JPWO2004067446A1 - スマネンおよびその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 43
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 147
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 44
- 238000005649 metathesis reaction Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 141
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 115
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 91
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 83
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 65
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 52
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 47
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 45
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 38
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 36
- -1 iminomethylene group Chemical group 0.000 claims description 34
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 32
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 31
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 28
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims description 23
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 22
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 claims description 21
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 20
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 19
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 18
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 18
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 18
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 17
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 15
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 claims description 15
- 125000005236 alkanoylamino group Chemical group 0.000 claims description 13
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000005138 alkoxysulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 claims description 12
- 125000001743 benzylic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 12
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 12
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 12
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 12
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 claims description 11
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims description 11
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000005153 alkyl sulfamoyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 10
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 claims description 10
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 10
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 9
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 8
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 6
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 5
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 5
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 5
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 4
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 4
- 238000005949 ozonolysis reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 claims description 3
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000006578 reductive coupling reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OOYGSFOGFJDDHP-KMCOLRRFSA-N kanamycin A sulfate Chemical group OS(O)(=O)=O.O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CN)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O[C@@H]2[C@@H]([C@@H](N)[C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)[C@H](N)C[C@@H]1N OOYGSFOGFJDDHP-KMCOLRRFSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 claims description 2
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002813 thiocarbonyl group Chemical group *C(*)=S 0.000 claims description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical group [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 18
- JGLMVXWAHNTPRF-CMDGGOBGSA-N CCN1N=C(C)C=C1C(=O)NC1=NC2=CC(=CC(OC)=C2N1C\C=C\CN1C(NC(=O)C2=CC(C)=NN2CC)=NC2=CC(=CC(OCCCN3CCOCC3)=C12)C(N)=O)C(N)=O Chemical compound CCN1N=C(C)C=C1C(=O)NC1=NC2=CC(=CC(OC)=C2N1C\C=C\CN1C(NC(=O)C2=CC(C)=NN2CC)=NC2=CC(=CC(OCCCN3CCOCC3)=C12)C(N)=O)C(N)=O JGLMVXWAHNTPRF-CMDGGOBGSA-N 0.000 claims 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims 1
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims 1
- 238000003419 tautomerization reaction Methods 0.000 claims 1
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 abstract description 22
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 19
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- WOYKPMSXBVTRKZ-UHFFFAOYSA-N sumanene Chemical compound C1=C(C2=C34)CC3=CC=C(C3)C4=C4C3=CC=C(C3)C4=C2C3=C1 WOYKPMSXBVTRKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 17
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 10
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VXRUJZQPKRBJKH-UHFFFAOYSA-N corannulene Chemical compound C1=CC(C2=C34)=CC=C3C=CC3=C4C4=C2C1=CC=C4C=C3 VXRUJZQPKRBJKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 6
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- 238000011160 research Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 5
- 238000004896 high resolution mass spectrometry Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 5
- 238000002371 ultraviolet--visible spectrum Methods 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 4
- 0 *CCC=CN=CC=C Chemical compound *CCC=CN=CC=C 0.000 description 3
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- ULTHEAFYOOPTTB-UHFFFAOYSA-N 1,4-dibromobutane Chemical compound BrCCCCBr ULTHEAFYOOPTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006519 Mcmurry reaction Methods 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 238000001241 arc-discharge method Methods 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 2
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- WURFKUQACINBSI-UHFFFAOYSA-M ozonide Chemical compound [O]O[O-] WURFKUQACINBSI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXACTUVBBMDKRW-UHFFFAOYSA-N 4-bromobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(Br)C=C1 PXACTUVBBMDKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical class [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- PQNFLJBBNBOBRQ-UHFFFAOYSA-N C(C1)Cc2c1cccc2 Chemical compound C(C1)Cc2c1cccc2 PQNFLJBBNBOBRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N C1Cc2ccccc2CC1 Chemical compound C1Cc2ccccc2CC1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N O=C1CCCC1 Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N O=C1CCCCC1 Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N O=C1c2ccccc2CC1 Chemical compound O=C1c2ccccc2CC1 QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N O=C1c2ccccc2CCC1 Chemical compound O=C1c2ccccc2CCC1 XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003091 WCl6 Inorganic materials 0.000 description 1
- IIIYUCHQHRWONK-UHFFFAOYSA-M [Cl-].[Ru]=C(c1ccccc1P(C1CCCCC1)(C1CCCCC1)C1CCCCC1)P(C1CCCCC1)(C1CCCCC1)C1CCCCC1 Chemical compound [Cl-].[Ru]=C(c1ccccc1P(C1CCCCC1)(C1CCCCC1)C1CCCCC1)P(C1CCCCC1)(C1CCCCC1)C1CCCCC1 IIIYUCHQHRWONK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000006136 alcoholysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001351 alkyl iodides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N c1cc2ccccc2cc1 Chemical compound c1cc2ccccc2cc1 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N c1ccccc1 Chemical compound c1ccccc1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001589 carboacyl group Chemical group 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000000451 chemical ionisation Methods 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000006880 cross-coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012761 high-performance material Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071870 hydroiodic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical compound [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229960003975 potassium Drugs 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C5/42—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing the same number of carbon atoms by dehydrogenation with a hydrogen acceptor
- C07C5/50—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing the same number of carbon atoms by dehydrogenation with a hydrogen acceptor with an organic compound as an acceptor
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Abstract
Description
しかし、現状では、フラーレン類の製造方法はいわゆるアーク放電法等に限定されており、C60およびC70は比較的容易に得られるが、その他のフラーレン類はごく微量しか生産することができず、入手が非常に困難である。したがって、フラーレン類を化学修飾して種々の構造の高機能材料を製造しようとしても、出発原料の種類の貧困さが問題となる。
上記の事情に鑑み、フラーレン類を化学的に合成しようとする試みが世界各地で盛んに行なわれているが、この研究はようやく端緒についたばかりであり、いまだ誰も成功していない。しかしながら、有機合成化学の手法によれば、前記アーク放電法等と異なり生成物の分子構造を自由自在に制御できるため、研究が進めば、従来は入手困難であったフラーレン類も自由に得られることが期待できる。さらに、既存のフラーレン類に限定されず、新規なフラーレン類およびその誘導体についても合成できれば、新規材料の設計に大きな風穴を開けることになると考えられる。例えば、フラーレン類の炭素原子の一部をヘテロ原子で置き換えたヘテロフラーレン類は、理論研究によりその挙動が注目されている(例えば、”M.Riad Manaa,David W.Sprehn,and Heather A.Ichord,J.Am.Chem.Soc.,2002,124,p.13990−13991.”参照)が、C59N(”Science,1995,269,p.1554.”参照)等のごく一部の化合物を除いていまだ製造されておらず、その有機化学的合成法の確立が期待される。
現在は、C60の部分的構造である非平面共役系炭素骨格を含む化合物を合成すべく研究が進められている。しかし、今のところ、コランニュレン(Corannulene)と呼ばれる化合物(下記式(83))およびその誘導体が1966年に合成されたことが報告されているのみであり、さらに、まだ実験室レベルでの合成しか行われていない。
コランニュレンは、前記C60の部分的構造を含む化合物としては世界ではじめて合成された化合物であり、その学術的意義は大きい。さらに、1999年には、フラスコ内の穏やかな条件下においてコランニュレンを比較的大量に合成できるルートも報告されている(Andrzej Sygula and Peter W.Rabideau,J.Am.Chem.Soc.,2000,122,p.6323−6324.)。しかしながら、コランニュレンは、フラーレン類の合成原料等として用いるには問題点がある。なぜならば、その骨格の炭素原子が全てベンゼン核に取り込まれているため反応性がさほど高くないからである。そのため、コランニュレン誘導体も、現時点ではごく限られた構造のものが合成されているだけであり、そこからさらにC60等の化合物に導くには困難が予想される。
前記課題を解決するために、本発明は、下記一般式(1)で表される新規化合物、その互変異性体および立体異性体、ならびにそれらの塩を提供する。
ただし、式中、A1〜A6はそれぞれ同一であるかまたは異なり、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または芳香族炭化水素基であり、A1〜A6上にベンジル位水素原子が存在する場合は、その水素原子は置換基によって置換されていても良く、
前記A1〜A6上の置換基は、それぞれ同一であるかまたは異なり、ハロゲン、直鎖状もしくは分枝状の低分子もしくは高分子鎖(ただし、その主鎖および側鎖中には、ヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、不飽和結合を含んでいてもいなくても良く、環状構造を含んでいてもいなくても良い)、炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、電子供与基または電子求引基であるか、または、同一のAr(rは1から6までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するArとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
X1〜X3はそれぞれ同一であるかまたは異なり、メチレン基(下記式(2))、ビニリデン基(下記式(3))、カルボニル基(下記式(4))、チオカルボニル基(下記式(5))、イミノメチレン基(下記式(6))、イミノ基(下記式(7))、または酸素原子(下記式(8))、であり、X1〜X3上に水素原子が存在する場合は、その水素原子は置換基によって置換されていても良く、
前記X1〜X3上の置換基は、それぞれ同一であるかまたは異なり、ハロゲン、直鎖状もしくは分枝状の低分子もしくは高分子鎖(ただし、その主鎖および側鎖中には、ヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、不飽和結合を含んでいてもいなくても良く、環状構造を含んでいてもいなくても良い)、炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、電子供与基または電子求引基であるか、または、同一のXa(aは1から3までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するXaとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良い。
図2は、スマネンのUV−VISスペクトル図であり、使用溶媒はTHFである。
図3は、スマネンのUV−VISスペクトル図であり、使用溶媒はCH3CNである。
図4は、スマネンのUV−VISスペクトル図であり、使用溶媒はCH2Cl2である。
図5は、図1〜4の全てのスペクトル図を1つにまとめて示した図である。
コランニュレンの他にもう一つ注目されてきた化学構造として、スマネン(Sumanene)と呼ばれる構造(下記式(84))がある。コランニュレンがC60のC5対称部分骨格を含むのに対し、スマネンはC60のC3対称部分骨格を含む。そして、スマネンは、コランニュレンと異なり、ベンジル位炭素を3ヶ所に含んでいることが大きな特徴である。
一般に、ベンジル位炭素を含む化合物は合成原料として価値が高い。なぜならば、ベンジル位炭素は非常に活性が高く、カチオン種、アニオン種、カルベンなど様々な活性種を発生させることができ、その活性種を足がかりにさらなる結合生成反応への応用が可能だからである。したがって、スマネンはコランニュレンよりもはるかに反応性が高く、例えば、ベンジル位の酸化反応などにより様々な官能基を直接導入し、多種多様な誘導体を合成できると考えられる。そして、さらにそれら誘導体を原料としてフラーレン類のみならず様々な化合物を合成できることが期待される。
また、ベンジル位炭素を含むことは、合成原料として有利なだけでなく、前記活性種自体にも大きな利用価値がある。例えば、スマネンのベンジルアニオン種はシクロペンタジエニルアニオンと同様の構造を含むことから、金属包摂能等を有すると考えられる。したがって、それ自体に大きな産業上の利用可能性があるだけでなく、金属内包型フラーレン化合物のモデル研究用化合物としての発展等も期待できる。
このように、スマネンは、学術的にも絶大な価値を有し、そして産業上利用価値も多大なものが見込まれることから、多くの研究者がその合成に取り組んできた。しかし、その分子ひずみが大きいためか、合成に成功したとの報告はいまだにない。スマネンについて述べた文献は少なくないが、いずれも理論計算等を行なうに止まっている(例えば、”U.Deva Priyakumar and G.Narahari Sastry,J.Phys.Chem.A,2001,105,p.4488−4494.”および”U.Deva Priyakumar and G.Narahari Sastry,Tetrahedron Letters,2001,42,p.1379−1381.”参照)。
なお、スマネンのベンジル位炭素を硫黄原子に置き換えた化合物(下記式(85))が合成されている(Koichi Imamura,Kazuo Takimiya,Yoshio Aso and Tetsuo Otsubo,Chem.Commun.,1999,p.1859−1860.)。これ自体興味深い化合物ではあるが、合成するには、今のところ真空中で1000℃という厳しい条件が必要であり、大量生産して産業ベースに載せることは難しい状況である。また、そもそもスマネンとは物性が大いに異なる。例えば、前記硫黄原子の反応性はベンジル位炭素のように自由自在ではなく、オキソ基等を付加できるに止まると思われる。このように、スマネンの化学構造および有用性は予想されてはいるものの、合成に成功した例は今までになかった。
本発明者らは、スマネンの合成に世界で初めて成功した。そして、前記一般式(1)で表される本発明の化合物(すなわち、スマネンおよびその誘導体)とその製造方法とを確立した。
前記一般式(1)で表される化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩の製造方法は特に限定されず、どのような方法により製造しても良いが、以下に説明する本発明の製造方法により製造することが好ましい。この製造方法によれば、有機合成化学の手法を用いてスマネンおよびその誘導体を困難なく得ることができる。例えば母体化合物のスマネンについては、下記スキーム1に示すように、安価で容易に入手可能なノルボルナジエン(下記式(86))から、フラスコ内において、穏和な条件下、わずか3ステップで合成することも可能である。
以下、前記本発明の製造方法についてさらに具体的に説明する。すなわち、まず、下記式(76)で表される化合物を準備する。この化合物およびその塩は、本発明者らの発明に係る新規化合物であり、さらに酸化(脱水素)反応を経由してスマネンおよびその誘導体に変換することができる。
ただし、式中、R1〜R6はそれぞれ同一であるかまたは異なり、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または芳香族炭化水素基であり、好ましくは、水素原子、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、フェニル基、またはナフチル基である。X11、X21およびX31はそれぞれ同一であるかまたは異なり、メチレン基、イミノ基または酸素原子であり、イミノ基の場合は、その水素原子は保護基により置換されていても良い。以下、この化合物の製造方法について説明する。
前記式(76)で表される化合物およびその塩の製造方法は特に限定されないが、下記式(77)で表される化合物のメタセシス反応を含む製造方法がより好ましい。この製造方法は本発明者らの発明に係る新規な製造方法である。メタセシス反応はよく知られている反応であるが、本発明者らはそれを下記式(77)で表される化合物に適用することを見出した。この方法を発明したことにより、スマネンおよびその誘導体を困難なく得ることができるようになった。
ただし、式中、R1〜R6、X11、X21およびX31はそれぞれ前記式(76)と同じである。
前記メタセシス反応の条件は特に限定されず、従来のメタセシス反応と同様に行なうことができるが、触媒を用いて行なうことが好ましい。前記触媒は特に限定されず、いわゆるメタセシス触媒として通常用いられているものを使用することができ、単独で使用しても良いし二種類以上併用しても良い。また、前記触媒は、例えば、ルテニウム、アルミニウム、チタン、モリブデンおよびタングステンからなる群から選択される少なくとも一つの元素を含むことがより好ましい。このようなメタセシス触媒、特にルテニウムやモリブデンを含む触媒は多数開発されている。本発明に使用する前記触媒としては、具体的には、例えば、(PCy3)2RuCl2=CHPhすなわちビス(トリシクロヘキシルホスフィノ)ベンジリデンルテニウム(II)クロリド、Al(C2H5)3−TiCl4、Al(C2H5)3−MoCl3、およびAl(C2H5)3−WCl6からなる群から選択される少なくとも一つを含むことが特に好ましいが、これらに限定されるものではない。前記触媒の使用量も特に限定されず、反応効率やコスト等を考慮して適宜調整すれば良いが、例えば、いわゆる化学量論量以下が好ましい。前記触媒の適切な使用量は、触媒の種類や反応スケール等によって変化し、一定ではないが、フラスコレベルの反応では、前記式(77)で表される化合物に対し、例えば5mol%程度である。なお、一般に、触媒反応では、反応スケールが大きくなれば、相対的に触媒使用量を減らせる(すなわち、基質量に対する触媒使用量の比率を小さくできる)傾向がある。
また、前記メタセシス反応は、前記式(77)の化合物と反応するもう一種類のオレフィンを用いて行なうことが反応効率や収率の観点から好ましい。この場合のオレフィンは特に限定されないが、反応効率、コスト、扱いやすさ等の観点から、例えばエチレンがより好ましい。
前記もう一種類のオレフィン、例えばエチレンを用いる場合の操作および反応原理は、例えば以下のように説明される。すなわち、まず、前記式(77)の化合物とエチレンとをメタセシス反応により化合させ、前記式(77)の化合物におけるオレフィン結合部分を開環させる。そして、その反応生成物をさらにメタセシス反応させて閉環させることにより、前記式(76)で表される化合物を生成させる。この閉環反応により再びエチレンが生成し、最終的に系中から除かれる。このようにすると、前記式(76)で表される化合物をさらに効率よく得ることができる。
前記メタセシス反応におけるその他の使用物質や反応条件は特に限定されず、従来のメタセシス反応等を参考にして適宜設定すれば良い。溶媒は、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素や、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化物や、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒や、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド等の高極性溶媒が使用可能であり、これら溶媒は単独で用いても二種類以上併用しても良い。反応温度および反応時間も特に限定されず、前記式(77)中におけるR1〜R6、X11、X21およびX31の構造や反応スケール等により適宜設定すれば良い。また、反応生成物の分離や精製の方法も特に限定されず、カラムクロマトグラフィーやGPC等の公知の手段を適宜用いて行なうことができる。
以上のようにして、前記式(77)の化合物から前記式(76)の化合物を製造することができる。前記式(77)で表される化合物の製造方法も特に限定されないが、下記式(78)〜(80)で表される化合物をハロゲン化し、さらにWurtz型カップリングにより環化させることを含む製造方法が好ましい。
ただし、式(78)〜(80)中、R1〜R6、X11、X21およびX31はそれぞれ前記式(77)と同じである。
Wurtz型カップリングとは、ハロゲン化物同士のカップリング反応として知られており、本発明者らは、この反応を前記式(77)の化合物の製造に用いることを見出した。前記ハロゲンとしては、例えばフッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられ、これらの中で臭素がより好ましい。反応は、例えば金属ナトリウム、金属リチウム等のアルカリ金属や触媒等の存在下で行なわれ、前記触媒としては、例えば、銅触媒、ニッケル触媒、パラジウム触媒等があげられ、これらの中で銅触媒がより好ましい。また、ハロゲン化物は、単離状態で準備し、それをカップリングさせても良いが、反応系中でハロゲン化物を生成させ、同一の反応系中で(単離することなく)カップリングさせても良い。本発明では、前記Wurtz型カップリングの具体的な操作や反応条件は特に限定されないが、例えば以下の通りである。すなわち、まず、前記式(78)〜(80)の化合物(以下、単に「ジエン」と呼ぶことがある)と、カリウムt−ブトキシド、n−ブチルリチウムヘキサン溶液、1,2−ジブロモエタン、ヨウ化銅(I)、および溶媒としてのTHFを準備し、これら全ての反応物質および溶媒と、反応容器とを十分に乾燥させる。ジエンおよび溶媒以外の物質の使用量は特に限定されないが、副反応等を抑制するために全て同じ化学等量ずつ用いることがより好ましい。次に、前記反応容器内を不活性ガス置換し、t−BuOKおよびTHFを加えて溶解させる。その後、反応系温度をマイナス78℃まで下げ、ジエンを加え、さらにn−BuLiのヘキサン溶液を2時間かけ滴下する。滴下終了後、反応系の温度をマイナス40℃まで昇温し、さらに30分攪拌する。そして、前記系の温度をマイナス78℃に再び下げた後、1,2−ジブロモエタンを加え、その後再びマイナス40℃に昇温し、1時間半攪拌する。次に、再び前記系の温度をマイナス78℃に戻した後、ヨウ化銅(I)を加える。そして、マイナス78℃で4時間攪拌後、冷却を停止し、徐々に室温まで戻しながらさらに7時間攪拌する。その後、定法によりワークアップして、前記式(77)で表される目的化合物を得る。
この反応における使用物質、反応温度および反応時間等は前記には限定されず、従来のWurtz型カップリング反応等を参考にして適宜設定することができる。また、前記式(78)〜(80)において、前記X1 1〜X31のうちいずれかがイミノ基である場合は、その水素原子は、副反応等を抑制するため保護基により置換されていることがより好ましい。保護基としては特に限定されず、公知の保護基を適宜用いることができるが、例えば、Greene and Wuts著”Protective Groups in Organic Synthesis”第2版(2nd Edition)に記載の保護基等があげられ、具体的には、t−ブトキシカルボニル基(Boc)、アセチル基(Ac)、ベンジルオキシカルボニル基(Z)、ベンジル基(Bz)等がある。
なお、前記式(77)の化合物はsyn体であるが、通常、その異性体であるanti体との混合物として得られる。これらはGPC等の一般に用いられている手段により分離することができる。さらに、前記X11〜X3 1の全てが同一ではない場合、目的とする前記式(77)の化合物以外に多数の副生成物が得られるが、これらも、カラムクロマトグラフィーやGPC等の手段により分離することができる。
また、前記式(77)の化合物の製造方法は、前記Wurtz型カップリング法には限定されず、公知の方法で合成することもできる。これら公知の方法としては、例えば、”Giuseppe Borsato,Ottorino De Lucchi,Fabrizio Fabris,Luca Groppo,Vittorio Lucchini,and Alfonso Zambon,J.Org.Chem.,2002,67,p.7894−7897.”に記載されたハロゲン化物と有機金属試薬とのクロスカップリング法や、”Harold Hart,Abdollah Bashir−Hashemi,Jihmei Luo and Mary Ann Meador,Tetrahedron,1986,42,p.1641−1654.”,”Harold Hart,Chung−yin Lai,Godson Chukuemeka Nwokogu and Shamouil Shamouilian,Tetrahedron,1987,43,p.5203−5224.”および”Francisco Raymo,Franz H.Kohnke and Francesca Cardullo,Tetrahedron,1992,48,p.6827−6838.”等に記載の合成法等がある。しかし、前記Wurtz型カップリング法を用いれば、例えば前述の通り、前記式(78)〜(80)で表される化合物をハロゲン化した後、前記ハロゲン化と同一の反応系中で(単離することなく)環化を行なうこともできる。このようにすれば、前記式(77)の化合物を、前記式(78)〜(80)の化合物から1ステップで簡便に合成できるため好ましく、前記X11〜X31の全てがメチレン基である場合には特に有効である。
そして、前記式(77)の化合物が得られたら、前記の通り、この化合物のメタセシス反応により前記式(76)の化合物を得る。
なお、前記式(77)の化合物から前記式(76)の化合物を得る方法として、前記メタセシス反応以外に、例えば以下のような製造方法もある。すなわち、まず、前記式(77)で表される化合物をオゾン分解して、下記式(77’)で表される化合物を得る。このオゾン分解の条件は特に限定されず、公知のオゾン分解反応等を参考にして適宜設定することができる。
ただし、式中、R1〜R6はそれぞれ同一であるかまたは異なり、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または芳香族炭化水素基であり、X11、X21およびX31はそれぞれ同一であるかまたは異なり、メチレン基、イミノ基または酸素原子であり、イミノ基の場合は、その水素原子は保護基により置換されていても良い。
オゾン分解とは、炭素−炭素不飽和結合を持つ化合物をオゾン化し、それをさらに分解してカルボニル化合物を得る反応として知られている。オゾン化物(オゾニド)を分解してカルボニル反応を得る方法としては、例えば、水により分解する方法および還元剤を用いる方法があり、より具体的には、例えば、酢酸存在下Zn−H2Oにより還元する方法、白金触媒やパラジウム触媒等の存在下で水素を用いて接触還元する方法、ラネーニッケルを用いて還元する方法等があげられる。オゾン分解について記述している文献は多数あるが、例えば、”P.S.Bailely,Chem.Rev.,1958,58,p.925.”および”R.W.Murray,Acc.Chem.Res.,1968,1,p.313.”等があげられる。
なお、前記式(77’)で表される化合物およびその塩は本発明に係る新規化合物であり、前記式(77)で表される化合物のオゾン分解を含む製造方法により製造されることが好ましいが、この製造方法に限定されずどのような方法により製造しても良い。
そして、前記式(77’)で表される化合物が得られたら、その分子内カップリング反応により前記式(76)で表される化合物を得る。この分子内カップリング反応の条件は特に限定されず、公知の反応を参考にするなどして適宜設定することができる。前記分子内カップリング反応は、遷移金属元素を用いた還元的カップリング反応が好ましく、前記遷移金属元素がチタンを含むことがより好ましい。なお、低原子価チタンを用いたカルボニル化合物の還元的カップリングはMcMurry反応として知られている。前記低原子価チタンは、例えばTiCl3やTiCl3(DME)1.5錯体(DMEはジメトキシエタンを表す)を反応系中で還元して発生させる方法がよく用いられており、この場合の還元剤としては、例えばZn(Cu)やC8K(カリウムグラファイト)等が用いられる。McMurry反応について述べた文献も多数あるが、例えば、”J.E.McMurry,Acc.Chem.Res.,1974,7,p.281.”,”J.E.McMurry,Acc.Chem.Res.,1983,16,p.405.”,”J.E.McMurry and K.L.Kees,J.Org.Chem.,1977,42,p.2655.”および”D.L.J.Clive et al.,J.Am.Chem.Soc.,1988,110,p.6914.”等があげられる。
以上のようにして前記化学式(76)で表される化合物が準備できたら、それを酸化して下記式(81)で表される化合物を製造する。
ただし、式中、R1〜R6、X11、X21およびX31はそれぞれ前記式(76)と同じである。
前記酸化反応の条件は特に限定されず、従来の脱水素反応と同様の条件で行なうことができる。例えば、DDQやクロラニル等の酸化剤を用いても良いが、工業的には触媒を用いることが好ましい。前記触媒は特に限定されず、脱水素反応に通常用いられるものを使用することができるが、例えば、Pd−C(パラジウムカーボン)、白金、ロジウム、金属硫黄および金属セレン等が使用可能である。また、これら触媒は単独で用いても良いが、二種類以上併用しても良い。
その他の使用物質や反応条件も特に限定されず、従来の脱水素反応を参考にするなどして適宜設定することができる。前記DDQ等の酸化剤やPd−C等の触媒を用いる場合、反応溶媒は、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素や、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒が使用可能であり、これら溶媒は単独で用いても二種類以上併用しても良い。この場合の反応温度および反応時間も特に限定されず、反応物質の種類等により適宜選択すればよい。
そして、前記式(81)で表される化合物が得られたら、X11〜X3 1上の水素原子およびR1〜R6上のベンジル位水素原子を必要に応じ置換して、前記式(1)で表される本発明の化合物を得ることができる。X11〜X31のうちいずれかがイミノ基であって、その水素原子が保護基により置換されている場合は、イミノ基を必要に応じ脱保護してからあらためて置換しても良い。脱保護の方法は特に限定されず、前記保護基の種類等に応じて公知の方法を適宜使用すれば良い。
前記X11〜X31上の水素原子を置換する方法も特に限定されず、類似の化学構造を有するジフェニルメタン、フルオレンおよびカルバゾール等の置換反応と同様の方法で様々な置換基を導入することが可能である。例えば、X11〜X31のいずれかがメチレン基である場合、そのメチレン基をアルキル化するためには、前記メチレン基の水素をブチルリチウム等により脱離させてカルボアニオンを生成させ、さらにヨウ化アルキル等を加える等の方法を用いることができる。また、アルコキシ化するためには、ベンジル位のアルコキシ化に通常用いられる方法、例えばハロゲン化の後アルコーリシス反応させる方法等を使用することができる。さらに、R1〜R6上にベンジル位水素原子が存在する場合、その水素原子を置換する方法も特に限定されず、一般的なベンジル位置換反応と同様に行なうことができる。例えば、アルキル基やアルコキシ基で置換するには上述と同様の方法等を用いることが可能である。
以上のようにすれば、前記式(1)で表される本発明の化合物を、有機合成化学的手法により困難なく得ることができる。しかし、本発明の化合物の製造方法はこれに限定されず、どのような方法により製造しても良い。
前記式(1)で表される本発明の化合物は、電子材料、各種フラーレン類およびヘテロフラーレン類の原料等の用途に適する。特に、前記X1〜X3のいずれかがヘテロ原子を含んでいれば、ヘテロフラーレン類の合成原料として適すると考えられる。
さらに、前記式(1)で表される化合物の分子から誘導される基が、二個以上、共有結合および架橋鎖の少なくとも一方により連結されている構造を有する化合物(以下、単に「架橋体」と呼ぶことがある)も、本発明の化合物に含まれる。ただし、前記二個以上の基の構造は互いに同一でも異なっていても良い。前記架橋鎖は特に限定されず、例えば、アルキレン基でも、ポリエンでも、エステル結合やエーテル結合等を含む架橋鎖等であっても良い。これらの中で、例えばアルキレン基が好ましく、メチレン基または炭素数2〜10のポリメチレン基がより好ましい。そして、前記二個以上の基が、それぞれ少なくとも一つのベンジル位炭素を含み、前記共有結合または架橋鎖との結合部位が前記ベンジル位炭素であることが好ましい。
このような架橋体の製造方法も特に限定されず、目的とする架橋体の構造等に応じて公知の方法を適宜用いることができるが、一例として以下のような方法がある。すなわち、まず、スマネン(前記式(84)の化合物)のベンジル位を一箇所、モノハロゲン化し、ハロゲン化アルキレン、例えば1,4−ジブロモブタンとカップリング反応させる。この方法は特に限定されないが、例えば、前記スマネンのモノハロゲン化物に金属Mgを加えてGrignard試薬とした後、1,4−ジブロモブタンを加えてカップリングさせる方法がある。このようにすると、スマネンのベンジル位同士がテトラメチレン基で連結された化合物が得られる。さらに、必要に応じ、残りのベンジル位に前記の方法等で置換基を導入して目的の架橋体を得る。
なお、前記式(1)で表される化合物およびその架橋体に互変異性体、立体異性体、光学異性体等の異性体が存在する場合は、それら異性体も本発明の化合物に含まれる。さらに、前記式(1)の化合物およびその他本発明に係る化合物が塩を形成し得る場合は、その塩も本発明の化合物に含まれる。前記塩は特に限定されず、例えば酸付加塩でも塩基付加塩でも良く、さらに、前記酸付加塩を形成する酸は無機酸でも有機酸でも良く、前記塩基付加塩を形成する塩基は無機塩基でも有機塩基でも良い。前記無機酸としては、特に限定されないが、例えば、硫酸、リン酸、塩酸、臭化水素酸および、ヨウ化水素酸等があげられる。前記有機酸も特に限定されないが、例えば、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、p−ブロモベンゼンスルホン酸、炭酸、コハク酸、クエン酸、安息香酸および酢酸等があげられる。前記無機塩基としては、特に限定されないが、例えば、水酸化アンモニウム、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、炭酸塩および炭酸水素塩等があげられ、より具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カルシウムおよび炭酸カルシウム等があげられる。前記有機塩基も特に限定されないが、例えば、エタノールアミン、トリエチルアミンおよびトリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン等があげられる。
前記本発明の化合物の塩の製造方法も特に限定されず、例えば、本発明の化合物に、前記のような酸や塩基を公知の方法により適宜付加させる等の方法で製造することができる。
前記式(1)において、A1〜A6、および前記X1〜X3上の置換基が下記の条件を満たすことが好ましい。
(A1〜A6、および前記X1〜X3上の置換基の条件)
A1〜A6はそれぞれ同一であるかまたは異なり、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または芳香族炭化水素基であり、A1〜A6上にベンジル位水素原子が存在する場合は、その水素原子は置換基によって置換されていても良く、
前記A1〜A6上の置換基は、それぞれ同一であるかまたは異なり、ハロゲン、直鎖状もしくは分枝状の低分子もしくは高分子鎖(ただし、その主鎖および側鎖中には、ヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、不飽和結合を含んでいてもいなくても良く、環状構造を含んでいてもいなくても良い)、環構成原子数が3〜20である炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、飽和もしくは不飽和炭化水素基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルカノイルオキシ基、アミノ基、オキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、1個以上のハロゲンで置換されたアルキル基、アルコキシスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、アルキルスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、アルカノイル基、またはアルコキシカルボニル基であるか、または、同一のAr(rは1から6までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するArとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
前記X1〜X3上の置換基は互いに同一であるかまたは異なり、
その結合するXa(aは1から3までのいずれかの整数)がメチレン基またはビニリデン基である場合は、ハロゲン、直鎖状もしくは分枝状の低分子もしくは高分子鎖(ただし、その主鎖および側鎖中には、ヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、不飽和結合を含んでいてもいなくても良く、環状構造を含んでいてもいなくても良い)、環構成原子数が3〜20である炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)飽和もしくは不飽和炭化水素基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルカノイルオキシ基、アミノ基、オキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、1個以上のハロゲンで置換されたアルキル基、アルコキシスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、アルキルスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、アルカノイル基、またはアルコキシカルボニル基であるか、または、同一のXa(aは1から3までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するXaとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
その結合するXaがイミノメチレン基またはイミノ基である場合は、ハロゲン、直鎖状もしくは分枝状の低分子もしくは高分子鎖(ただし、その主鎖および側鎖中には、ヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、不飽和結合を含んでいてもいなくても良く、環状構造を含んでいてもいなくても良い)、環構成原子数が3〜20である炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、飽和もしくは不飽和炭化水素基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルカノイルオキシ基、1個以上のハロゲンで置換されたアルキル基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、アルカノイル基、またはアルコキシカルボニル基である。
また、前記式(1)において、A1〜A6、および前記X1〜X3上の置換基が下記の条件を満たすことがより好ましい。
(A1〜A6、および前記X1〜X3上の置換基の条件)
A1〜A6はそれぞれ同一であるかまたは異なり、水素原子、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、フェニル基、またはナフチル基であり、A1〜A6上にベンジル位水素原子が存在する場合は、その水素原子は置換基によって置換されていても良く、
前記A1〜A6上の置換基は、それぞれ同一であるかまたは異なり、ハロゲン、置換基を有するか有しない飽和もしくは不飽和の直鎖もしくは分枝炭化水素鎖、共役系高分子鎖もしくはオリゴマー鎖、環構成原子数が3〜20である炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルオキシ基、アミノ基、オキシアミノ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基(ただし、そのアルキル基は炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基である)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、1個以上のハロゲンで置換された炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、スルファモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルカルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシカルボニル基であるか、または、同一のAr(rは1から6までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するArとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
前記X1〜X3上の置換基は互いに同一であるかまたは異なり、
その結合するXa(aは1から3までのいずれかの整数)がメチレン基またはビニリデン基である場合は、ハロゲン、置換基を有するか有しない飽和もしくは不飽和の直鎖もしくは分枝炭化水素鎖、共役系高分子鎖もしくはオリゴマー鎖、環構成原子数が3〜20である炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルオキシ基、アミノ基、オキシアミノ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基(ただし、そのアルキル基は炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基である)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、1個以上のハロゲンで置換された炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、スルファモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルカルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシカルボニル基であるか、または、同一のXa(aは1から3までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するXaとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
その結合するXaがイミノメチレン基またはイミノ基である場合は、ハロゲン、置換基を有するか有しない飽和もしくは不飽和の直鎖もしくは分枝炭化水素鎖、共役系高分子鎖もしくはオリゴマー鎖、環構成原子数が3〜20である炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルオキシ基、1個以上のハロゲンで置換された炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルカルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシカルボニル基である。
そして、前記式(1)において、A1〜A6、および前記X1〜X3上の置換基が下記の条件を満たすことがさらに好ましい。
(A1〜A6、および前記X1〜X3上の置換基の条件)
A1〜A6はそれぞれ同一であるかまたは異なり、水素原子、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、フェニル基、またはナフチル基であり、A1〜A6上にベンジル位水素原子が存在する場合は、その水素原子は置換基によって置換されていても良く、
前記A1〜A6上の置換基は、それぞれ同一であるかまたは異なり、ハロゲン、炭素数1〜3000(特に好ましくは1〜300、最適には1〜30)の直鎖状炭化水素基(ただし、主鎖中の結合はそれぞれ飽和結合でも不飽和結合でも良く、主鎖上の水素原子は任意にハロゲン、またはメチル基で置換されていても良い)、共役系高分子鎖もしくはオリゴマー鎖、下記式(9)〜(75)のいずれかの化合物から任意の1個の水素を除いた構造を有する環状置換基(ただし、上記環状置換基は、1個または複数の置換基でさらに置換されていても良く、それらの置換基は互いに同一であるかまたは異なり、前記置換基は、ハロゲン、メチル基、ヒドロキシ基、メトキシ基、オキソ基、またはアミノ基である)、
ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルオキシ基、アミノ基、オキシアミノ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基(ただし、そのアルキル基は炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基である)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、1個以上のハロゲンで置換された炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、スルファモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルカルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシカルボニル基であるか、または、同一のAr(rは1から6までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するArとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
前記X1〜X3上の置換基は互いに同一であるかまたは異なり、
その結合するXa(aは1から3までのいずれかの整数)がメチレン基またはビニリデン基である場合は、ハロゲン、炭素数1〜3000(特に好ましくは1〜300、最適には1〜30)の直鎖状炭化水素基(ただし、主鎖中の結合はそれぞれ飽和結合でも不飽和結合でも良く、主鎖上の水素原子は任意にハロゲン、またはメチル基で置換されていても良い)、共役系高分子鎖もしくはオリゴマー鎖、前記式(9)〜(75)のいずれかの化合物から任意の1個の水素を除いた構造を有する環状置換基(ただし、上記環状置換基は、1個または複数の置換基でさらに置換されていても良く、それらの置換基は互いに同一であるかまたは異なり、前記置換基は、ハロゲン、メチル基、ヒドロキシ基、メトキシ基、オキソ基、またはアミノ基である)、ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルオキシ基、アミノ基、オキシアミノ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基(ただし、そのアルキル基は炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基である)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、1個以上のハロゲンで置換された炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、スルファモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルカルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシカルボニル基であるか、または、同一のXa(aは1から3までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するXaとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
その結合するXaがイミノメチレン基またはイミノ基である場合は、ハロゲン、炭素数1〜3000(特に好ましくは1〜300、最適には1〜30)の直鎖状炭化水素基(ただし、主鎖中の結合はそれぞれ飽和結合でも不飽和結合でも良く、主鎖上の水素原子は任意にハロゲン、またはメチル基で置換されていても良い)、共役系高分子鎖もしくはオリゴマー鎖、前記式(9)〜(75)のいずれかの化合物から任意の1個の水素を除いた構造を有する環状置換基(ただし、上記環状置換基は、1個または複数の置換基でさらに置換されていても良く、それらの置換基は互いに同一であるかまたは異なり、前記置換基は、ハロゲン、メチル基、ヒドロキシ基、メトキシ基、オキソ基、またはアミノ基である)、ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルオキシ基、1個以上のハロゲンで置換された炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルカルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシカルボニル基である。
なお、本発明で「ハロゲン」とは、任意のハロゲン元素を指すが、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。また、アルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基およびtert−ブチル基等があげられ、アルキル基をその構造中に含む基(例えば、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基等)についても同様である。不飽和炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、プロパルギル基、イソプロペニル基、1−ブテニル基および2−ブテニル基等があげられる。アルカノイル基としては、特に限定されないが、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、バレリル基およびイソバレリル基等があげられ、アルカノイル基をその構造中に含む基(アルカノイルオキシ基、アルカノイルアミノ基等)についても同様である。また、炭素数1のアルカノイル基とはホルミル基を指すものとし、アルカノイル基をその構造中に含む基についても同様とする。
前記共役系高分子鎖またはオリゴマー鎖は、ポリフェニレン、オリゴフェニレン、ポリフェニレンビニレン、オリゴフェニレンビニレン、ポリエン、オリゴビニレン、ポリアセチレン、オリゴアセチレン、ポリピロール、オリゴピロール、ポリチオフェン、オリゴチオフェン、ポリアニリンおよびオリゴアニリン(ただし、これらは1個以上の置換基で置換されていても良いし、置換されていなくても良い)からなる群から選択される少なくとも一つであることがさらに好ましく、この場合の置換基は、ハロゲン、メチル基、ヒドロキシ基、メトキシ基、オキソ基、およびアミノ基からなる群から選択される少なくとも一つであることが特に好ましい。また、前記共役系高分子鎖またはオリゴマー鎖は、その式量が30〜30000の範囲であることがさらに好ましい。前記式量は、特に好ましくは50〜5000、最適には50〜1000である。
また、前記式(1)において、前記同一のAr(rは1から6までのいずれかの整数)または同一のXa(aは1から3までのいずれかの整数)に結合する置換基同士が共有結合により結合され、それらの結合するArまたはXaとともに炭素環またはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成する場合、前記環の構成原子数が3〜20であり、前記置換基が、ハロゲン、メチル基、ヒドロキシ基、メトキシ基、オキソ基、およびアミノ基からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。
また、前記式(1)において、前記X1〜X3上の置換基のうち少なくとも一つが、その結合するXaおよびさらにそのXaが結合するベンゼン核と一体となって共役系を形成していれば、電子材料等の用途にさらに好ましく使用することができる。このような化合物は多数存在するが、例えば下記式(89)〜(91)で表される化合物等がある。ただし式(89)〜(91)の化合物は例示に過ぎず、これらに限定されるものではない。
前記式(1)において、前記X1〜X3上の置換基が存在しない(すなわち、前記X1〜X3上の水素原子のいずれもが前記置換基により置換されていない)化合物は、例えばその他の誘導体の合成原料等に使用することができる。
A1〜A6については、全て水素原子であることが、合成原料等に使用しやすく好ましい場合があるが、A1〜A6がアルキル基や芳香族炭化水素基を含んでいても、対応する誘導体の合成等に好ましく使用することができる。
また、前記式(1)において、X1〜X3は、例えば、メチレン基、ビニリデン基、イミノ基および酸素原子からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましく、X1〜X3の全てがメチレン基であることがより好ましい。特に、A1〜A6の全てが水素原子であり、かつ、X1〜X3の全てがメチレン基であり、そのいずれもが置換されていない化合物、すなわち母体化合物のスマネンは、各種誘導体の合成原料等として利用しやすい。
さらに、本発明の錯体は、前記式(1)で表される本発明の化合物またはその架橋体と金属元素との錯形成構造を含む錯体であり、前記式(1)の化合物またはその架橋体は、その互変異性体または立体異性体であっても良い。本発明の錯体またはその塩は、例えば、光増感剤、触媒等の用途に好ましく使用することができるが、これらの用途には限定されない。触媒として用いる場合は重合触媒がより好ましい。前記金属元素は、単一の金属元素でも二種類以上の金属元素を含んでいても良いが、遷移金属元素を含むことが好ましく、この遷移金属が、イットリウム(Y)、サマリウム(Sm)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、マンガン(Mn)、レニウム(Re)、鉄(Fe)、ルテニウム(Ru)、イリジウム(Ir)、コバルト(Co)、ロジウム(Rh)、W(タングステン)、Ni(ニッケル)、Pd(パラジウム)、Pt(白金)およびオスミウム(Os)からなる群から選択される少なくとも一つを含むことがより好ましい。
本発明の光増感剤および触媒は、前記本発明の錯体またはその塩を含むことにより、そして、本発明の電子材料は、本発明の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体またはそれらの塩を含むことにより、それぞれ優れた性能を示す。
(測定条件等)
核磁気共鳴(NMR)スペクトルは、Varian社製のMercury300(商品名)という機器(1H測定時300MHz)を用いて測定した。ケミカルシフトは百万分率(ppm)で表している。内部標準0ppmには、テトラメチルシラン(TMS)を用いた。結合定数(J)は、ヘルツで示しており、略号s、d、t、q、mおよびbrは、それぞれ、一重線(singlet)、二重線(doublet)、三重線(triplet)、四重線(quartet)、多重線(multiplet)および広幅線(broad)を表す。高分解能質量分析(HRMS)は、JEOL社製JMS−DX−303(商品名)を用い、電子衝撃法または化学的イオン化法により測定した。紫外可視吸収スペクトルおよび発光スペクトル(UV−VIS)は、株式会社日立製作所製U−3500(商品名)を用いて測定した。測定値(波長)はnmで表している。赤外線吸収スペクトル(IR)は、日本分光株式会社製FT/IR 480 plus(商品名)を用い、KBr法により測定した。測定値(波数)はcm−1で表しており、略号mおよびwは、それぞれ、mediumおよびweakを表す。融点は、株式会社柳本製作所製Yanagimoto MicroPoint Apparatus(商品名)を用いて測定した。カラムクロマトグラフィー分離には、シリカゲル(商品名Wakogel CF−200、和光純薬工業株式会社)を用いた。薄層クロマトグラフィー(TLC)用のプレートは、和光純薬工業株式会社製Wakogel BF−5(商品名)を用いた。GPCは、日本分析工業株式会社製LC−908(商品名)を用いて行なった。全ての化学物質は、試薬級である。ノルボルナジエンは、東京化成工業株式会社から購入した(500mL、16000円)。n−BuLiのヘキサン溶液は関東化学株式会社から、(PCy3)2RuCl2=CHPhはAldrich社から、エチレンは大阪酸素工業株式会社から、t−BuOK、1,2−ジブロモエタン、ヨウ化銅(I)、トルエンおよびDDQは和光純薬工業株式会社からそれぞれ購入した。
(スマネンの合成)
前記スキーム1に従い、スマネンを合成した。前記スキーム1を下に再掲する。
以下、具体的な操作および手順等について説明する。
[ステップa:syn−ベンゾトリス(ノルボルナジエン)(前記式(87))の合成]
まず、1Lの3口フラスコを真空加熱乾燥した後アルゴン置換し、その中に、t−BuOK(120mmol,13.5g)および脱水THFを180mL加えて攪拌した。次に、反応系の温度をマイナス78℃まで下げた後、攪拌を続けながら前記式(86)で表される化合物であるノルボルナジエン(2,5−norbornadiene,240mmol,22.1g)を加え、続いてn−BuLiのヘキサン溶液(濃度1.56mol/L、n−BuLi 120mmol相当量)を2時間かけ滴下した。滴下終了後、反応系の温度をマイナス40℃まで昇温し、さらに30分攪拌した。そして、前記系の温度をマイナス78℃に再び下げた後、1,2−ジブロモエタン(60mmol,11.3g)を加え、その後再びマイナス40℃に昇温し、1時間半攪拌した。次に、再び前記系の温度をマイナス78℃に戻した後、ヨウ化銅(I)(120mmol,22.9g)を加えた。そして、マイナス78℃で4時間攪拌後、冷却を停止し、徐々に室温まで戻しながらさらに7時間攪拌した。その後、飽和塩化アンモニウム水溶液を用いて反応を停止し、セライト濾過した。その濾液をエーテルで抽出し、残った水層をさらにエーテルで十分抽出した後、合わせた有機層を水で洗浄し、MgSO4で乾燥した。そして、減圧下溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:ジクロロメタン=4:1)により分離し、syn−ベンゾトリス(ノルボルナジエン)(syn−benzotris(norbornadiene)、)とanti−ベンゾトリス(ノルボルナジエン)(anti−benzotris(norbornadiene))のジアステレオマー混合物を得た。さらに、その混合物をGPCにより分離し、目的物であるsyn−ベンゾトリス(ノルボルナジエン)(収量108mg、単離収率2%)と、anti−ベンゾトリス(ノルボルナジエン)(収量270mg、単離収率5%)とを得た。以下に、これらの化合物の物性値を示す。
syn−ベンゾトリス(ノルボルナジエン):HRMS:270.1403、融点:195℃(dec)、1H−NMR(300MHz,CDCl3):δ=6.57(t,J=1.8Hz,6H),3.90−3.87(m,6H),2.22(dt,J=7.2,1.5Hz,3H),2.08(dt,J=7.2,1.5Hz,3H);13C−NMR(75MHz,CDCl3):141.59,137.66,66.73,17.44ppm.
anti−ベンゾトリス(ノルボルナジエン):1H−NMR(300MHz,CDCl3):δ=6.68(t,J=1.8Hz,2H),6.65(dd,J=5.4,3.0Hz,2H),6.59(dd,J=5.4,3.0Hz,2H),3.90−3.87(m,2H),3.87−3.85(m,4H),2.05(dt,J=7.2 1.5Hz,4H),2.00(dt,J=7.2,1.5Hz,4H)
[ステップb:ヘキサヒドロスマネン(前記式(88))の合成]
まず、200mL3口フラスコを真空加熱乾燥後アルゴン置換し、その中に、syn−ベンゾトリス(ノルボルナジエン)(0.074mmol,20mg)をトルエン100mLに溶かした溶液を加えた。次に、系の温度をマイナス78℃に下げ、エチレンガスをバブリングして充分導入し、前記系内をエチレン雰囲気下とした。その後、前記系の温度を室温に戻し、(PCy3)2RuCl2=CHPh(0.0037mmol,3mg,5mol%)を加え、エチレン雰囲気を維持したまま室温で24時間攪拌した。さらに、前記系内をアルゴン雰囲気下にし48時間加熱環流した後、反応混合物をシリカゲルによりろ過した。その濾液を減圧下溶媒留去し、得られた粗生成物を薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:トルエン=5:1)により単離し、さらに最終的にGPCにより精製し、目的化合物であるヘキサヒドロスマネン(hexahydrosumanene)を得た(収量4mg、単離収率20%)。以下に、この化合物の物性値を示す。
HRMS:Found:m/z=270.1412,Calcd for C21H18:M=270.1408、融点:180℃(dec)、1H−NMR(300MHz,CDCl3):δ=5.69(s,6H),3.81(dd,6H,J=9.9 and 7.2Hz),2.78(dt,3H,J=11.4 and 7.2Hz),1.01(dt,3H,J=9.9 and 11.4Hz);13C−NMR(75MHz,CDCl3):141.91,129.28,43.66,40.35ppm.、IR(KBr):ν=3010(m),2919(m),2814(m),1595(w),1445(w),1260(w)cm−1、UV−VIS(CH2Cl2):最大吸収波長(Absorption λmax)=240nm,最大発光波長(Emission λmax)=331nm(励起波長(Excitation λ)=240nm)
[ステップc:スマネン(前記式(84))の合成]
まず、10mLの2口フラスコを真空加熱乾燥した後アルゴン置換した。次に、その中に、ヘキサヒドロスマネン(0.011mmol,3mg)をトルエン2mLに溶かした溶液をシリンジで加え、さらにDDQ(0.0385mmol,9mg)を加えたのち、110℃で20時間加熱した。反応終了後、溶媒を減圧下留去し、残渣を薄層クロマトグラフィー(ヘキサン)により分離し、目的化合物のスマネンを得た(収量2mg、単離収率67%)。以下に、この化合物の物性値を示す。また、図1〜5にこの化合物のUV−VIS吸収スペクトル図を示す。使用溶媒は、図1ではシクロヘキシルアミン(CHA)、図2ではテトラヒドロフラン(THF)、図3ではアセトニトリル(CH3CN)、図4ではジクロロメタン(CH2Cl2)であり、溶液の濃度はいずれも1.0×10−4Mである。また、図5は、図1〜4の全てのスペクトル図を1つにまとめて示した図である。
HRMS:Found:m/z=264.0923,Calcd for C21H12:M=264.0939、融点115℃、1H−NMR(300MHz,CDCl3):δ=7.01(s,6H),4.71(d,J=19.5Hz,3H),3.42(d,J=19.5Hz,3H);13C−NMR(75MHz,CDCl3):148.78,148.60,123.15,41.77ppm.、IR(KBr):ν=2950(m),2922(m),1653(m),1558(m)cm−1、UV−VIS(シクロヘキシルアミン(CHA)、1.0×10−4M):最大吸収波長(Absorption λmax)=279nm(logε=4.56)、UV−VIS(テトラヒドロフラン(THF)、1.0×10−4M):最大吸収波長(Absorption λmax)=278nm(logε=4.62)、UV−VIS(アセトニトリル(CH3CN)、1.0×10−4M):最大吸収波長(Absorption λmax)=276nm(logε=4.25)、UV−VIS(CH2Cl2):最大吸収波長(Absorption λmax)=278nm(logε=4.52)、最大発光波長(Emission λmax)=376nm(励起波長(Excitation λ)=278nm)
なお、温度可変1H−NMR(300MHz,d10−p−xylene)を25℃〜140℃まで測定したところ、臨界温度Tcは140℃以上であり、反転エネルギーΔG‡は、前記Tcとケミカルシフト値とカップリング定数Jとから19.4kcal/mol以上と計算された。
以上の通り、本発明の製造方法により、安価で容易に入手可能なノルボルナジエンからわずか3段階でスマネンを合成することができた。また、全てのステップが極めで穏やかな条件であり、例えばDDQに変えて脱水素触媒を用いる等の工夫により、容易に工業プロセス化、大量合成が可能である。
Claims (40)
- 下記一般式(1)で表される化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
ただし、式中、A1〜A6はそれぞれ同一であるかまたは異なり、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または芳香族炭化水素基であり、A1〜A6上にベンジル位水素原子が存在する場合は、その水素原子は置換基によって置換されていても良く、
前記A1〜A6上の置換基は、それぞれ同一であるかまたは異なり、ハロゲン、直鎖状もしくは分枝状の低分子もしくは高分子鎖(ただし、その主鎖および側鎖中には、ヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、不飽和結合を含んでいてもいなくても良く、環状構造を含んでいてもいなくても良い)、炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、電子供与基または電子求引基であるか、または、同一のAr(rは1から6までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するArとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
X1〜X3はそれぞれ同一であるかまたは異なり、メチレン基(下記式(2))、ビニリデン基(下記式(3))、カルボニル基(下記式(4))、チオカルボニル基(下記式(5))、イミノメチレン基(下記式(6))、イミノ基(下記式(7))、または酸素原子(下記式(8))、であり、X1〜X3上に水素原子が存在する場合は、その水素原子は置換基によって置換されていても良く、
前記X1〜X3上の置換基は、それぞれ同一であるかまたは異なり、ハロゲン、直鎖状もしくは分枝状の低分子もしくは高分子鎖(ただし、その主鎖および側鎖中には、ヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、不飽和結合を含んでいてもいなくても良く、環状構造を含んでいてもいなくても良い)、炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、電子供与基または電子求引基であるか、または、同一のXa(aは1から3までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するXaとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良い。 - 前記式(1)において、A1〜A6、および前記X1〜X3上の置換基が下記の条件を満たす請求の範囲1記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
(A1〜A6、および前記X1〜X3上の置換基の条件)
A1〜A6はそれぞれ同一であるかまたは異なり、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または芳香族炭化水素基であり、A1〜A6上にベンジル位水素原子が存在する場合は、その水素原子は置換基によって置換されていても良く、
前記A1〜A6上の置換基は、それぞれ同一であるかまたは異なり、ハロゲン、直鎖状もしくは分枝状の低分子もしくは高分子鎖(ただし、その主鎖および側鎖中には、ヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、不飽和結合を含んでいてもいなくても良く、環状構造を含んでいてもいなくても良い)、環構成原子数が3〜20である炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、飽和もしくは不飽和炭化水素基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルカノイルオキシ基、アミノ基、オキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、1個以上のハロゲンで置換されたアルキル基、アルコキシスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、アルキルスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、アルカノイル基、またはアルコキシカルボニル基であるか、または、同一のAr(rは1から6までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するArとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
前記X1〜X3上の置換基は互いに同一であるかまたは異なり、
その結合するXa(aは1から3までのいずれかの整数)がメチレン基またはビニリデン基である場合は、ハロゲン、直鎖状もしくは分枝状の低分子もしくは高分子鎖(ただし、その主鎖および側鎖中には、ヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、不飽和結合を含んでいてもいなくても良く、環状構造を含んでいてもいなくても良い)、環構成原子数が3〜20である炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)飽和もしくは不飽和炭化水素基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルカノイルオキシ基、アミノ基、オキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、1個以上のハロゲンで置換されたアルキル基、アルコキシスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、アルキルスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、アルカノイル基、またはアルコキシカルボニル基であるか、または、同一のXa(aは1から3までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するXaとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
その結合するXaがイミノメチレン基またはイミノ基である場合は、ハロゲン、直鎖状もしくは分枝状の低分子もしくは高分子鎖(ただし、その主鎖および側鎖中には、ヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、不飽和結合を含んでいてもいなくても良く、環状構造を含んでいてもいなくても良い)、環構成原子数が3〜20である炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、飽和もしくは不飽和炭化水素基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルカノイルオキシ基、1個以上のハロゲンで置換されたアルキル基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、アルカノイル基、またはアルコキシカルボニル基である。 - 前記式(1)において、A1〜A6、および前記X1〜X3上の置換基が下記の条件を満たす請求の範囲1記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
(A1〜A6、および前記X1〜X3上の置換基の条件)
A1〜A6はそれぞれ同一であるかまたは異なり、水素原子、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、フェニル基またはナフチル基であり、A1〜A6上にベンジル位水素原子が存在する場合は、その水素原子は置換基によって置換されていても良く、
前記A1〜A6上の置換基は、それぞれ同一であるかまたは異なり、ハロゲン、置換基を有するか有しない飽和もしくは不飽和の直鎖もしくは分枝炭化水素鎖、共役系高分子鎖もしくはオリゴマー鎖、環構成原子数が3〜20である炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルオキシ基、アミノ基、オキシアミノ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基(ただし、そのアルキル基は炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基である)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、1個以上のハロゲンで置換された炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、スルファモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルカルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシカルボニル基であるか、または、同一のAr(rは1から6までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するArとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
前記X1〜X3上の置換基は互いに同一であるかまたは異なり、
その結合するXa(aは1から3までのいずれかの整数)がメチレン基またはビニリデン基である場合は、ハロゲン、置換基を有するか有しない飽和もしくは不飽和の直鎖もしくは分枝炭化水素鎖、共役系高分子鎖もしくはオリゴマー鎖、環構成原子数が3〜20である炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルオキシ基、アミノ基、オキシアミノ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基(ただし、そのアルキル基は炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基である)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、1個以上のハロゲンで置換された炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、スルファモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルカルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシカルボニル基であるか、または、同一のXa(aは1から3までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するXaとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
その結合するXaがイミノメチレン基またはイミノ基である場合は、ハロゲン、置換基を有するか有しない飽和もしくは不飽和の直鎖もしくは分枝炭化水素鎖、共役系高分子鎖もしくはオリゴマー鎖、環構成原子数が3〜20である炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)、ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルオキシ基、1個以上のハロゲンで置換された炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルカルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシカルボニル基である。 - 前記式(1)において、A1〜A6、および前記X1〜X3上の置換基が下記の条件を満たす請求の範囲1記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
(A1〜A6、および前記X1〜X3上の置換基の条件)
A1〜A6はそれぞれ同一であるかまたは異なり、水素原子、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、フェニル基またはナフチル基であり、A1〜A6上にベンジル位水素原子が存在する場合は、その水素原子は置換基によって置換されていても良く、
前記A1〜A6上の置換基は、それぞれ同一であるかまたは異なり、ハロゲン、炭素数1〜3000の直鎖状炭化水素基(ただし、主鎖中の結合はそれぞれ飽和結合でも不飽和結合でも良く、主鎖上の水素原子は任意にハロゲン、またはメチル基で置換されていても良い)、共役系高分子鎖もしくはオリゴマー鎖、下記式(9)〜(75)のいずれかの化合物から任意の1個の水素を除いた構造を有する環状置換基(ただし、上記環状置換基は、1個または複数の置換基でさらに置換されていても良く、それらの置換基は互いに同一であるかまたは異なり、前記置換基は、ハロゲン、メチル基、ヒドロキシ基、メトキシ基、オキソ基、またはアミノ基である)、
ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルオキシ基、アミノ基、オキシアミノ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基(ただし、そのアルキル基は炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基である)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、1個以上のハロゲンで置換された炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、スルファモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルカルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシカルボニル基であるか、または、同一のAr(rは1から6までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するArとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
前記X1〜X3上の置換基は互いに同一であるかまたは異なり、
その結合するXa(aは1から3までのいずれかの整数)がメチレン基またはビニリデン基である場合は、ハロゲン、炭素数1〜3000の直鎖状炭化水素基(ただし、主鎖中の結合はそれぞれ飽和結合でも不飽和結合でも良く、主鎖上の水素原子は任意にハロゲン、またはメチル基で置換されていても良い)、共役系高分子鎖もしくはオリゴマー鎖、前記式(9)〜(75)のいずれかの化合物から任意の1個の水素を除いた構造を有する環状置換基(ただし、上記環状置換基は、1個または複数の置換基でさらに置換されていても良く、それらの置換基は互いに同一であるかまたは異なり、前記置換基は、ハロゲン、メチル基、ヒドロキシ基、メトキシ基、オキソ基、またはアミノ基である)、ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルオキシ基、アミノ基、オキシアミノ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基(ただし、そのアルキル基は炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基である)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、1個以上のハロゲンで置換された炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良い。)、スルファモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルカルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシカルボニル基であるか、または、同一のXa(aは1から3までのいずれかの整数)に結合する置換基同士は、共有結合により結合され、それらの結合するXaとともに炭素環もしくはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成しても良く、
その結合するXaがイミノメチレン基またはイミノ基である場合は、ハロゲン、炭素数1〜3000の直鎖状炭化水素基(ただし、主鎖中の結合はそれぞれ飽和結合でも不飽和結合でも良く、主鎖上の水素原子は任意にハロゲン、またはメチル基で置換されていても良い)、共役系高分子鎖もしくはオリゴマー鎖、前記式(9)〜(75)のいずれかの化合物から任意の1個の水素を除いた構造を有する環状置換基(ただし、上記環状置換基は、1個または複数の置換基でさらに置換されていても良く、それらの置換基は互いに同一であるかまたは異なり、前記置換基は、ハロゲン、メチル基、ヒドロキシ基、メトキシ基、オキソ基、またはアミノ基である)、ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイルオキシ基、1個以上のハロゲンで置換された炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキルカルバモイル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルカノイル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシカルボニル基である。 - 前記共役系高分子鎖またはオリゴマー鎖が、ポリフェニレン、オリゴフェニレン、ポリフェニレンビニレン、オリゴフェニレンビニレン、ポリエン、オリゴビニレン、ポリアセチレン、オリゴアセチレン、ポリピロール、オリゴピロール、ポリチオフェン、オリゴチオフェン、ポリアニリンおよびオリゴアニリン(ただし、これらは1個以上の置換基で置換されていても良いし、置換されていなくても良い)からなる群から選択される少なくとも一つである請求の範囲3または4記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- 前記置換基が、ハロゲン、メチル基、ヒドロキシ基、メトキシ基、オキソ基、およびアミノ基からなる群から選択される少なくとも一つである請求の範囲5記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- 前記共役系高分子鎖またはオリゴマー鎖の式量が30〜30000の範囲である請求の範囲3または4記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- 前記式(1)において、前記同一のAr(rは1から6までのいずれかの整数)または同一のXa(aは1から3までのいずれかの整数)に結合する置換基同士が共有結合により結合され、それらの結合するArまたはXaとともに炭素環またはヘテロ環(ただし、単環でも縮合環でも、飽和でも不飽和でも良く、置換基を有していてもいなくても良い)を形成する場合、前記環の構成原子数が3〜20であり、前記置換基が、ハロゲン、メチル基、ヒドロキシ基、メトキシ基、オキソ基、およびアミノ基からなる群から選択される少なくとも一つである請求の範囲1記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- 前記式(1)において、前記X1〜X3上の置換基のうち少なくとも一つが、その結合するXaおよびさらにそのXaが結合するベンゼン核と一体となって共役系を形成する請求の範囲1記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- 前記式(1)において、A1〜A6の全てが水素原子である請求の範囲1記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- 前記式(1)において、前記X1〜X3上の置換基が存在しない(すなわち、前記X1〜X3上の水素原子のいずれもが前記置換基により置換されていない)請求の範囲1記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- 前記式(1)において、X1〜X3が、メチレン基、ビニリデン基、イミノ基および酸素原子からなる群から選択される少なくとも一つである請求の範囲1記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- 前記式(1)において、X1〜X3の全てがメチレン基である請求の範囲1記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- 請求の範囲1記載の化合物の分子から誘導される基が、二個以上、共有結合および架橋鎖の少なくとも一方により連結されている構造を有する化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。ただし、前記二個以上の基の構造は互いに同一でも異なっていても良い。
- 前記架橋鎖が、メチレン基または炭素数2〜10のポリメチレン基であり、さらに、前記二個以上の基が、それぞれ少なくとも一つのベンジル位炭素を含み、前記共有結合または架橋鎖との結合部位が前記ベンジル位炭素である請求の範囲14記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- 請求の範囲1もしくは14記載の化合物またはその互変異性体もしくは立体異性体と金属元素との錯形成構造を含む錯体またはその塩。
- 前記金属元素が遷移金属元素を含む請求の範囲16記載の錯体またはその塩。
- 前記遷移金属元素が、イットリウム(Y)、サマリウム(Sm)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、マンガン(Mn)、レニウム(Re)、鉄(Fe)、ルテニウム(Ru)、イリジウム(Ir)、コバルト(Co)、ロジウム(Rh)、W(タングステン)、Ni(ニッケル)、Pd(パラジウム)、Pt(白金)およびオスミウム(Os)からなる群から選択される少なくとも一つを含む請求の範囲17記載の錯体またはその塩。
- R1〜R6がそれぞれ同一であるかまたは異なり、水素原子、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、フェニル基、またはナフチル基である請求の範囲19記載の化合物またはその塩。
- 前記メタセシス反応が、触媒を用いて行われる請求の範囲21記載の製造方法。
- 前記触媒が、ルテニウム、アルミニウム、チタン、モリブデンおよびタングステンからなる群から選択される少なくとも一つの元素を含む請求の範囲22記載の製造方法。
- 前記触媒が、(PCy3)2RuCl2=CHPh、Al(C2H5)3−TiCl4、Al(C2H5)3−MoCl3、およびAl(C2H5)3−WCl6からなる群から選択される少なくとも一つを含む請求の範囲22記載の製造方法。
- 前記メタセシス反応が、前記式(77)の化合物と反応するもう一種類のオレフィンを用いて行われる請求の範囲21記載の製造方法。
- 前記オレフィンがエチレンである請求の範囲25記載の製造方法。
- 前記式(77)で表される化合物のオゾン分解を含む、請求の範囲27記載の化合物またはその塩の製造方法。ただし、前記式(77)で表される化合物については請求の範囲21に記載の通りである。
- 請求の範囲27記載の化合物の分子内カップリング反応を含む、請求の範囲19記載の化合物またはその塩の製造方法。
- 前記分子内カップリング反応が、遷移金属元素を用いた還元的カップリング反応である、請求の範囲29記載の製造方法。
- 前記遷移金属元素がチタンを含む請求の範囲30記載の製造方法。
- アルカリ金属、銅触媒、ニッケル触媒およびパラジウム触媒からなる群から選択される少なくとも一つの存在下で前記Wurtz型カップリングによる環化を行なう、請求の範囲32記載の製造方法。
- 前記式(78)〜(80)で表される化合物をハロゲン化した後、前記ハロゲン化と同一の反応系中で前記Wurtz型カップリングによる環化を行なう、請求の範囲32記載の製造方法。
- カリウムt−ブトキシド、n−ブチルリチウムヘキサン溶液、1,2−ジブロモエタン、ヨウ化銅(I)、およびTHFを用いて前記式(78)〜(80)で表される化合物のハロゲン化およびWurtz型カップリングによる環化を行なう、請求の範囲32記載の製造方法。
- 請求の範囲32記載の製造方法により前記式(77)で表される化合物を製造することを含む、請求の範囲21または29記載の製造方法。
- 請求の範囲1または14記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体またはそれらの塩を含む電子材料。
- 請求の範囲16記載の錯体またはその塩を含む光増感剤。
- 請求の範囲16記載の錯体またはその塩を含む触媒。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005504702A JP4716868B2 (ja) | 2003-01-31 | 2004-01-27 | スマネンおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003024462 | 2003-01-31 | ||
JP2003024462 | 2003-01-31 | ||
PCT/JP2004/000678 WO2004067446A2 (ja) | 2003-01-31 | 2004-01-27 | スマネンおよびその製造方法 |
JP2005504702A JP4716868B2 (ja) | 2003-01-31 | 2004-01-27 | スマネンおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2004067446A1 true JPWO2004067446A1 (ja) | 2006-05-18 |
JP4716868B2 JP4716868B2 (ja) | 2011-07-06 |
Family
ID=32820767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005504702A Expired - Lifetime JP4716868B2 (ja) | 2003-01-31 | 2004-01-27 | スマネンおよびその製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7435859B2 (ja) |
EP (1) | EP1604949A2 (ja) |
JP (1) | JP4716868B2 (ja) |
KR (1) | KR20050097531A (ja) |
CN (1) | CN1745050A (ja) |
TW (1) | TW200422281A (ja) |
WO (1) | WO2004067446A2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4883955B2 (ja) * | 2004-07-30 | 2012-02-22 | 国立大学法人大阪大学 | 有機半導体およびそれを用いた電子機器 |
JP2009046392A (ja) * | 2005-12-05 | 2009-03-05 | National Institutes Of Natural Sciences | トリアザスマネン類、及び、その製造方法 |
US11917843B2 (en) | 2017-07-26 | 2024-02-27 | Universal Display Corporation | Organic electroluminescent materials and devices |
CN114805376B (zh) * | 2022-04-15 | 2023-08-01 | 吉林奥来德光电材料股份有限公司 | 一种有机电致发光材料及包含其的有机电致发光器件 |
PL443506A1 (pl) * | 2023-01-16 | 2024-07-22 | Politechnika Warszawska | Tetraferrocenowa pochodna sumanenu i sposób jej otrzymywania |
PL448397A1 (pl) * | 2024-04-24 | 2024-10-21 | Politechnika Warszawska | N,N-difenylo-2-aminosumanen i sposób jego otrzymywania |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3899698B2 (ja) * | 1998-08-31 | 2007-03-28 | 東洋インキ製造株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子材料およびそれを使用した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
-
2004
- 2004-01-27 EP EP04705497A patent/EP1604949A2/en not_active Withdrawn
- 2004-01-27 US US10/543,549 patent/US7435859B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-01-27 CN CNA2004800032191A patent/CN1745050A/zh active Pending
- 2004-01-27 JP JP2005504702A patent/JP4716868B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2004-01-27 KR KR1020057014192A patent/KR20050097531A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-01-27 WO PCT/JP2004/000678 patent/WO2004067446A2/ja active Search and Examination
- 2004-01-28 TW TW093101833A patent/TW200422281A/zh unknown
Non-Patent Citations (5)
Title |
---|
JPN6010026859, PRIYAKUMAR,U.D. et al, "Heterobuckybowls: A Theoretical Study on the Structure, Bowl−to−Bowl Inversion Barrier, Bond Length", Journal of Organic Chemistry, 2001, Vol.66, No.20, p.6523−6530 * |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7435859B2 (en) | 2008-10-14 |
US20060142370A1 (en) | 2006-06-29 |
WO2004067446A3 (ja) | 2004-10-28 |
TW200422281A (en) | 2004-11-01 |
EP1604949A2 (en) | 2005-12-14 |
KR20050097531A (ko) | 2005-10-07 |
WO2004067446A2 (ja) | 2004-08-12 |
CN1745050A (zh) | 2006-03-08 |
JP4716868B2 (ja) | 2011-07-06 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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