JPWO2004007464A1 - イミダゾール誘導体 - Google Patents

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正史 北野
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Abstract

式（１）：［式中、Ｘ１は、置換もしくは無置換の低級アルキレン基を、Ｘ２およびＱは、単結合、または置換もしくは無置換の低級アルキレン基を、Ｙ１は飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環等を、Ｙ２は飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環基等を、Ｍは式：−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ５等で表される基を、Ｒ１およびＲ２は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基等を、Ｒ５は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基等を表す。］で表される化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩は、キマーゼ阻害活性を有し、高血圧症、心不全等の治療薬として有用である。

Description

本発明は新規な置換イミダゾール誘導体もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩に関する。キマーゼ（Ｃｈｙｍａｓｅ）は、肥満細胞分泌顆粒中に見出された生体内酵素の一つであり、キモトリプシン様セリンプロテアーゼのサブファミリーの一つである。キマーゼは、細胞外に放出されると速やかに周囲の細胞外マトリクスに結合し、タイプＩＶコラーゲンやフィブロネクチンの細胞外基質を切断し、ヒスタミン等とともに血管透過性を亢進し、ヒスタミン作用を増強し、血清アルブミンからヒスタミン遊離ペプチドを生成し、また、ＩｇＧを限定分解し、白血球遊走因子を形成し、炎症性サイトカインの一つであるインターロイキン−１βの前駆体を活性化する等の生体内作用を有する。
肥満細胞自体の活性化を引き起こす作用も報告されている一方、キマーゼはまた、アンジオテンシンＩからアンジオテンシンＩＩへの変換に関与することが明らかにされている。アンジオテンシンＩＩの産生にはアンジオテンシン変換酵素（以下、ＡＣＥと略記する）が作用していると考えられていたが、最近になって、ヒト心臓におけるアンジオテンシンＩＩの産生においてＡＣＥが作用しているのはわずか１０〜１５％程度にすぎず、８０％以上はヒト型キマーゼの作用であることが明らかとなってきた。
その他、エンドセリン生成過程、サブスタンスＰ、バソアクティブ・インテスティナル・ポリペプチド（ＶＩＰ）、アポ蛋白Ｂ等の多くの生理活性物質を基質としていることも判明し、更に、コラゲナーゼ等の他の生体内プロテアーゼの活性化にも関与していることが明らかにされている。更には、キマーゼは、ＡｐｏＡ−Ｉをも基質とすることから、コレステロールの逆転相系を阻害する作用を有することも明らかとなっている。キマーゼの分布をみると、心臓の血管の外側に肥満細胞が存在すること、キマーゼ活性が肥満細胞や間質内に細胞外基質と結合して存在することが確認されている。また、心臓の他に、皮膚、肺、肝臓、腎皮質にも多くの分布が認められる。そしてこのような多彩な生理活性を有しているキマーゼは、種々の病態に関与していることが知られており、例えば、心筋梗塞、心不全、ＰＴＣＡ（Ｐｅｒｃｕｔａｎｅｏｕｓ Ｔｒａｎｓｌｕｍｉｎａｌ Ｃｏｒｏｎａｒｙ Ａｎｇｉｏｐｌａｓｔｙ）後再狭窄、高血圧、糖尿病合併症、アレルギー性疾患、喘息などに関与していることが知られている。
従って、キマーゼに対する活性阻害剤は、心血管障害治療剤、動脈硬化治療剤、抗炎症剤、抗アレルギー剤等に有用であると考えられる。より具体的には、キマーゼ阻害作用を有する化合物は、本作用に基づき、病態が改善されると考えられる疾患、例えば、アンジオテンシンＩＩ、エンドセリンなどが介在する高血圧症、心不全、虚血性末梢循環障害、心筋虚血、静脈機能不全、心筋梗塞後の心不全進行、糖尿病性腎症、腎炎、動脈硬化症、高アルドステロン症、強皮症、糸球体硬化症、腎不全、中枢神経系疾患、アルツハイマー病、記憶欠乏症、うつ病、健忘症および老人性痴呆を含めた知覚機能障害、不安および緊張症状、不快精神状態、緑内障、高眼圧症、ＰＴＣＡ後再狭窄または喘息、鼻炎、アトピー性皮膚炎等のアレルギー性疾患などの治療薬として有用である。
キマーゼ阻害作用を有する化合物としては、例えば、ベンズイミダゾール誘導体（国際公開ＷＯ００／０３９９７号公報）が挙げられるが、これらの化合物と本発明の化合物とは構造上異なったものである。
本発明が解決しようとする課題は、キマーゼ阻害活性を有し、上記疾患の治療剤として有用な化合物を提供することにある。
本発明者らは、上記課題を達成するために鋭意検討した結果、一般式（１）で表される化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩（以下必要に応じ本発明化合物と略称することがある）が優れたキマーゼ阻害作用を有することを見出した。すなわち、本発明は、次のものに関する。
〔１〕 式（１）：
Figure 2004007464
［式中、Ｘ１は、置換もしくは無置換の低級アルキレン基（該低級アルキレン基の−ＣＨ２−基は式：−Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）ｎ−、−Ｎ（Ｒ３）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ４）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｓ（Ｏ）２−、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ４）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ４ａ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基、またはベンゼン環またはシクロアルカン環（該シクロアルカン環内の−ＣＨ２−基は式：−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ３）−、または−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基によって、１または複数、同一または異なって置き換えられていてもよい）によって、１または複数、同一または異なって置き換えられることができ、また該低級アルキレン基の隣り合ういずれか２つの炭素原子は２重結合もしくは３重結合を形成することができる）を表す。
Ｘ２およびＱはそれぞれ独立して、単結合または置換もしくは無置換の低級アルキレン基（該低級アルキレン基の−ＣＨ２−基は式：−Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）ｎ−、−Ｎ（Ｒ３）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ４）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｓ（Ｏ）２−、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ４）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ４ａ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基、またはベンゼン環またはシクロアルカン環（該シクロアルカン環内の−ＣＨ２−基は式：−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ３）−、または−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基によって、１または複数、同一または異なって置き換えられていてもよい）によって、１または複数、同一または異なって置き換えられることができ、また該低級アルキレン基の隣り合ういずれか２つの炭素原子は２重結合もしくは３重結合を形成することができる）を表す。
Ｙ１は飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の単環式複素環、または飽和もしくは不飽和の多環式複素環（これらの環は、無置換であるかもしくは置換基を有していてもよい）を表す。
Ｙ２は飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の単環式複素環基、または飽和もしくは不飽和の多環式複素環基（これらの基は、無置換であるかもしくは置換基を有していてもよい）を表す。
Ｍは式：−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ５、−Ｓ（Ｏ）２ＯＲ５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ６）Ｒ７、−Ｎ（Ｒ４）Ｓ（Ｏ）２Ｒ８で表される基、またはテトラゾリル基を表す。但しＸ１が置換された低級アルキレン基であって置換基の少なくとも１つが式：−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ５、−Ｓ（Ｏ）２ＯＲ５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ６）Ｒ７、−Ｎ（Ｒ４）Ｓ（Ｏ）２Ｒ８で表される基、またはテトラゾリル基である場合、Ｍは水素原子であってもよい。
Ｒ１およびＲ２は同一もしくは異なって、飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の単環式複素環基、飽和もしくは不飽和の多環式複素環基（これらの基は、無置換であるかもしくは置換基を有していてもよい）を表すか、または水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアシル基、または式：−ＯＲ９、−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ６）Ｒ７、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ１２もしくは−Ｒ１ａ−Ｒ１ｂ−Ｒ１ｃで表される基を表すか、またはＲ１およびＲ２が一緒になって、置換もしくは無置換の低級アルキレン基を表す。
Ｒ１ａは、置換もしくは無置換の低級アルキレン基（該低級アルキレン基の−ＣＨ２−基は式：−Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）ｎ−、−Ｎ（Ｒ３）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ４）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｓ（Ｏ）２−、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ４）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ４ａ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基によって、１または複数、同一または異なって置き換えられることができる）を表す。
Ｒ１ｂは、飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の単環式複素環、または飽和もしくは不飽和の多環式複素環（これらの環は、無置換であるかもしくは置換基を有していてもよい）を表す。
Ｒ１ｃは、水素原子、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、または置換もしくは無置換のアルキル基を表す。
ｍおよびｎは、それぞれ独立して０，１または２を表す。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４ａ、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１は、同一もしくは異なって、また複数ある場合にはそれぞれ独立して、飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の単環式複素環基、または飽和もしくは不飽和の多環式複素環基（これらの基は、無置換であるかもしくは置換基を有していてもよい）を表すか、または水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシル基、または置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基を表す。但し、Ｒ６とＲ７、およびＲ１０とＲ１１は、それぞれ独立して、互いに結合してこれらが結合する窒素原子と一緒になって環中に他のヘテロ原子を含んでいてもよい飽和３〜８員環の環状アミノ基（該環状アミノ基は１以上の置換もしくは無置換のアルキル基、または式：−Ｓ（Ｏ）ｍＲ１２または−ＯＲ９ａ（Ｒ９ａは置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアシル基を表す）で表される基で置換されていてもよい）を表すこともできる。
Ｒ５、Ｒ８、およびＲ１２は同一または異なって、複数ある場合にはそれぞれ独立して、飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の単環式複素環基、または飽和もしくは不飽和の多環式複素環基（これらの基は、無置換であるかもしくは置換基を有していてもよい）を表すか、または水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基を表す。］
で表される化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
〔２〕 Ｙ１がベンゼン環である、〔１〕記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
〔３〕 Ｘ１が式：−Ｓ−ＣＨ２−で表される基である、〔１〕または〔２〕記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
〔４〕 Ｍが式：−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ５で表される基である、〔１〕、〔２〕、または〔３〕記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
〔５〕 Ｒ２が水素原子である、〔１〕、〔２〕、〔３〕、または〔４〕記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
〔６〕 Ｒ１またはＲ２のいずれか一方が式：−Ｒ１ａ−Ｒ１ｂ−Ｒ１ｃで表される基であり、ここでＲ１ａが式：−（ＣＨ２）ｔ−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）−で表される基であり（ｔは１−５の整数を表す）、Ｒ１ｂが飽和の単環式複素環である、〔１〕記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
〔７〕 Ｙ１がｏ−フェニレンである、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
〔８〕 〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩を含有する医薬。
〔９〕 〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩を含有するキマーゼ阻害剤。
〔１０〕 〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩を含有する高血圧症、心不全、虚血性末梢循環障害、心筋虚血、静脈機能不全、心筋梗塞後の心不全進行、糖尿病性腎症、腎炎、動脈硬化症、高アルドステロン症、強皮症、糸球体硬化症、腎不全、中枢神経系疾患、アルツハイマー病、記憶欠乏症、うつ病、知覚機能障害、不安、緊張症状、不快精神状態、緑内障、高眼圧症、ＰＴＣＡ後再狭窄、喘息、鼻炎、またはアレルギー性疾患の治療剤。
〔１１〕 治療を必要とする患者に、〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩の有効量を投与することからなる、高血圧症、心不全、虚血性末梢循環障害、心筋虚血、静脈機能不全、心筋梗塞後の心不全進行、糖尿病性腎症、腎炎、動脈硬化症、高アルドステロン症、強皮症、糸球体硬化症、腎不全、中枢神経系疾患、アルツハイマー病、記憶欠乏症、うつ病、知覚機能障害、不安、緊張症状、不快精神状態、緑内障、高眼圧症、ＰＴＣＡ後再狭窄、喘息、鼻炎、またはアレルギー性疾患の治療方法。
〔１２〕 〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩の、高血圧症、心不全、虚血性末梢循環障害、心筋虚血、静脈機能不全、心筋梗塞後の心不全進行、糖尿病性腎症、腎炎、動脈硬化症、高アルドステロン症、強皮症、糸球体硬化症、腎不全、中枢神経系疾患、アルツハイマー病、記憶欠乏症、うつ病、知覚機能障害、不安、緊張症状、不快精神状態、緑内障、高眼圧症、ＰＴＣＡ後再狭窄、喘息、鼻炎、またはアレルギー性疾患の治療剤の製造のための使用。
本発明における各種の基を以下に説明する。なお、特に指示のない限り、以下の説明は各々の基が他の基の一部である場合にも該当する。
Ｙ１、Ｒ１ｂなどの２価の基の定義に使用されている飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の単環式複素環、および飽和もしくは不飽和の多環式複素環は、それぞれ以下に説明するそれぞれの環の２個の水素原子が結合手に変わったものを意味する。
複素環基には単環式複素環基および多環式複素環基が含まれ、炭化水素環基には単環式炭化水素環基、および多環式炭化水素環基が含まれる。
飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の単環式複素環基、および飽和もしくは不飽和の多環式複素環基は、それぞれ以下に説明するそれぞれの飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の単環式複素環、および飽和もしくは不飽和の多環式複素環の１個の水素原子が結合手に変わったものを意味する。
飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ベンゼンなどの３〜８員の炭化水素環が挙げられる。
シクロアルカン環としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタンなどの３〜８員のシクロアルカン環が挙げられる。
飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環としては、例えば、インデン、ナフタレン、アズレン、フルオレン、フェナレン、フェナントレン、アントラセン、アセフェナントリレン、１，２−ジヒドロナフタレン、６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ベンゾシクロヘプテン、ベンゾシクロオクテン、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、オクタヒドロ−１Ｈ−インデンなどの炭素原子数１６個以下の多環式炭化水素環が挙げられ、また、アダマンタン、ビシクロ［２，２，２］オクタン、ビシクロ［３，３，３］ウンデカン、ビシクロ［２，２，２］オクタ−２−エン、ビシクロ［３，３，３］ウンデカ−２−エンなどの架橋を有する炭素原子数１２個以下の多環式炭化水素環が挙げられる。
飽和もしくは不飽和の単環式複素環としては、例えば、１〜４個の窒素原子を含有する３〜８員の不飽和の単環式複素環、１〜４個の窒素原子を含有する３〜８員の飽和の単環式複素環、１個の酸素原子を含有する３〜８員の不飽和の単環式複素環、１〜２個の硫黄原子を含有する３〜８員の不飽和の単環式複素環、１〜３個の窒素原子と１〜２個の酸素原子を含有する３〜８員の不飽和の単環式複素環、１〜３個の窒素原子と１〜２個の酸素原子を含有する３〜８員の飽和の単環式複素環、１〜３個の窒素原子と１〜２個の硫黄原子を含有する３〜８員の不飽和の単環式複素環、１〜３個の窒素原子と１〜２個の硫黄原子を含有する３〜８員の飽和の単環式複素環、および１個の酸素原子と１〜２個の硫黄原子を含有する３〜８員の不飽和の単環式複素環が挙げられる。
１〜４個の窒素原子を含有する３〜８員の不飽和の単環式複素環として例えば、ピロール、ピロリン、ピリジン、ジヒドロピリジン、イミダゾール、ピラゾール、イミダゾリン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾールなどが挙げられる。
１〜４個の窒素原子を含有する３〜８員の飽和の単環式複素環として例えば、ピロリジン、ピペリジン、イミダゾリジン、ピラゾリジン、ピペラジンなどが挙げられる。
１個の酸素原子を含有する３〜８員の不飽和の単環式複素環として例えば、フラン、ピランなどが挙げられる。
１〜２個の硫黄原子を含有する３〜８員の不飽和の単環式複素環として例えば、チオフェン、ジヒドロジチイン、ジヒドロジチオンなどが挙げられる。
１〜３個の窒素原子と１〜２個の酸素原子を含有する３〜８員の不飽和の単環式複素環として例えば、オキサゾール、オキサジアゾール、イソキサゾールなどが挙げられる。
１〜３個の窒素原子と１〜２個の酸素原子を含有する３〜８員の飽和の単環式複素環として例えば、モルホリン、オキサゾリジンなどが挙げられる。
１〜３個の窒素原子と１〜２個の硫黄原子を含有する３〜８員の不飽和の単環式複素環として例えば、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾールなどが挙げられる。
１〜３個の窒素原子と１〜２個の硫黄原子を含有する３〜８員の飽和の単環式複素環として例えば、チアゾリジンなどが挙げられる。
１個の酸素原子と１〜２個の硫黄原子を含有する３〜８員の不飽和の単環式複素環として例えば、ジヒドロオキサチインなどが挙げられる。
飽和もしくは不飽和の多環式複素環としては、例えば１〜４個の窒素原子を含有する飽和もしくは不飽和縮合複素環、１〜３個の窒素原子と１〜２個の酸素原子を含有する不飽和縮合複素環、１〜３個の窒素原子と１〜２個の硫黄原子を含有する不飽和縮合複素環、１〜２個の酸素原子を含有する不飽和縮合複素環、１個の酸素原子と１〜２個の硫黄原子を含有する不飽和縮合複素環、および１〜２個の硫黄原子を含有する不飽和縮合複素環が挙げられる。
１〜４個の窒素原子を含有する飽和もしくは不飽和縮合複素環として例えば、インドール、イソインドール、インドリン、キノリン、イソキノリン、キノリジン、インダゾール、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、カルバゾール、プリン、プテリジン、フェナジン、カルボリニン、フェナントリジン、アクリジン、インドリン、イソインドリン、１，２−ジヒドロイソキノリン、ベンズイミダゾール、イミダゾピリジン、ベンゾトリアゾール、テトラヒドロイミダゾピリジン、ベンズ［ｂ］アゼピン、ベンズ［ｃｄ］インドール、シクロヘプタ［ｃｄ］インドール、ピロロ［３，２，１−ｉｊ］キノリン、シクロヘキサ［ｂ］ピリジン、シクロヘプタ［ｂ］ピリジン、ピロロ［１，２，３−ｄｅ］キノキサリン、ピロロ［３，２，１−ｈｉ］インドール、ピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１］ベンズアゼピン、ピロロ［３，２，１−ｋｌ］［１］ベンズアゾシン、ピロロ［３，２，１−ｋｌ］ベンゾ［ｅ］［１，４］ジアゾシン、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン、デカヒドロキノリン、デカヒドロイソキノリン、オクタヒドロインドール、キヌクリジン、１−アザビシクロ［２，２，１］ヘプタン、１−アザビシクロ［３，２，１］オクタンなどが挙げられる。
１〜３個の窒素原子と１〜２個の酸素原子を含有する不飽和縮合複素環として例えば、ベンズオキサゾール、ベンズオキサジアゾール、フェノキサジン、ピロロ［１，２，３−ｄｅ］［１，４］ベンズオキサジン、ピロロ［２，１−ｃ］［１，４］ベンズオキサジン、ピロロ［３，２，１−ｋｌ］ベンズ［ｅ］［４，１］オキサゾシンなどが挙げられ、好ましくはベンズオキサゾール、ピロロ［１，２，３−ｄｅ］［１，４］ベンズオキサジン、ピロロ［２，１−ｃ］［１，４］ベンズオキサジン、ピロロ［３，２，１−ｋｌ］ベンズ［ｅ］［４，１］オキサゾシンが挙げられる。
１〜３個の窒素原子と１〜２個の硫黄原子を含有する不飽和縮合複素環として例えば、ベンゾチアゾール、ベンゾチアジアゾール、１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジンなどが挙げられ、好ましくはベンゾチアゾール、１，４−ベンゾチアジンが挙げられる。
１〜２個の酸素原子を含有する不飽和縮合複素環として例えば、ベンゾフラン、ジヒドロベンゾフラン、クロメン、イソベンゾフラン、キサンテン、イソクロマン、クロマン、ベンズ［ｂ］オキセピンなどが挙げられ、好ましくはベンゾフラン、ベンズ［ｂ］オキセピンなどが挙げられる。
１個の酸素原子と１〜２個の硫黄原子を含有する不飽和縮合複素環として例えば、１，４−ベンズオキサチイン、フェノキサチインなどが挙げられる。
１〜２個の硫黄原子を含有する不飽和縮合複素環として例えば、ベンゾチオフェン、ベンゾチイン、ベンゾチオピラン、チオクロマン、チアントレンなどが挙げられ、好ましくはベンゾチオフェン、ベンゾチオピラン、チオクロマンが挙げられる。
飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の単環式複素環、飽和もしくは不飽和の多環式複素環、飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の単環式複素環基、飽和もしくは不飽和の多環式複素環基、フェニル基、ナフチル基、複素環基、アロイル基、飽和複素環−カルボニル基、および複素芳香族アシル基の置換基としては、１つまたは複数、同一または異なっていてよく、例えば水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、フェニル基、ナフチル基、複素環基、アシル基、（当該フェニル基、ナフチル基、複素環基、およびアシル基は、アルキル基、アルコキシ基、アルキレンジオキシ基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい）、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、または式：−ＣＮ、−ＯＲ１４、−Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１６、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１６、−Ｓ（Ｏ）ｎＲ１３、
Figure 2004007464
Figure 2004007464
（Ａ’は酸素原子、−Ｓ（Ｏ）ｒ−または−Ｎ（Ｒ２１）−を表し、
ｒは０、１または２の整数を表し、
Ｒ１９およびＲ２１はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、飽和もしくは不飽和の複素環基、またはアシル基を表し、環は３〜８員の窒素原子１個と炭素原子からなる飽和複素環を表す）で表される基が挙げられる。
Ｒ１３およびＲ１３ａは、互いに独立して、ヒドロキシ基、アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、または飽和もしくは不飽和の複素環基を表す。
Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、およびＲ１８は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、フェニル基、ナフチル基、飽和もしくは不飽和の複素環基、アルコキシカルボニル基、式：−Ｓ（Ｏ）ｎＲ１３で表される基、またはアシル基を表すか、またはＲ１５とＲ１６、またはＲ１７とＲ１８が互いに結合して、これらが結合する窒素原子と一緒になって、環中に他のヘテロ原子を含んでいてもよい飽和３〜８員環の環状アミノ基（該環状アミノ基は１以上の置換もしくは無置換のアルキル基、−Ｓ（Ｏ）ｎＲ１３，−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１４ａ，水酸基または−ＯＲ１４ｂで置換されていてもよい）を表す。
Ｒ１４、Ｒ１４ａ、またはＲ１４ｂは、互いに独立して、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、フェニル基、ナフチル基、または飽和もしくは不飽和の複素環基を表す。
シクロアルキル基、シクロアルケニル基およびシクロアルカンカルボニル基の置換基としては、例えば１〜４個、同一もしくは異なったアルキル基、置換アルキル基、水酸基、または式：−ＯＲ３４、−Ｓ（Ｏ）ｎＲ１３，−Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１６、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１６もしくは−Ｓ（Ｏ）ｎＲ１３で表される基が挙げられる。
Ｒ３４で表される基としては、Ｒ９で表される基と同様の基が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、２−プロピル、ブチル、２−ブチル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルなどの直鎖または分枝した炭素原子数８個以下のアルキル基が挙げられる。
シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなどの３〜８員環シクロアルキル基が挙げられる。
シクロアルケニル基としては、例えば１−シクロペンテニル、２−シクロペンテニル、３−シクロペンテニル、１−シクロヘキセニル、２−シクロヘキセニル、３−シクロヘキセニルなどの３〜８員環の二重結合を１つ有するシクロアルケニル基が挙げられる。
アルケニル基としては、例えばビニル、アリル、プロペニル、２−プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル等の炭素原子数６以下の直鎖または分岐したアルケニル基が挙げられる。
アルキニル基としては、例えばエチニル、プロパルギル、ブチニル、ペンチニル等の炭素原子数６以下の直鎖または分岐したアルキニル基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えばヨウ素、フッ素、塩素、および臭素原子が挙げられる。
アシル基としては、ホルミル基、例えばアセチル、プロパノイルなどの炭素原子数２〜６のアルカノイル基、例えばシクロプロパンカルボニル、シクロブタンカルボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボニルなどの炭素原子数４〜７のシクロアルカンカルボニル基、例えばシクロペンテンカルボニル、シクロヘキセンカルボニルなどの炭素原子数３〜６のシクロアルケンカルボニル基、例えばベンゾイル、トルオイル、ナフトイルなどの炭素原子数６〜１０のアロイル基、例えば２−ピペリジンカルボニル、３−モルホリンカルボニルなどの窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる複素原子１〜２個を含む５又は６員の飽和複素環を有する飽和複素環−カルボニル基、例えばフロイル、テノイル、ニコチノイル、イソニコチノイルなどの窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる複素原子１〜２個を含む５又は６員の複素芳香族環を有する複素芳香族アシル基などが挙げられる。
置換アルキル基における置換基は、１または複数、同一または異なって置換することができ、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シクロアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、アシル基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、フェニル基、ナフチル基、飽和もしくは不飽和の複素環基、オキソ基、チオキソ基、および式：−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ３５）Ｒ３６、−ＳＯ２Ｒ３３、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ３５）Ｒ３６、−Ｎ（Ｒ３５）Ｒ３６もしくは式：
Figure 2004007464
（Ｒ１９は前記と同じ意味を表し、環は３〜８員の窒素原子１個と炭素原子からなる飽和複素環基を表す。）で表される基が含まれる（当該フェニル基、ナフチル基、アリールスルホニルオキシ基、飽和もしくは不飽和の複素環基は、置換基によって１つまたは複数、同一または異なって置換されていてもよく、そのような置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子が挙げられる）。
Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６としては、それぞれ前記Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６と同様の基が挙げられる。
そのような置換アルキル基としては、例えば炭素原子数３〜６のシクロアルキルで置換された炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のポリハロアルキル基、炭素原子数１〜６のヒドロキシアルキル基、炭素原子数２〜６のアルコキシアルキル基、炭素原子数２〜６のシアノアルキル基、炭素原子数２〜６のカルボキシアルキル基、炭素原子数３〜８のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素原子数３〜８のアルカノイルアルキル基、炭素原子数１６以下のアロイルアルキル基、置換基を有していてもよいフェニルもしくはナフチル−Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、窒素原子が一つまたは二つのＣ１〜Ｃ３アルキルで置換されていてもよいカルバモイル−Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、窒素原子が一つもしくは二つのＣ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ７〜Ｃ１１アラルキルで置換されていてもよいアミノ−Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、飽和３〜８員環状アミノ−Ｃ１〜Ｃ３アルキル基等が挙げられる。
代表的な置換アルキル基を挙げれば、トリフルオロメチル、トリフルオロエチル、トリクロロメチルなどの炭素原子数１〜３のポリハロアルキル基、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシエチルなどの炭素原子数１〜６のヒドロキシアルキル基、アミノメチル、アミノエチル、１−アミノエチル、などの炭素原子数１〜５のアミノアルキル基、メトキシエチル、エトキシエチル、メトキシプロピルなどの炭素原子数１〜６のアルコキシアルキル基、カルボキシエチル、カルボキシプロピルなどの炭素原子数２〜６のカルボキシアルキル基、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、メトキシカルボニルエチルなどの炭素原子数３〜７のアルコキシカルボニルアルキル基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フェニルブチル、１−もしくは２−ナフチルメチルなどの、フェニルまたはナフチル−Ｃ１〜Ｃ５アルキル基（フェニルまたはナフチル部分にＣ１〜Ｃ３アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、水酸基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基などの置換基を有していてもよい）、カルバモイルメチル、カルバモイルエチル、ジメチルカルバモイルメチルなどの、窒素原子が一つもしくは二つのＣ１〜Ｃ３アルキルで置換されていてもよいカルバモイル−Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、アミノエチル、アミノプロピル、ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノプロピル、ジエチルアミノエチル、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノエチルなどの、窒素原子が一つもしくは二つのＣ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ７〜Ｃ１１アラルキルで置換されていてもよいアミノ−Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、１−ピロリジニルエチル、ピペリジノエチルなどの飽和３〜８員環状アミノ−Ｃ１〜Ｃ３アルキル基等が挙げられ、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ３５、およびＲ３６においてはフェニルエチルなどのフェニル−Ｃ１〜Ｃ５アルキル基が挙げられる。
置換アルケニル基、置換アルキニル基、置換アルコキシカルボニル基、または置換アルカノイル基に於ける置換基も上記置換アルキル基と同様の基が挙げられる。これらの基の置換基も、１または複数、同一または異なって置換することができる。
アラルキル基としては、フェニル基または多環式炭化水素環基で置換されたアルキル基が挙げられる。
Ｒ６とＲ７、Ｒ１０とＲ１１、Ｒ１５とＲ１６、Ｒ１７とＲ１８、またはＲ３５とＲ３６が互いに結合して、それらが結合する窒素原子と共に形成する、環中に他のヘテロ原子を含んでもよい飽和３〜８員環の環状アミノ基のヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、および硫黄原子が挙げられる。そのような飽和３〜８員環の環状アミノ基として具体的には、例えば窒素原子を１〜３個含む３〜８員環基または窒素原子１個および酸素原子１個を含む３〜８員環基が挙げられ、さらに具体的には１−ピロリジニル、１−ピペリジノ、１−ピペラジニル、モルホリノ、１−（４−メチル）ピペラジニル等が挙げられる。
式：−Ｓ（Ｏ）２Ｒ１２、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ１３、または−Ｓ（Ｏ）２Ｒ１３ａで表される基としては、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基などの炭素原子数８以下のアルキルスルホニル基が挙げられ、式：−Ｓ（Ｏ）ｎＲ１２で表される基としては、上記の基のほか対応するアルキルスルフィニル基またはアルキルチオ基、またはスルホ基を挙げることができる。
低級アルキレン基、アルケニレン基、およびアルキニレン基の置換基としては、１または複数、同一または異なって、例えばアルキル基、置換アルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、置換もしくは無置換の飽和複素環基、カルボキシル基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のナフチル基、置換もしくは無置換の不飽和複素環基、および式：−Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１６、または−ＣＯＮ（Ｒ４５）Ｒ４６で表される基などが挙げられる。
Ｒ４５およびＲ４６としては、前記Ｒ１５およびＲ１６と同様の基が挙げられる。
低級アルキレン基としては、例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等の炭素原子数１０以下のアルキレン基が挙げられる。
式：
Figure 2004007464
で表される基としては例えば、
Figure 2004007464
で表される基が挙げられる。
式（１）で表される化合物は、光学的非対称中心を有するものも含まれ、したがって、これらはラセミ体としてまたは、光学活性の出発材料が用いられた場合には光学活性型で得ることができる。必要であれば、得られたラセミ体を、物理的にまたは化学的にそれらの光学対掌体に自体公知の方法によって分割することができる。好ましくは、光学活性分割剤を用いる反応によってラセミ体からジアステレオマーを形成する。異なるかたちのジアステレオマーは、例えば分別結晶などの自体公知の方法によって分割することができる。
「プロドラッグ」としては、生体内で容易に加水分解され、式（１）で表される化合物を再生するものが挙げられ、例えばカルボキシル基を有する化合物であればそのカルボキシル基がアルコキシカルボニル基となった化合物、アルキルチオカルボニル基となった化合物、またはアルキルアミノカルボニル基となった化合物が挙げられる。
また、例えばアミノ基を有する化合物であれば、そのアミノ基がアルカノイル基で置換されアルカノイルアミノ基となった化合物、アルコキシカルボニル基により置換されアルコキシカルボニルアミノ基となった化合物、アシロキシメチルアミノ基となった化合物、またはヒドロキシルアミンとなった化合物が挙げられる。
また例えば水酸基を有する化合物であれば、その水酸基が前記アシル基により置換されてアシロキシ基となった化合物、リン酸エステルとなった化合物、またはアシロキシメチルオキシ基となった化合物が挙げられる。
また例えばスルホ基を有する化合物であれば、そのスルホ基がアルキル基により置換されスルホン酸エステルとなった化合物が挙げられる。
また例えば、ホスホノ基を有する化合物であれば、そのホスホノ基が１つまたは２つのアルキル基により置換され、ホスホン酸モノエステルまたはホスホン酸ジエステルとなった化合物が挙げられる。
これらのプロドラッグ化に用いる基のアルキル部分としては前記アルキル基が挙げられ、そのアルキル基は置換（例えば炭素原子数１〜６のアルコキシ基等により）されていてもよい。好ましい例としては、次のものが挙げられる。
（ａ）例えばカルボキシル基がアルコキシカルボニル基となった化合物についての例としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどの低級（例えば炭素数１〜６）アルコキシカルボニル、メトキシメトキシカルボニル、エトキシメトキシカルボニル、２−メトキシエトキシカルボニル、２−メトキシエトキシメトキシカルボニル、ピバロイロキシメトキシカルボニルなどのアルコキシ基により置換された低級（例えば炭素数１〜６）アルコキシカルボニルが挙げられる。
（ｂ）例えばスルホ基がアルコキシスルホニル基となった化合物についての例としてはメトキシスルホニル、エトキシスルホニルなどの低級（例えば炭素数１〜６）アルコキシスルホニル、メトキシメトキシスルホニル、エトキシメトキシスルホニル、２−メトキシエトキシスルホニル、２−メトキシエトキシメトキシスルホニル、ピバロイロキシメトキシスルホニルなどのアルコキシ基により置換された低級（例えば炭素数１〜６）アルコキシスルホニルが挙げられる。
（ｃ）例えばホスホノ基がアルコキシホスホリル基となった化合物についての例としてはメトキシ（ヒドロキシ）ホスホリル、エトキシ（ヒドロキシ）ホスホリル、ジメトキシホスホリル、ジエトキシホスホリル、などの低級（例えば炭素数１〜６）（モノ−またはジ−）アルコキシホスホリルや、メトキシメトキシ（ヒドロキシ）ホスホリル、エトキシメトキシ（ヒドロキシ）ホスホリル、２−メトキシエトキシ（ヒドロキシ）ホスホリル、２−メトキシエトキシメトキシ（ヒドロキシ）ホスホリル、ピバロイロキシメトキシ（ヒドロキシ）ホスホリル、ビス（メトキシメトキシ）ホスホリル、ビス（エトキシメトキシ）ホスホリル、ビス（２−メトキシエトキシ）ホスホリル、ビス（ピバロイロキシメトキシ）ホスホリル、などのアルコキシ基により置換された低級（例えば炭素数１〜６）（モノ−またはジ−）アルコキシホスホリルが挙げられる。
式（１）で表される化合物もしくはそのプロドラッグは、必要に応じて医薬として許容される塩とすることができる。そのような塩としては、たとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸などの鉱酸との塩；ギ酸、酢酸、フマル酸、マレイン酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、アスパラギン酸、グルタミン酸などの有機カルボン酸との塩；メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、ジヒドロキシベンゼンスルホン酸などのスルホン酸との塩；および、
たとえばナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩；アンモニウム塩；トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミンとの塩等が挙げられる。
また、式（１）で表される化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩は、それらの無水物、水和物または溶媒和物であってもよい。
本発明化合物は、これらを医薬として用いるにあたり経口的または非経口的に投与することができる。すなわち通常用いられる投与形態、例えば粉末、顆粒、錠剤、カプセル剤、シロップ剤、懸濁液等の剤型で経口的に投与することができ、あるいは、例えば、その溶液、乳剤、懸濁液の剤型にしたものを注射の型で非経口投与することができる。坐剤の型で直腸投与することもできる。前記の適当な投与剤型は、例えば、許容される通常の担体、賦型剤、結合剤、安定剤、希釈剤に本発明化合物を配合することにより製造することができる。注射剤型で用いる場合には、例えば、許容される緩衝剤、溶解補助剤、等張剤を添加することもできる。投与量および投与回数は、例えば、対象疾患、症状、年齢、体重、投与形態によって異なるが、通常は成人に対し１日あたり０．１〜２０００ｍｇ好ましくは１〜２００ｍｇを１回または数回（例えば２〜４回）に分けて投与することができる。
式（１）で表される化合物は公知化合物から公知の合成方法を組み合わせることにより合成することができ、例えば、以下に示す方法により合成することができる。
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わし、Ｌは塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基などの置換もしくは無置換のアルキルスルホニルオキシ基、またはベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基などの置換もしくは無置換のアリールスルホニルオキシ基を表わす。］
式（２）で表されるイミダゾール誘導体と式：Ｌ−Ｘ２−Ｙ２で表わされる化合物を反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフランなど）中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（１）で表される化合物を製造することができる。
上記反応において用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなど）、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。
また、上記反応において用いる式（２）で表されるイミダゾール誘導体は、公知化合物から公知の合成方法を組み合わせることにより合成でき、例えば、以下に示す方法により合成することができる。
式（２）におけるＸ１が式：−Ｓ−Ｘ１ａ−で表される基である、式（２ａ）で表される化合物（Ｘ１ａはＸ１のうち、この場合の−Ｓ−のように特定の基で明示された部分以外の部分を表わす）は、例えば、以下に示す合成法（Ａ１）または（Ａ２）により製造することができる。
合成法（Ａ１）
Figure 2004007464
［式中、Ｘ１ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｙ１、Ｌ、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わす］
式（３）で表される化合物から、文献（例えば、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９５２，２２６）記載の方法に準じて、式（２ａ）で表される化合物を製造することができる。即ち、例えば式（３）で表される化合物またはその塩を、水溶媒中、加熱条件下にて、チオシアン化カリウムと反応させることにより、式（４）で表されるチオイミダゾール誘導体を合成することができる。つづいて式（４）で表される化合物と式：Ｌ−Ｘ１ａ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされる化合物を反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、トルエン、アセトニトリルなど）中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（２ａ）で表される化合物を製造することができる。
式（４）で表される化合物と式：Ｌ−Ｘ１ａ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされる化合物との反応は、通常のＳ−アルキル化の条件に従って実施することができ、使用する塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなど）、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。
合成法（Ａ２）
Figure 2004007464
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｙ１、Ｌ、Ｑ、Ｍ、およびＸ１ａは前記と同じ意味を表わし、Ｂは、水素原子もしくはイミダゾール環窒素原子の保護基（例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基など）を表わす。］
式（５）で表される化合物から、文献（例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９５，６２９６、Ｓｙｎｌｅｔｔ，１９９５，２３９）記載の方法に準じて、式（６）で表される化合物を製造することができる。即ち、式（５）で表される化合物を、反応に不活性な溶媒およびアルカリ性水溶液の混合溶媒中、もしくは、有機塩基存在下、反応に不活性な溶媒と水の混合溶媒中、加熱条件下にて、クロロチオギ酸フェニルと反応させることにより、式（６）で表される化合物を合成することができる。さらに、得られる式（６）で表される化合物と式：Ｌ−Ｘ１ａ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされる化合物を前述の合成法（Ａ１）と同様に反応させた後、イミダゾール環窒素原子の保護基Ｂの脱保護反応を行うことにより、式（２ａ）で表される化合物を製造することができる。また、式中のＢが水素原子の場合、式（５）で表される化合物を上記と同様にクロロチオギ酸フェニルと反応させ、続いてアルコール性溶媒（例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノールなど）中、有機塩基の存在下、室温〜溶媒沸点条件下にて反応させることにより、式（６）で表される化合物を合成することができる。これについても、同様に式：Ｌ−Ｘ１ａ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされる化合物との反応を行うことにより、式（２ａ）で表される化合物に導くことができる。
上記のクロロチオギ酸フェニルとの反応に用いる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒が挙げられる。またアルカリ性水溶液としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムなどの水溶液が挙げられ、有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジンなどが挙げられる。
イミダゾール環窒素原子の保護基Ｂの除去方法としては、例えば、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液、あるいは塩酸やトリフルオロ酢酸等の酸を用いた方法を用いることができる。
また、Ｒ１およびＲ２の種類によっては、式（１ａ）で表される化合物（Ｘ１ａは前記と同じ意味を表わす）は、例えば、合成法（Ａ３）、（Ａ４）、または（Ａ５）により製造することができる。
合成法（Ａ３）
Figure 2004007464
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｌ、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わす。］
式（１ａ）で表される化合物は、文献（例えば、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，１３４５（１９５６））記載の方法に準じて合成することができる。即ち、式（７）で表される化合物を、アルコール性溶媒（例えば、メタノール、エタノールまたはブチルアルコールなど）と酸性水溶液（例えば、塩酸水溶液など）または有機酸（例えば、酢酸など）との混合溶媒中、室温〜溶媒沸点条件下にて、チオシアン化カリウムおよび式：Ｈ２Ｎ−Ｘ２−Ｙ２で表わされるアミンと反応させることにより、式（８）で表されるチオイミダゾール誘導体を合成することができる。さらに、得られる式（８）で表される化合物と式：Ｌ−Ｘ１ａ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされる化合物を前述の合成法（Ａ１）と同様に反応させることにより、式（１ａ）で表される化合物を製造することができる。
合成法（Ａ４）
Figure 2004007464
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｌ、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わし、Ｂ１はイミダゾール環窒素原子の保護基（例えば、トリフェニルメチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基もしくはＮ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニル基など）を表わす。］
式（１０）で表される化合物は、以下に示す工程（Ｂ１）、（Ｂ２）または（Ｂ３）により製造することができる。
工程（Ｂ１）：
式（５ａ）で表される化合物と式：Ｌ−Ｘ２−Ｙ２で表わされる化合物を、反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、トルエン、アセトニトリルなど）中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（１０）で表される置換イミダゾール誘導体を製造することができる。
工程（Ｂ２）：
式（５ａ）で表される化合物と式：ＨＯ−Ｘ２−Ｙ２で表わされる化合物を、アゾジカルボン酸ジエステル誘導体（例えばアゾジカルボン酸ジエチルやアゾジカルボン酸ジイソプロピルなど）およびトリフェニルホスフィンの存在下、反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタンなど）中、室温または加熱条件下にて反応させることにより式（１０）で表される化合物を合成することができる。
工程（Ｂ３）：
式（９）で表される化合物と式：Ｌ−Ｘ２−Ｙ２で表わされる化合物を、反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、トルエン、アセトニトリルなど）中、塩基の存在下または非存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させた後、イミダゾール環窒素原子の保護基Ｂの脱保護反応を行うことよって、式（１０）で表される化合物を合成することができる。
次に、式（１０）で表される化合物を、前述の合成法（Ａ２）と同様な手法にてクロロチオギ酸フェニルと反応させることにより、式（１１）で表される化合物を合成することができる。さらに、得られる式（１１）で表される化合物と式：Ｌ−Ｘ１ａ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされる化合物を前述の合成法（Ａ１）と同様に反応させることにより、式（１ａ）で表される化合物を製造することができる。
工程（Ｂ１）および（Ｂ３）に使用する塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。またアルカリ性水溶液を用いる場合には相間移動触媒（例えば、硫酸水素ｎ−テトラブチルアンモニウム、臭化ｎ−テトラブチルアンモニウムなど）を併用することができる。
イミダゾール環窒素原子の保護基Ｂ１の除去としては、塩酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸等の酸を用いた方法、または水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液、またはアンモニア溶液を用いた方法が挙げられる。
合成法（Ａ５）
Figure 2004007464
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｌ、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わし、Ｌ１は塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基などの置換もしくは無置換のアルキルスルホニルオキシ基、またはベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基などの置換もしくは無置換のアリールスルホニルオキシ基を表わす。］
式（１２）で表される化合物と式：Ｈ２Ｎ−Ｘ２−Ｙ２で表わされるアミンを、反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、エタノール、イソプロピルアルコールなど）中、塩基の存在下または非存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させた後、好ましくは通常の塩酸塩化の手法により塩化させることにより、式（１３）で表されるα−アミノケトン誘導体またはその塩酸塩を合成することができる。さらに、得られる式（１３）で表される化合物またはその塩酸塩を前述の合成法（Ａ１）と同様な手法にてチオシアン化カリウムと反応させることにより、式（１１）で表されるチオイミダゾール誘導体を合成することができる。さらに、この化合物は、前述の合成法（Ａ１）と同様な条件にて式：Ｌ−Ｘ１ａ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされる化合物と反応させることにより、式（１ａ）で示される化合物を製造することができる。
α−アミノケトン誘導体の合成に使用する塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）が挙げられる。
式（１）および（２）におけるＸ１が式：−Ｎ（Ｗ）−Ｘ１ａ−で表される基である、式（１ｂ）および（１６）で表される化合物（Ｘ１ａは前記と同じ意味を表わし、Ｗは式：−（ＣＨ）ｑ−Ｗ１で表される基を表わす。ここでＷ１は、水素原子、または置換もしくは無置換の低級アルキル基を表わし、ｑは０〜５の整数を表わす。）は、例えば、以下に示す合成法（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｃ３）、または（Ｃ４）により製造することができる。
合成法（Ｃ１）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｗ、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｑ、Ｍ、およびＬは前記と同じ意味を表わす。］
式（１４）で表される２−アミノイミダゾール誘導体と式：Ｌ−Ｘ２−Ｙ２で表わされる化合物を反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンなど）中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、通常式（１５）で表される化合物を製造することができる。さらに、得られる式（１５）で表される化合物と式：Ｌ−Ｘ１ａ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされる化合物を反応に不活性な溶媒中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（１ｂ）で表される化合物を製造することができる。また、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｗ、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｑ、Ｍ、およびＬの種類によってはイミダゾール環上のアミノ基の方が反応性が高い化合物もあり、その場合には式（１４）で表される化合物と式：Ｌ−Ｘ１ａ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表される化合物を上記と同様な条件にて反応させることにより式（１６）で表わされる化合物を合成した後、式：Ｌ−Ｘ２−Ｙ２で表わされる化合物と上記と同様な条件にて反応させることにより、式（１ｂ）で表される化合物を製造することができる。
上記反応において用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。またアルカリ性水溶液を用いる場合には相間移動触媒（例えば、硫酸水素ｎ−テトラブチルアンモニウム、臭化ｎ−テトラブチルアンモニウムなど）を併用することができる。
合成法（Ｃ２）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｗ、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わし、Ｘ１ｂはＸ１のうち、この場合の−Ｎ（Ｗ）Ｃ（＝Ｏ）−のように特定の基で明示された部分以外の部分を表わす。］
式（１ｂ）および（１６）におけるＸ１ａが式：−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ１ｂ−で表される基である、式（１７）および（１８）で表される化合物の合成は、例えば、式（１５）および式（１４）で表わされる化合物を縮合剤の存在下、不活性溶媒中、室温または加熱条件下にて、式：ＨＯＣ（＝Ｏ）−Ｘ１ｂ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表される化合物と反応させることにより、実施することができる。あるいは、式（１５）および式（１４）で表わされる化合物と式：ＨＯＣ（＝Ｏ）−Ｘ１ｂ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表される化合物の酸ハロゲン化物または酸無水物を塩基の存在下、不活性溶媒中、室温または加熱条件下にて反応させることによって、式（１７）および式（１８）で表される化合物を製造することができる。
上記反応に用いる縮合剤としては、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＰＣ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）−カルボジイミド（ＷＳＣ）、ベンゾトリアゾール−１−イル−トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム・ヘキサフルオロリン化物塩（ＢＯＰ）、ジフェニルホスホニルジアミド（ＤＰＰＡ）、Ｎ，Ｎ−カルボニルジイミダゾール（Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ，Ｅｎｇｌ．，１９６２，３５１）などが用いられ、必要に応じて、例えば、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド（ＨＯＳｕ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、３−ヒドロキシ−４−オキソ−３，４−ジヒドロ−１，２，３−ベンゾトリアジン（ＨＯＯＢｔ）などの添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒、ピリジンなどの塩基性溶媒、またはそれらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムなどの無機塩基、およびトリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基が挙げられる。酸ハロゲン化物としては酸クロリドまたは酸ブロミドが挙げられる。
合成法（Ｃ３）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｗ、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｑ、Ｍ、およびＸ１ｂは前記と同じ意味を表わす。］
式（１ｂ）および（１６）におけるＸ１ａが式：−ＣＨ２−Ｘ１ｂ−で表される基である、式（１９）および（２０）で表される化合物の合成は、例えば、式（１５）および式（１４）で表わされる化合物を還元剤の存在下、不活性溶媒中、室温または加熱下にて、式：ＨＣ（＝Ｏ）−Ｘ１ｂ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表される化合物と反応させることにより、実施することができる。あるいは、式（１５）および式（１４）で表わされる化合物と式：ＨＯＣ（＝Ｏ）−Ｘ１ｂ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされる化合物を前述の合成法（Ｃ２）と同様に反応させた後、得られるアミド体を還元剤の存在下、不活性溶媒中、室温または加熱条件下にて反応させることにより、式（１９）および式（２０）で表される化合物を製造することができる。
アミノイミダゾール誘導体の還元的アルキル化反応に用いる還元剤としては、例えば、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウムなどの複合水素化合物やジボランが挙げられる。また、ナトリウム、ナトリウムアマルガムまたは亜鉛−酸による還元や、鉛、白金を陰極とした電気還元も可能である。縮合後のアミド体の還元剤としては、例えば、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化ホウ素ジルコニウムなどの複合水素化合物やジボランなどのホウ素系還元剤が挙げられ、また、ナトリウム、ナトリウムアマルガムまたは亜鉛等を用いた金属還元なども可能である。上記反応に用いる溶媒としては、例えば、メタノールやエタノールなどのアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸などの酸性溶媒、またはそれらの混合溶媒等が挙げられる。
合成法（Ｃ４）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｗ、Ｘ１ｂ、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わし、Ａｒはフェニル基またはｐ−ニトロフェニルなどのニトロフェニル基を表す。］
式（１ｂ）におけるＸ１ａが式：−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｘ１ｂ−で表される基である、式（２２）で表される化合物は、式（１５）で表される化合物と式（２１ａ）または（２１ｂ）で表される化合物を、反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンなど）中、塩基の存在下または非存在下、０℃〜溶媒の沸点で反応させることにより製造することができる。
上記反応において用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムなど）、有機塩基（例えば、トリエチルアミン、ピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。
上記反応に用いる式（１５）または（１４）で表される化合物のうち、Ｗが置換もしくは無置換の低級アルキル基である化合物は、Ｗが水素原子である式（１５ａ）または（１４ａ）で表される化合物を出発原料として、それぞれ以下に示す合成法により製造することができる。
Figure 2004007464
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ２、Ｙ２、Ｗ、およびＷ１は前記と同じ意味を表わす。］
式（１５ａ）または（１４ａ）で表される化合物と、クロロギ酸エチルまたは式：ＨＯ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｗ１で表される化合物の酸ハロゲン化物または酸無水物を、反応に不活性な溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンなど）中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させた後、得られるカルバメート体またはアミド体を、合成法（Ｃ３）に準じて還元することにより、式（１５）および式（１４）で表される化合物を製造することができる。
上記反応に用いる式（１５ａ）または（１４ａ）で表される２−アミノイミダゾール誘導体は、公知化合物から公知の合成方法を組み合わせることにより合成でき、例えば、以下に示す合成法（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｄ３）、（Ｄ４）、（Ｄ５）、または（Ｄ６）により製造することができる。
合成法（Ｄ１）
Figure 2004007464
［式中、Ｒ１、Ｒ２、およびＬ１は前記と同じ意味を表わし、Ｘ４は水素原子またはグアニジンの窒素原子の保護基（例えば、アセチル基など）を表わす。］
式（１４ａ）で表される化合物は、文献（例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ，，１９９４，７２９９またはＰｏｌ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．，１９９４，１３１７）記載の方法に準じて合成することができる。即ち、式（１２）で表される化合物と式（２３）で表される化合物またはその塩を、不活性な溶媒中、塩基の存在下または非存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（１４ａ）で表される化合物を製造することができる。また、Ｘ４がグアニジンの窒素原子の保護基である場合は、脱保護反応を行うことにより式（１４ａ）で表される化合物を製造することができる。
上記反応に用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、アルカリ金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシドやナトリウムエトキシドなど）、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。また溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール、トルエン、ピリジン、またはそれらの混合溶媒等が挙げられる。
グアニジンの窒素原子の保護基Ｘ４の除去方法としては、例えば、ヒドラジンを用いた分解反応、塩酸または硫酸水等の酸性水溶液を用いた加水分解、または水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いた加水分解が挙げられる。
合成法（Ｄ２）
Figure 2004007464
［式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同じ意味を表わす。］
式（１４ａ）で表される化合物は、シアナミドを用いて、文献（例えば、Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９９，２２５、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９８５，１６２８、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９６９，７７５）記載の方法に準じて合成することができる。また、Ｓ−エチルイソチオウレアなどのＳ−アルキルイソチオウレアを用いて、文献（例えばＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，１９９７，３５８１）記載の方法に準じて行うことができる。即ち、式（３）で表される化合物またはその塩とシアナミドまたはＳ−エチルイソチオウレアなどのＳ−アルキルイソチオウレアを、反応に不活性な溶媒中、塩基の存在下または非存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（１４ａ）で表される化合物を製造することができる。
上記反応に用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、アルカリ金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシドやナトリウムエトキシドなど）、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。また、溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール、トルエン、ピリジン、またはそれらの混合溶媒等が挙げられる。
合成法（Ｄ３）
Figure 2004007464
［式中、Ｒ１は前記と同じ意味を表わす。］
式（１４ａ）で表される化合物のうちＲ２が水素原子である式（１４ｂ）で表される化合物は、文献（例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９７，７９１８、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９８５，１６２８、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，１９６６，１５２）記載の方法に準じて合成することができる。即ち、式（２４）で表される化合物またはその塩とシアナミドを、水溶媒中、ナトリウムアマルガム存在下または非存在下、０℃〜溶媒沸点条件下にて反応させることにより、式（１４ｂ）で示される化合物を製造することができる。
合成法（Ｄ４）
Figure 2004007464
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ２、およびＹ２は前記と同じ意味を表わす。］
式（１３）で表わされる化合物を、前述の合成法（Ｄ２）に準じて、シアナミドまたはＳ−アルキルイソチオウレアと反応させることにより、式（１５ａ）で表される化合物を製造することができる。
合成法（Ｄ５）
Figure 2004007464
［式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同じ意味を表わし、Ｂはイミダゾール環窒素原子の保護基（例えば、トリフェニルメチル基など）を表わし、ＴＭＳはトリメチルシリル基を表わす。］
式（１４ａ）で表される化合物は、文献（例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２０００，２８０６、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，１９９２，４３２７、，１９９７，７６０５）記載の方法に準じて合成することができる。即ち、式（５）で表される化合物を、反応に不活性な溶媒中、ブチルリチウムと−７８℃〜０℃条件下にて作用させた後、ｐ−トルエンスルホニルアジドと反応させることにより、式（２５）で表される２−アジ化イミダゾール誘導体を製造することができる。また、式（２５）で表される化合物は、文献（例えば、Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，１９９６，１３７５）記載の方法に準じて、別途合成することも可能である。即ち、式（５）で表される化合物を、０℃〜溶媒沸点条件下にてブロム化剤（例えば、臭素、Ｎ−ブロモスクシミドなど）と作用させ、得られるブロミドとトリメチルシリルアジドをパラジウム触媒存在下、０℃〜溶媒沸点条件下にて反応させることにより、合成することができる。さらに、得られる式（２５）で表される化合物は、好ましくは保護基Ｂを脱保護した後、水素添加反応条件に付すことより、式（１４ａ）で表される化合物を製造することができる。
合成法（Ｄ６）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ２、Ｙ２、およびＬは前記と同じ意味を表わす。］
式（２６）で表される２−ニトロイミダゾール誘導体と式：Ｌ−Ｘ２−Ｙ２で表わされる化合物を反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンなど）中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（２７）で表される化合物を製造することができる。さらに、得られる上記化合物のニトロ基をアミノ基に還元することにより式（１５ａ）で表わされる化合物を製造することができる。
上記反応において用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。またアルカリ性水溶液を用いる場合には相間移動触媒（例えば、硫酸水素ｎ−テトラブチルアンモニウム、臭化ｎ−テトラブチルアンモニウムなど）を併用することができる。また、ニトロ基の還元反応にはパラジウム触媒（例えば、Ｐｄ−Ｃなど）、白金触媒（例えば、Ｐｔ−ＣやＰｔＯ２など）、ニッケル触媒（例えば、Ｒａｎｅｙ−Ｎｉ）またはロジウムやルテニウムなどの触媒存在下、水素、ギ酸アンモニウムまたは水素化ホウ素ナトリウムなどの水素源と反応させる方法が挙げられる。また、鉄、亜鉛、二塩化スズ等の金属を用いた還元、ハイドロサルファイトナトリウムを用いた還元なども可能である。上記反応に用いる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、酢酸、またはそれらの混合溶媒等が挙げられる。
式（１）におけるＸ１が式：−ＣＨ２−Ｘ１ａ−で表される基である、式（１ｃ）で表される化合物（Ｘ１ａは前記と同じ意味を表わす）は、例えば、以下に示す合成法により製造することができる。
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｑ、Ｍ、およびＬは前記と同じ意味を表わす。］
式（２ｃ）で表される２−アルキルイミダゾール誘導体と式：Ｌ−Ｘ２−Ｙ２で表わされる化合物を反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンなど）中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（１ｃ）で表される化合物を製造することができる。
上記反応に用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。またアルカリ性水溶液を用いる場合には相間移動触媒（例えば、硫酸水素ｎ−テトラブチルアンモニウム、臭化ｎ−テトラブチルアンモニウムなど）を併用することができる。
また、上記反応において式（２ｃ）で表される２−アルキルイミダゾール誘導体は、公知化合物から公知の合成方法を組み合わせることにより合成でき、例えば、以下に示す合成法（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｅ３）、または（Ｅ４）により製造することができる。
合成法（Ｅ１）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わし、Ｒｃはメチル基、エチル基などの低級アルキル基を表し、Ｒｄは水素原子もしくはアセチル基を表す。］
式（２ｃ）で表される化合物は、文献（例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，２０００，１０７１、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，２０００，４１、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９６，３９７、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅ．Ｃｈｅｍ．，１９９４，１１２１）記載の方法に準じて合成することができる。即ち、式（２８）で表される化合物またはその塩と、式（３）で表される化合物またはその塩を、反応に不活性な溶媒中、塩基の存在下または非存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（２ｃ）で表される化合物を製造することができる。また、式（２８）で表される化合物またはその塩と、式（２９）で表される化合物を、反応に不活性な溶媒中、アンモニア水の存在下、加圧もしくは常圧下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることによっても、式（２ｃ）で表される化合物を製造することができる。
上記反応に用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、アルカリ金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシドやナトリウムエトキシドなど）、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。また溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、水、メタノール、エタノール、トルエン、ピリジン、またはそれらの混合溶媒等が挙げられる。
合成法（Ｅ２）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｑ、Ｍ、およびＬ１は前記と同じ意味を表わす。］
式（２ｃ）で表される化合物は、文献（例えば、Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９３，２６２３、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９７，８４４９）記載の方法に準じて合成することができる。即ち、式（３０）で表される化合物またはその塩と、式（１２）で表される化合物を、反応に不活性な溶媒中、塩基の存在下または非存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（２ｃ）で表される化合物を製造することができる。また、式（３０）で表される化合物またはその塩と、式（７）で表される化合物を、反応に不活性な溶媒中、アンモニア水の存在下、加圧もしくは常圧下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることによっても、式（２ｃ）で表される化合物を製造することができる。
上記反応に用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、アルカリ金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシドやナトリウムエトキシドなど）、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。また溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、水、メタノール、エタノール、トルエン、ピリジン、ジクロロメタン、クロロホルムまたはそれらの混合溶媒等が挙げられる。アルカリ性水溶液を用いる場合には、相間移動触媒（例えば、硫酸水素ｎ−テトラブチルアンモニウム、臭化ｎ−テトラブチルアンモニウムなど）を併用することができる。
合成法（Ｅ３）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、ＱおよびＭは前記と同じ意味を表わし、Ｇは水素原子もしくは水酸基の保護基（例えば、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基やベンジル基など）を表わす］
式（３１）で表されるカルボン酸の酸クロリドまたは酸無水物と、式（３）で表される化合物またはその塩を、反応に不活性な溶媒中、塩基の存在下または非存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（３４）で表される化合物を製造することができる。また、式（３１）で表されるカルボン酸の酸クロリドまたは酸無水物と式（３２）で表されるアジド誘導体を、反応に不活性な溶媒中、ホスフィン試薬（例えば、トリメチルホスフィンやトリフェニルホスフィンなど）存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることによっても、式（３４）で表される化合物を製造することができる。さらに、式（３４）で表される化合物は、式（３１）で表されるカルボン酸の酸クロリドまたは酸無水物と式（３３）で表される化合物を、式（３）で表される化合物を用いた反応と同様の条件にて反応させた後、水酸基の保護基Ｇの脱保護、つづく水酸基の酸化を経る経路を用いることによっても合成することができる。
さらに、得られる式（３４）で表される化合物を、文献（例えば、Ｓｙｎｌｅｔｔ，２００１，２１８およびＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．，１９９２，１４９５）記載の方法に準じて反応させることにより、式（２ｃ）で表される化合物を合成することができる。即ち、式（３４）で表される化合物と酢酸アンモニウムまたはアンモニアを、反応に不活性な溶媒中、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（２ｃ）で表される化合物を製造することができる。
アミド結合形成反応に用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、アルカリ金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシドやナトリウムエトキシドなど）、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）が挙げられる。さらに、上記のすべての反応に用いる溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、アセトニトリル、水、メタノール、エタノール、トルエン、ピリジン、ジクロロメタン、クロロホルムまたはそれらの混合溶媒等が挙げられる。
合成法（Ｅ４）
Figure 2004007464
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｑ、Ｍ、およびＬは前記と同じ意味を表わし、Ｂはイミダゾール環窒素原子の保護基（例えば、メトキメチル基、エトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基またはトリフェニルメチル基など）を表わし、Ｌ２はハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基などの置換もしくは無置換のアルキルスルホニルオキシ基、またはベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基などの置換もしくは無置換のアリールスルホニルオキシ基を表わす。］
式（２ｃ）で表される化合物は、文献（例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９５，２９２５、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，１９９６，５５０３、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，１９９４，８５７）記載の方法に準じて合成することができる。即ち、式（５）で表されるイミダゾール誘導体を、反応に不活性な溶媒中、−７８℃〜溶媒の沸点条件下にて強塩基、例えばｎ−ブチルリチウムと作用させた後、式（３５）で表される化合物と反応させることにより、式（３６）で表される化合物を製造することができる。さらに、イミダゾール環窒素原子の保護基Ｂを除去することにより、式（２ｃ）で表わされる化合物を製造することができる。あるいは、式（５）で表される化合物を強塩基と作用させた後、式（３７）で表されるアルデヒド誘導体と作用させることにより、式（３８）で表されるアルコール誘導体を合成し、つづいてイミダゾール環窒素原子の保護基Ｂの脱保護、水酸基の還元的除去を経て、式（２ｃ）で表わされる化合物を製造することができる。また、式（５）で表される化合物を強塩基と作用させた後、式（３９）で表される化合物と作用させることにより、式（４０）で表される化合物を合成し、つづいて保護基Ｂの脱保護、カルボニル基の水酸基への還元、水酸基の還元的除去を経る経路によっても、式（２ｃ）で表わされる化合物を製造することができる。
上記のカルボニル基から水酸基への還元反応に用いる還元剤としては、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、または水素化ホウ素ジルコニウムなどの複合水素化合物やジボランなどのホウ素系還元剤が挙げられる。また、ナトリウム、ナトリウムアマルガム、または亜鉛などを用いた金属還元なども可能である。
また水酸基の還元的除去としては、パラジウム触媒（例えば、Ｐｄ−Ｃなど）、白金触媒（例えば、ＰｔＯ２など）またはロジウムやルテニウムなどの触媒存在下で水素と反応させる方法が挙げられる。溶媒としては、例えば、メタノールやエタノールなどのアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸などの酸性溶媒、またはそれらの混合溶媒等が挙げられる。
イミダゾール環窒素原子の保護基Ｂの除去方法としては、塩酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸等の酸を用いた方法または水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液、またアンモニア溶液を用いた方法を用いることができる。
また、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、およびＺの種類によっては、式（１ｃ）で表される化合物は、例えば、以下に示す合成法（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｆ３）、または（Ｆ４）により製造することができる。
合成法（Ｆ１）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わす。］
前述の合成法（Ｅ３）に準じ、式（３４）で表される化合物と式：Ｈ２Ｎ−Ｘ２−Ｙ２で表わされるアミン誘導体を、反応に不活性な溶媒中、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（１ｃ）で表される化合物を製造することができる。
合成法（Ｆ２）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｘ２、Ｒｃ、Ｒｄ、Ｙ２、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わす。］
前述の合成法（Ｅ１）に準じ、式（２８）で表わされる化合物またはその塩と、式（１３）で表される化合物またはその塩を、反応に不活性な溶媒中、塩基の存在下または非存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（１ｃ）で表される化合物を製造することができる。また、式（１ｃ）で表される化合物は、式（２８）で表される化合物またはその塩と式（２９）で表される化合物および式：Ｈ２Ｎ−Ｘ２−Ｙ２で表わされるアミン誘導体を、反応に不活性な溶媒中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより製造することができる。
合成法（Ｆ３）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｘ２、Ｌ、Ｌ２、Ｑ、Ｍ、およびＹ２は前記と同じ意味を表わす。］
式（１ｃ）で表わされる化合物は、式（１０）で表されるイミダゾール誘導体を出発原料とし、前述の合成法（Ｅ４）に準じて、式（３５）で表される化合物と反応させることにより製造することができる。また、前述の合成法（Ｅ４）と同様な方法にて、式（１０）で表されるイミダゾール誘導体を式（３７）または式（３９）で表される化合物とそれぞれ反応させ、還元還元反応を行うことにより、式（１ｃ）で表わされる化合物を製造することが可能である。
合成法（Ｆ４）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ｂ、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｑ、Ｍ、およびＬは前記と同じ意味を表わす］
式（１ｃ）におけるＸ１ａが式：−ＮＨ−Ｘ１ｂ−で表される基である、式（４５）で表される化合物の合成は、次のようにして行うことができる。即ち、まず式（４３）で表される２−ホルミルイミダゾール誘導体と式：Ｌ−Ｘ２−Ｙ２で表わされる化合物を反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンなど）中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（４４）で表される化合物を製造することができる。さらに、得られる式（４４）で表される２−ホルミルイミダゾール誘導体と式：Ｈ２Ｎ−Ｘ１ｂ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされるアミンを、合成法（Ｃ３）に準じて、還元剤の存在下で反応させることにより、式（４５）で表される化合物を製造することができる。
式（１）におけるＸ１が式：−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｘ１ｂ−で表される基である、式（１ｄ）で表される化合物（Ｘ１ｂは前記と同じ意味を表わす）は、例えば、以下に示す合成法により製造することができる。
Figure 2004007464
「式中Ｒ１、Ｒ２、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｑ、Ｍ、およびＬは前記と同じ意味を表わし、Ｘ１ｂは前記のＸ１のうち、この場合の−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−のように特定の基で明示された部分以外の部分を表わす］
式（４４）で表される２−ホルミルイミダゾール誘導体のホルミル基をカルボン酸へと酸化し、得られる式（４６）で表される２−ヒドロキシカルボニルイミダゾール誘導体と式：Ｈ２Ｎ−Ｘ１ｂ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされるアミンを、合成法（Ｃ２）と同様に縮合させることにより、式（１ｄ）で表される化合物を製造することができる。
上記の酸化反応としては、亜塩素酸ナトリウム（例えば、２−メチル２−ブテン、リン酸二水素ナトリウム共存下）を用いる反応、過マンガン酸塩（例えば、過マンガン酸カリウム）を用いる反応、クロム酸やクロム酸塩（例えば、Ｊｏｎｅ’ｓ試薬など）を用いる反応、銀塩（例えば、硝酸銀、酸化銀など）を用いる反応、あるいはｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを用いる反応が挙げられる。
式（２）におけるＸ１が式：−Ｏ−Ｘ１ａ−で表される基である、式（２ｅ）で表される化合物（Ｘ１ａはＸ１と同様に置換もしくは無置換の低級アルキレン鎖を表わす）は、例えば、以下に示す合成法（Ｇ１）および（Ｇ２）により製造することができる。
合成法（Ｇ１）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｌ２、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わし、Ｂはイミダゾール環窒素原子の保護基（例えば、メトキメチル基、エトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、トリフェニルメチル基、またはｔ−ブトキシカルボニル基など）を表わす。］
式（４７）で表される化合物と式：ＨＯ−Ｘ１ａ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされる化合物を、反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフランなど）中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（４８）で表される化合物を製造することができる。さらに、得られる式（４８）で表される化合物のイミダゾール環窒素原子の保護基Ｂを除去することにより、式（２ｅ）で表される化合物を製造することができる。
上記反応に用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、またはアルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。またアルカリ性水溶液を用いる場合には相間移動触媒（例えば、硫酸水素ｎ−テトラブチルアンモニウム、臭化ｎ−テトラブチルアンモニウムなど）を併用することもできる。
イミダゾール環窒素原子の保護基Ｂの除去としては、例えば、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液、または塩酸やトリフルオロ酢酸等の酸を用いた方法が挙げられる。
合成法（Ｇ２）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わす。］
式（２ｅ）で表される化合物は、文献（例えば、Ｐｈａｒｍａｚｉｅ，１９９７，５７８）記載の方法に準じて合成することができる。即ち式（５ａ）で表されるイミダゾール誘導体と硝酸を、酢酸中、０℃〜室温条件下にて反応させることにより、式（４９）で表される化合物を合成することができる。さらに、得られる式（４９）で表される化合物と式：ＨＯ−Ｘ１ａ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされる化合物を、反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフランなど）中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（２ｅ）で表される化合物を製造することができる。
上記反応に用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、アルカリ金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシドやナトリウムエトキシドなど）、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。また、アルカリ性水溶液を用いる場合には相間移動触媒（例えば、硫酸水素ｎ−テトラブチルアンモニウム、臭化ｎ−テトラブチルアンモニウムなど）を併用することができる。
また、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｑ、およびＭの種類によっては、式（１ｅ）で表される化合物は、合成法（Ｈ１）により製造することができる。
合成法（Ｈ１）
Figure 2004007464
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１ａ、Ｙ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｌ、Ｌ２、Ｑ、およびＭは前記と同じ意味を表わす。］
式（４３ａ）で表される化合物と式：Ｌ−Ｘ２−Ｙ２で表わされる化合物を、反応に不活性な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフランなど）中、塩基の存在下、０℃〜溶媒の沸点条件下にて反応させることにより、式（５０）で表される化合物を合成することができる。つづいて、合成法（Ｇ１）に準じ、塩基の存在下、式（５０）で表される化合物と式：ＨＯ−Ｘ１ ａ−Ｙ１−Ｑ−Ｍで表わされる化合物を反応させることにより、式（１ｅ）で表される化合物を製造することができる。
上記反応に用いる塩基としては、例えば、無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなど）またはその水溶液、アルカリ金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシドやナトリウムエトキシドなど）、有機塩基（例えば、トリエチルアミンやピリジンなど）、アルカリ金属水素化物（例えば，水素化カリウムや水素化ナトリウムなど）が挙げられる。また、アルカリ性水溶液を用いる場合には相間移動触媒（例えば、硫酸水素ｎ−テトラブチルアンモニウム、臭化ｎ−テトラブチルアンモニウムなど）を併用することができる。
なお、以上説明した反応において、特定の保護基を例示した場合に限らず、各出発化合物がカルボキシル基や水酸基、アミノ基のような、反応に活性な基を有する場合には、これらの基を予め適当な保護基で保護しておき、本反応を実施した後に保護基を除去することにより、目的化合物を製造することができる。保護、脱保護の方法としては各々の保護基に応じ、文献（例えば、Ｇｒｅｅｎ，Ｔ．Ｗ．およびＷｕｔｓ，Ｐ．Ｇ．Ｍ．，Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．（１９９９））記載の方法により行うことができる。
以下に本発明を、参考例、実施例および試験例により、さらに具体的に説明するが、本発明はもとよりこれに限定されるものではない。尚、以下の参考例および実施例において示された化合物名は、必ずしもＩＵＰＡＣ命名法に従うものではない。
ＬＣ／ＭＳ条件は以下のとおりであり、分析はすべてこの方法を用いて行った。
カラム：オクタデシル基化学結合型シリカ（ＯＤＳ）（商品名 ＣｏｍｂｉＳｃｒｅｅｎ ＯＤＳ−Ａ（株式会社ワイエムシィ））長さ５０ｍｍ×内径４．６ｍｍ、粒径５μｍ、細孔１２０オングストローム
流速：３．５ｍｌ／分
移動相：
移動相Ａ（０．０５％トリフルオロ酢酸水溶液）
移動相Ｂ（０．０３５％トリフルオロ酢酸アセトニトリル溶液）
各時間における移動相ＡとＢの配分は以下のとおりである。
経過時間（分）：移動相Ａ／移動相Ｂ
０ →０．５：９０／１０
０．５→４．２：９０／１０→１／９９
４．２→４．４： １／９９
４．４→４．８： １／９９→９９／１
４．８→６．３：９９／ １
６．３→６．４：９９／１→１００／ ０
参考例１
２−（ブロモメチル）安息香酸メチルの合成
２−メチル安息香酸メチル（２０．０ｇ，１３３ｍｍｏｌ）の四塩化炭素（２００ｍｌ）溶液に、Ｎ−ブロモスクシミド（２６．１ｇ，１４６ｍｍｏｌ）と触媒量の２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）（２．１９ｇ，１３．３ｍｍｏｌ）を加え、３時間還流した。反応後、反応液を濾過した後、水に注ぎ、クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１で溶出）で精製することにより、２−（ブロモメチル）安息香酸メチル（３２．０ｇ，ｑｕａｎｔ．）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３３−７．５５（ｍ，３Ｈ），４．９７（ｓ，２Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ）．
（ａ） ２−［（１Ｈ−イミダゾール−２−イルチオ）メチル］安息香酸メチルの合成
２−メルカプトイミダゾール（３．００ｇ，３０．０ｍｍｏｌ）と２−（ブロモメチル）安息香酸メチル（９．８０ｇ，３３．０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（６．０６ｇ，５９．９ｍｍｏｌ）を加え、８０℃にて３時間攪拌した。反応後、０℃まで冷却し、飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を水、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９８／２で溶出）で精製することにより、２−［（１Ｈ−イミダゾール−２−イルチオ）メチル］安息香酸メチル（３．２６ｇ，４３．８％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１２．１５（ｂｒ，１Ｈ），７．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．４３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，７．７Ｈｚ），７．３５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ１＝７．７，７．７Ｈｚ），７．１０（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．９３（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．５４（ｓ，２Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２４９．０，２．２８分
（ｂ） ２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］−チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−［（１Ｈ−イミダゾール−２−イルチオ）メチル］安息香酸メチル（３．２６ｇ，１３．１ｍｍｏｌ）と１−クロロメチルナフタレン（２．５５ｇ，１４．４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（５．４４ｍｇ，３９．４ｍｍｏｌ）を加え、６０℃にて４時間攪拌した。反応後、０℃まで冷却し、飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を水、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５０／５０で溶出）で精製することにより、２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］−チオ｝メチル）安息香酸メチル（４．７２ｇ，９２．５％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．００（ｍ，４Ｈ），７．０５−７．６０（ｍ，８Ｈ），６．６９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．３９（ｓ，２Ｈ），４．５６（ｓ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３８９．１，３．１３分
（ｃ） ２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］−チオ｝メチル）安息香酸の合成
２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］−チオ｝メチル）安息香酸メチル（４．７２ｇ，１２．１ｍｍｏｌ）をメタノール（１００ｍｌ）に溶解させ、これに室温にて４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１２ｍｌ）を加えた後、６０℃にて２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣に０℃にて２Ｍ塩酸水を加え、溶液のｐＨを４前後とし、クロロホルムにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣にジエチルエーテルを加え、生じた固体を濾取することにより、２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］−チオ｝メチル）安息香酸（２．６１ｇ，５７．４％）を得た。；融点：１７２．５℃（分解）．１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．００（ｍ，４Ｈ），７．３０−７．６０（ｍ，５Ｈ），７．２４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２，１．７Ｈｚ），７．１４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），７．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），６．７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．３９（ｓ，２Ｈ），４．６０（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３７５．４，２．９９分
（ａ） ２−｛［（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル｝安息香酸メチルの合成
実施例１（ｂ）の方法に準じて、２−［（１Ｈ−イミダゾール−２−イルチオ）メチル］安息香酸メチルと塩化ベンジルとの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９０−８．０５（ｍ，１Ｈ），７．１５−７．４０（ｍ，６Ｈ），６．８７−７．００（ｍ，２Ｈ），６．８１（ｂｒ，１Ｈ），４．７８（ｓ，２Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），３．９０（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３３９．２，３．４５分
（ｂ） ２−｛［（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル｝安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−｛［（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル｝安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．６８（ｂｒ，１Ｈ），７．２５−７．５０（ｍ，６Ｈ），６．９７−７．１０（ｍ，３Ｈ），６．７９（ｓ，１Ｈ），４．９４（ｓ，２Ｈ），４．５２（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３２５．２，３．１８分
（ａ） ２−（｛［１−（１，１’−ビフェニル−２−イルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］−チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−［（１Ｈ−イミダゾール−２−イルチオ）メチル］安息香酸メチル（２００ｍｇ，０．８０５ｍｍｏｌ）と２−（ブロモメチル）−ビフェニル（２２０ｍｇ，０．８８６ｍｍｏｌ）のアセトン（１０ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（３３０ｍｇ，２．４２ｍｍｏｌ）を加え、室温にて４時間攪拌した。反応後、０℃まで冷却し、飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を水、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５０／５０で溶出）で精製することにより、２−（｛［１−（１，１’−ビフェニル−２−イルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］−チオ｝メチル）安息香酸メチル（３２３ｍｇ，９６．７％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．８５−７．９５（ｍ，１Ｈ），６．９５−７．４５（ｍ，１２Ｈ），６．６８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．５９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），４．６５（ｓ，２Ｈ），４．５３（ｓ，２Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４１４．９，３．６７分
（ｂ） ２−（｛［１−（１，１’−ビフェニル−２−イルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］−チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［１−（１，１’−ビフェニル−２−イルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］−チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．１５−７．５０（ｍ，１２Ｈ），６．９０（ｂｒ，２Ｈ），６．４９（ｓ，１Ｈ），４．８７（ｓ，２Ｈ），４．４４（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４００．９，３．５４分
（ａ）ｔｅｒｔ−ブチル （２−メルカプト−１Ｈ−イミダゾール−４−イル）メチルカルバメートの合成
１，３−ジアミノアセトン二塩酸塩（２００ｍｇ，１．１２ｍｍｏｌ）の水溶液（２０ｍｌ）とチオシアン化カリウム（１３４ｍｇ，１．３８ｍｍｏｌ）を加え、３時間還流した。反応後、溶媒を減圧留去して得られた残渣にイソプロピルアルコールを加えた後、混合液を濾過し、濾液の溶媒を減圧留去した。得られた固体をテトラヒドロフラン（５ｍｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）の混合溶液に溶解した。これにトリエチルアミン（０．６４ｍＬ，４．６ｍｍｏｌ）と二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（２７４ｍｇ，１２．６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３ｍｌ）を加え、６０℃にて２時間攪拌した。反応後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝２０／１で溶出）で精製することにより、ｔｅｒｔ−ブチル （２−メルカプト−１Ｈ−イミダゾール−４−イル）メチルカルバメート（１６４ｍｇ，６４．９％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１２．００（ｂｒ，２Ｈ），７．０５（ｂｒ，１Ｈ），６．５５（ｓ，１Ｈ），３．８８（ｓ，２Ｈ），１．３６（ｓ，９Ｈ）．
（ｂ） ２−（［（４−｛［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］メチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル）安息香酸メチルの合成
実施例１（ａ）の方法に準じて、ｔｅｒｔ−ブチル （２−メルカプト−１Ｈ−イミダゾール−４−イル）メチルカルバメートと２−（ブロモメチル）安息香酸メチルとの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．２７−７．４５（ｍ，３Ｈ），６．８６（ｓ，１Ｈ），５．０７（ｂｒ，１Ｈ），４．５４（ｓ，２Ｈ），４．１９（ｓ，２Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），１．４４（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３７８．２，２．９２分
（ｃ） ２−（｛［４−｛［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］メチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例１（ｂ）の方法に準じて、２−（［（４−｛［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］メチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル）安息香酸メチルと１−（クロロメチル）−ナフタレンとの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．００（ｍ，４Ｈ），７．２５−７．６５（ｍ，６Ｈ），７．０６（ｂｒ，１Ｈ），６．８６（ｓ，１Ｈ），６．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），５．３３（ｓ，２Ｈ），４．５２（ｓ，２Ｈ），３．９９（ｂｒ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），１．３３（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５１８．２，３．６８分
（ｄ） ２−（｛［４−（アミノメチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−（｛［４−｛［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］メチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（８１０ｍｇ，１．５６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１０ｍｌ）溶液にトリフルオロ酢酸（１ｍｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧留去して得られた残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、２−（｛［４−（アミノメチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（６１０ｍｇ，９３．４％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．００（ｍ，４Ｈ），７．２５−７．６５（ｍ，６Ｈ），６．８９（ｓ，１Ｈ），６．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．３２（ｓ，２Ｈ），４．５（ｓ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ）．
（ｅ）２−（｛［４−｛［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］メチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−｛［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］メチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．８０−８．００（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．６０（ｍ，６Ｈ），７．０５（ｂｒ，１Ｈ），６．８５（ｓ，１Ｈ），６．８２（ｂｒ，１Ｈ），５．３４（ｓ，２Ｈ），４．６０（ｓ，２Ｈ），３．９９（ｂｒ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），１．３３（ｓ，９Ｈ）．
２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４−（１−ピペリジニルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
２−（｛［４−（アミノメチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（８８．０ｍｇ，０．２１１ｍｍｏｌ）と１−ブロモ−５−クロロペンタン（４５．２ｍｇ，０．２４４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍｌ）混合溶液に、炭酸カリウム（９２．０ｍｇ，０．６６６ｍｍｏｌ）を加え、８０℃にて１．５時間攪拌した。反応後、０℃まで冷却し、飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を水、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９７／３で溶出）で精製し、得られた油状物質をメタノール（４ｍｌ）に溶解させ、これに室温にて４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１ｍｌ）を加えた後、６０℃にて２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣に０℃にて２Ｍ塩酸水を加え、溶液のｐＨを７前後とし、クロロホルムにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４−（１−ピペリジニルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸（２８．７ｍｇ，２８．８％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．８０−８．００（ｍ，４Ｈ），７．２５−７．６５（ｍ，６Ｈ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．４７（ｓ，２Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），４．０７（ｂｒ，２Ｈ），３．２８（ｂｒ，２Ｈ），２．７８（ｂｒ，２Ｈ），１．６０−１．９０（ｍ，４Ｈ），１．２０−１．４０（ｍ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４７４．０，３．３０分
参考例２
ｔｅｒｔ−ブチル ４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−カルボキシラートの合成
ピペリジン−４−カルボン酸エチル（１５．０ｇ，９９．２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）溶液に、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（２２．７ｇ，１０４ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（２０．７ｍｌ，１４９ｍｍｏｌ）を加え、室温にて３時間攪拌した。反応後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を２Ｍ塩酸水、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、ｔｅｒｔ−ブチル ４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−カルボキシラート（２１．７ｇ，８５．０％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）４．０４（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．８３（ｂｒ，２Ｈ），２．８０（ｂｒ，２Ｈ），２．４９（ｂｒ，１Ｈ），１．７７（ｂｒ，２Ｈ），１．３０−１．４７（ｍ，２Ｈ），１．３７（ｓ，９Ｈ），１．１７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）．
参考例３
１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペリジン−４−カルボン酸の合成
ｔｅｒｔ−ブチル ４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−カルボキシラート（６．００ｇ，２３．３ｍｍｏｌ）のメタノール（６０ｍｌ）溶液に、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１２．０ｍｌ）を加えた後、室温にて２時間攪拌した。反応後、これに２Ｍ塩酸水を加え、溶液のｐＨを６程度とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた固体をヘキサンとジエチルエーテルの混合溶媒にて洗浄することにより、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペリジン−４−カルボン酸（４．２３ｇ，７９．２％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１２．２７（ｂｒ ｓ，１Ｈ），３．８２（ｂｒ，２Ｈ），２．７９（ｂｒ，２Ｈ），２．３８（ｂｒ，１Ｈ），１．７６（ｂｒ，２Ｈ），１．２８−１．４４（ｍ，２Ｈ），１．３８（ｓ，９Ｈ）．
（ａ） ｔｅｒｔ−ブチル ４−［（｛［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］メチル｝アミノ）カルボニル］ピペリジン−１−カルボキシラートの合成
２−（｛［４−（アミノメチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（２００ｍｇ、０．４７９ｍｍｏｌ）と１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペリジン−４−カルボン酸（１２１ｍｇ、０．５２７ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）溶液中に、１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・一塩酸塩（１１０ｍｇ、０．５７５ｍｍｏｌ）、ヒドロキシベンゾトリアゾール（７７．７ｍｇ、０・５７５ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（１２１ｍｇ、１．２０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。次に、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を２Ｍ塩酸、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９９／１で溶出）で精製することにより、ｔｅｒｔ−ブチル ４−［（｛［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］メチル｝アミノ）カルボニル］ピペリジン−１−カルボキシラート（２５７ｍｇ、８５．４％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）８．１０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．８０−７．９７（ｍ，４Ｈ），７．２７−７．６０（ｍ，６Ｈ），６．８６（ｓ，１Ｈ），６．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．３４（ｓ，２Ｈ），４．５７（ｓ，２Ｈ），４．１０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），３．８８（ｂｒ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），２．６７（ｂｒ，２Ｈ），２．２７（ｂｒ，１Ｈ），１．５０−１．６０（ｍ，２Ｈ），１．３８（ｓ，９Ｈ），１．２０−１．４０（ｍ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：６２９．４，３．７４分
（ｂ） ２−（｛［４−［（｛［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−ピペリジニル］カルボニル｝アミノ）メチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、ｔｅｒｔ−ブチル ４−［（｛［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］メチル｝アミノ）カルボニル］ピペリジン−１−カルボキシラートの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＮＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）８．１４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．８０−７．９７（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．６０（ｍ，６Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．３６（ｓ，２Ｈ），４．６１（ｓ，２Ｈ），４．１１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），３．８９（ｂｒ，２Ｈ），２．６７（ｂｒ，２Ｈ），２．２７（ｂｒ，１Ｈ），１．５０−１．６０（ｍ，２Ｈ），１．３８（ｓ，９Ｈ），１．２０−１．４０（ｍ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：６１５．２，３．５９分
２−｛［（１−（１−ナフチルメチル）−４−｛［（４−ピペリジニルカルボニル）アミノ］メチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル｝安息香酸・一塩酸塩の合成
２−（｛［４−［（｛［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−ピペリジニル］カルボニル｝アミノ）メチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸（２５１ｍｇ，０．４０８ｍｍｏｌ）の酢酸（２ｍｌ）溶液に４Ｍ塩酸／１，４−ジオキサン（１．００ｍｌ，４．００ｍｍｏｌ）を加え、室温にて終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧留去して得られた残渣にジエチルエーテルを加え、生じた固体を濾取することにより、２−｛［（１−（１−ナフチルメチル）−４−｛［（４−ピペリジンカルボニル）アミノ］メチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル｝安息香酸・一塩酸塩（１４０ｍｇ，６２．２％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）９．２３（ｂｒ，１Ｈ），８．９０（ｂｒ，１Ｈ），８．５７（ｂｒ，１Ｈｚ），７．７０−８．０７（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．６９（ｍ，７Ｈ），６．８６（ｂｒ，１Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），４．７９（ｓ，２Ｈ），４．２８（ｂｒ ｓ，２Ｈ），３．５５（ｓ，２Ｈ），３．３０−３．４０（ｍ，１Ｈ），３．２２（ｂｒ，２Ｈ），２．８４（ｂｒ，２Ｈ），１．６０−２．００（ｍ，４Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５１５．２，３．５７分
（ａ） ｔｅｒｔ−ブチル （２Ｓ）−２−［（｛［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］メチル｝アミノ）カルボニル］ピロリジン−１−カルボキシラートの合成
実施例６（ａ）の方法に準じて、２−（｛［４−（アミノメチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルと（２Ｓ）−１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピロリジン−２−カルボン酸との縮合反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）８．１３（ｂｒ，１Ｈ），７．９０−７．９０（ｍ，４Ｈ），７．２５−７．６０（ｍ，６Ｈ），６．７５−６．９２（ｍ，２Ｈ），５．３３（ｓ，２Ｈ），４．５７（ｓ，２Ｈ），３．９７−４．２５（ｍ，３Ｈ），３．７７（ｓ，３Ｈ），３．２４（ｂｒ，２Ｈ），１．６０−２．２０（ｍ，４Ｈ），１．３１（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：６１５．４，３．４４分
（ｂ） ２−（｛［４−（｛［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−プロリル］アミノ｝メチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、ｔｅｒｔ−ブチル （２Ｓ）−２−［（｛［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］メチル｝アミノ）カルボニル］ピロリジン−１−カルボキシラートの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）８．１７（ｂｒ，１Ｈ），７．７５−８．００（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．６０（ｍ，６Ｈ），６．７８−７．００（ｍ，２Ｈ），５．３７（ｓ，２Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），３．９５−４．２５（ｍ，３Ｈ），３．２０−４．００（ｍ，２Ｈ），１．６０−１．９０（ｍ，４Ｈ），１．１７（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：６０１．４，３．３０分
２−［（｛１−（１−ナフチルメチル）−４−［（Ｌ−プロリルアミノ）メチル］−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸・一塩酸塩の合成
実施例７の方法に準じて、２−（｛［４−（｛［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−プロリル］アミノ｝メチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の反応を行ない、表題化合物を合成した。；融点：１２３．９℃（分解）．１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）９．１６（ｂｒ，１Ｈ），８．５５（ｂｒ，１Ｈ），７．７５−８．０５（ｍ，４Ｈ），７．２５−７．７０（ｍ，７Ｈ），６．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．４９（ｓ，２Ｈ），４．７７（ｓ，２Ｈ），４．３４（ｂｒ，２Ｈ），４．１７（ｂｒ，１Ｈ），３．１７（ｂｒ，２Ｈ），１．６２（ｂｒ，４Ｈ），１．５０−１．８５（ｍ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５０１．１，２．７６分
（ａ） ２−（｛［４−（｛［（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル］アミノ｝メチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−（｛［４−（アミノメチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（２００ｍｇ，０・４７９ｍｍｏｌ）と塩化４−メチルピペラジン−１−カルボニル・一塩酸塩（１１４ｍｇ，０・５７５ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（５ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（０．２６７ｍｌ，１．９２ｍｍｏｌ）を加え、２．５時間還流した。反応後、０℃まで冷却し、飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を水、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９５／５〜９０／１０で溶出）で精製することにより、２−（｛［４−（｛［（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル］アミノ｝メチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（２３１ｍｇ，８８．７％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．６０−８，００（ｍ，４Ｈ），７．１０−７．５５（ｍ，６Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．Ｈｚ），６．６４（ｓ，１Ｈ），５．１８（ｔ，１Ｈ、Ｊ＝５．０Ｈｚ），５．１４（ｓ，２Ｈ），４．６５（ｓ，２Ｈ），４．２５（ｄ，２Ｈ、Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．３９（ｄｄ，４Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），２．３７（ｄｄ，４Ｈ，Ｊ＝５．０，５．０Ｈｚ），２．３０（ｓ，３Ｈ），２．１７（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５４４．３，３．３８分
（ｂ） ２−（｛［４−（｛［（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル］アミノ｝メチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−（｛［（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル］アミノ｝メチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．２０−７．９５（ｍ，１０Ｈ），６．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．６４（ｓ，１Ｈ），６．１１（ｂｒ，１Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），４．１９（ｂｒ，２Ｈ），３．５３（ｂｒ，４Ｈ），２．５７（ｂｒ，４Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５３０．３，３．２６分
（ａ） ｔｅｒｔ−ブチル ４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−１Ｈ−イミダゾール−１−カルボキシラートの合成
ヒスタミン・二塩酸塩（１．０ｇ，５．４３ｍｍｏｌ）と炭酸水素ナトリウム水溶液（２．５９ｇ／３０ｍｌ，２４．５ｍｍｏｌ）の混合溶液に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）と二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（５．３４ｇ，２４．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２０ｍｌ）を加え、５０℃にて２時間攪拌した。反応後、飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をヘキサンで洗浄することにより、ｔｅｒｔ−ブチル ４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−１Ｈ−イミダゾール−１−カルボキシラート（１．２２ｇ，７２．１％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．０１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），７．１４（ｓ，１Ｈ），４．９８（ｂｒ ｓ，１Ｈ），３．４２（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５，６．５Ｈｚ），２．７３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），１．６１（ｓ，９Ｈ），１．４４（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３１２．４，３．４３分
（ｂ） ｔｅｒｔ−ブチル ２−（２−メルカプト−１Ｈ−イミダゾール−４−イル）エチルカルバメートの合成
ｔｅｒｔ−ブチル ４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−１Ｈ−イミダゾール−１−カルボキシラート（５．５８ｇ，１７．９ｍｍｏｌ）、Ｏ−フェニル クロリドチオ炭酸（７．１１ｇ，４１．２ｍｍｏｌ）と触媒量の硫酸水素テトラ（ｎ−ブチル）アンモニウムのトルエン溶液（３００ｍｌ）に炭酸水素ナトリウム水溶液（１５．１ｇ／２７０ｍｌ，１７．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をメタノール（２６０ｍｌ）に溶解し、これにトリエチルアミン（２６ｍＬ，１８７ｍｍｏｌ）を加え、８０℃にて５時間攪拌した。これにテトラヒドロフラン（２００ｍｌ）と２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１００ｍｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌した。反応後、２Ｍ塩酸水を加え、混合溶液にｐＨを３〜４とし、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９５／５で溶出）で精製することにより、ｔｅｒｔ−ブチル ２−（２−メルカプト−１Ｈ−イミダゾール−４−イル）エチルカルバメート（２．９６ｇ，６７．９％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１１．８３（ｂｒ ｓ，１Ｈ），１１．６５（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．８８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．５２（ｓ，１Ｈ），３．０９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８，６．８Ｈｚ），２．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．３５（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２４４．３，２．４４分
（ｃ） ２−（｛（４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ｝エチル）安息香酸メチルの合成
実施例１（ａ）の方法に準じて、ｔｅｒｔ−ブチル ２−（２−メルカプト−１Ｈ−イミダゾール−４−イル）エチルカルバメートと２−（ブロモメチル）安息香酸メチルとの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．３９−７．５５（ｍ，２Ｈ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），６．９４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），４．６３（ｓ，２Ｈ），３．８３（ｓ，３Ｈ），３．１０−３．２２（ｍ，２Ｈ），２．６６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．３４（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３９２．２，２．５４分
（ｄ） ２−（｛［４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例１（ｂ）の方法に準じて、２−（｛（４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ｝エチル）安息香酸メチルと１−（クロロメチル）−ナフタレンとの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．００（ｍ，４Ｈ），７．２２−７．６５（ｍ，６Ｈ），６．８８（ｓ，１Ｈ），６．７９（ｂｒ，１Ｈ），６．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．３１（ｓ，２Ｈ），４．５４（ｓ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．０８−３．１８（ｍ，２Ｈ），２．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．３４（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５３２．２，３．３０分
（ｅ）２−（｛［４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．００（ｍ，４Ｈ），７．４５−７．５５（ｍ，２Ｈ），７．２７−７．４０（ｍ，３Ｈ），７．２５（ｂｒ，１Ｈ），６．８７（ｓ，１Ｈ），６．７６（ｂｒ，１Ｈ），５．３２（ｓ，２Ｈ），４．５８（ｓ，２Ｈ），３．１４（ｂｒ，２Ｈ），２．５２（ｂｒ，２Ｈ），１．３５（ｓ，９Ｈ）．
（ａ） ２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例４（ｄ）の方法に準じて、２−（｛（４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ｝メチル）安息香酸メチルの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．０５（ｍ，４Ｈ），７．２２−７．６５（ｍ，６Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），６．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．３４（ｓ，２Ｈ），４．５６（ｓ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），２．９０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．６３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．３４（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４３２．２，２．７２分
（ｂ） ２−［（｛１−（１−ナフチルメチル）−４−［２−（１−ピペリジニル）エチル］−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸メチルの合成
実施例５の方法に準じて、２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルと１−ブロモ−５−クロロペンタンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５００．３，５．１３分
（ｃ） ２−［（｛１−（１−ナフチルメチル）−４−［２−（１−ピペリジニル）エチル］−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−［（｛１−（１−ナフチルメチル）−４−［２−（１−ピペリジニル）エチル］−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４８６．３，４．８３分
（ａ） ２−［（｛４−［２−（４−モルホリニル）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸メチルの合成 ２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（７１．０ｍｇ，０．１６５ｍｍｏｌ）とビス（２−クロロエチル）エーテル（２７．１ｍｇ，０．１８９ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍｌ）溶液に、炭酸カリウム（９１．２ｍｇ，０．６６ｍｍｏｌ）を加え、８０℃にて２時間攪拌した。反応後、０℃まで冷却し、飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を水、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９７／３で溶出）で精製することにより、２−［（｛４−［２−（４−モルホリニル）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸メチル（３０．１ｍｇ，３６．４％）を得た。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５０２．３，４．２６分
（ｂ） ２−［（｛４−［２−（４−モルホリニル）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−［（｛４−［２−（４−モルホリニル）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．８０−８．００（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．６０（ｍ，６Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．３４（ｓ，２Ｈ），４．６１（ｓ，２Ｈ），３．８０（ｂｒ，４Ｈ），３．００−３．４０（ｍ，６Ｈ），２．８６（ｂｒ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４８８．０，３．０３分
（ａ） ｔｅｒｔ−ブチル ４−［（｛２−［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］エチル｝アミノ）カルボニル］ピペリジン−１−カルボキシラートの合成
実施例６（ａ）の方法に準じて、２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルと１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペリジン−４−カルボン酸との縮合反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．００（ｍ，５Ｈ），７．２５−７．６０（ｍ，６Ｈ），６．８６（ｓ，１Ｈ），６．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．３１（ｓ，２Ｈ），４．５４（ｓ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．２０−３．４０（ｍ，２Ｈ），２．４０−２．６０（ｍ，２Ｈ），２．５７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．１７（ｂｒ，１Ｈ），１．１０−１．６０（ｍ，４Ｈ），１．３８（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：６４３．４，３．３４分
（ｂ） ２−（｛［４−［２−（｛［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−ピペリジニル］カルボニル｝アミノ）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、ｔｅｒｔ−ブチル ４−［（｛２−［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］エチル｝アミノ）カルボニル］ピペリジン−１−カルボキシラートの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．００（ｍ，５Ｈ），７．２０−７．６０（ｍ，６Ｈ），６．９９（ｓ，１Ｈ），６．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．３７（ｓ，２Ｈ），４．６２（ｓ，２Ｈ），３．８７（ｂｒ，２Ｈ），３．０６−３．２５（ｍ，２Ｈ），２．６１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），２．００−２．２０（ｍ，１Ｈ），１．１０−１．６０（ｍ，４Ｈ），１．３８（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：６２９．４，３．２３分
２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４−｛２−［（４−ピペリジニルカルボニル）アミノ］エチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸・一塩酸塩の合成
実施例７の方法に準じて、２−（｛［４−［２−（｛［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−ピペリジニル］カルボニル｝アミノ）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の反応を行ない、表題化合物を合成した。；融点：７５．８℃（分解）．１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）９．０９（ｂｒ，１Ｈ），８．８０（ｂｒ，１Ｈ），８．１７（ｂｒ，１Ｈ），７．７０−８．０５（ｍ，３Ｈ），７．７９（ｂｒ，１Ｈ），７．０５−７．７０（ｍ，７Ｈ），６．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），５．５３（ｓ，２Ｈ），４．８０（ｓ，２Ｈ），３．３４（ｂｒ，２Ｈ），３．１８（ｂｒ，２Ｈ），２．７０−２．８０（ｍ，４Ｈ），２．３２（ｂｒ，１Ｈ），１．６７（ｂｒ，４Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５２９．２，２．６９分
参考例４
１−メチルピペリジン−４−カルボン酸エチルの合成
ピペリジン−４−カルボン酸エチル（１０ｇ，６３．６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１００ｍｌ）溶液に、よう化メチル（９．０３ｇ，６３．６ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（１７．６ｇ，１２７ｍｍｏｌ）を加え、室温にて３時間攪拌した。反応後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、１−メチルピペリジン−４−カルボン酸エチル（３．７４ｇ，３４．３％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）４．０５（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．６６（ｂｒ，２Ｈ），２．１５−２．２７（ｍ，１Ｈ），２．１１（ｓ，３Ｈ），１．８７（ｂｒ，２Ｈ），１．４３−１．６０（ｍ，２Ｈ），１．１６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：１７２．３，０．４２分
参考例５
１−メチルピペリジン−４−カルボン酸の合成
１−メチルピペリジン−４−カルボン酸エチル（３．７４ｇ，２１．８ｍｍｏｌ）のメタノール（６０ｍｌ）溶液に、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（２５ｍｌ）を加えた後、６０℃にて１時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣にイソプロピルアルコールを加え、攪拌した。これを濾過して反応で生成した食塩を除き、濾液の溶媒を減圧留去することにより、１−メチルピペリジン−４−カルボン酸（３．７４ｇ，３４．３％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）３．３５（ｂｒ，２Ｈ），２．８８（ｂｒ，２Ｈ），２．６５（ｓ，３Ｈ），２．４５（ｂｒ，１Ｈ），１．６５−２．１０（ｍ，４Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：１４４．０，０．３０分
（ａ） ２−（｛［４−（２−｛［（１−メチル−４−ピペリジニル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例６（ａ）の方法に準じて、２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルと１−メチルピペリジン−４−カルボン酸との縮合反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９２−８，０５（ｍ，１Ｈ），７．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．６５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３０−７．５５（ｍ，５Ｈ），７．１３−７．２０（ｍ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．６９（ｂｒ，１Ｈ），６．４６（ｓ，１Ｈ），５．１４（ｓ，２Ｈ），４．６５（ｓ，２Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），３．４０−３．５５（ｍ，２Ｈ），２．９０−２．９８（ｍ，２Ｈ），２．３６（ｓ，３Ｈ），２．００−２．２０（ｍ，２Ｈ），１．６５−１．９０（ｍ，４Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５５７．２，２．８３分
（ｂ） ２−（｛［４−（２−｛［（１−メチル−４−ピペリジニル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−（２−｛［（１−メチル−４−ピペリジニル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；融点：１２６．８℃（分解）．１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）８．２１（ｂｒ，１Ｈ），７．８８−８．０５（ｍ，３Ｈ），７．７９（ｂｒ，１Ｈ），７．２８−７．６５（ｍ，７Ｈ），６．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），５．５２（ｓ，２Ｈ），４．７９（ｓ，２Ｈ），３．１０−３．６５（ｍ，４Ｈ），２．６０−２．８７（ｍ，７Ｈ），２．２６（ｂｒ，１Ｈ），１．６５−１．９０（ｍ，４Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５４３．４，２．７０分
（ａ） ２−（｛［４−｛２−（シクロヘキサンカルボニルアミノ）エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例６（ａ）の方法に準じて、２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルとシクロヘキサンカルボン酸との縮合反応を行ない、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５４２．３，３．７２分
（ｂ） ２−（｛［４−｛２−（シクロヘキサンカルボニルアミノ）エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−｛２−（シクロヘキサンカルボニルアミノ）エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；融点：９８．１℃（分解）．１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７０−８．００（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．６５（ｍ，７Ｈ），７．１６（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．４４（ｓ，２Ｈ），４．６７（ｓ，２Ｈ），３．１５−３．４５（ｍ，２Ｈ），２．６５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），１．９８（ｂｒ，１Ｈ），１．４０−１．６５（ｍ，４Ｈ），１．００−１．３０（ｍ，６Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５２８．３，３．６３分
（ａ）２−（｛［４−｛２−（アセチルアミノ）エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（１００ｍｇ，０．２３２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍｌ）溶液に、無水酢酸（０．１１ｍｌ，１．１７ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．０５ｍｌ，０．３６１ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。次に、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を２Ｍ塩酸、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９５／５）で精製することにより、２−（｛［４−｛２−（アセチルアミノ）エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（６９．５ｍｇ、６３．３％）を得た。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４７４．０，３．４９分
（ｂ）２−（｛［４−｛２−（アセチルアミノ）エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−｛２−（アセチルアミノ）エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；融点：７２．５℃（分解）．１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．８０−８．００（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．６０（ｍ，６Ｈ），７．１０（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．４１（ｓ，２Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），３．２０−３．４５（ｍ，２Ｈ），２．６２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．７３（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４６０．０，３．１７分
参考例６
ｔｅｒｔ−ブチル ４−（ヒドロキシメチル）ピペリジン−１−カルボキシラートの合成
ｔｅｒｔ−ブチル ４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−カルボキシラート（５．００ｇ，１９．４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶液に、０℃にて水素化リチウムアルミニウム（７３７ｍｇ，１９．４ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。反応後、反応液に水（０．８ｍｌ）、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（２．０ｍｌ）、水（３．０ｍｌ）を加え、精製した沈殿物を濾過した。次に濾液に飽和食塩水と酢酸エチルを加え、有機層を分離後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた固体をヘキサンとジエチルエーテルの混合溶液で洗浄することにより、ｔｅｒｔ−ブチル ４−（ヒドロキシメチル）ピペリジン−１−カルボキシラート（３．１２ｇ，７４．６％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）４．４６（ｂｒ，１Ｈ），３．９２（ｂｒ，２Ｈ），３．２２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），２．６４（ｂｒ，２Ｈ），１．６０（ｂｒ，２Ｈ），１．４８（ｂｒ，１Ｈ），１．３７（ｓ，９Ｈ），０．８５−１．０３（ｍ，２Ｈ）．
参考例７
ｔｅｒｔ−ブチル ４−ホルミルピペリジン−１−カルボキシラートの合成
塩化オキザリル（７６６ｍｇ，６．０４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（７ｍｌ）溶液に、−７８℃にてジメチルスルホキシド（８７０ｍｇ，１１．１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３ｍｌ）溶液を滴下し、さらに１０分間攪拌した。これにｔｅｒｔ−ブチル ４−（ヒドロキシメチル）ピペリジン−１−カルボキシラート（１．００ｇ，４．６４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１０ｍｌ）溶液を滴下し、１０分間攪拌した。これにトリエチルアミン（３．２ｍｌ，２３．２ｍｍｏｌ）を加え、３０分間かけて反応溶液の温度を０℃まで上昇させ、０℃にて３０分間攪拌した。反応後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を２Ｍ塩酸水、水、飽和炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水の順で洗浄してから、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、ｔｅｒｔ−ブチル ４−ホルミルピペリジン−１−カルボキシラート（９０８ｍｇ，９１．８％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）９．５７（ｓ，１Ｈ），３．７８（ｂｒ，２Ｈ），２．８７（ｂｒ，２Ｈ），２．４９（ｂｒ，１Ｈ），１．７４−１．８４（ｍ，２Ｈ），１．２０−１．４３（ｍ，２Ｈ），１．３８（ｓ，９Ｈ）．
（ａ） ｔｅｒｔ−ブチル ４−［｛Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチトキシカルボニル）−Ｎ−［２−｛２−（｛２−（メトキシカルボニル）ベンジル｝チオ）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル｝エチル］アミノ｝メチル］ピペリジン−１−カルボキシラートの合成
２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（２００ｍｇ，０．４６３ｍｍｏｌ）とｔｅｒｔ−ブチル ４−ホルミルピペリジン−１−カルボキシラート（１１９ｍｇ，０．５５６ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロエタン（７ｍｌ）溶液を室温にて１５分間攪拌後、この溶液中に室温にてトリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム（１９６ｍｇ，０．９２７ｍｍｏｌ）、酢酸（０．５ｍｌ）を加え、３０℃にて５時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をテトラヒドロフランに溶解し、これに二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（１０４ｍｇ，０．４７７ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．０９ｍｌ，０．６３６ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。反応後、飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９８／２で溶出）で精製することにより、ｔｅｒｔ−ブチル ４−［｛Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチトキシカルボニル）−Ｎ−［２−｛２−（｛２−（メトキシカルボニル）ベンジル｝チオ）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル｝エチル］アミノ｝メチル］ピペリジン−１−カルボキシラート（２０２ｍｇ，８７．１％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．００（ｍ，５Ｈ），７．２５−７．６０（ｍ，６Ｈ），６．８５（ｂｒ，１Ｈ），６．７６（ｓ，１Ｈ），５．３２（ｓ，２Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），３．８８（ｂｒ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．２５−３．４５（ｍ，３Ｈ），２．９０（ｂｒ，２Ｈ），２．６２（ｂｒ，４Ｈ），１．２５−１．５５（ｍ，４Ｈ），１．４５（ｓ，９Ｈ），１．３９（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：７２９．５，３．８６分
（ｂ） ２−（｛［４−［２−｛Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−（｛１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−ピペリジニル｝メチル）アミノ｝エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、ｔｅｒｔ−ブチル ４−［｛Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチトキシカルボニル）−Ｎ−［２−｛２−（｛２−（メトキシカルボニル）ベンジル｝チオ）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル｝エチル］アミノ｝メチル］ピペリジン−１−カルボキシラートの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．００（ｍ，４Ｈ），７．１５−７．６０（ｍ，６Ｈ），６．９０（ｂｒ，１Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），４．７１（ｓ，２Ｈ），３．９５（ｂｒ，２Ｈ），３．４０（ｂｒ，２Ｈ），２．９２（ｂｒ，２Ｈ），２．７０（ｂｒｍ，４Ｈ），１．２５−１．５５（ｍ，４Ｈ），０．８０−１．５５（ｍ，５Ｈ），１．３７（ｓ，９Ｈ），１．３２（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：７１５．２，３．６５分
（ｃ） ２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４−｛２−［（４−ピペリジニルメチル）アミノ］エチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸・二塩酸塩の合成
実施例７の方法に準じて、２−（｛［４−［２−｛Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−（｛１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−ピペリジニル｝メチル）アミノ｝エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の反応を行ない、表題化合物を合成した。；融点：６６．５℃（分解）．１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）９．５０（ｂｒ，２Ｈ），３．１８（ｂｒ，２Ｈ），７．７２−８．０５（ｍ，４Ｈ），７．３０−７．６５（ｍ，７Ｈ），６．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．５２（ｓ，２Ｈ），４．８４（ｓ，２Ｈ），３．０５−３．３２（ｍ，６Ｈ），２．８４（ｂｒ，４Ｈ），１．８０−２．１０（ｍ，３Ｈ），１．４４（ｂｒ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５１５．４，２．６７分
（ａ） ｔｅｒｔ−ブチル ４−［（｛２−［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］エチル｝アミノ）−１−ピペリジンカルボキシラートの合成
２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（８３．０ｍｇ，０．１９２ｍｍｏｌ）とＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−ピペリドン（４６．０ｇ，０．２３１ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロエタン（３ｍｌ）溶液を室温にて１時間攪拌後、この溶液中に室温にてトリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム（８１．４ｍｇ、０．３８４ｍｍｏｌ）、酢酸（０．０２ｍｌ）を加え、室温にて４時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注ぎ、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９１／９で溶出）で精製することにより、ｔｅｒｔ−ブチル ４−［（｛２−［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］エチル｝アミノ）−１−ピペリジンカルボキシラート（５０．２ｍｇ，４２．５％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．００（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．６５（ｍ，６Ｈ），６．９２（ｓ，１Ｈ），６．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．３４（ｓ，２Ｈ），４．５６（ｓ，２Ｈ），３．８３（ｂｒ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），２．９２（ｂｒ，２Ｈ），２．５５（ｂｒ，１Ｈ），１．８０（ｂｒ，２Ｈ），１．０７−１．３０（ｍ，４Ｈ）．
（ｂ） ２−［（｛１−（１−ナフチルメチル）−４−［２−（４−ピペリジニルアミノ）エチル］−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸の合成
ｔｅｒｔ−ブチル ４−［（｛２−［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］エチル｝アミノ）−１−ピペリジンカルボキシラート（４８．０ｍｇ，０．０７８１ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍｌ）に溶解させ、これに室温にて４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１ｍｌ）を加えた後、６０℃にて１時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣に０℃にて２Ｍ塩酸水を加え、溶液のｐＨを５前後とし、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去した残渣をの酢酸（２ｍｌ）溶液に４Ｍ塩酸／１，４−ジオキサン（０．５００ｍｌ，２．００ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧留去して得られた残渣に０℃にて２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液を加え、溶液のｐＨを７前後とし、クロロホルムにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、２−［（｛１−（１−ナフチルメチル）−４−［２−（４−ピペリジニルアミノ）エチル］−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸（１２．３ｍｇ，３１．５％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．６８−８．００（ｍ，４Ｈ），７．２５−７．６０（ｍ，６Ｈ），６．８８（ｓ，１Ｈ），６．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．０５（ｓ，２Ｈ），４．６５（ｓ，２Ｈ），３．７２（ｂｒ，１Ｈ），３．００−３．４０（ｍ，４Ｈ），２．６５−２．９５（ｍ，４Ｈ），２，１５（ｂｒ，２Ｈ），１．８６（ｂｒ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５０１．１，２．８７分
（ａ） ２−（｛［４−｛２−（トリフルオロアセチルアミノ）エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（６００ｍｇ，１．３９ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１０ｍｌ）溶液中に、無水トリフルオロ酢酸（４４０ｍｇ，２．０９ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１時間攪拌した。次に、反応液を０℃の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注いだ後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、２−（｛［４−｛２−（トリフルオロアセチルアミノ）エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（６４０ｍｇ，８７．３％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８．００（ｍ，５Ｈ），７．２０−７．６５（ｍ，６Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），６．６９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．３２（ｓ，２Ｈ），４．５４（ｓ，２Ｈ），４．７５（ｓ，３Ｈ），３．３５−３．８５（ｍ，２Ｈ），２．６８１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５２８．０，３．３１分
（ｂ） ２−（［｛４−［２−｛Ｎ−メチル−Ｎ−（トリフルオロアセチル）アミノ｝エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ］メチル）安息香酸メチルの合成
２−（｛［４−｛２−（トリフルオロアセチルアミノ）エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（７１６ｍｇ，１．３５ｍｍｏｌ）とよう化メチル（２３１ｍｇ，１．６３ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（５６１ｍｇ，４．０６ｍｍｏｌ）を加えた。６０℃にて８時間攪拌した後、さらによう化メチル（２３１ｍｇ，１．６３ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（５６１ｍｇ，４．０６ｍｍｏｌ）を加え、６０℃にて４時間攪拌した。反応後、０℃まで冷却してから飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を水、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９８／２で溶出）で精製することにより、２−（［｛４−［２−｛Ｎ−メチル−Ｎ−（トリフルオロアセチル）アミノ｝エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ］メチル）安息香酸メチル（３７６ｍｇ，５１．３％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９５−８．０５（ｍ，１Ｈ），７．７５−７．８０（ｍ，２Ｈ），７．２５−７．７０（ｍ，４Ｈ），７．０８−７．２０（ｍ，２Ｈ），６．９０（ｂｒ，１Ｈ），６．４６（ｓ，１Ｈ），５．１４（ｓ，１．５Ｈ），５．０８（ｓ，０．５Ｈ），４．６５（ｓ，０．５Ｈ），４．６３（ｓ，１．５Ｈ），２．８２−３．００（ｍ，６Ｈ），２．７２−２．８５（ｍ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５４２．０，３．９８分
（ｃ） ２−（｛［４−（２−｛Ｎ−メチル−Ｎ−［（１−メチル−４−ピペリジニル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−（［｛４−［２−｛Ｎ−メチル−Ｎ−（トリフルオロアセチル）アミノ｝エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ］メチル）安息香酸メチル（３７６ｍｇ，０．６９４ｍｍｏｌ）のエタノール（１０ｍｌ）溶液中に、水素化ホウ素ナトリウム（１０５ｍｇ，２．７８ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２．５時間攪拌した。次に、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた後に、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣［ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４４６．２，３．２８分］と１−メチルピペリジン−４−カルボン酸（１３５ｍｇ，０．９４３ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８ｍｌ）溶液中に、１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・一塩酸塩（１８０ｍｇ，０．９４２ｍｍｏｌ）、ヒドロキシベンゾトリアゾール（１２７ｍｇ，０．９４３ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（０．３３ｍｌ，２．３８ｍｍｏｌ）を加え、室温にて３時間攪拌した。次に、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた後に、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９５／５）で精製することにより、２−（｛［４−（２−｛Ｎ−メチル−Ｎ−［（１−メチル−４−ピペリジニル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（２５５ｍｇ，６４．４％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．７５−８，０５（ｍ，３Ｈ），６．９０−７．７０（ｍ，８Ｈ），６．４５（ｓ，０．６Ｈ），６．４０（ｓ，０．４Ｈ），５．１５（ｓ，０．８Ｈ），５．０５（ｓ，１．２Ｈ），４．６８（ｓ，０．８Ｈ），４．６３（ｓ，１．２Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．５０−３．７０（ｍ，２Ｈ），２．６０−２．９５（ｍ，１２Ｈ），１．５０−２．５０（ｍ，５Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５７１．５，３．３７分
（ｄ） ２−（｛［４−（２−｛Ｎ−メチル−Ｎ−［（１−メチル−４−ピペリジニル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸・一塩酸塩の合成
２−（｛［４−（２−｛Ｎ−メチル−Ｎ−［（１−メチル−４−ピペリジニル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（２５０ｍｇ，０．４３８ｍｍｏｌ）をメタノール（４ｍｌ）に溶解させ、これに室温にて４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（２ｍｌ）を加えた後、６０℃にて３．５時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣に０℃にて水，２Ｍ塩酸水を加えて溶液のｐＨを５前後とし、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をイソプロピルアルコールに溶解し、これに１Ｍ塩酸／ジエチルエーテル（０．４８ｍｌ，０．４８ｍｍｏｌ）、ジエチルエーテルに順に加えた。得られた沈殿物を濾過することにより２−（｛［４−（２−｛Ｎ−メチル−Ｎ−［（１−メチル−４−ピペリジニル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸・一塩酸塩（２０７ｍｇ，７９．６％）を得た。；融点：８９．０℃（分解）．１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．６０−８，００（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．５５（ｍ，６Ｈ），７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．４６（ｓ，０．６Ｈ），６．３９（ｓ，０．４Ｈ），５．３３（ｓ，０．８Ｈ），５．３０（ｓ，１．２Ｈ），４．７２（ｓ，１．２Ｈ），４．６０（ｓ，０．８Ｈ），３．５８（ｔ，１．２Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），３．４６（ｔ，０．８Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），３．１６（ｂｒ，３Ｈ），２．４０−２．９５（ｍ，１０Ｈ），１．８０（ｂｒ，４Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５５７．２，３．２４分
（ａ） ｔｅｒｔ−ブチル （２Ｓ）−２−［（｛２−［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］エチル｝アミノ）カルボニル］ピロリジン−１−カルボキシラートの合成
実施例６（ａ）の方法に準じて、２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルと（２Ｓ）−１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピロリジン−２−カルボン酸との縮合反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９５−８．０５（ｍ，２Ｈ），７．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３０−７．５５（ｍ，４Ｈ），７．０５−７．２０（ｍ，２Ｈ），６．９２（ｂｒ，１Ｈ），６．４６（ｂｒ，１Ｈ），５．０９（ｓ，２Ｈ），４．６７（ｓ，２Ｈ），４．１７（ｂｒ，１Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．２５−３．５５（ｍ，４Ｈ），２．６８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ），１．７６（ｂｒ，４Ｈ），１．４０（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：６２９．４，３．３９分
（ｂ） ２−（｛［４−（２−｛［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−プロリル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、ｔｅｒｔ−ブチル （２Ｓ）−２−［（｛２−［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］エチル｝アミノ）カルボニル］ピロリジン−１−カルボキシラートの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７７−８．０５（ｍ，５Ｈ），７．２０−７．６５（ｍ，５Ｈ），７．１２（ｂｒ，１Ｈ），６．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．４２（ｓ，２Ｈ），４．６６（ｓ，２Ｈ），３．９４（ｂｒ，１Ｈ），３．００−３．５０（ｍ，４Ｈ），２．６５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．５０−２．００（ｍ，４Ｈ），１．２９（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：６１５．４，３．２８分
（ｃ） ２−［（｛１−（１−ナフチルメチル）−４−［２−（Ｌ−プロリルアミノ）エチル］−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸・一塩酸塩の合成
実施例７の方法に準じて、２−（｛［４−（２−｛［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−プロリル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の反応を行ない、表題化合物を合成した。；融点：９８．７℃（分解）．１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１０．１０（ｂｒ，１Ｈ），８．９１（ｂｒ，１Ｈ），８．４７（ｂｒ，１Ｈ），７．７０−８．０５（ｍ，４Ｈ），７．３０−７．７０（ｍ，７Ｈ），６．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．５５（ｓ，２Ｈ），４．８４（ｓ，２Ｈ），４．０８（ｂｒ，１Ｈ），３．２０−３．７０（ｍ，２Ｈ），３．１４（ｂｒ，２Ｈ），２．８１（ｂｒ，２Ｈ），２．００−２．２０（ｍ，１Ｈ），１．５０−１．８５（ｍ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５１５．４，２．７３分
２−（｛［４−（２−｛（Ｎ−メチル−Ｌ−プロリル）アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
ｔｅｒｔ−ブチル （２Ｓ）−２−［（｛２−［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］エチル｝アミノ）カルボニル］ピロリジン−１−カルボキシラート（３６４ｍｇ，０．５７９ｍｍｏｌ）の酢酸（３ｍｌ）溶液に４Ｍ塩酸／１，４−ジオキサン（１．５０ｍｌ，６．００ｍｍｏｌ）を加え、室温にて終夜時間攪拌した。反応後、０℃まで冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去と残渣のメタノール（５ｍｌ）溶液によう化メチル（８６．０ｍｇ，０．６０６ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（２０９ｍｇ，１．５２ｍｍｏｌ）を加え、１２時間還流した。反応後、溶媒を減圧留去して得られた残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をプレパラティブ薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９０／１０で溶出）で精製した［ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５４３．２，２．８４分］。得られた油状物質をメタノール（３ｍｌ）に溶解させ、これに室温にて４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１ｍｌ）を加えた後、６０℃にて２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣に０℃にて２Ｍ塩酸水を加え、溶液のｐＨを５前後とし、クロロホルムにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、２−（｛［４−（２−｛（Ｎ−メチル−Ｌ−プロリル）アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸（５０．０ｍｇ，１６．４％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．８０−８．０５（ｍ，５Ｈ），７．２０−７．６５（ｍ，６Ｈ），６．８６（ｓ，１Ｈ），６．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．３０（ｓ，２Ｈ），４．６１（ｓ，２Ｈ），２．９８（ｂｒ，２Ｈ），２．７９（ｂｒ，１Ｈ），２．５７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．５５−２．３０（ｍ，６Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５２９．２，２．８０分
（ａ） ２−（｛［４−（２−｛［（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例１０（ａ）の方法に準じて、２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルと塩化４−メチルピペラジン−１−カルボニル・一塩酸塩との反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−８，０５（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．６５（ｍ，６Ｈ），６．８８（ｓ，１Ｈ），６．７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．５４（ｂｒ，１Ｈ），５．３１（ｓ，２Ｈ），４．５３（ｓ，２Ｈ），４．０１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６，６．６Ｈｚ），３．７５（ｓ，３Ｈ），２．５７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），２．０９−２．２５（ｍ，４Ｈ），２．０７（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５５８．３，２．９０分
（ｂ） ２−（｛［４−（２−｛［（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−（２−｛［（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；融点１０５℃（分解）．１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）８．３１（ｓ，１Ｈ），７．７５−８，０５（ｍ，４Ｈ），７．１０−７．６０（ｍ，５Ｈ），６．８７（ｓ，１Ｈ），６．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．５９（ｂｒ，１Ｈ），５．３３（ｓ，２Ｈ），４．６０（ｓ，２Ｈ），３．２７（ｂｒ，４Ｈ），３．０８（ｂｒ，２Ｈ），２．５７（ｂｒ，２Ｈ），２．３２（ｂｒ，４Ｈ），２．２１（ｂｒ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５４４．３，２．７５分
（ａ） ［２−メルカプト−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−５−イル］メタノールの合成
２，５−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサン−２，５−ジメタノール（３．２ｇ，１７．８ｍｍｏｌ）のｎ−ブチルアルコール溶液（７ｍｌ）とメタノール（１０ｍｌ）混合溶液に、酢酸（３ｍｌ）、チオシアン化カリウム（１．７５ｇ，１７．８ｍｍｏｌ）と１−（１−ナフチル）メチルアミン（２．０ｇ，１２．７ｍｍｏｌ）を加え、室温にて終夜攪拌した。反応後、飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を２Ｍ塩酸水溶液、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１７／１で溶出）で精製することにより、［２−メルカプト−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−５−イル］メタノール（２６８ｍｇ，７．８％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）１０．６８（ｂｒ ｓ，１Ｈ），８．１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．６８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．５０−７．６５（ｍ，３Ｈ），７．３８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，７．７Ｈｚ），７．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），６．７４（ｓ，１Ｈ），５．９４（ｓ，２Ｈ），４．２２（ｓ，２Ｈ）．
（ｂ） ２−（｛［５−（ヒドロキシメチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例１（ａ）の方法に準じて、［２−メルカプト−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−５−イル］メタノールと２−ブロモメチル安息香酸メチルエステルとの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．１０−８．０５（ｍ，１１Ｈ），６．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．３４（ｓ，２Ｈ），４．６２（ｓ，２Ｈ），４．３４（ｓ，２Ｈ），３．７７（ｓ，３Ｈ），１．７５（ｂｒ ｓ，１Ｈ）．
（ｃ） ２−（｛［５−（ヒドロキシメチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［５−（ヒドロキシメチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．９０−８．１０（ｍ，２Ｈ），７．７０−７．９５（ｍ，２Ｈ），７．５０−７．６５（ｍ，２Ｈ），７．２０−７．４８（ｍ，４Ｈ），７．０７（ｓ，１Ｈ），６．２２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．５１（ｓ，２Ｈ），５．０８（ｂｒ，１Ｈ），４．５７（ｓ，２Ｈ），４．２１（ｓ，２Ｈ）．
（ａ） ２−（｛［５−ホルミル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−（｛［５−（ヒドロキシメチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（１７０ｍｇ，０．４０６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍｌ）溶液に、二酸化マンガン（８８％）（４１０ｍｇ，４．１５ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１．５時間攪拌した。反応後、反応液を濾過し、濾液の溶媒を減圧留去することにより、２−（｛［５−ホルミル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（２００ｍｇ，ｑｕａｎｔ．）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）９．５９（ｓ，１Ｈ），７．１０−８．０５（ｍ，１１Ｈ），６．３３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．９２（ｓ，２Ｈ），４．１９（ｓ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ）．
（ｂ） ２−（｛［５−［（ジメチルアミノ）メチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−（｛［５−ホルミル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（２００ｍｇ，０．４８０ｍｍｏｌ）と４０％ジメチルアミン水溶液（０．７ｍｌ）のメタノール（８ｍｌ）溶液を室温にて１時間攪拌した後、水素化ホウ素ナトリウム（５４．５ｍｇ，１．４４ｍｍｏｌ）を加え、５０℃にて２時間攪拌した。反応後、飽和食塩水を加え、クロルホルムにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。この際、副生するアルコール体と目的物の分離が困難なため、溶媒を減圧留去して得られた残渣をピリジン（２ｍｌ）に溶解し、副生するアルコール体をアセチル化するため、無水酢酸（０．１ｍｌ）と触媒量の４−（ジメチルアミノ）ピリジンを加え、１５分攪拌した。反応後、飽和食塩水を加え、クロルホルムにて抽出し、この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９７／３で溶出）で精製することにより、２−（｛［５−［（ジメチルアミノ）メチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（３０．０ｍｇ，１４．０％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．１５−８．１０（ｍ，１０Ｈ），７．０５（ｓ，１Ｈ），６．３２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．９３（ｓ，２Ｈ），４．５２（ｓ，２Ｈ），３．３３（ｓ，２Ｈ），２．３５（ｂｒ ｓ，６Ｈ）．
（ｃ） ２−（｛［５−［（ジメチルアミノ）メチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［５−［（ジメチルアミノ）メチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．１５−８．１０（ｍ，４Ｈ），７．０５（ｓ，１Ｈ），６．３２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．９３（ｓ，２Ｈ），４．５２（ｓ，２Ｈ），３．３３（ｓ，２Ｈ），２．３５（ｂｒ ｓ，６Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４３２．２，２．６１分
（ａ）Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２−メチルベンゼンスルホンアミドの合成
塩化２−メチル−ベンゼンスルホニル（６．００ｇ，３１．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液に、ｔｅｒｔ−ブチルアミン（３．６４ｍｌ，３４．６ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（６．６ｍｌ，４７．２ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。反応後、０℃まで冷却し、飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を水、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた固体をヘキサン−ジエチルエーテル混合溶媒で洗浄することにより、表題化合物（４．４５ｇ，６２．１％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．０２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４，１．３Ｈｚ），７．４３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４，７．４，１．３Ｈｚ），７．２５−７．３５（ｍ，２Ｈ），４．５８（ｂｒ ｓ，１Ｈ），２．６６（ｓ，３Ｈ），１．２２（ｓ，９Ｈ）．
（ｂ）Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２−［（１Ｈ−イミダゾール−２−イルチオ）メチル］ベンゼンスルホンアミドの合成
参考例１の方法に準じて、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２−メチルベンゼンスルホンアミドとＮ−ブロモこはく酸イミドとの反応を行ない、２−（ブロモメチル）−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）ベンゼンスルホンアミドを合成した。上記化合物（２．８８ｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）溶液を、０℃にて、２−メルカプトイミダゾール（４５０ｍｇ，４．４９ｍｍｏｌ）の２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（６．７ｍｌ）に加え、室温で２時間攪拌した。反応後、０℃まで冷却し、飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を水、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝４０／１で溶出）で精製することにより、表題化合物（８４０ｍｇ，５７．５％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．８９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，１．５Ｈｚ），７．２５−７．５０（ｍ，３Ｈ），７．０８（ｂｒ，２Ｈ），４．６６（ｓ，２Ｈ），１．１１（ｓ，９Ｈ）．
（ｃ）Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）ベンゼンスルホンアミドの合成
実施例１（ｂ）の方法に準じて、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２−［（１Ｈ−イミダゾール−２−イルチオ）メチル］ベンゼンスルホンアミドと１−（クロロメチル）ナフタレンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４，１．３Ｈｚ），７．７５−８．０５（ｍ，３Ｈ），７．１５−７．６０（ｍ，６Ｈ），７．１６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），５．５７（ｓ，２Ｈ），４．８４（ｓ，２Ｈ），１．１９（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４６６．１，３．１３分
（ｄ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）ベンゼンスルホンアミドの合成
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）ベンゼンスルホンアミド（８６０ｍｇ，１．８５ｍｍｏｌ）をトリフルオロ酢酸（６ｍｌ）に溶解させ、６０℃にて２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧留去した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、表題化合物（６５８ｍｇ，８６．８％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．８５−８．００（ｍ，４Ｈ），７．３０−７．７０（ｍ，８Ｈ），７．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），６．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．５２（ｓ，２Ｈ），４．６８（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４０９．８，３．４４分
（ａ）２−［（｛１−（１−ナフチルメチル）−４−［２−（ピリミジン−２−イルアミノ）エチル］−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸メチルの合成
実施例１（ｂ）の方法に準じて、２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルと２−クロロピリミジンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．２１−８．２９（ｍ，２Ｈ），７．９４−８．００（ｍ，１Ｈ），７．６２−７．８７（ｍ，３Ｈ），７．３０−７．５２（ｍ，５Ｈ），７．１６−７．２３（ｍ，１Ｈ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．４６−６．５０（ｍ，２Ｈ），５．６６（ｂｒ，１Ｈ），５．１０（ｓ，２Ｈ），４．６６（ｓ，２Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．６９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５，６．５Ｈｚ），２．８１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５１０．１，３．４２分
（ｂ）２−［（｛１−（１−ナフチルメチル）−４−［２−（ピリミジン−２−イルアミノ）エチル］−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−［（｛１−（１−ナフチルメチル）−４−［２−（ピリミジン−２−イルアミノ）エチル］−１Ｈ−イミダゾール−２−イル｝チオ）メチル］安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４９６．１，３．２２分
（ａ）２−｛［（１−（１−ナフチルメチル）−４−｛２−［（５−ニトロピリジン−２−イル）アミノ］エチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル｝安息香酸メチルの合成
実施例１（ｂ）の方法に準じて、２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルと２−クロロ−５−ニトロピリジンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）８．８９（ｂｒ，１Ｈ），７．８２−８．８９（ｍ，５Ｈ），７．２５−７．５５（ｍ，６Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），６．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），５．３１（ｓ，２Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．６４（ｂｒ，２Ｈ），２．７３（ｂｒ，２Ｈ）．
（ｂ）２−（｛［４−｛２−［（５−アミノピリジン−２−イル）アミノ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−｛［（１−（１−ナフチルメチル）−４−｛２−［（５−ニトロピリジン−２−イル）アミノ］エチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル｝安息香酸メチル（７５．０ｍｇ，０．１３５ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）溶液に二塩化スズ二水和物（１５３ｍｇ，０．６７７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃にて１時間攪拌した。反応後、反応液を０℃の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、クロロホルムにて抽出した。この有機層を水、飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１０／１で溶出）で精製することにより、表題化合物（４０．２ｍｇ，５６．９％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９５−７．９９（ｍ，１Ｈ），７．７６−７．８８（ｍ，２Ｈ），７．６２−７．６６（ｍ，２Ｈ），７．２７−７．５４（ｍ，５Ｈ），７．１１−７．１６（ｍ，１Ｈ），６．８７−６．９３（ｍ，２Ｈ），６．４７（ｓ，１Ｈ），６．２６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），５．１１（ｓ，２Ｈ），４．６５（ｓ，２Ｈ），４．６１（ｂｒ，１Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．４６−３．５１（ｍ，２Ｈ），３．１２（ｂｒ，２Ｈ），２．７８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５２４．４，３．３４分
（ｃ）２−（｛［４−｛２−［（５−アミノピリジン−２−イル）アミノ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−｛２−［（５−アミノピリジン−２−イル）アミノ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５１０．１，３．１７分
（ａ）２−（｛［４−（２−ヒドロキシエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−（｛［４−（２−アミノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（３６６ｍｇ，０．８４１ｍｍｏｌ）の酢酸（８ｍｌ）溶液に、室温にて酢酸ナトリウム（３４５ｍｇ，４．２１ｍｍｏｌ）と亜硝酸ナトリウム（６３．４ｍｇ，０．９３３ｍｍｏｌ）を加えた後、５０℃にて攪拌した。２時間後、さらに１時間後にそれぞれ亜硝酸ナトリウム（６３．４ｍｇ，０．９３３ｍｍｏｌ）の水溶液（３ｍｌ）を加え、その後さらに１時間攪拌した。反応後、これを０℃に冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をメタノール（６ｍｌ）に溶解し、炭酸カリウム（５８１ｍｇ，４．２１ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１時間攪拌した。反応後、飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を飽和食塩水で洗浄してから、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１００／１→９８／１）で精製することにより、表題化合物（２３０ｍｇ）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．６０−８．０５（ｍ，４Ｈ），７．１０−７．５２（ｍ，６Ｈ），６．９２（ｂｒ，１Ｈ），６．４７（ｓ，１Ｈ），５．１６（ｓ，２Ｈ），４．６７（ｓ，２Ｈ），３．８４−３．９５（ｍ，２Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），２．７０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）．
（ｂ）２−（｛［４−｛２−［（メチルスルホニル）オキシ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−（｛［４−（２−ヒドロキシエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（１００ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液に氷冷下にてトリエチルアミン（４６．８ｍｇ，０．４６ｍｍｏｌ），塩化メタンスルホニル（３４．４ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ），触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加えた。氷冷下２時間攪拌後、反応液を氷水に注ぎ、生成物を酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧溜去することにより、表題化合物を（９０．８ｍｇ，７６．２％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９５−８．０５（ｍ，１Ｈ），７．７５−７．９０（ｍ，２Ｈ），７．６２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１０−７．６０（ｍ，６Ｈ），６．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．５１（ｓ，１Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），４．６７（ｓ，２Ｈ），４．４６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．８６（ｓ，３Ｈ），２．９５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），２．７５（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５１１．２，３．２６分
（ｃ）２−（｛［４−［２−（４−メチルピペラジン−１−イル）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
２−（｛［４−｛２−［（メチルスルホニル）オキシ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル（９０ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）に溶解し、炭酸カリウム（７３．１ｍｇ，０．５４ｍｍｏｌ）、１−メチルピペラジン（１９．４ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）と触媒量のヨウ化カリウムを加え、６０℃にて８時間攪した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧溜去した。残査をシリカゲルクロマトグラフィー（１０％メタノール／クロロホルム）で精製することにより、表題化合物（４１．２ｍｇ，４５．４％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９０−８．００（ｍ，１Ｈ），７．６０−７．９０（ｍ，３Ｈ），７．２５−７．５５（ｍ，５Ｈ），７．０５−７．１５（ｍ，１Ｈ），６．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），６．４７（ｓ，１Ｈ），５．０８（ｓ，２Ｈ），４．６２（ｓ，２Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），２．３０−２．８０（ｍ，１２Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５１５．４，２．８９分
（ｄ）２−（｛［４−［２−（４−メチルピペラジン−１−イル）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−［２−（４−メチルピペラジン−１−イル）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）６．５０−７．９０（ｍ，１２Ｈ），６．３４（ｓ，１Ｈ），５．０９（ｓ，２Ｈ），４．４６（ｓ，２Ｈ），２．００−２．７０（ｍ，１２Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５０１．１，２．３６分
（ａ）２−（｛［４−（２−アニリノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例３０（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−｛２−［（メチルスルホニル）オキシ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルとアニリンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，１．５Ｈｚ），７．７８−７．８７（ｍ，２Ｈ），７．６０−７．６３（ｍ，１Ｈ），７．１０−７．５３（ｍ，８Ｈ），６．８９−６．９１（ｍ，１Ｈ），６．５１−６．６９（ｍ，３Ｈ），６．４４（ｓ，１Ｈ），５．１３（ｓ，２Ｈ），４．６８（ｓ，２Ｈ），３．８３（ｓ，３Ｈ），３．３７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），２．７９（ｔ，２Ｈ，６．４Ｈｚ），１．５９（ｂｒ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５０８．４，４．３０分
（ｂ）２−（｛［４−（２−アニリノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−（２−アニリノエチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．８６−７．９２（ｍ，２Ｈ），７．６７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０，１．２Ｈｚ），７．６１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４，０．８Ｈｚ），７．３８−７．５６（ｍ，６Ｈ），６．９９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，１．２Ｈｚ），６．７２−６．７４（ｍ，１Ｈ），６．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．３９（ｓ，１Ｈ），５．２４（ｓ，２Ｈ），４．６０（ｓ，２Ｈ），３．２７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．７３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４９４．０，３．３４分
（ａ）２−（｛［４−［２−（４−クロロフェノキシ）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルと２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４−ビニル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例３０（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−｛２−［（メチルスルホニル）オキシ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルと４−クロロフェノールの反応を行ない、表題化合物を合成した。
２−（｛［４−［２−（４−クロロフェノキシ）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．６２−７．９９（ｍ，４Ｈ），７．１５−７．５３（ｍ，７Ｈ），７．０８（ｂｒ，１Ｈ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．７２−６．８０（ｍ，２Ｈ），６．５３（ｓ，１Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．８４（ｓ，３Ｈ），２．９７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）．
２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４−ビニル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチル；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．２６（ｂｒ，１Ｈ），８．０１（ｂｒ，１Ｈ），７．９６−８．００（ｍ，２Ｈ），７．７７−７．８７（ｍ，２Ｈ），７．６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２５−７．５２（ｍ，６Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．６１（ｓ，１Ｈ），６．４８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．４，１１．０Ｈｚ），５．８５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．４，１．８Ｈｚ），５．１１（ｓ，２Ｈ），５．０５−５．１２（ｍ，１Ｈ），４．７２（ｓ，２Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ）．
（ｂ）２−（｛［４−［２−（４−クロロフェノキシ）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−［２−（４−クロロフェノキシ）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１３．２１（ｂｒｓ，１Ｈ），７．８４−７．９６（ｍ，４Ｈ），７．４５−７．５６（ｍ，２Ｈ），７．１９−７．３９（ｍ，６Ｈ），６．９０−６．９５（ｍ，３Ｈ），６．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．３３（ｓ，２Ｈ），４．５８（ｓ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），２．８８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）．
（ｃ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４−ビニル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４−ビニル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１３．１６（ｂｒｓ，１Ｈ），７．８２−７．９７（ｍ，４Ｈ），７．３１−７．５６（ｍ，６Ｈ），７．１２（ｓ，１Ｈ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．４９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．５，１０．８Ｈｚ），５．７３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．５，２．２Ｈｚ），５．３７（ｓ，２Ｈ），５．０２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．８，２．２Ｈｚ），４．６７（ｓ，２Ｈ）．
（ａ）ｔｅｒｔ−ブチル ４−（ニトロアセチル）ピペリジン−１−カルボキシラートの合成
文献記載（Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．，２００１，３，３１５３．およびＳｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９８，２８，３９５．）の方法に準じて、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペリジン−４−カルボン酸からｔｅｒｔ−ブチル ４−（１Ｈ−イミダゾール−１−イルカルボニル）ピペリジン−１−カルボキシラートを経て表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）５．９５（ｓ，２Ｈ），３．９２（ｂｒ，２Ｈ），２．６４−２．８４（ｍ，３Ｈ），１．８３（ｂｒ，２Ｈ），１．３８（ｓ，９Ｈ），１．２５−１．４４（ｍ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２７３．１，３．９１分
（ｂ）ｔｅｒｔ−ブチル ４−（２−メルカプト−１Ｈ−イミダゾール−４−イル）ピペリジン−１−カルボキシラートの合成
ｔｅｒｔ−ブチル ４−（ニトロアセチル）ピペリジン−１−カルボキシラート（３．４５ｇ，１２．７ｍｍｏｌ）を酢酸（２０ｍｌ）、メタノール（１５ｍｌ）および２Ｍ塩酸水（１２ｍｌ）に溶解させ、これに１０％Ｐｄ−Ｃ（５０％ｗｅｔ．，２．６ｇ）を加え、水素雰囲気下（常圧で８時間、５気圧で８時間）にて攪拌した。反応容器を窒素雰囲気にした後、この反応液を濾過し、得られた濾液の溶媒を減圧留去することにより、２−アミノ−１−ピペリジン−４−イルエタノン二塩酸塩を得た。さらに実施例４（ａ）の方法に準じて、得られた上記化合物（粗生成物：２．７３ｇ）とチオシアン化カリウムの反応を行ない、さらに得られた化合物上の二級アミンをｔｅｒｔ−ブチルカルボニル基で保護することにより、表題化合物（８６９ｍｇ，三工程２４．１％）を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１１．９２（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．６８（ｂｒｓ，１Ｈ），６．５３（ｓ，１Ｈ），３．９４（ｂｒ，２Ｈ），２．７１（ｂｒ，２Ｈ），１．７８（ｂｒ，２Ｈ），１．３８（ｓ，９Ｈ），１．２６−１．４２（ｍ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２８４．３，３．４４分
（ｃ）ｔｅｒｔ−ブチル ４−（２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１Ｈ−イミダゾール−４−イル）ピペリジン−１−カルボキシラートの合成
実施例２７（ｂ）の方法に準じて、ｔｅｒｔ−ブチル ４−（２−メルカプト−１Ｈ−イミダゾール−４−イル）ピペリジン−１−カルボキシラートと２−（ブロモメチル）安息香酸メチルの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）９．２１（ｂｒｓ，１Ｈ），７．９４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２，１．８Ｈｚ），７．３２（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２，７．２，１．８Ｈｚ），７．１０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．６４（ｂｒ，１Ｈ），４．５１（ｓ，１Ｈ），４．１３（ｒ，２Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），２．６０−２．９２（ｍ，３Ｈ），１．９６（ｂｒ，２Ｈ），１．４７（ｓ，９Ｈ），１．４０−１．５３（ｍ，１Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４３２．０，３．４８分
（ｄ）ｔｅｒｔ−ブチル ４−［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］ピペリジン−１−カルボキシラートの合成
実施例１（ｂ）の方法に準じて、ｔｅｒｔ−ブチル ４−（２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１Ｈ−イミダゾール−４−イル）ピペリジン−１−カルボキシラートと１−（クロロメチル）ナフタレンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９６−８．００（ｍ，１Ｈ），７．７６−７．８７（ｍ，２Ｈ），７．６０−７．６６（ｍ，１Ｈ），７．２９−７．５２（ｍ，４Ｈ），７．０８−７．１２（ｍ，１Ｈ），６．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．３８（ｓ，１Ｈ），５．１０（ｓ，２Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），４．０８（ｂｒ，２Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），２．８１（ｂｒ，２Ｈ），２．６１−２．７４（ｍ，１Ｈ），１．９４（ｂｒ，２Ｈ），１．４５（ｓ，９Ｈ），１．４０−１．５６（ｍ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５７２．０，４．０５分
（ｅ）２−（｛［４−［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペリジン−４−イル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施１（ｃ）の方法に準じて、ｔｅｒｔ−ブチル ４−［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］ピペリジン−１−カルボキシラートの加水分解反応を行ない、表題化合物に導いた。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．６０−７．９０（ｍ，４Ｈ），７．２５−７．５６（ｍ，６Ｈ），６．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．２９（ｓ，１Ｈ），５．２７（ｓ，２Ｈ），４．５９（ｓ，２Ｈ），４．０４（ｂｒ，２Ｈ），２．５８−２．７３（ｍ，３Ｈ），１．７９（ｂｒ，２Ｈ），１．４０（ｓ，９Ｈ），１．１４−２．２５（ｍ，１Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５５８．０，３．８６分
（ｆ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４−ピペリジン−４−イル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸塩酸塩の合成
実施例７の方法に準じて、２−（｛［４−［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペリジン−４−イル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の脱保護（脱ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）反応を行ない、表題化合物に導いた。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）９．１３（ｂｒｓ，１Ｈ），９．０１（ｂｒｓ，１Ｈ），７．７６−８．０３（ｍ，４Ｈ），７．２５−７．７８（ｍ，６Ｈ），６．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．５４（ｓ，２Ｈ），４．８１（ｓ，２Ｈ），３．２８（ｂｒ，２Ｈ），２．９８（ｂｒ，３Ｈ），２．１３（ｂｒ，２Ｈ），１．７５（ｂｒ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４５８．０，３．３８分
（ａ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４−ピペリジン−４−イル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例４（ｄ）の方法に準じて、ｔｅｒｔ−ブチル ４−［２−｛［２−（メトキシカルボニル）ベンジル］チオ｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］ピペリジン−１−カルボキシラートの脱保護（脱ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）反応を行ない、表題化合物に導いた。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４７２．０，３．６７分
（ｂ）２−（｛［４−｛１−［（１−メチルピペリジン−４−イル）カルボニル］ピペリジン−４−イル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例６（ａ）の方法に準じて、２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４−ピペリジン−４−イル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルと１−メチルピペリジン−４−カルボン酸の縮合反応を行ない、表題化合物に導いた。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９６−８．００（ｍ，１Ｈ），７．７７−７．８５（ｍ，２Ｈ），７．６３−７．８９（ｍ，１Ｈ），７．２０−７．５２（ｍ，５Ｈ），７．０５−７．１２（ｍ，１Ｈ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），６．３８（ｓ，１Ｈ），５．１１（ｓ，２Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），４．５６−４．６５（ｍ，２Ｈ），３．８４−３．８９（ｍ，２Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．４９（ｓ，３Ｈ），３．１２（ｂｒ，１Ｈ），２．９７（ｂｒ，２Ｈ），１．４０−２．８６（ｍ，２０Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５９７．５，３．５７分
（ｃ）２−（｛［４−｛１−［（１−メチルピペリジン−４−イル）カルボニル］ピペリジン−４−イル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−｛１−［（１−メチルピペリジン−４−イル）カルボニル］ピペリジン−４−イル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５８３．２，３．４５分
（ａ）２−｛［（４−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル｝安息香酸メチルの合成
実施例２７（ｂ）の方法に準じて、文献既知（Ｓｙｎｌｅｔｔ，１９９５，２３９）の４−メチル−２−チオイミダゾールと２−（ブロモメチル）安息香酸メチルの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９２−７．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７，７．５Ｈｚ），７．２７−７．３９（ｍ，２Ｈ），７．１２−７．１５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７，７．５Ｈｚ），６．７１（ｓ，１Ｈ），４．５０（ｓ，２Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），２．２０（ｂｒ，３Ｈ）．
（ｂ）２−（｛［４−メチル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例１（ｂ）の方法に準じて、２−｛［（４−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル｝安息香酸メチルと１−（クロロメチル）ナフタレンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．６３−８．０１（ｍ，４Ｈ），７．２６−７．５１（ｍ，６Ｈ），６．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．４１（ｓ，１Ｈ），５．０７（ｓ，２Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），２．１８（ｓ，３Ｈ））．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４０３．４，４．１９分
（ｃ）２−（｛［４−メチル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［４−メチル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．３０−７．９２（ｍ，１０Ｈ），７．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．３５（ｓ，１Ｈ），５．２９（ｓ，２Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），２．１０（ｂｒｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３８９．４，３．８２分
（ａ）５−メチル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−チオールの合成
実施例２５（ａ）の方法に準じて、１−ヒドロキシアセトンと（１−ナフチルメチル）アミンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１２．１４（ｓ，１Ｈ），８．２２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．９５−８．００（ｍ，１Ｈ），７．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．５５−７．６５（ｍ，２Ｈ），７．４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，７．７Ｈｚ），６．７８（ｓ，１Ｈ），６．７１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．７３（ｓ，２Ｈ），１．９０（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２５５．２，３．６７分
（ｂ）２−（｛［５−メチル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例１（ａ）の方法に準じて、５−メチル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−チオールと２−（ブロモメチル）安息香酸エチルとの反応を行ない、さらに実施例１（ｃ）の方法に準じて、得られた２−（｛［５−メチル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行うことにより、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４０３．４，３．５４分
（ａ）１−（１−ナフチルメチル）−４，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−チオールの合成
実施例２５（ａ）の方法に準じて、２−ヒドロキシシクロヘキサノンと（１−ナフチルメチル）アミンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１２．１０（ｓ，１Ｈ），７．９４−７．９９（ｍ，１Ｈ），７．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５２−７．６２（ｍ，２Ｈ），７．４３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９，７．２Ｈｚ），６．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．６５（ｓ，２Ｈ），２．３５（ｂｒ，２Ｈ），２．０９（ｂｒ，２Ｈ），１．６０（ｂｒ，４Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２９５．３，４．１３分
（ｂ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例１（ａ）の方法に準じて、１−（１−ナフチルメチル）−４，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−チオールと２−（ブロモメチル）安息香酸エチルとの反応を行ない、さらに実施例１（ｃ）の方法に準じて、得られた２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−４，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行うことにより、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．８４−８．００（ｍ，４Ｈ），７．２８−７．６５（ｍ，６Ｈ），６．４７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．５３（ｓ，２Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），２．６０（ｂｒ，２Ｈ），２．２７（ｂｒ，２Ｈ），１．７１（ｂｒ，４Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４２９．４，２．８７分
（ａ）２−（｛［４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸エチルの合成
実施例１（ａ）の方法に準じて、ｔｅｒｔ−ブチル ２−（２−メルカプト−１Ｈ−イミダゾール−４−イル）エチルカルバメートと２−（ブロモメチル）安息香酸エチルとの反応を行ない、さらに実施例１（ｂ）の方法に準じて、得られた２−（｛（４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ｝エチル）安息香酸エチルと１−（クロロメチル）ナフタレンの反応を行ない、表題化合物に導いた。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９６−８．０１（ｍ，１Ｈ），７．７７−７．８６（ｍ，２Ｈ），７．６２−７．６６（ｍ，１Ｈ），７．２６−７．５１（ｍ，５Ｈ），７．１１−７．１６（ｍ，１Ｈ），６．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．４５（ｓ，１Ｈ），５．１２（ｂｒ，１Ｈ），５．１１（ｓ，１Ｈ），４．６６（ｓ，１Ｈ），４．３２（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．３８（ｄｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），２．６６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），１．４２（ｓ，９Ｈ），１．３３（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５４６．３，４．２４分
（ｂ）２−（｛［４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−５−クロロ−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸エチルの合成
２−（｛［４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸エチル（７６０ｍｇ，１．３９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液にＮ−クロロこはく酸イミド（１８０ｍｇ，１．３９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間、５０℃で２時間攪拌した。反応液を氷冷下にて重曹水に注ぎ、生成物を酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧溜去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９０／１０→ヘキサン／酢酸エチル＝５０／５０）で精製することにより、表題化合物（４４２ｍｇ，５４．７％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．８０−７．９８（ｍ，３Ｈ），７．７１−７．７５（ｍ，１Ｈ），７．５２−７．６０（ｍ，２Ｈ），７．３２−７．４０（ｍ，２Ｈ），７．２２−７．２８（ｍ，１Ｈ），７．１５−７．１９（ｍ，１Ｈ），６．３４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．３３（ｓ，２Ｈ），５．０１（ｂｒ，１Ｈ），４．５７（ｓ，２Ｈ），４．２３（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．４９−４．１２（ｍ，２Ｈ），２．８０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．４６（ｓ，９Ｈ），１．２５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５８０．２，５．０７分
（ｃ）２−（｛［４−（２−アミノエチル）−５−クロロ−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸エチルの合成
実施例４（ｄ）の方法に準じて、２−（｛［４−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］エチル｝−５−クロロ−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸エチルの保護基（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基）の除去を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．７２−７．９８（ｍ，４Ｈ），７．２７−７．６１（ｍ，５Ｈ），７．１６−７．１９（ｍ，１Ｈ），６．３４−６．３８（ｍ，１Ｈ），５．４０（ｓ，２Ｈ），４．５３（ｓ，２Ｈ），４．２４（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．４１（ｂｒ，２Ｈ），３．００（ｂｒ，２Ｈ），１．２５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４８０．１，４．１１分
（ｄ）２−（｛［５−クロロ−４−（２−｛［（１−メチルピペリジン−４−イル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸エチルの合成
実施例６（ａ）の方法に準じて、２−（｛［４−（２−アミノエチル）−５−クロロ−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸エチルと１−メチルピペリジン−４−カルボン酸の縮合反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．７２−７．９７（ｍ，４Ｈ），７．５３−７．５９（ｍ，２Ｈ），７．１３−７．３９（ｍ，４Ｈ），６．５７（ｂｒ，１Ｈ），６．３３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），５．３４（ｓ，２Ｈ），４．５７（ｓ，２Ｈ），４．２３（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．６１−３．６７（ｍ，２Ｈ），２．７８−２．９０（ｍ，４Ｈ），２．２６（ｓ，３Ｈ），１．７５−２．０８（ｍ，８Ｈ），１．２７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：６０５．４，３．８７分
（ｅ）２−（｛［５−クロロ−４−（２−｛［（１−メチルピペリジン−４−イル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［５−クロロ−４−（２−｛［（１−メチルピペリジン−４−イル）カルボニル］アミノ｝エチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸エチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５７７．３，３．６６分
（ａ）２−（｛［５−クロロ−４−［２−（イソニコチノイルアミノ）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸エチルの合成
実施例６（ａ）の方法に準じて、２−（｛［４−（２−アミノエチル）−５−クロロ−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸エチルとイソニコチン酸との縮合反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．６８−８．７２（ｍ，２Ｈ），７．８３−７．９５（ｍ，３Ｈ），７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６５−７．６８（ｍ，２Ｈ），７．５０−７．６２（ｍ，２Ｈ），７．２１−７．３２（ｍ，３Ｈ），７．０７−７．１１（ｍ，１Ｈ），６．３６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），５．４１（ｓ，２Ｈ），４．５４（ｓ，２Ｈ），４．２２（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．８３（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），２．９１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．２５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５８５．２，４．２０分
（ｂ）２−（｛［５−クロロ−４−［２−（イソニコチノイルアミノ）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［５−クロロ−４−［２−（イソニコチノイルアミノ）エチル］−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸エチルの加水分解合反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）９．１６（ｂｒ，１Ｈ），８．６７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．９０−７．９６（ｍ，２Ｈ），７．７２−７．８０（ｍ，４Ｈ），７．５３−７．６１（ｍ，２Ｈ），７．０９−７．３４（ｍ，４Ｈ），６．２８−６．３３（ｍ，１Ｈ），５．３２（ｓ，２Ｈ），４．６０（ｓ，２Ｈ），３．５５−３．６１（ｍ，２Ｈ），２．８０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：５５７．２，３．７６分
（ａ）［２−メルカプト−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］メタノールの合成
実施例２５（ａ）の方法に準じて、２，３−ジヒドロキシプロパナールと（１−ナフチルメチル）アミンとの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１２．２２（ｂｒ，１Ｈ），８．１８−８．２３（ｍ，１Ｈ），７．８７−７．９６（ｍ，２Ｈ），７．４５−７．５７（ｍ，３Ｈ），７．３６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．６１（ｓ，１Ｈ），５．５５（ｓ，２Ｈ），５．０５（ｂｒ，１Ｈ），４．１６（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２７１．２，３．７４分
（ｂ）２−（｛［４−（ヒドロキシメチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸ｔｅｒｔ−ブチルの合成
実施例１（ａ）の方法に準じて、［２−メルカプト−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］メタノールと２−（ブロモメチル）安息香酸ｔｅｒｔ−ブチルとの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．７５−７．９７（ｍ，４Ｈ），７．４７−７．５７（ｍ，２Ｈ），７．３５−７．４５（ｍ，３Ｈ），７．２０−７．２５（ｍ，１Ｈ），６．９２（ｓ，１Ｈ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．３３（ｓ，２Ｈ），４．８７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），４．５３（ｓ，２Ｈ），４．３２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），１．４５（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４６１．４，３．０９分
（ｃ）２−（｛［４−ホルミル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸ｔｅｒｔ−ブチルの合成
実施例２６（ａ）の方法に準じて、２−（｛［４−（ヒドロキシメチル）−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸ｔｅｒｔ−ブチルの酸化反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）９．６６（ｓ，１Ｈ），７．８８−８．０４（ｍ，５Ｈ），７．３５−７．５９（ｍ，６Ｈ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．５３（ｓ，２Ｈ），４．６８（ｓ，２Ｈ），１．４４（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４５９．４，４．２８分
（ｄ）２−｛［１−（１−ナフチルメチル）−４−｛［（ピリジン−４−イルメチル）アミノ］メチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル｝安息香酸 二塩酸塩の合成
実施例１９（ａ）の方法に準じて、２−（｛［４−ホルミル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝メチル）安息香酸ｔｅｒｔ−ブチルと（ピリジン−４−イルメチル）アミンとの反応を行ない、さらに実施例７の方法に準じて、得られた２−｛［（１−（１−ナフチルメチル）−４−｛［（ピリジン−４−イルメチル）アミノ］メチル｝−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）チオ］メチル｝安息香酸ｔｅｒｔ−ブチルの脱保護反応を行ない、表題化合物を合成した。表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）８．４５−８．４９（ｍ，２Ｈ），７．７８−７．９８（ｍ，４Ｈ），７．４８−７．５７（ｍ，２Ｈ），７．２４−７．４２（ｍ，６Ｈ），６．９６（ｓ，１Ｈ），６．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．３５（ｓ，２Ｈ）；４．６２（ｓ，２Ｈ），３．７７（ｓ，２Ｈ），３．６２（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４９５．３，３．２８分
（ａ）１−（１−ナフチルメチル）−２−ニトロ−１Ｈ−イミダゾールの合成
実施例１（ｂ）の方法に準じて、２−ニトロ−１Ｈ−イミダゾールと１−（クロロメチル）ナフタレンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．９１−７．９８（ｍ，２Ｈ），７．７７−７．８２（ｍ，１Ｈ），７．５３−７．６０（ｍ，２Ｈ），７．４８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２、８．３Ｈｚ），７．２２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），６．７７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），６．０７（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２５４．１，３．８９分
（ｂ）１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−アミンの合成
１−（１−ナフチルメチル）−２−ニトロ−１Ｈ−イミダゾール（５００ｍｇ，１．９８ｍｍｏｌ）のメタノール（５ｍｌ）と酢酸エチル（１０ｍｌ）混合溶液に、１０％Ｐｄ−Ｃ（５０％ｗｅｔ，３００ｍｇ）を加え、水素雰囲気下で１時間攪拌した。反応容器を窒素雰囲気にした後、この反応液を濾過し、得られた濾液の溶媒を減圧留去することにより、表題化合物（４０５ｍｇ，９１．６％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．９４−８．０６（ｍ，２Ｈ），７．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．５２−７．６５（ｍ，２Ｈ），７．４５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，７．７Ｈｚ），６．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），６．４３（ｂｒｓ，１Ｈ），６．４０（ｂｒｓ，１Ｈ），５．４７（ｂｒｓ，２Ｈ），６．４０（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２２４．４，２．５９分
（ｃ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝カルボニル）安息香酸ｔｅｒｔ−ブチルの合成
実施例６（ａ）の方法に準じて、１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−アミンとフタル酸−モノ−（ｔｅｒｔ−ブチル）エステルとの縮合反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．０８−８．１５（ｍ，１Ｈ），７．９５−７．９９（ｍ，１Ｈ），７．８５−７．９２（ｍ，２Ｈ），７．６０−７．６５（ｍ，１Ｈ），７．３６−７．５８（ｍ，６Ｈ），６．６１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），６．３３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４２８．０，３．７６分
（ｄ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝カルボニル）安息香酸の合成
実施例７の方法に準じて、２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝カルボニル）安息香酸ｔｅｒｔ−ブチルの脱保護反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）８．１９（ｂｒ，１Ｈ），７．７５−７．８０（ｍ，３Ｈ），７．４５−７．６５（ｍ，６Ｈ），７．３５−７．３８（ｍ，１Ｈ），６．８３（ｂｒ，２Ｈ），５．６３（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３７２．０，３．０４分
（ａ）１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−カルバルデヒドの合成
実施例１（ｂ）の方法に準じて、２−ホルミル−１Ｈ−イミダゾールと１−（クロロメチル）ナフタレンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）９．９５（ｓ，１Ｈ），７．８０−７．９４（ｍ，３Ｈ），７．４０−７．５８（ｍ，３Ｈ），７．４７−７．２５（ｍ，２Ｈ），６．９３（ｓ，１Ｈ）．
（ｂ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］メチル｝アミノ）安息香酸メチルの合成
実施例１９（ａ）の方法に準じて、１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−カルバルデヒドと２−アミノ安息香酸メチルの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．２３（ｂｒ，１Ｈ），７．７５−７．９０（ｍ，４Ｈ），７．４４−７．５５（ｍ，２Ｈ），７．２８−７．３６（ｍ，２Ｈ），７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），６．８０−６．８９（ｍ，２Ｈ），６．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），５．６４（ｓ，２Ｈ），４．５２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．５Ｈｚ），３．７３（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３７２．３，３．２４分
（ｃ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］メチル｝アミノ）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］メチル｝アミノ）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）８．３４（ｂｒ，１Ｈ），７．９５−８．０３（ｍ，２Ｈ），７．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９，１．５Ｈｚ），７．５０−７．６０（ｍ，２Ｈ），７．１２−７．４１（ｍ，４Ｈ），６．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０，７．０Ｈｚ），５．８５（ｓ，２Ｈ），４．６１（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３５８．３，３．０９分
（ａ）１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−カルボン酸の合成
１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−カルバルデヒド（３００ｍｇ，１．２７ｍｍｏｌ）をｔｅｒｔ−ブチルアルコール（８ｍｌ）、ジクロロメタン（４ｍｌ）と水（２．５ｍｌ）の混合溶媒に溶解させ、これに室温にて２−メチル２−ブテン（３９２ｍｇ，５．５９ｍｍｏｌ）、リン酸二水素ナトリウム（１９８ｍｇ，１．２７ｍｍｏｌ）、亜塩素酸ナトリウム（４０２ｍｇ，４．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。生じた白色沈殿を濾取し、水、メタノールにて洗浄することにより、表題化合物（１６５ｍｇ，５１．５％）を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２５３．３，２．８９分
（ｂ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］カルボニル｝アミノ）安息香酸メチルの合成
縮合剤としてＰＹＢＯＰ（（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム・ヘキサフルオロリン化物塩）を用い、実施例６（ａ）の方法に準じて、１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−カルボン酸と２−アミノ安息香酸メチルの反応を行ない、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３８６．０，４．８８分
（ｃ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］カルボニル｝アミノ｝安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］カルボニル｝アミノ）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１３．８２（ｂｒ，１Ｈ），８．５５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．１７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．９８−８．０４（ｍ，２Ｈ），７．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５６−７．６５（ｍ，２Ｈ），７．３６−７．４７（ｍ，３Ｈ），７．１８（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，７．７Ｈｚ），６．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．２８（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３７２．０，４．２３分
（ａ）４−（２−ニトロベンゾイル）モルホリンの合成
実施例１８（ａ）の方法に準じて、２−ニトロベンゾイルクロリドとモルホリンとの反応を行ない、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２３７．０，２．１２分
（ｂ）フェニル ［２−（モルホリン−４−イルカルボニル）フェニル］カルバメートの合成
実施例４１（ｂ）の方法に準じて、４−（２−ニトロベンゾイル）モルホリンのニトロ基の還元反応を行ない、得られた４−（２−アミノベンゾイル）モルホリン（２．３ｇ，１１．１５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０ｍｌ）溶液にクロロ炭酸フェニル（３．４９ｇ，２２．３０ｍｍｏｌ）を加え４０〜５０℃で１時間、室温で１２時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧溜去した。得られた残渣をエーテル・ヘキサン混合溶媒にて洗浄、濾取することにより、表題化合物（２．９９ｇ，８２．２％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．６４（ｓ，１Ｈ），８．１９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３６−７．４７（ｍ，３Ｈ），７．１８−７．２６（ｍ，３Ｈ），７．０８−７．１３（ｍ，１Ｈ），３．７５（ｍ，８Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３２７．２，３．８２分
（ｃ）Ｎ−［２−（モルホリン−４−イルカルボニル）フェニル］−Ｎ’−［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］ウレアの合成
１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−アミン（２００ｍｇ，０．９０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（５ｍｌ）にフェニル ［２−（モルホリン−４−イルカルボニル）フェニル］カルバメート（３２１ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）と触媒量の４−ジメチルアミノピリジン（２１９ｍｇ，１．７９ｍｍｏｌ）を加えて２時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧溜去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム→クロロホルム／メタノール＝９８／２）で精製することにより、表題化合物（３９３．８ｍｇ，９６．５％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．２６（ｂｒ，１Ｈ），８．０１（ｂｒ，１Ｈ），７．８５−７．９２（ｍ，２Ｈ），７．４２−７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３６（ｂｒ，２Ｈ），７．１７−７．２２（ｍ，１Ｈ），６．５２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．２３（ｂｒｓ，１Ｈ），５．４４（ｓ，２Ｈ），３．６７（ｂｒｓ，８Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４５６．３，３．６１分
（ｄ）２−［（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝カルボニル）アミノ］安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、Ｎ−［２−（モルホリン−４−イルカルボニル）フェニル］−Ｎ’−［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］ウレアの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１０．７０（ｂｒｓ，１Ｈ），８．３１（ｂｒ，１Ｈ），７．９６−８．１３（ｍ，４Ｈ），７．５３−７．７０（ｍ，３Ｈ），７．５２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８，７．８Ｈｚ），７．１０−７．３７（ｍ，４Ｈ），５．８３（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３８６．９，３．５６分
（ａ）２−［（フェノキシカルボニル）アミノ］安息香酸メチルの合成
実施例４４（ｂ）の方法に準じて、２−アミノ安息香酸メチルとクロロギ酸フェニルとの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）１０．９１（ｓ，１Ｈ），８．４４−８．４７（ｍ，１Ｈ），８．０４−８．０８（ｍ，１Ｈ），７．５３−７．５９（ｍ，１Ｈ），７．３７−７．４４（ｍ，２Ｈ），７．１９−７．２７（ｍ，３Ｈ），７．０６−７．１１（ｍ，１Ｈ），３．９６（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２７２．０，４．８２分
（ｂ）エチル ［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］カルバメートの合成
１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−アミン（２４０ｍｇ，１．０７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１０ｍｌ）にクロロ炭酸エチル（１１７ｍｇ，１．０７ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。その後さらにクロロ炭酸エチル（３５１ｍｇ，３．２２ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（２１７ｍｇ，２．１５ｍｍｏｌ）を追加し、４０〜５０℃で２時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧溜去した。残渣をエタノール（５ｍｌ）に溶解し、これに２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１ｍｌ）を加え、４０〜５０℃にて１時間攪拌した。溶媒を減圧溜去し、得られた残渣を２Ｍ塩酸水にてｐＨを７前後に調整した後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧溜去することにより、表題化合物（２８０ｍｇ，７５．７％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．８６−７．９５（ｍ，３Ｈ），７．４３−７．５５（ｍ，３Ｈ），７．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），６．５４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．１９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），５．４８（ｓ，２Ｈ），４．２２（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．３５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２９６．１，３．４９分
（ｃ）Ｎ−メチル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−アミンの合成
エチル ［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］カルバメート（１．００ｇ，３．３９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液に、０℃にて水素化リチウムアルミニウム（２７０ｍｇ，６．７７ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２０分間した後、さらに１時間還流した。反応後、この溶液を０℃にし、水（２ｍｌ）、２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（４ｍｌ）、水（６ｍｌ）の順でこれらを加え、生成した沈殿物を濾過した。次に濾液に飽和食塩水と酢酸エチルを加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去することにより、表題化合物（５８２ｍｇ，７２．３％）を得た。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．８２−７．９４（ｍ，３Ｈ），７．５２−７．６１（ｍ，３Ｈ），７．３９−７．４４（ｍ，２Ｈ），６．９９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０，１．１Ｈｚ），６．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），６．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），５．３２（ｓ，２Ｈ），２．９４（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）
（ｄ）２−（｛メチル［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝メチル）安息香酸メチルの合成
実施例１９（ａ）の方法に準じて、Ｎ−メチル−１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−アミンと２−ホルミル安息香酸メチルの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．２５−７．９６（ｍ，１０Ｈ），７．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ），６．５０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ），５．２９（ｓ，２Ｈ），４．６０（ｓ，２Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），２．７３（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３８６．３，３．１７分
（ｅ）２−（｛メチル［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝メチル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛メチル［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝メチル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）６．９５−８．００（ｍ，１１Ｈ），６．３７（ｂｒ，２Ｈ），５．３３（ｓ，２Ｈ），４．９０（ｓ，２Ｈ），３．１５（ｂｒｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３７２．３，３．０１分
（ａ）２−［（｛メチル［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝カルボニル）アミノ］安息香酸メチルの合成
実施例４４（ｃ）の方法に準じて、２−（｛メチル［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝メチル）安息香酸メチルと２−［（フェノキシカルボニル）アミノ］安息香酸メチルの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）１０．４６（ｓ，１Ｈ），８．５３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１，１．７Ｈｚ），７．７９−７．８８（ｍ，３Ｈ），７．３５−７．５４（ｍ，４Ｈ），７．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ），６．９８−７．０４（ｍ，１Ｈ），６．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ），５．４９（ｓ，２Ｈ），３．７９（ｓ，３Ｈ），３．２４（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４１５．２，４．０１分
（ｂ）２−［（｛メチル［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝カルボニル）アミノ］安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−［（｛メチル［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝カルボニル）アミノ］安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１０．８５（ｂｒｓ，１Ｈ），８．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２，０．７Ｈｚ），８．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．７８−７．９０（ｍ，３Ｈ），７．３１−７．５３（ｍ，４Ｈ），７．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ），７．１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．９７−７．０３（ｍ，１Ｈ），６．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ），５．５６（ｓ，２Ｈ），２．９８（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４０１．４，３．６１分
（ａ）２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２−オキソエトキシ）安息香酸ベンジルの合成
実施例１（ｂ）の方法に準じて、サリチル酸ベンジルとブロモ酢酸ｔｅｒｔ−ブチルの反応を行ない、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３４３．２，４．４０分
（ｂ）｛２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］フェノキシ｝酢酸の合成
実施例７の方法に準じて、２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２−オキソエトキシ）安息香酸ベンジルの脱保護反応を行ない、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２８７．１，３．６８分
（ｃ）２−（２−｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝−２−オキソエトキシ）安息香酸ベンジルの合成
実施例６（ａ）の方法に準じて、１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−アミンと｛２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］フェノキシ｝酢酸の縮合反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．８０−７．９２（ｍ，４Ｈ），７．２３−７．５５（ｍ，７Ｈ），６．９３−７．０１（ｍ，２Ｈ），６．５２（ｂｒ，１Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），５．２１（ｓ，２Ｈ），４．８１（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４９２．２，４．２８分
（ｄ）２−（２−｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝−２−オキソエトキシ）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（２−｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝−２−オキソエトキシ）安息香酸ベンジルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）７．８５−８．１７（ｍ，３Ｈ），７．４０−７．６７（ｍ，５Ｈ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．０２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９，７．９Ｈｚ），６．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），５．５２（ｓ，２Ｈ），４．９０（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４０２．０，３．４８分
（ａ）２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２−オキソエトキシ）安息香酸の合成
実施例４１（ｂ）の方法に準じて、２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２−オキソエトキシ）安息香酸ベンジルの脱保護反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９，１．８Ｈｚ），７．５２−７．５９（ｍ，１Ｈ），７．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９，７．９Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），４．７２（ｓ，２Ｈ），１．５３（ｓ，９Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２５３．３，３．６９分
（ｂ）［２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝カルボニル）フェノキシ］酢酸ｔｅｒｔ−ブチルの合成
実施例６（ａ）の方法に準じて、１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−アミンと２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２−オキソエトキシ）安息香酸の縮合反応を行ない、表題化合物を合成した。；ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４５８．３，３．９１分
（ｃ）［２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝カルボニル）フェノキシ］酢酸の合成
実施例７の方法に準じて、［２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝カルボニル）フェノキシ］酢酸ｔｅｒｔ−ブチルの脱保護反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）８．３１（ｂｒ，１Ｈ），７．８０−８．２０（ｍ，３Ｈ），６．７７−７．６９（ｍ，１０Ｈ），５．６９−５．５３（ｍ，２Ｈ），４．３２−４．２５（ｍ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４０２．３，３．３２分
（ａ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝スルホニル）安息香酸メチルの合成
実施例１８（ａ）の方法に準じて、１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−アミンと２−（クロロスルホニル）安息香酸メチルの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．１５−８．１９（ｍ，１Ｈ），７．６６−７．９２（ｍ，２Ｈ），７．４０−７．６７（ｍ，１Ｈ），７．２０−７．２７（ｍ，６Ｈ），６．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），６．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），５．７４（ｓ，２Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４２２．２，４．５４分
（ｂ）２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝スルホニル）安息香酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、２−（｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］アミノ｝スルホニル）安息香酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１３．２５（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．３０（ｂｒ，１Ｈ），８．０５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．８７−７．９０（ｍ，２Ｈ），７．４４−７．５８（ｍ，６Ｈ），７．２６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．７１−６．７４（ｍ，２Ｈ），５．３７（ｓ，２Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４０８．１，３．１６分
（ａ）２−（モルホリン−４−イルカルボニル）安息香酸の合成
文献記載（Ｔｅｔｒａｄｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，１９７１，４１０５．およびＢｉｏｏｒｇ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，１９９７，７，１２８９．）の方法に準じて、無水フタル酸とモルホリンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，１．２Ｈｚ），７．６０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，７．７，１．２Ｈｚ），７．４８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，７．７，１．２Ｈｚ），７．３０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，１．２Ｈｚ），３．８２（ｂｒ，４Ｈ），３．６１（ｂｒ，２Ｈ），３．２０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝４．９，４．９Ｈｚ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２３５．９，２．８６分
（ｂ）２−（モルホリン−４−イルカルボニル）−Ｎ−［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］ベンズアミドの合成
実施例６（ａ）の方法に準じて、１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−アミンと２−（モルホリン−４−イルカルボニル）安息香酸の縮合反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）１２．２７（ｂｒ，１Ｈ），７．８４−８．３２（ｍ，１Ｈ），７．３０−７．５８（ｍ，２Ｈ），７．１９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），５．５０−５．７５（ｍ，２Ｈ），２．９０−３．８０（ｍ，８Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：４１１．２，３．２８分
（ａ）（１Ｈ−イミダゾール−２−イルチオ）（フェニル）酢酸メチルの合成
実施例１（ａ）の方法に準じて、２−チオイミダゾールと文献既知（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６３，６０２３（１９９８））のブロモ（フェニル）酢酸メチルの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．２４−７．３５（ｍ，５Ｈ），７．０７（ｓ，１Ｈ），５．１４（ｓ，１Ｈ），３．７１（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：２４９．０，２．８０分
（ｂ）｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝（フェニル）酢酸メチルの合成
実施例１（ｂ）の方法に準じて、（１Ｈ−イミダゾール−２−イルチオ）（フェニル）酢酸メチルと１−（クロロメチル）ナフタレンの反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．７１−７．９０（ｍ，３Ｈ），７．４７−７．５５（ｍ，２Ｈ），７．３０−７．４０（ｍ，６Ｈ），７．１１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），６．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），５．４３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ），５．３７（ｓ，１Ｈ），５．２６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ），３．７３（ｓ，３Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３８９．４，３．９９分
（ｃ）｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝（フェニル）酢酸の合成
実施例１（ｃ）の方法に準じて、｛［１−（１−ナフチルメチル）−１Ｈ−イミダゾール−２−イル］チオ｝（フェニル）酢酸メチルの加水分解反応を行ない、表題化合物を合成した。；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）７．８４−７．９１（ｍ，２Ｈ），７，２８−７．６３（ｍ，９Ｈ），７．０５（ｓ，１Ｈ），６．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．６９（ｓ，１Ｈ），５．３６（ｓ，２Ｈ），５．１６（ｓ，１Ｈ）．ＬＣ／ＭＳ（Ｍ＋１，保持時間）：３７５．１，３．７０分
試験例
キマーゼ阻害作用（イン・ビトロ試験）
〔試験方法〕
ヒト皮膚由来キマーゼ（Ｅｌａｓｔｉｎ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｃｏ．）５０ｎｇ，蛍光合成基質０．１ｍＭスクシニル−アラニル−プロリル−フェニルアラニン−メチルクマリルアミド（ペプチド研究所）およびジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）に溶解した被験物質を緩衝液Ａ（５０ｍＭ トリス−塩酸（ｐＨ＝８．０），２Ｍ ＮａＣｌ）１００μｌに添加し、３７℃で２時間インキュベートした。その後蛍光プレートリーダー（フルオロスキャン（大日本製薬））を用いて、励起３５５ｎｍ，測定４６０ｎｍで蛍光強度を測定した。被験物質非添加時の蛍光強度を１００％とし、回帰直線から算出した蛍光強度が５０％となる濃度をＩＣ５０値とした。
〔試験結果〕
実施例番号１の化合物のキマーゼ阻害作用はＩＣ５０は、０．０２６μＭであった。
 産業上の利用の可能性
本発明化合物はキマーゼ阻害作用を有し、本作用に基づき、病態が改善されると考えられる疾患、例えば、アンジオテンシンＩＩ、エンドセリンなどが介在する高血圧症、心不全、虚血性末梢循環障害、心筋虚血、静脈機能不全、心筋梗塞後の心不全進行、糖尿病性腎症、腎炎、動脈硬化症、高アルドステロン症、強皮症、糸球体硬化症、腎不全、中枢神経系疾患、アルツハイマー病、記憶欠乏症、うつ病、健忘症および老人性痴呆を含めた知覚機能障害、不安および緊張症状、不快精神状態、緑内障、高眼圧症、ＰＴＣＡ後再狭窄、喘息、鼻炎、アトピー性皮膚炎等のアレルギー性疾患などの治療薬として有用である。

Claims (12)

  1. 式（１）：
    Figure 2004007464
    ［式中、Ｘ１は、置換もしくは無置換の低級アルキレン基（該低級アルキレン基の−ＣＨ２−基は式：−Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）ｎ−、−Ｎ（Ｒ３）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ４）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｓ（Ｏ）２−、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ４）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ４ａ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基、またはベンゼン環またはシクロアルカン環（該シクロアルカン環内の−ＣＨ２−基は式：−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ３）−、または−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基によって、１または複数、同一または異なって置き換えられていてもよい）によって、１または複数、同一または異なって置き換えられることができ、また該低級アルキレン基の隣り合ういずれか２つの炭素原子は２重結合もしくは３重結合を形成することができる）を表す。
    Ｘ２およびＱはそれぞれ独立して、単結合または置換もしくは無置換の低級アルキレン基（該低級アルキレン基の−ＣＨ２−基は式：−Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）ｎ−、−Ｎ（Ｒ３）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ４）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｓ（Ｏ）２−、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ４）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ４ａ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基、またはベンゼン環またはシクロアルカン環（該シクロアルカン環内の−ＣＨ２−基は式：−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ３）−、または−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基によって、１または複数、同一または異なって置き換えられていてもよい）によって、１または複数、同一または異なって置き換えられることができ、また該低級アルキレン基の隣り合ういずれか２つの炭素原子は２重結合もしくは３重結合を形成することができる）を表す。
    Ｙ１は飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の単環式複素環、または飽和もしくは不飽和の多環式複素環（これらの環は、無置換であるかもしくは置換基を有していてもよい）を表す。
    Ｙ２は飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の単環式複素環基、または飽和もしくは不飽和の多環式複素環基（これらの基は、無置換であるかもしくは置換基を有していてもよい）を表す。
    Ｍは式：−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ５、−Ｓ（Ｏ）２ＯＲ５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ６）Ｒ７、−Ｎ（Ｒ４）Ｓ（Ｏ）２Ｒ８で表される基、またはテトラゾリル基を表す。但しＸ１が置換された低級アルキレン基であって置換基の少なくとも１つが式：−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ５、−Ｓ（Ｏ）２ＯＲ５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ６）Ｒ７、−Ｎ（Ｒ４）Ｓ（Ｏ）２Ｒ８で表される基、またはテトラゾリル基である場合、Ｍは水素原子であってもよい。
    Ｒ１およびＲ２は同一もしくは異なって、飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の単環式複素環基、飽和もしくは不飽和の多環式複素環基（これらの基は、無置換であるかもしくは置換基を有していてもよい）を表すか、または水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアシル基、または式：−ＯＲ９、−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ６）Ｒ７、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ１２もしくは−Ｒ１ａ−Ｒ１ｂ−Ｒ１ｃで表される基を表すか、またはＲ１およびＲ２が一緒になって、置換もしくは無置換の低級アルキレン基を表す。
    Ｒ１ａは、置換もしくは無置換の低級アルキレン基（該低級アルキレン基の−ＣＨ２−基は式：−Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）ｎ−、−Ｎ（Ｒ３）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ４）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｓ（Ｏ）２−、−Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｒ４）−、−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ４ａ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基によって、１または複数、同一または異なって置き換えられることができる）を表す。
    Ｒ１ｂは、飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環、飽和もしくは不飽和の単環式複素環、または飽和もしくは不飽和の多環式複素環（これらの環は、無置換であるかもしくは置換基を有していてもよい）を表す。
    Ｒ１ｃは、水素原子、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、または置換もしくは無置換のアルキル基を表す。
    ｍおよびｎは、それぞれ独立して０，１または２を表す。
    Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４ａ、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１は、同一もしくは異なって、また複数ある場合にはそれぞれ独立して、飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の単環式複素環基、または飽和もしくは不飽和の多環式複素環基（これらの基は、無置換であるかもしくは置換基を有していてもよい）を表すか、または水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシル基、または置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基を表す。但し、Ｒ６とＲ７、およびＲ１０とＲ１１は、それぞれ独立して、互いに結合してこれらが結合する窒素原子と一緒になって環中に他のヘテロ原子を含んでいてもよい飽和３〜８員環の環状アミノ基（該環状アミノ基は１以上の置換もしくは無置換のアルキル基、または式：−Ｓ（Ｏ）ｍＲ１２または−ＯＲ９ａ（Ｒ９ａは置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアシル基を表す）で表される基で置換されていてもよい）を表すこともできる。
    Ｒ５、Ｒ８、およびＲ１２は同一または異なって、複数ある場合にはそれぞれ独立して、飽和もしくは不飽和の単環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の多環式炭化水素環基、飽和もしくは不飽和の単環式複素環基、または飽和もしくは不飽和の多環式複素環基（これらの基は、無置換であるかもしくは置換基を有していてもよい）を表すか、または水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基を表す。］
    で表される化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
  2. Ｙ１がベンゼン環である、請求項１記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
  3. Ｘ１が式：−Ｓ−ＣＨ２−で表される基である、請求項１または２記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
  4. Ｍが式：−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ５で表される基である、請求項１、２、または３記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
  5. Ｒ２が水素原子である、請求項１、２、３、または４記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
  6. Ｒ１またはＲ２のいずれか一方が式：−Ｒ１ａ−Ｒ１ｂ−Ｒ１ｃで表される基であり、ここでＲ１ａが式：−（ＣＨ２）ｔ−Ｎ（Ｒ４）Ｃ（＝Ｏ）−で表される基であり（ｔは１−５の整数を表す）、Ｒ１ｂが飽和の単環式複素環である、請求項１記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
  7. Ｙ１がｏ−フェニレンである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩。
  8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩を含有する医薬。
  9. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩を含有するキマーゼ阻害剤。
  10. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩を含有する高血圧症、心不全、虚血性末梢循環障害、心筋虚血、静脈機能不全、心筋梗塞後の心不全進行、糖尿病性腎症、腎炎、動脈硬化症、高アルドステロン症、強皮症、糸球体硬化症、腎不全、中枢神経系疾患、アルツハイマー病、記憶欠乏症、うつ病、知覚機能障害、不安、緊張症状、不快精神状態、緑内障、高眼圧症、ＰＴＣＡ後再狭窄、喘息、鼻炎、またはアレルギー性疾患の治療剤。
  11. 治療を必要とする患者に、請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩の有効量を投与することからなる、高血圧症、心不全、虚血性末梢循環障害、心筋虚血、静脈機能不全、心筋梗塞後の心不全進行、糖尿病性腎症、腎炎、動脈硬化症、高アルドステロン症、強皮症、糸球体硬化症、腎不全、中枢神経系疾患、アルツハイマー病、記憶欠乏症、うつ病、知覚機能障害、不安、緊張症状、不快精神状態、緑内障、高眼圧症、ＰＴＣＡ後再狭窄、喘息、鼻炎、またはアレルギー性疾患の治療方法。
  12. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物もしくはそのプロドラッグまたはそれらの医薬として許容される塩の、高血圧症、心不全、虚血性末梢循環障害、心筋虚血、静脈機能不全、心筋梗塞後の心不全進行、糖尿病性腎症、腎炎、動脈硬化症、高アルドステロン症、強皮症、糸球体硬化症、腎不全、中枢神経系疾患、アルツハイマー病、記憶欠乏症、うつ病、知覚機能障害、不安、緊張症状、不快精神状態、緑内障、高眼圧症、ＰＴＣＡ後再狭窄、喘息、鼻炎、またはアレルギー性疾患の治療剤の製造のための使用。
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