｈ^＋→ＣｌＯ_２＋２Ｈ_２Ｏ
式［８］
２ＣｌＯ_３ ⁻＋Ｏ_２ ⁻＋８Ｈ^＋＋５ｅ⁻→２ＣｌＯ_２＋４Ｈ_２Ｏ

すなわち、次亜塩素酸塩水溶液に塩素酸塩を添加し、かつ、活性酸素を共存させたならば、ＣｌＯ_２又はＨＣｌＯ等による残留塩素の実質濃度が増加することになる。

さて、ＮａＣｌＯ_３，ＫＣｌＯ_３を水に溶解させると、塩素酸塩水溶液が得られる。電解によっても、ＨＣｌＯ_３水溶液は得られる。例えば、図1に示す如く、二室型電解槽（アノード極とカソ−ド極との間に隔膜としてフッ素系カチオン交換膜を用いた電解槽）の電解装置によって得られた電解水は、オゾン（活性酸素）の濃度が高い（特開平８−１３４６７７号公報、特開２０００−２３４１９１号公報を参照）。図１中、１はアノード室である。２はアノード室入口である。３はアノード室出口である。４はアノード電極である。５は隔膜である。６はカソード室である。７はカソード室入口である。８はカソード室出口である。９はカソード極である。そして、発生したＯ_３とＣｌ⁻とが反応してＣｌＯ_３ ⁻が生成（式［９］参照）する。
式［９］
Ｃｌ⁻＋Ｏ_３→ＣｌＯ_３ ⁻

この生成した塩素酸水溶液に活性酸素を組み合わせると、残留塩素濃度の寿命が長い酸化性水溶液が得られることが判って来た。尚、活性酸素は電解により生成する。ＣｌＯ⁻はＣｌ⁻をアノード電解酸化することにより生成する。例えば、図１の二室型電解槽のカソ−ド室６にＮａＣｌ等の塩を添加すると、一部のＣｌ⁻はＣｌ_２に、一部のＣｌ⁻は生成したＯ_３と反応してＣｌＯ_３ ⁻になる。

そして、ＣｌＯ_３ ⁻が酸化されると、ＣｌＯ_４ ⁻が生成（式［１０］，［１１］参照）する。
式［１０］
ＣｌＯ_３ ⁻＋Ｈ_２Ｏ−２ｅ⁻→ＣｌＯ_４ ⁻＋２Ｈ^＋
式［１１］
ＣｌＯ_３ ⁻＋Ｏ・→ＣｌＯ_４ ⁻

尚、上記の電解装置では、アノ−ド電極４に密着する隔膜（多孔性隔膜）としてフッ素系のカチオン交換膜を使用した。前述の二室型電解を用いた場合と同様に、ハロゲン塩水溶液を電解質補給室に供給してハロゲン塩をアノ−ド酸化すると、高次ハロゲン酸を生成する。同時に活性酸素も生成するので、残留塩素濃度を高めることが可能となる。

又、三室型電解槽（アノ−ド室１とカソ−ド室９との間に中間室１１を備える。図２参照）の中間室１１に食塩水を、アノ−ド室１とカソ−ド室９に純水を供給して電解すると、アノ−ド室１でオゾン等が生成する。かつ、カソ−ド室９では、溶存酸素が還元され、活性酸素（Ｏ_２ ⁻）が生成する。この活性酸素により、ＨＣｌＯ_３水溶液の残留塩素濃度が高くなる。図２中、２はアノード室入口である。３はアノード室出口である。４はアノード電極である。５，６は隔膜である。７はカソード電極である。８はカソード室出口である。１０はカソード室入口である。１２は中間室入口である。１３は中間室出口である。

従って、残留塩素の寿命を延ばす為には、ＨＣｌＯより高次の酸化物であるＨＣｌＯ_２，ＨＣｌＯ_３及び／又はＨＣｌＯ_４を生成することが大事である。高次の酸化物を生成する為には、Ｏ_３等の酸素系酸化物発生効率を上げると共にＣｌ⁻等との直接反応効率を向上することが大事である。電極表面や電極近傍では、水のアノ−ド電解酸化に伴い、酸素等のガスが発生し、気相の環境下にある。従って、発生したガスを電極近傍に保持し、高次酸化物の生成効率を向上させることが好ましい。

そこで、図３に示す如く、気相電解アノード室を設けた電解槽を考案した。すなわち、図１の二室型電解槽のアノ−ド室１に多孔性の仕切材１０を設けた。つまり、アノード室１を、仕切材１０によって、アノード電極が存在する気相電解室１１と通水室とに分割した。そして、アノード室１に供給した純水が、直接、気相電解室１１には入らないようにした。図３中、１はアノード室である。２はアノード室入口である。３はアノード室出口である。４はアノード電極である。５は隔膜である。６はカソード室である。７はカソード室入口である。８はカソード室出口である。９はカソード電極である。仕切材１０としては、例えば０．５〜５ｍｍの大きさの孔が開いた多孔性のフィルム（又は不織布）などを用いることが出来る。このような多孔性の仕切材１０の存在により、電解反応生成物が、直接、アノード水に溶け込まない。すなわち、電解反応生成物は、一旦、気相電解アノード室１１に溜まる。そして、この後、徐々に、アノ−ド室供給水中に拡散する。尚、アノ−ド電極４と接触する隔膜５としてフッ素系のイオン交換膜を用いると、オゾンの発生効率が向上する。

又、図４に示すような四室型電解槽を考案した。これは、図２の三室型電解槽のアノ−ド室を、多孔性の仕切材１４によって、二つに分けたものである。そして、アノード室に供給された純水が、アノード極が存在する側の気相電解室には、直接、入らないようにしたものである。仕切材には、やはり、孔が開いた多孔性のフィルム（又は不織布）等の材料を用いる。このような多孔性の仕切材の存在によって、電解反応生成物は、直接、アノード水に溶け込まない。すなわち、電解反応生成物は、一旦、気相電解アノード室に溜まる。そして、電解反応生成物は、その後、徐々に、アノ−ド室供給水に拡散する。図４中、１は気相電解アノード室である。２はアノード室入口である。３はアノード室出口である。４はアノード電極である。５，６は隔膜である。７はカソード電極である。８はカソード室出口である。９はカソード室である。１０はカソード室入口である。１１は中間室である。１２は中間室入口である。１３は中間室出口である。１４は仕切材である。

又、図５に示される電解槽を用いることも出来る。図５中、１はアノード室である。２はアノード室入口である。３はアノード室出口である。４はアノード電極サポート材である。５は隔膜（フッ素系カチオン交換膜）である。６はアニオン交換膜である。７は中間室入口である。８は中間室である。９は中間室出口である。１０カソード室である。１１はカソード室入口である。１２はカソード室出口である。１３はカソード電極である。１４は隔膜（フッ素系カチオン交換膜）である。１５はアノード電極（網状白金電極）である。この構造の電解槽での特徴点はアノード電極のサポート材４である。サポート材４は図６に示す構造である。サポート材４に溶接した短いパイプがアノード電極（網状白金電極）１５を支持している。従って、アノード電極１５の電解生成物は、アノード室供給水中に、直接、放出されない。すなわち、サポート材４と白金電極１５との間の空間に、電解生成物は、一時的に、閉じ込められる。この結果、アノード電極（網状白金電極）１５の表面が電解生成ガスで覆われるようになる。この構造において、網状白金電極１５に接触する隔膜５としてフッ素系カチオン交換膜を採用すると、オゾン発生効率が高くなる。そして、高次ハロゲン酸を生成する為には、ハロゲンイオンが必要である。従って、ハロゲン塩が中間室８に供給される。尚、単純なカチオン交換膜を使用すると、ハロゲンイオンが十分供給され難い。従って、カチオン交換膜に孔を開けることが好ましい。しかしながら、カチオン交換膜に孔を開けると、中間室の液がアノード室に移行する。従って、ハロゲンイオンを供給しながら、中間室の液の移行を防ぐ為には、陰イオン交換膜を用いることが好ましい。

上記の知見を基にして本発明が達成されたものである。

すなわち、前記の課題は、
ハロゲン酸及びその塩の群の中から選ばれる少なくとも一つと、活性酸素とを含有する水溶液であって、
前記ハロゲン酸は、次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、及び過塩素酸の群の中から選ばれる少なくとも一つであり、
前記水溶液中に含まれる前記ハロゲン酸及びその塩の群の中から選ばれるものの総量が１０〜５００００ｐｐｍであり、
前記水溶液中に含まれる活性酸素の総量が０．１〜１０００ｐｐｍである
ことを特徴とする水溶液によって解決される。

又、上記の水溶液であって、活性酸素が、過酸化水素、ヒドロキシラジカル、及びスーパーオキシドアニオンの群の中から選ばれる少なくとも一つである
ことを特徴とする水溶液によって解決される。

又、上記の水溶液であって、水溶液のｐＨが４〜９である
ことを特徴とする水溶液によって解決される。

又、上記の水溶液であって、電解によって得られた水が用いられる
ことを特徴とする水溶液によって解決される。

又、上記の水溶液であって、ハロゲン塩含有水溶液の電解によって得られた水が用いられる
ことを特徴とする水溶液によって解決される。

又、上記の水溶液であって、アノード室とカソ−ド室とを具備する電解槽（二室型電解槽）のカソ−ド室にハロゲン塩を供給した電解によって得られた水が用いられる
ことを特徴とする水溶液によって解決される。

又、上記の水溶液であって、アノ−ド室と中間室とカソード室とを具備する電解槽（三室型電解槽）の中間室にハロゲン塩を供給した電解によって得られた水が用いられる
ことを特徴とする水溶液によって解決される。

又、上記の水溶液であって、カソード室と内部に多孔質材が配設されたアノード室とを具備する電解槽（三室型電解槽）の前記カソード室にハロゲン塩を供給した気相電解酸化によって得られた水が用いられる
ことを特徴とする水溶液によって解決される。

又、上記の水溶液であって、カソード室と中間室と内部に多孔質材が配設されたアノード室とを具備する電解槽（四室型電解槽）の前記中間室にハロゲン塩を供給した気相電解酸化によって得られた水が用いられる
ことを特徴とする水溶液によって解決される。

又、上記の水溶液であって、消毒に用いられることを特徴とする水溶液によって解決される。

又、上記の水溶液を用いて消毒することを特徴とする消毒方法によって解決される。

又、上記の水溶液であって、洗浄に用いられることを特徴とする水溶液によって解決される。

又、上記の水溶液を用いて洗浄することを特徴とする洗浄方法によって解決される。

又、水溶液における残留塩素の寿命を長くする方法であって、
次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、及び過塩素酸の中から選ばれる少なくとも一つのハロゲン酸及びその塩の中から選ばれものが、総量で、１０〜５００００ｐｐｍの割合で水に含有させられる工程と、
活性酸素が、総量で、０．１〜１０００ｐｐｍの割合で含有させられる工程
とを具備することを特徴とする水溶液における残留塩素の寿命を長くする方法によって解決される。

又、上記の水溶液における残留塩素の寿命を長くする方法であって、
次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、及び過塩素酸の中から選ばれる少なくとも一つのハロゲン酸及びその塩の中から選ばれものが、総量で、１０〜５００００ｐｐｍの割合で水に含有させられる工程と、
活性酸素が、総量で、０．１〜１０００ｐｐｍの割合で含有させられる工程
とを具備することを特徴とする水溶液における残留塩素の寿命を長くする方法によって解決される。

次亜塩素酸塩（ＣｌＯ⁻）が消毒（殺菌）に効果を奏することは良く知られている。

しかしながら、ＣｌＯ⁻の寿命が短いと、時間の経過につれて、消毒・殺菌効果は低下する。従って、ＣｌＯ⁻の寿命を長くすることが大事である。

本発明によれば、上記消毒・殺菌効果を奏する高いＣｌＯ⁻濃度が長期間に亘って保持されるようになる。従って、消毒液（殺菌液）としての効果が十二分に奏される。又、洗浄効果も十分に発揮される。

二室型電解槽の概略図三室型電解槽の概略図三室型気相電解槽の概略図四室型気相電解槽の概略図四室型気相電解槽の概略図サポート材の概略図残留塩素濃度のグラフ残留塩素濃度のグラフ残留塩素濃度のグラフ

本発明になる水溶液は、ハロゲン酸及びその塩の群の中から選ばれる少なくとも一つと、活性酸素とを含有する。ハロゲン酸は、次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、及び過塩素酸の群の中から選ばれる少なくとも一つである。水溶液中に含まれる前記ハロゲン酸及びその塩の群の中から選ばれるものの総量は１０〜５００００ｐｐｍ（特に好ましくは、１０〜３００ｐｐｍ）である。すなわち、ハロゲン酸及びその塩の群の中から選ばれるものの総量を上記のように規定することによって、高濃度な残留塩素が維持される。又、水溶液中に含まれる活性酸素の総量は０．１〜１０００ｐｐｍ（特に好ましくは、１〜１００ｐｐｍ）である。すなわち、活性酸素の量を上記のように規定することによって、高濃度な残留塩素が維持される。前記活性酸素は、例えば過酸化水素、ヒドロキシラジカル、及びスーパーオキシドアニオンの群の中から選ばれる何れかである。水溶液のｐＨは、好ましくは４〜９（特に好ましくは、６〜８）である。水溶液に用いられる水は、例えば電解によって得られた水である。特に、ハロゲン塩含有水溶液の電解によって得られた水である。中でも、二室型電解槽（アノード室とカソ−ド室とを具備する電解槽）のカソ−ド室にハロゲン塩を供給した電解によって得られた水である。或いは、三室型電解槽（アノ−ド室と中間室とカソード室とを具備する電解槽）の中間室にハロゲン塩を供給した電解によって得られた水である。若しくは、三室型電解槽（カソード室と内部に多孔質材が配設されたアノード室とを具備する電解槽）のカソード室にハロゲン塩を供給した気相電解酸化によって得られた水である。又は、四室型電解槽（カソード室と中間室と内部に多孔質材が配設されたアノード室とを具備する電解槽）の中間室にハロゲン塩を供給した気相電解酸化によって得られた水である。

上記の水溶液は、特に、消毒および／または洗浄に用いられる。

本発明は、上記の水溶液を用いて消毒する消毒方法である。

本発明は、上記の水溶液を用いて洗浄する洗浄方法である。

本発明は、水溶液における残留塩素の寿命を長くする方法である。特に、上記の水溶液における残留塩素の寿命を長くする方法である。そして、次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、及び過塩素酸の中から選ばれる少なくとも一つのハロゲン酸及びその塩の中から選ばれものが、総量で、１０〜５００００ｐｐｍ（好ましくは、１０〜３００ｐｐｍ）の割合で水に含有させられる工程を備える。かつ、活性酸素が、総量で、０．１〜１０００ｐｐｍ（好ましくは、１〜１００ｐｐｍ）の割合で含有させられる工程を備える。

以下、本発明について具体的に説明する。

［実施例１］
純水にＫＣｌＯ_３を溶解させた。
このＫＣｌＯ_３水溶液にクエン酸を添加した。これによって、ｐＨを約４に調整した。
このｐＨ４のＫＣｌＯ_３水溶液の残留塩素濃度を測定した。
又、上記ｐＨ４のＫＣｌＯ_３水溶液にＨ_２Ｏ_２水溶液を添加し、残留塩素濃度を測定した。

この測定（ＫＩ法による測定）結果を下記の表−１に示す。

この表−１から、Ｈ_２Ｏ_２を含有させることによって、日数が経過しても、ＫＣｌＯ_３水溶液中の残留塩素濃度の高いことが判る。すなわち、長期間に亘って、消毒・殺菌効果が保持される。

尚、過酸化水素の代わりにヒドロキシラジカルやスーパーオキシドアニオン含有水溶液が用いられても同様な効果が奏される。このことは、実施例２以下のケース（電解水を用いたケース）によって理解される。

［実施例２］
純水にＫＣｌＯ_３を溶解させた。
このＫＣｌＯ_３水溶液にクエン酸を添加した。これによって、ｐＨを約４に調整した。
このＫＣｌＯ_３水溶液に、更に、ＮａＣｌＯを添加した。
そして、残留塩素濃度を測定した。その結果は、ＮａＣｌＯ水溶液の場合と有意差が無かった。

次に、上記の純水の代わりに、図１に示された二室型電解槽を用いて生成したアノード電解水を用いた。二室型電解槽は、アノード電極として８０メッシュの網製の白金電極（電極の大きさ８０ｍｍ×６０ｍｍ）を用い、カソード電極としてチタン電極（電極の大きさ８０ｍｍ×６０ｍｍ）を用い、アノード室とカソ−ド室とを分ける隔膜としてフッ素系カチオン交換膜を用いたものである。そして、カソ−ド室およびアノード室には純水を供給した。

このアノード電解水にＮａＣｌＯを８０ｐｐｍ溶解させた。更に、ＫＣｌＯ_３を１２５ｐｐｍ添加した。又、クエン酸を添加してｐＨを約６に調整した。

このＮａＣｌＯ及びＫＣｌＯ_３含有水溶液（水：アノード電解水）の残留塩素濃度を測定（ＫＩ法による測定）したので、その結果を図７に示す。

この図７から、長期間に亘って、ＮａＣｌＯ及びＫＣｌＯ_３含有水溶液の残留塩素濃度が高く保持されていることが判る。

［実施例３］
実施例２のアノ−ド電解水に、ＮａＣｌＯを４０ｐｐｍ、及びＫＣｌＯ_２を１００ｐｐｍ溶解させた。更に、クエン酸を添加してｐＨを約６に調整した。
このＮａＣｌＯ及びＫＣｌＯ_２含有水溶液の残留塩素濃度を測定（ＫＩ法による測定）したので、その結果を図８に示す。

この図８から、長期間に亘って、ＮａＣｌＯ及びＫＣｌＯ_２含有水溶液の残留塩素濃度が高く保持されていることが判る。

［実施例４］
本実施例では、水として、純水および実施例２で説明したアノード電解水を用いた。そして、Ｈ_２Ｏ_２（１５０ｐｐｍ）及びＨＣｌＯ_４（１２５ｐｐｍ）を含有させた水溶液を用意した。

この水溶液の残留塩素濃度を測定（ＫＩ法による測定）したので、その結果を表−２に示す。

この表−２によっても、アノード電解水を用いた場合の残留塩素濃度が高いことが判る。

［実施例５］
本実施例では、水として、純水および実施例２で説明したアノード電解水を用いた。そして、ＫＣｌＯ_２（１５０ｐｐｍ）及びＨＣｌＯ_４（６２．５ｐｐｍ）を含有させた水溶液を用意した。

この水溶液の残留塩素濃度を測定（ＫＩ法による測定）したので、その結果を表−３に示す。

この表−３によっても、アノード電解水を用いた場合の残留塩素濃度が高いことが判る。

［実施例６］
図２の三室型電解槽を用いて生成したカソード電解水を用いた。三室型電解槽は、アノード電極として８０メッシュの網製の白金電極（電極の大きさ８０ｍｍ×６０ｍｍ）を用い、カソード電極としてチタン電極（電極の大きさ８０ｍｍ×６０ｍｍ）を用い、アノード室と中間室とカソ−ド室とを分ける隔膜としてフッ素系カチオン交換膜を用いたものである。そして、中間室には飽和食塩水を、カソ−ド室およびアノード室には純水を供給した。
このカソード電解水にＫＣｌＯ_３を１２５ｐｐｍ溶解させた。更に、クエン酸を添加してｐＨを約４に調整した。

このＫＣｌＯ_３含有水溶液（水：カソード電解水）の残留塩素濃度を測定（ＫＩ法による測定）した。
この結果、長期間に亘って残留塩素濃度の高いことが確認された。

［実施例７］
実施例２において、実施例２のアノード電解水の代わりに、本実施例では、図３の電解装置によるアノード電解水を用いた。そして、残留塩素濃度を測定した。

その結果を図９に示す。
図９から、同じアノード電解水と雖も、気相電解アノード室を設けた電解槽を有する電解装置によるアノード電解水を用いることの好ましいことが判る。

又、図４，６タイプの電解装置を用いて得たアノード電解水を用いて、同様に行ない、残留塩素濃度を測定した。その結果、やはり、気相電解アノード室を設けた電解槽を有する電解装置によるアノード電解水を用いることの好ましいことが判る。

消毒あるいは洗浄分野で効果的に用いられる。

Claims

ハロゲン酸及びその塩の群の中から選ばれる少なくとも一つと、活性酸素とを含有する水溶液であって、
前記ハロゲン酸は、次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、及び過塩素酸の群の中から選ばれる少なくとも一つであり、
前記水溶液中に含まれる前記ハロゲン酸及びその塩の群の中から選ばれるものの総量が１０〜５００００ｐｐｍであり、
前記水溶液中に含まれる活性酸素の総量が０．１〜１０００ｐｐｍである
ことを特徴とする水溶液。
活性酸素が、過酸化水素、ヒドロキシラジカル、及びスーパーオキシドアニオンの群の中から選ばれる少なくとも一つである
ことを特徴とする請求項１の水溶液。
水溶液のｐＨが４〜９である
ことを特徴とする請求項１の水溶液。
電解によって得られた水が用いられる
ことを特徴とする請求項１〜請求項３いずれかの水溶液。
ハロゲン塩含有水溶液の電解によって得られた水が用いられる
ことを特徴とする請求項１〜請求項３いずれかの水溶液。
アノード室とカソ−ド室とを具備する電解槽のカソ−ド室にハロゲン塩が供給される条件下での電解によって得られた水が用いられる
ことを特徴とする請求項１〜請求項５いずれかの水溶液。
アノ−ド室と中間室とカソード室とを具備する電解槽の中間室にハロゲン塩が供給される条件下での電解によって得られた水が用いられる
ことを特徴とする請求項１〜請求項５いずれかの水溶液。
カソード室と内部に多孔質材が配設されたアノード室とを具備する電解槽の前記カソード室にハロゲン塩が供給される条件下での気相電解酸化によって得られた水が用いられる
ことを特徴とする請求項１〜請求項５いずれかの水溶液。
カソード室と中間室と内部に多孔質材が配設されたアノード室とを具備する電解槽の前記中間室にハロゲン塩が供給される条件下での気相電解酸化によって得られた水が用いられる
ことを特徴とする請求項１〜請求項５いずれかの水溶液。
消毒および／または洗浄に用いられることを特徴とする請求項１〜請求項９いずれかの水溶液。
請求項１〜請求項１０いずれかの水溶液を用いて消毒することを特徴とする消毒方法。
請求項１〜請求項１０いずれかの水溶液を用いて洗浄することを特徴とする洗浄方法。
水溶液における残留塩素の寿命を長くする方法であって、
次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、及び過塩素酸の中から選ばれる少なくとも一つのハロゲン酸及びその塩の中から選ばれものが、総量で、１０〜５００００ｐｐｍの割合で水に含有させられる工程と、
活性酸素が、総量で、０．１〜１０００ｐｐｍの割合で含有させられる工程
とを具備することを特徴とする水溶液における残留塩素の寿命を長くする方法。
請求項１〜請求項１０いずれかの水溶液における残留塩素の寿命を長くする方法であって、
次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、及び過塩素酸の中から選ばれる少なくとも一つのハロゲン酸及びその塩の中から選ばれものが、総量で、１０〜５００００ｐｐｍの割合で水に含有させられる工程と、
活性酸素が、総量で、０．１〜１０００ｐｐｍの割合で含有させられる工程
とを具備することを特徴とする水溶液における残留塩素の寿命を長くする方法。