JPWO2003000686A1 - イソオキサゾリン誘導体及び除草剤 - Google Patents

Abstract

本発明は、優れた除草効果と作物・雑草間の選択性を有するイソオキサゾリン誘導体を提供することを課題とする。本発明のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩は、一般式［式中、Ｒ１はハロアルキル基を示し、Ｒ２は、水素原子、アルキル基等を示し、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、水素原子等を示し、Ｙはピロリル基、ピラゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基等を示し、ｎは０〜２の整数を示す。］で表される。

Description

技術分野
本発明は新規なイソオキサゾリン誘導体及びそれを有効成分として含有する除草剤に関するものである。
背景技術
イソオキサゾリン環の５位にハロアルキル基を有するイソオキサゾリン誘導体が除草活性を有することは、例えば、特開平８−２２５５４８号公報、特開平９−３２８４７７号公報及び特開平９−３２８４８３号公報等により報告されている。しかしながら本発明化合物はこれらの文献や他の文献に記載されていない。
又、有用作物に対して使用される除草剤は、土壌又は茎葉に施用した際に、低薬量で十分な除草効果を示し、しかも作物・雑草間に高い選択性を発揮する薬剤であることが望まれる。然しながら、これらの点で、当該公報に記載の化合物は満足すべきものとは言い難い。
本発明者らはこの様な状況に鑑み、除草効果と作物・雑草間の選択性とを検討した結果、新規なイソオキサゾリン誘導体が、優れた除草効果と作物・雑草間の選択性を有することを見いだし、本発明を完成するに至った。
発明の開示
即ち、本発明は以下の発明を提供するものである。
（１）一般式［Ｉ］を有するイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩

式中、
Ｒ^１は、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基を示し、
Ｒ^２は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキル基示し、
Ｒ^３及びＲ^４は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基を示すか、或いは、Ｒ^３とＲ^４とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と共にＣ３〜Ｃ７のスピロ環を形成しても、さらにＲ^２とＲ^３とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と共に５〜８員環を形成してもよく、
Ｒ^５及びＲ^６は、同一又は相異なって、水素原子又はＣ１〜Ｃ１０アルキル基を示し、
Ｙはピロリル基、ピラゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、ベンゾチエニル基、インドリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾイソキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、インダゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、フサラジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基又はベンゾトリアゾリル基を示し（ここで、これらのヘテロ環基のヘテロ原子が窒素原子の時は酸化されてＮ−オキシドになってもよい。）、これらのヘテロ環基は置換基群αより選択される１〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよく（ここで、ヘテロ環基の置換基は、隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成してもよい。）、
ｎは０〜２の整数を示す。
「置換基群α」
水酸基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルフィニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルフィニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ６アシルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）
「置換基群β」
水酸基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されてもよい）、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基、アミノ基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい。）、カルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、Ｃ２〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシイミノ基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基
「置換基群γ」
Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されていてもよい。）
（２）置換基群αが、水酸基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）によって表される（１）記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（３）置換基群αが、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシＣ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なってＣ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されていてもよい）によって表される（２）記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（４）Ｒ^１がクロロメチル基、Ｒ^２がメチル基もしくはエチル基、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６が水素原子である（１）、（２）又は（３）記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（５）Ｙがピロリル基、ピラゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基である（１）、（２）、（３）又は（４）記裁のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（６）Ｙがピラゾリル基又はピリミジニル基である（５）記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（７）Ｙがピラゾール−４−イル基又はピリミジン−５−イル基である（６）記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（８）Ｙがピラゾール−４−イル基で、置換基群αより選択される任意の基がピラゾール環の３及び５位に置換され、更に、１位に水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、アミノ基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が置換した（７）記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（９）Ｙがピリミジン−５−イル基で、置換基群αより選択される任意の基がピリミジン環の４位及び６位に置換した（７）記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（１０）（１）〜（９）のいずれかに記載のイソオキサゾリン誘導体又は薬理上許容される塩を有効成分として含有する除草剤。
尚、本明細書において、用いられる用語の定義を以下に示す。
Ｃ１〜Ｃ１０等の表記は、この場合ではこれに続く置換基の炭素数が、１〜１０であることを示している。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が１〜１０の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、３，３−ジメチルブチル基、ヘプチル基又はオクチル基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基とは、炭素数が３〜８のシクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜４又はＣ１〜Ｃ３アルキル基で置換されてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基により置換されたＣ１〜Ｃ３アルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチル基、１−シクロプロピルエチル基、２−シクロプロピルエチル基、１−シクロプロピルプロピル基、２−シクロプロピルプロピル基、３−シクロプロピルプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基２−クロロシクロプロピルメチル基、２，２−ジクロロシクロプロピルメチル基、２−フルオロシクロプロピルメチル基、２，２−ジフルオロシクロプロピルメチル基、２−メチルシクロプロピルメチル基、２，２−ジメチルシクロプロピルメチル基又は２−メチルシクロプロピルエチル基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキル基とは、炭素数が３〜８のシクロアルキル基により置換された炭素数１〜３のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチル基、１−シクロプロピルエチル基、２−シクロプロピルエチル基、１−シクロプロピルプロピル基、２−シクロプロピルプロピル基、３−シクロプロピルプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基又はシクロヘキシルメチル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜９で置換されている炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、例えばフルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基又はペンタフルオロエチル基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基とは、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えばエテニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基又は２−ペンテニル基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基とは、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキニル基を示し、例えばエチニル基、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基又は２−メチル−３−ブチニル基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜４で置換されている炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えば３−クロロ−２−プロペニル基、又は２−クロロ−２−プロペニル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基又はイソブトキシ基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシＣ１〜Ｃ３アルキル基とは、アルコキシ部分、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｏ−（アルキル）基を示し、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基又はエトキシエチル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である（ハロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２−ジフルオロエトキシ基又は２，２，２−トリフルオロエトキシ基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基とは、シクロアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基又はシクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基とは、シクロアルキルアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキルアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルメトキシ基、１−シクロプロピルエトキシ基、２−シクロプロピルエトキシ基、１−シクロプロピルプロポキシ基、２−シクロプロピルプロポキシ基、３−シクロプロピルプロポキシ基、シクロブチルメトキシ基、シクロペンチルメトキシ基又はシクロヘキシルメトキシ基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基及びＣ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基とは、アルケニル又はアルキニル部分が上記の意味である（アルケニル）−Ｏ−基、（アルキニル）−Ｏ−基を示し、例えば２−プロペニルオキシ基又は２−プロピニルオキシ基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシイミノ基とは、アルコキシ部分が上記の意味である（アルコキシ）−Ｎ＝基を示し、例えばメトキシイミノ基又はエトキシイミノ基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基及びＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｓ−基、（アルキル）−ＳＯ−基、（アルキル）−ＳＯ_２−基を示し、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基又はイソプロピルスルホニル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基とは、アルキルスルホニル部分が上記の意味である（アルキルスルホニル）−Ｏ−基を示し、例えばメチルスルホニルオキシ基又はエチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基とは、アルコキシ部分が上記の意味である（アルコキシ）−ＣＯ−基を示し、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基又はイソプロポキシカルボニル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アシル基とは、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アシル基を示し、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチリル基又はピバロイル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アシルオキシ基とは、アシル部分が上記の意味である（アシル）−Ｏ−基、を示し、例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基又はピバロイルオキシ基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基及びＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である（ハロアルキル）−ＣＯ−基、（ハロアルキル）−Ｓ−基、（ハロアルキル）−ＳＯ−基、（ハロアルキル）−ＳＯ_２−基を示し、例えばクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、クロロメチルスルフィニル基、ジフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルフィニル基、クロロメチルスルホニル基、ジフルオロメチルスルホニル基又はトリフルオロメチルスルホニル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニルオキシ基及びＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基とは、ハロアルキルカルボニル部分及びハロアルキルスルホニル部分が上記の意味である（ハロアルキルカルボニル）−Ｏ−基、（ハロアルキルスルホニル）−Ｏ−基を示し、例えばクロロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、クロロメチルスルホニルオキシ基又はトリフルオロメチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。
（置換されていてもよい）フェニル基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環基、（置換されていてもよい）フェノキシ基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環オキシ基、（置換されていてもよい）フェニルチオ基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環チオ基、（置換されていてもよい）フェニルスルフィニル基、（置換されていてもよい）フェニルスルホニル基、（置換されていてもよい）フェニルスルホニルオキシ基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環スルフィニル基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環スルホニル基、（置換されていてもよい）ベンジルカルボニル基、（置換されていてもよい）ベンジルカルボニルオキシ基、（置換されていてもよい）ベンジルスルホニル基、（置換されていてもよい）ベンゾイル基、（置換されていてもよい）ベンゾイルオキシ基、（置換されていてもよい）ベンジルオキシカルボニル基又は（置換されていてもよい）フェノキシカルボニル基における「置換されていてもよい」とは、これらの基が、例えばハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシＣ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されていてもよい）、ニトロ基、又はアミノ基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）等で置換されていてもよいことを示す。
（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環オキシ基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環チオ基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環スルフィニル基又は（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環スルホニル基の芳香族ヘテロ環とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から任意に選択されるヘテロ原子を１〜３個有する５〜６員の基を示し、例えばフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基等を挙げることができる。
薬理上許容される塩とは、一般式［Ｉ］を有する化合物において、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等がその構造中に存在する場合に、一般式［Ｉ］を有する化合物と金属もしくは有機塩基との塩又は鉱酸もしくは有機酸との塩であり、例えば、金属としてはナトリウム又はカリウム等のアルカリ金属或いはマグネシウム又はカルシウム等のアルカリ土類金属を挙げることができ、有機塩基としてはトリエチルアミン又はジイソプロピルアミン等を挙げることができ、鉱酸としては塩酸又は硫酸等を挙げることができ、有機酸としては酢酸、メタンスルホン酸又はｐ−トルエンスルホン酸等を挙げることができる。
上記した一般式［Ｉ］で表される化合物の中で、Ｒ^１がクロロメチル基であり、Ｒ^２が、メチル基もしくはエチル基であり、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６が水素原子であり、ｎが２の整数であり、Ｙがピラゾール−４−イル基（ここで該基の３位及び５位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、シクロアルキルアルキルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、アルキル基で置換されていてもよい）が、さらに１位に水素原子、アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたアルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）、或いはピリミジン−５−イル基（該基の４位及び６位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、アルキル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）であるイソオキサゾリン誘導体が好ましい。
発明を実施するための最良の形態
次に、一般式［Ｉ］を有する本発明化合物の代表的な化合物例を表１〜表５７に記載する。しかしながら、本発明化合物はこれらに限定されるものではない。
本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。

尚、一般式［Ｉ］を有する本発明化合物は、置換基として水酸基を含む場合、ケト−エノール互変異性体を有することもあるが、何れの異性体もその混合物も、本発明化合物に包含される。

一般式［Ｉ］を有する本発明化合物は、以下に示す方法により製造することができるが、これらの方法に限定されるものではない。
＜製造法１＞
（工程１〜工程５）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＹは前記と同じ意味を表し、Ｘ^１はハロゲン原子を表し、Ｒ^７はＣ１〜Ｃ４のアルキル基、置換されていてもよいフェニル基又は置換されていてもよいベンジル基を表し、Ｌはハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基又は置換されていてもよいベンジルスルホニル基等の脱離基を表し、ｘは１以上の数値を表す。）
以下、上記製造方法を各工程毎に詳説する。
（工程１）
一般式［５］で表されるスルフィド誘導体は、一般式［１］で表される化合物と、一般式［２］で示される水硫化ナトリウム水和物とを、溶媒中又は溶媒の非存在下（好ましくは適当な溶媒中で）、塩基の存在下又は非存在下で反応させることにより一般式［３］で表されるメルカプタンの塩を反応系内で製造した後、このメルカプタンの塩［３］を単離することなく、一般式［４］で表されるハロゲン誘導体と反応させる｛場合によってはラジカル発生剤（例えばロンガリット［商品名］：ＣＨ_２（ＯＨ）ＳＯ_２Ｎａ・２Ｈ_２Ｏ等）を添加することもできる｝ことによって製造することができる。
反応温度は、いずれの反応も０℃から反応系における還流温度までの任意の温度、好ましくは０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応時間は、化合物により異なるが０．５時間〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［１］で表される化合物１当量に対して、一般式［２］で表される化合物及び一般式［４］で表される化合物１〜３当量、塩基を使用する場合は、塩基０．５〜３当量である。
溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類；ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール類；アセトン又は２−ブタノン等のケトン類；アセトニトリル等のニトリル類；水、或いはこれらの混合物が挙げられる。
塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物類；ナトリウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩等の無機塩類、或いはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコラート類が挙げられる。
（工程２）
一般式［６］で表されるスルホキシド誘導体は、一般式［５］で表されるスルフィド誘導体と酸化剤とを、適当な溶媒中、触媒の存在下又は触媒の非存在下で反応させることにより製造することができる。
反応温度は、０℃から反応系における還流温度までの任意の温度、好ましくは０℃〜６０℃の温度範囲であり、反応時間は、化合物により異なるが１時間〜７２時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［５］で表される化合物１当量に対して、酸化剤１〜３当量であり、触媒を使用する場合は、触媒０．０１〜０．５当量である。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン又はジエチルエーテル等のエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール類；アセトン又は２−ブタノン等のケトン類；アセトニトリル等のニトリル類；酢酸；水、或いはこれらの混合物が挙げられる。
酸化剤としては、例えば、ｍ−クロロ過安息香酸、過酸化水素、過ギ酸又は過酢酸等の有機過酸化物、或いは過マンガン酸カリウム又は過ヨウ素酸ナトリウム等の無機過酸化物が挙げられる。
触媒としては、例えば、タングステン酸ナトリウム等の金属触媒が挙げられる。
（工程３）
一般式［７］で表されるスルホン誘導体は、一般式［６］で表されるスルホキシド誘導体と酸化剤とを、適当な溶媒中、触媒の存在下又は触媒の非存在下で反応させることにより製造することができる。
反応温度は、０℃から反応系における還流温度までの任意の温度、好ましくは０℃〜６０℃の温度範囲であり、反応時間は、化合物により異なるが１時間〜７２時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［６］で表される化合物１当量に対して、酸化剤１〜３当量であり、触媒を使用する場合は、触媒０．０１〜０．５当量である。
溶媒、酸化剤及び触媒としては、工程２と同様なものが挙げられる。
（工程４）
一般式［７］で表されるスルホン誘導体は、適当な溶媒中、触媒の存在下又は触媒の非存在下で、一般式［５］で表されるスルフィド誘導体と好適な量の酸化剤により、一般式［６］で表されるスルホキシド誘導体を単離することなく製造することもできる。
反応温度は、０℃から反応系における還流温度までの任意の温度、好ましくは０℃〜６０℃の温度範囲であり、反応時間は、化合物により異なるが１時間〜７２時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［５］で表される化合物１当量に対して、酸化剤１〜３当量であり、触媒を使用する場合は、触媒０．０１〜０．５当量である。
溶媒、酸化剤及び触媒としては、工程２と同様なものが挙げられる。
（工程５）
一般式［５］で示されるスルフィド誘導体は、一般式［８］で表される化合物と、一般式［９］で示されるメルカプタン誘導体とを、溶媒中又は溶媒の非存在下（好ましくは適当な溶媒中）、塩基の存在下で反応させることにより製造することもできる。
反応温度は、０℃から反応系における還流温度までの任意の温度、好ましくは０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応時間は、化合物により異なるが０．５時間〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［８］で表される化合物１当量に対して、一般式［９］で表される化合物１〜３当量、塩基０．５〜３当量である。
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン又はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール類；アセトン又は２−ブタノン等のケトン類；アセトニトリル等のニトリル類；水、或いはこれらの混合物が挙げられる。
塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物類；ナトリウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩等の無機塩基類、或いはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシドが挙げられる。
一般式［８］で示される化合物のうちＬがハロゲン原子で表される一般式［１２］及び［１３］で示される化合物は、以下に示す方法により製造することができる。
（工程６）

（式中、Ｘ^１、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）
一般式［１２］及び［１３］で表されるイソオキサゾリン化合物は、一般式［１０］で表されるオレフィン誘導体と、一般式［１１］で示されるオキシム誘導体とを、溶媒中又は溶媒の非存在下（好ましくは適当な溶媒中）、塩基の存在下で反応させることにより製造することができ、必要に応じ一般式［１２］と［１３］を分離精製する。但し、Ｒ^３，Ｒ^４の両者が水素原子の場合には一般式［１２］で表されるイソオキサゾリン化合物が優先的に得られる。
反応温度は、０℃から反応系における還流温度までの任意の温度、好ましくは１０℃〜８０℃の温度範囲であり、反応時間は、化合物により異なるが０．５時間〜２週間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［１１］で表される化合物１当量に対して、一般式［１０］で表される化合物１〜３当量である。
溶媒としては、例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチルエーテル、ジオキサン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類；ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；酢酸エチル又は酢酸ブチル等の酢酸エステル類；水、或いはこれらの混合物等が挙げられる。
塩基としては、例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類；水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物類；炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩類；酢酸ナトリウム又は酢酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩類；フッ化ナトリウム又はフッ化カリウム等のアルカリ金属フッ素化塩類、或いはピリジン、トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類等が挙げられる。
尚、上記製造方法で用いる製造中間体である一般式［１０］で表される化合物は、市販のものを用いるか、又はウィッティヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）反応等の公知の反応により製造することができる。又、一般式［１１］で示される化合物は、例えば、Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎａｌｅｎ ｄｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ，９８５（１９８９）に記載の方法に準じて製造することができる。
一般式［１］で表される化合物は、前記に示した一般式［１２］で表される化合物から、以下の方法により製造することができる。
（工程７〜工程１０）

（式中、Ｘ^１、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^７は前記と同じ意味を表す。）
一般式［１５］で表される化合物は、前記工程５に示した方法に準じ（工程７）、一般式［１６］で表される化合物は、前記工程２に示した方法に準じ（工程８）、一般式［１］で表される化合物は、一般式［１５］から前記工程４に示した方法（工程１０）、又は、一般式［１６］から前記工程３に示した方法に準じ（工程９）、それぞれ製造することができる。溶媒、塩基、酸化剤及び触媒としては工程２、工程３、工程４又は工程５で記載したものと同じものが挙げられる。
一般式「４］で表される化合物中、一般式［２１］で表される化合物は、以下に示す方法により製造することができる。
（工程１１、１２）

（式中、Ｒ^５、Ｘ^１及びＹは前記と同じ意味を表し、Ｒ^８はアルキル基を表す。）
（工程１１）
一般式［２０］で表される化合物は、一般式［１７］、［１８］又は［１９］と還元剤とを溶媒中で反応させることにより製造することができる。
この反応は通常、反応温度−６０℃〜１５０℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［１７］、［１８］又は［１９］１当量に対して、還元剤０．５〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
還元剤としては、一般式［１７］から一般式［２０］の製造では、例えば水素化ジイソブチルアルミニウム等の金属水素化物類、又は水素化ホウ素ナトリウム又は水素化リチウムアルミニウム等の金属水素錯化合物類が挙げられ、一般式［１８］又は［１９］から一般式［２０］の製造では、例えば水素化ジイソブチルアルミニウム等の金属水素化物類、水素化ホウ素ナトリウム又は水素化リチウムアルミニウム等の金属水素錯化合物類、或いはジボラン等が挙げられる。
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、或いはメタノール又はエタノール等のアルコール類が挙げられる。
（工程１２）
一般式［２１］で表される化合物は、一般式［２０］とハロゲン化剤とを溶媒中で反応させることにより製造することができる。
この反応は通常、反応温度−５０〜１００℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［２０］１当量に対して、ハロゲン化剤１〜３当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
ハロゲン化剤としては、例えば塩化水素、臭化水素、三塩化リン、三臭化リン又は塩化チオニル等が挙げられる。
溶媒としては、例えばジクロロエタン又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；酢酸等の酸類、或いはテトラヒドロフラン等のエーテル類が挙げられる。
一般式［４］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。

（式中、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｘ^１及びＹは前記と同じ意味を表す。）
（工程１３）
一般式［４］で表される化合物は、一般式［２２］で表される化合物とハロゲン化剤とを溶媒中、触媒の存在下又は非存在下で反応させることにより製造することができる。本工程では光照射下で反応をおこなってもよい。
この反応は通常、反応温度３０〜１５０℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［２２］１当量に対して、ハロゲン化剤１〜１０当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。触媒は０．０１〜０．５当量である。
ハロゲン化剤としては、例えば臭素又は塩素等のハロゲン類；Ｎ−ブロモコハク酸イミド等のＮ−ハロコハク酸イミド、或いは過臭化ピリジニウム等のピリジン塩等が挙げられる。
溶媒としては、例えばジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、或いはギ酸又は酢酸等のカルボン酸類が挙げられる。
触媒としては、例えば過酸化ベンゾイル、α，α−アゾビスイソブチロニトリル又はこれらの混合物が挙げられる。
一般式［４］で表される化合物中、一般式［２４］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。

（式中、Ｘ^１及びＹは前記と同じ意味を表す。）
（工程１４）
一般式［２４］で表される化合物は、Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，ＩＩＩ，５５７（１９５５）又はＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７２，２２１６（１９５０）に記載の方法に準じて、一般式［２３］で表される化合物とハロゲン化水素及びホルムアルデヒドもしくはパラホルムとを、溶媒中、ルイス酸存在下もしくは非存在下で反応させるか、或いは
Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９７，６１５５（１９７５）に記載の方法に準じて、一般式［２３］で表される化合物とハロゲノメチルエーテルとを、溶媒中、ルイス酸存在下で反応させる方法により製造することができる。
この反応は通常、反応温度−４０〜１５０℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［２３］１当量に対して、ハロゲン化水素１〜２当量、ホルムアルデヒドもしくはパラホルム１〜２当量、ルイス酸１〜２当量、及びハロゲノメチルエーテル１〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
ルイス酸としては、例えば四塩化チタン、塩化亜鉛、塩化アルミニウム又は臭化亜鉛等が挙げられる。
ハロゲン化水素としては、塩化水素、臭化水素又はヨウ化水素が挙げられる。
溶媒としては、例えばジクロロエタン、四塩化炭素又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類；ジオキサン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類；酢酸等のカルボン酸類；二硫化炭素、或いはこれらの混合物が挙げられる。
一般式［１９］で表される化合物中、一般式［２５］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。

（式中、Ｙは前記と同じ意味を表す。）
（工程１５）
一般式［２５］で表される化合物は、Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，ＩＶ，８３１（１９６３）に記載のビルスマイヤー（Ｖｉｌｓｍｅｉｅｒ）法に準じて、一般式［２３］とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）とを溶媒中又は溶媒の非存在下、塩化ホスホリル、ホスゲン又は塩化チオニル存在下で反応させるか、或いはＣｈｅｍ．Ｂｅｒ．，９３，８８（１９６０）に記載の方法に準じて、一般式［２３］とジハロゲノメチルエーテルとを溶媒中、ルイス酸存在下で反応させた後、加水分解する方法により製造することができる。
この反応は通常、反応温度−４０〜１５０℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［２３］で表される化合物１当量に対して、塩化ホスホリル、ホスゲン又は塩化チオニル１〜２当量、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１〜２当量、ルイス酸１〜２当量、ジハロゲノメチルエーテル１〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
ルイス酸としては、例えば四塩化チタン、四塩化スズ、塩化亜鉛、塩化アルミ又は臭化亜鉛等が挙げられる。
溶媒としては、例えばジクロロエタン、四塩化炭素又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類；ジオキサン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類；酢酸等のカルボン酸類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類；二硫化炭素等の硫黄化合物類、或いはこれらの混合物が挙げられる。
一般式［１７］、［１８］及び［１９］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。

（式中、Ｘ^２は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表し、Ｒ^５、Ｒ^８及びＹは前記と同じ意味を表す。）
（工程１６、１７）
一般式［１７］、［１８］又は［１９］で表される化合物は、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６５，４６１８（２０００）に記載の方法に準じて、一般式［２６］で表される化合物とマグネシウム試薬とを溶媒中又は溶媒の非存在下、反応させることによって一般式［２７］を得た後、一般式［２７］と求電子試薬とを反応させるか、或いはＳｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｍ．，２４（２），２５３（１９９４）に記載方法に準じて、一般式［２６］とリチウム試薬とを溶媒中で反応させ一般式［２８］を得た後、一般式［２８］と求電子試薬とを反応させる方法により製造することができる。
この反応は通常、反応温度−１００〜１５０℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［２６］１当量に対して、マグネシウム試薬１〜５当量及び求電子試薬１〜５当量、或いはリチウム試薬１〜５当量及び求電子試薬１〜５当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
マグネシウム試薬としては、例えば金属マグネシウム、臭化イソプロピルマグネシウム又はジイソプロピルマグネシウム等が挙げられる。
リチウム試薬としては、例えばｎ−ブチルリチウム又はｎ−ヘキシルリチウム等が挙げられる。
求電子試薬としては、例えばギ酸エチル、シアノギ酸エチル又は酢酸エチル等のエステル類；アセチルクロリド又はクロロギ酸メチル等の酸ハライド類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、或いは二酸化炭素等が挙げられる。
溶媒としては、例えばジクロロエタン、四塩化炭素又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；ヘキサン又はペンタン等の脂肪族炭化水素類；ジオキサン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、或いはそれらの混合物が挙げられる。
一般式［３１］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。

（式中、Ｙは前記と同じ意味を表し、Ｒ^９は水素原子、アルキル基、アシル基又はアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ^１０はアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、置換されていてもよいベンジル基、置換されていてもよいヘテロ環アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基又は置換されていてもよいベンゾイル基を表し、Ｌ^１はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基又は置換されていてもよいベンジルスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。但し、Ｒ^１０がハロアルキル基の場合は、Ｌ^１はハロアルキル化して残ったハロゲン原子より反応性の高い脱離基を表す。例えばＲ^１０がＣＨＦ_２基の場合、Ｌ^１は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｒ^１０がＣＨ_２ＣＦ_３基の場合はＬ^１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メチルスルホニルオキシ基又はトリフルオロメチルスルホニルオキシ等を表す。）
（工程１８）
一般式［３１］で表される化合物は、一般式［２９］で表される化合物と一般式［３０］で表される化合物とを溶媒中、塩基存在下で反応させることにより製造することができる。
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［２９］で表される化合物１当量に対して、一般式［３０］で表される化合物は１〜２０当最、塩基は１〜３当量である。
塩基としては、例えば炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類；水素化カリウム又は水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類；ナトリウムエトキシド又はナトリウムメトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類、或いは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類が挙げられる。
溶媒としては例えばクロロホルム又はジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン等のエーテル類；ベンゼン又はトルエン等の芳香族炭化水素類；ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類；アセトン又はメチルイソブチルケトン等のケトン類；酢酸エチル等のエステル類；Ｎ−メチルピロリドン又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物；アセトニトリル、或いはそれらの混合物が挙げられる。
一般式［３４］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。

（式中、Ｌ^１、α、β又はγは前記と同じ意味を表し、Ｒ^１１はアルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたアルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）を表す。この場合、ピラゾール環の炭素原子は、置換基群αより選択される、１〜２個の同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
（工程１９）
一般式［３４］で表される化合物は、一般式［３２］で表される化合物を溶媒中、塩基存在下、一般式［３３］で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［３２］で表される化合物１当量に対して、一般式［３３］で表される化合物は１〜２０当量、塩基は１〜３当量である。 塩基及び溶媒としては、例えば工程１８と同様なものが挙げられる。
又、Ｙにトリフルオロメチル基を導入する方法として、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．ＰｅｒｋｉｎＴｒａｎｓ．１，８，２２９３−２２９９（１９９０）、Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．，５０（３），４１１−４２６（１９９０）、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１８，１３８９−１３９１（１９９３）、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１，５３−５４（１９９２）、Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，１７１９−１７２０（１９８１）、Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，３８（９），２４４６−２４５８（１９９０）、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１，９２１−９２６（１９８８）、Ｈｅｔｅｒｃｙｃｌｅｓ，３７（２），７７５−７８２（１９９４）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，３０（１６），２１３３−２１３６（１９８９）、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ ＴＲａｎｓ．１，２７５５−２７６１（１９８０）、Ｈｅｔｅｒｃｙｃｌｅｓ，２２（１），１１７−１２４（１９８４）、Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｒ．，２４，２４９−２５８（１９８９）、Ａｃｔａ Ｃｈｅｍ．Ｓｃａｎｄ．Ｓｅｒ．Ｂ，３８（６），５０５−５０８（１９８４）、Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．，２１，４９５−５１４（１９８２）、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１０，６３８−６３９（１９８８）、Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．，６７（１），５−６（１９９４）、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，３１（６），１４１３−１４１６（１９９４）、Ｃｈｅｍ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｏｍｐｄ．，３０（５），５７６−５７８（１９９４）、Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．，７８（２），１７７−１８２（１９９６）、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，３４（２），５５１−５５６（１９９７）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，５５（５２），１５０６７−１５０７０（１９９９）、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１１，９３２−９３３（１９８０）に記載の方法又は準じた方法等が挙げられる。
又、一般式［４］、［１７］、［１８］、［１９］、［２０］、［２１］、［２２］、［２３］、［２４］、［２５］、［２６］、［２９］及び［３１］で表される化合物は、Ｙがピロリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ６ａ，５５６−７９８（１９９４）、Ｙがピラゾリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ８ｂ，３９９−７６３（１９９４）もしくは特開平２０００−２１９６７９号公報明細書、Ｙがイソチアゾリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ８ａ，６６８−７９８（１９９３）、Ｙがオキサゾリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ８ａ，８９１−１０１９（１９９３）、Ｙがイミダゾリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ８ｃ，１−２１５（１９９４）、Ｙがピリダジニル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ９ａ，５５７−６８２（１９９７）、Ｙがピリミジニル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ９ｂ／１，１−２４９（１９９８）、Ｙがピラジニル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ９ｂ／１，２５０−３７２（１９９８）、Ｙがトリアジニル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ９ｃ，５３０−７９６（１９９８）、Ｙがトリアゾリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ８ｄ，３０５−４０５，４７９−５９８（１９９４）、Ｙがオキサジアゾリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ８ｃ，３９７−８１８（１９９４）、Ｙがベンゾチエニル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ６ｂ１，２１７−３２２項（１９９４）、Ｙがインドリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ６ｂ１、５４６−８４８（１９９４）、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ６ｂ２，８４９−１３３６（１９９４）もしくは国際公開番号ＷＯ９７／４２１８８号公報明細書、Ｙがベンゾオキサゾリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ８ａ，１０２０−１１９４（１９９３）、Ｙがベンゾイミダゾリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ８ｃ，２１６−３９１（１９９４）、Ｙがベンゾイソキサゾリル基の場合は（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ８ａ，２２６−３４８（１９９３））、Ｙがベンゾイソチアゾリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ８ａ，７９９−８５２（１９９３）、Ｙがインダゾリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ８ｂ，７６４−８６４（１９９４）、Ｙがキノリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ７ａ，２９０−５７０（１９９１）、Ｙがイソキノリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ７ａ，５７１−７５８（１９９１）、Ｙがフサラジニル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ９ａ，７４４−７８９（１９９７）、Ｙがキノキサリニル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ９ｂ／２，９３−２６５（１９９８）、Ｙがキナゾリニル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ９ｂ／２，１−１９２（１９９８）、Ｙがシンノリニル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ９ａ，６８３−７４３（１９９７）、又はＹがベンゾトリアゾリル基の場合はＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｅ８ｄ，４０６−４７８（１９９４）記載の方法又は準じた方法等で製造することができる。
＜製造法２＞

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びαは前記と同じ意味を表す。この場合、ピラゾール環の炭素原子は、置換基群αより選択される、１〜２個の同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
（工程２０）
一般式［３６］で表される本発明化合物は、製造法１により製造することができる、一般式［３５］で表される本発明化合物と酸とを、溶媒中で反応させることにより製造することができる。
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［３５］で表される本発明化合物１当量に対して、酸１〜１０当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸又はトリフルオロ酢酸等が挙げられる。
溶媒としては、例えばジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ギ酸、酢酸等のカルボン酸類、或いは水等が挙げられる。
＜製造法３＞

（式中、Ｌ^１、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^１１及びαは前記と同じ意味を表す。この場合、ピラゾール環の炭素原子は、置換基群αより選択される、１〜２個の同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
（工程２１）
一般式［３８］で表される本発明化合物は、製造法２により製造することができる、一般式［３６］で表される本発明化合物と一般式［３３］で表される化合物とを溶媒中、塩基存在下で反応させることにより製造することができる。
反応に供される試剤の量は、一般式［３６］で表される化合物１当量に対して、一般式［３３］で表される化合物１〜３当量、塩基１〜３当量である。
溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類；ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール類；アセトン又は２−ブタノン等のケトン類；アセトニトリル等のニトリル類；水、或いはこれらの混合物が挙げられる。
塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物類；ナトリウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類；水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物類；炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩類、或いはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。
＜製造法４＞

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^１０は前記と同じ意味を表し、Ｒ^１２はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基又はジフルオロメトキシ基を表し、Ｘ^３は塩素原子又はフッ素原子を表し、Ｒ^１３はアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、アルコキシカルボニルアルキル基、置換されていてもよいヘテロアルキル基、又は置換されていてもよいベンジル基を表し、Ｒ^１４はアルキル基、ハロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、アルコキシカルボニルアルキル基又は置換されていてもよいベンジル基を表し、Ｒ^１５及びＲ^１６は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、アルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基を表し、Ｚ^１はイオウ原子又はＮ−Ｒ^１７を表し、Ｒ^１７は水素原子又はＲ^１０を表す。）
一般式［４１］、一般式［４３］又は一般式［４５］で表される本発明化合物は、一般式「３９］で表される本発明化合物と、それぞれ一般式［４０］（工程２２）、一般式［４２］（工程２３）又は一般式［４４］（工程２４）で表される化合物を、無溶媒又は溶媒中、必要に応じ塩基存在下で反応させることにより製造することができる。
この反応は通常、反応温度２０〜２００℃、好ましくは３０〜１８０℃で、１０分〜４８時間、必要に応じ加圧下で行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［３９］で表される本発明化合物１当量に対して、一般式［４０］、一般式［４２］又は一般式［４４］で表される化合物１〜２０当量である。
塩基としては、例えば炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水素化カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基；ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、或いは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
溶媒としては例えばクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；酢酸エチル等のエステル類；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物；アセトニトリル等のニトリル類、或いはそれらの混合物が挙げられる。
＜製造法５＞

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＺ^１は前記と同じ意味を表す。）
（工程２５）
一般式［４７］で表される本発明化合物は、一般式［４１］で表される本発明化合物を溶媒中、酸と反応させることにより製造することができる。
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［４１］で表される本発明化合物１当量に対して、酸１〜１０当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
酸及び溶媒としては、製造法２と同様なものが挙げられる。
＜製造法６＞

（式中、Ｙ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^１０、Ｌ^１及びαは前記と同じ意味を表す。この場合、Ｙは置換基群αより選択される、１〜５個までの同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
（工程２６）
一般式［４９］で表される本発明化合物は、一般式［４８］で表される本発明化合物を溶媒中、塩基存在下で一般式［３０］で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応は通常、反応温度０〜１５０℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は一般式［４８］で表される本発明化合物１当量に対して、塩基１〜１．２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
塩基及び溶媒としては、製造法３と同様なものが挙げられる。
＜製造法７＞

（式中、Ｙ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びαは前記と同じ意味を表し、Ｒ^１８はアルキル基、置換されていてもよいベンジル基及び置換されていてもよいフェニル基を表す。この場合、Ｙは置換基群αより選択される、１〜５個までの同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
（工程２７）
一般式［５１］で表される本発明化合物は、一般式［５０］で表される本発明化合物を、水又は水と混合した溶媒中、塩基存在下又は非存在下で加水分解することにより製造することができる。
この反応は通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［５０］で表される本発明化合物１当量に対して、塩基を使用する場合１〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
塩基としては、例えば炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
水と混合する溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物；アセトニトリル等のニトリル類、或いはそれらの混合物が挙げられる。
＜製造法８＞

（式中、Ｙ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びαは前記と同じ意味を表し、Ｒ^１９は水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^２０はアルキル基を表す。この場合、Ｙは置換基群αより選択される、１〜５個までの同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
（工程２８）
一般式［５４］で表される本発明化合物は、一般式［５２］で表される本発明化合物を溶媒中、塩基存在下で、一般式［５３］で表される化合物と反応することにより製造することができる。
この反応は通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［５２］で表される本発明化合物１当量に対して、一般式［５３］で表される化合物１〜５当量、塩基１〜１０当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
塩基としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の金属炭酸塩類；酢酸カリウム、酢酸ナトリウム等の金属酢酸塩類、或いはトリエチルアミン、ジメチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
ＮＨ_２ＯＲ^２０の塩としては、ＮＨ_２ＯＲ^２０の塩酸塩又はＮＨ_２ＯＲ^２０の硫酸塩等が挙げられる。
溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、水或いはそれらの混合物が挙げられる。
＜製造法９＞

（式中、Ｙ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びαは前記と同じ意味を表し、Ｒ^２１及びＲ^２２は水素原子又はアルキル基を表す。この場合、Ｙは置換基群αより選択される、１〜５個までの同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
（工程２９、３０）
一般式［５８］で表される本発明化合物は、一般式［５１］で表される本発明化合物を溶媒中又は無溶媒中、ハロゲン化剤と反応させて一般式［５６］で表される本発明化合物を製造した後（工程２９）、一般式［５６］で表される本発明化合物を溶媒中又は無溶媒中、一般式［５７］で表される化合物と反応させることにより（工程３０）、製造することができる。
工程２９の反応は、通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［５１］で表される本発明化合物１当量に対して、ハロゲン化剤１〜１００当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
ハロゲン化剤としては、例えば塩化チオニル、オキサリルクロリド等が挙げられる。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、或いはベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。
工程３０の反応は、通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［５６］で表される本発明化合物１当量に対して、一般式［５７］で表される化合物２〜１００当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
溶媒としては、例えば工程２９の反応と同様なものが挙げられる。
＜製造法１０＞

（式中、Ｚ^１、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^１２及びＸ^３は前記と同じ意味を表す。）
一般式［６０］で表される本発明化合物は、一般式［３９］で表される本発明化合物を溶媒中、化合物［５９］で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応は通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［３９］で表される本発明化合物１当量に対して、化合物［５９］で表される化合物１〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類；ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物；アセトン又は２−ブタノン等のケトン類；アセトニトリル等のニトリル類；水、或いはこれらの混合物が挙げられる。
＜製造法１１＞

（式中、Ｙ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びαは前記と同じ意味を表し、Ｒ^２３はアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、置換されていてもよいヘテロアルキル基、又は置換されていてもよいベンジル基を表す。この場合、Ｙは置換基群αより選択される、１〜５個までの同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
（工程３２）
一般式［６２］で表される本発明化合物は、一般式［４８］で表される本発明化合物を溶媒中、アゾ化合物及びトリフェニルホスフィンの存在下、一般式［６１］で表される化合物と反応させる、公知の方法（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８１，１−２８）に準じて製造することができる。
この反応は通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［４８］で表される本発明化合物１当量に対して、一般式［６１］で表される化合物１〜１．５当量、アゾ化合物１〜１．５当量、トリフェニルホスフィン１〜１．５当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類；ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類、或いはこれらの混合物等が挙げられる。
アゾ化合物としては、例えばアゾジカルボン酸ジエチル又はアゾジカルボン酸ジイソプロピル等が挙げられる。
＜製造法１２＞

（式中、Ｘ^３、ｎ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^１０及びαは前記と同じ意味を表し、Ｚ^２は酸素原子、硫黄原子又はＮ−Ｒ^１７を表し、Ｒ^１７は水素原子又はＲ^１０を表し、ｍは１〜４の整数を表す。この場合、ピラゾール環の３位の炭素原子は、置換基群αより選択される基で置換されていてもよい。）
（工程３３）
一般式［６４］で表される本発明化合物は、一般式［６３］で表される本発明化合物を溶媒中、塩基存在下で反応させることにより製造することができる。
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間行う。
反応に供される試剤の量は、一般式［６３］で表される本発明化合物１当量に対して、塩基１〜３当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
塩基及び溶媒としては、製造法３と同様なものが挙げられる。
次に、実施例をあげて本発明化合物の製造法、製剤法及び用途を具体的に説明する。尚、本発明化合物の製造中間体の製造法も併せて記載する。
＜実施例１＞
３−（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号１）の製造
５−クロロメチル−５−メチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン２．１ｇ（１０．０ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物１．２ｇ（純度７０％、１５．０ミリモル）を加え２時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム２．１ｇ（１５．０ミリモル）、ロンガリット２．３ｇ（１５．０ミリモル）及び４−ブロモメチル−５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール２．８ｇ（１０．０ミリモル）を加え、さらに室温で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、３−（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン３．３ｇ（収率１００．０％）を得た。
＜実施例２＞
３−（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号２）の製造
３−（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン３．３ｇ（１０．０ミリモル）のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸（７０％）４．３ｇ（２５．０ミリモル）を加え、室温で２０時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色粉末（融点１１４〜１１６℃）の３−（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン２．８ｇ（収率７６．０％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．６３（２Ｈ，ｓ），３．９６（３Ｈ，ｓ），３．６２（２Ｈ，ｑ），３．３２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．４，Δν＝１６４．１Ｈｚ），１．６３（３Ｈ，ｓ）
＜実施例３＞
３−（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３）の製造
（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタンチオール２４．２ｇ（７０．９ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ溶液に、無水炭酸カリウム１１．８ｇ（８５．０ミリモル）及び５−クロロメチル−５−メチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン２．１ｇ（１０．０ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ溶液を加え一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色粘稠性液体（ｎ_Ｄ ^２０＝１．５０５１）の３−（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン２３．１ｇ、（収率８０．５％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．２４（２Ｈ，ｓ），３．５５（２Ｈ，ｑ），３．０２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．７，Δν＝１１０．５Ｈｚ），１．７１（９Ｈ，ｓ），１．５７（３Ｈ，ｓ）
＜実施例４＞
３−（５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号４）の製造
２５％臭化水素酸酢酸溶液１００ｍｌに３−（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン２２．０ｇ（５４．４ミリモル）を加え、室温で２時間攪拌し、さらに４０℃で１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を減圧留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、乳白色粉末（融点１０５〜１０７℃）の３−（５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン１７．７ｇ（収率９３．７％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．２６（２Ｈ，ｓ），３．５６（２Ｈ，ｑ），３．０３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．７，Δν＝１１１．８Ｈｚ），１．５６（３Ｈ，ｓ）
＜実施例５＞
３−（１−エチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号５）及び３−（１−エチル−３−クロロ−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号６）の製造
３−（５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．５ｇ（４．３ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液２５ｍｌに、無水炭酸カリウム０．６ｇ（４．３ミリモル）及びヨウ化エチル０．７４ｇ（４．７ミリモル）を加え、室温で５時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、３−（１−エチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．９１ｇ（収率５６．０％）、３−（１−エチル−３−クロロ−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．４５ｇ（収率２８．０％）を得た。
＜実施例６＞
３−（１−エチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号７）の製造
３−（１−エチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．９１ｇ（２．４ミリモル）のクロロホルム４０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸（７０％）１．３１ｇ（５．３ミリモル）を加え、室温で２０時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、析出した結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄し、白色粉末（融点１２３〜１２４℃）の３−（１−エチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．８１ｇ（収率８２．０％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．６４（２Ｈ，ｓ），４．２９（２Ｈ，ｑ），３．６２（２Ｈ，ｑ），３．３０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．８，Δν＝１２５．６Ｈｚ），１．５５〜１．５０（６Ｈ，ｍ）
＜実施例７＞
３−（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号８）の製造
３−メチルスルホニル−５クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン４．６ｇ（２１．６ミリモル）のＤＭＦ７０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物３．４ｇ（純度７０％、４２．３ミリモル）を加え２時間攪拌した。その後、炭酸カリウム３．０ｇ（２１．６ミリモル）、ロンガリット３．３ｇ（２１．６ミリモル）及び５−ブロモメチル−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンを加え、さらに室温で２１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機相を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒系ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、３−（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．９ｇ（収率３０．３％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：８．７８（１Ｈ，ｓ），４．５７（２Ｈ，ｑ），４．４５（２Ｈ，ｓ），３．５７（２Ｈ，ｑ），３．０３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．８，Δν＝１１４．３Ｈｚ），１．５８（３Ｈ，ｓ），１．４５（３Ｈ，ｔ）
＜実施例８＞
３−（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イルメチルスルホニル）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号９）の製造
３−（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イルメチルチオ）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．９ｇ（５．１ミリモル）のクロロホルム３０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸（７０％）３．２ｇ（１２．９ミリモル）を加え、室温にて５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機相を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色結晶（融点７６．０〜７８．０℃）の ３−（４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イルメチルスルホニル）−５−クロロメチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．８ｇ（収率８７．７％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：８．８７（１Ｈ，ｓ），５．０３（２Ｈ，ｓ），４．５９（２Ｈ，ｑ），３．６４（２Ｈ，ｑ），３．３３（２Ｈ，Ａｂｑ，Ｊ＝１７．７，Δν＝１２５．９Ｈｚ），１．６４（３Ｈ，ｓ），１．４６（３Ｈ，ｔ）
＜実施例９＞
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号１０）の製造
５−クロロメチル−５−メチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン９．１ｇ（４２．９ミリモル）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液中に、室温にて水硫化ナトリウム水和物６．９ｇ（純度７０％、８５．８ミリモル）を加え２時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム５．９ｇ（４２．９ミリモル）、ロンガリット６．６ｇ（４２．９ミリモル）及び参考例２０にて製造した４−ブロモメチル−１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの粗生成物（４２．９ミリモル相当）を加え、さらに室温にて３０分攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１０．３ｇ（収率６６．９％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．１５〜４．０８（４Ｈ，ｍ），３．５４（２Ｈ，ｑ），３．０１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．７，Δν＝１１０．８Ｈｚ），１．５５（３Ｈ，ｓ），１．４７（３Ｈ，ｔ）
＜実施例１０＞
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号１１）の製造
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．７２ｇ（２．０ミリモル）のクロロホルム１０ｍｌ溶液中に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１．２３ｇ（純度７０％、５．０ミリモル）を加え、さらに室温にて２０時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をｎ−ヘキサンで洗浄し、白色粉末（融点７３〜７５℃）の５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．６４ｇ（収率８２．１％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．５６（２Ｈ，ｓ），４．１７（２Ｈ，ｑ），３．６１（２Ｈ，ｑ），３．３１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．８，Δν＝１２３．６Ｈｚ），１．５８（３Ｈ，ｓ），１．５０（３Ｈ，ｔ）
＜実施例１１＞
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号１２）の製造
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン５．４ｇ（１５．０ミリモル）のメタノール３０ｍｌ溶液中に、室温にてナトリウムメトキシド４．３ｇ（２８％メタノール溶液、２２．５ミリモル）を加え、さらに８時間加熱環流した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン３．３ｇ（収率５９．１％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．２６（２Ｈ，ｓ），４．０６（５Ｈ，ｍ），３．５５（２Ｈ，ｑ），３．０２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．９，Δν＝１１０．５Ｈｚ），１．５６（３Ｈ，ｓ），１．４１（３Ｈ，ｔ）
＜実施例１２＞
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号１３）の製造
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．７４ｇ（２．０ミリモル）のクロロホルム１０ｍｌ溶液中に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１．２４ｇ（純度７０％、５．０ミリモル）を加え、さらに室温にて２０時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をｎ−ヘキサンで洗浄し、白色粉末（融点１３９〜１４０℃）の５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．７２（収率８９．２％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．６０（２Ｈ，ｓ），４．１３〜４．０６（５Ｈ，ｍ），３．３０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．８，Δν＝１２２．８Ｈｚ），１．５８（３Ｈ，ｓ），１．４６（３Ｈ，ｔ）
＜実施例１３＞
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−メチルチオ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号１４）の製造
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．０８ｇ（３．０ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液中に、室温にてメチルメルカプタンナトリウム４．２１ｇ（１５％水溶液、９．０ミリモル）を加え、さらに室温にて一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−メチルチオ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリンの粗生成物を得た。
＜実施例１４＞
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−メチルスルホニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号１５）の製造
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−メチルチオ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリンの粗生成物（３．０ミリモル相当）のクロロホルム３０ｍｌ溶液中に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸３．７４ｇ（純度７０％、１５．０ミリモル）を加え、さらに室温にて２０時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をｎ−ヘキサンで洗浄し、白色粉末（融点１１３〜１１４℃）の５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−メチルスルホニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．１５（収率８４．８％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：５．０８（２Ｈ，ｂＲ），４．６０（２Ｈ，ｑ），３．６４（２Ｈ，ｑ），３．４１（３Ｈ，ｓ），３．３６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．５，Δν＝１６３．１Ｈｚ），１．６５（３Ｈ，ｓ），１．６０（３Ｈ，ｔ）
＜実施例１５＞
５−クロロメチル−３−（５−シアノ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号１６）の製造
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．０８ｇ（３．０ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液中に、室温にてシアン化ナトリウム０．３０ｇ（６．０ミリモル）を加え、さらに５０℃にて１０時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し５−クロロメチル−３−（５−シアノ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．１０ｇ（収率：定量的）を得た。
＜実施例１６＞
５−クロロメチル−３−（５−シアノ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号１７）の製造
５−クロロメチル−３−（５−シアノ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．１０ｇ（３．０ミリモル）のクロロホルム２０ｍｌ溶液中に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１．８５ｇ（純度７０％、７．５ミリモル）を加え、さらに室温にて２０時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をｎ−ヘキサンで洗浄し、白色粉末（融点７６〜７８℃）の５−クロロメチル−３−（５−シアノ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．１５（収率８４．８％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．７３（２Ｈ，ｓ），４．４５（２Ｈ，ｑ），３．６３（２Ｈ，ｑ），３．３５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．６，Δν＝１２９．６Ｈｚ），１．５９〜１．４６（６Ｈ，ｍ）
＜実施例１７＞
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−ヒドロキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号１８）の製造
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン２．５ｇ（６．７ミリモル）のジクロロメタン３０ｍｌ溶液中に、−６０℃にて三臭化ホウ素１０ｍｌ（２モル／ｌジクロロメタン溶液、２０．２ミリモル）を加え、さらに室温にて一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−ヒドロキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．６ｇ（収率６６．７％）を得た。
＜実施例１８＞
５−クロロメチル−３−（５−エトキシ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号１９）の製造
５−クロロメチル−３−（１−エチル−５−ヒドロキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．６ｇ（４．５ミリモル）のテトラヒドロフラン２０ｍｌ溶液中に、室温にてエタノール０．３ｇ（５．４ミリモル）及びトリフェニルホスフィン１．４ｇ（５．４ミリモル）を加えた。さらに氷冷下、反応溶液中にアゾジカルボン酸ジイソプロピル１．１ｇ（５．４ミリモル）を加え１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し５−クロロメチル−３−（５−エトキシ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．５ｇ（収率８６．８％）を得た。
＜実施例１９＞
５−クロロメチル−３−（５−エトキシ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号２０）の製造
５−クロロメチル−３−（５−エトキシ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．５ｇ（３．９ミリモル）のクロロホルム１０ｍｌ溶液中に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸２．４ｇ（純度７０％、９．７ミリモル）を加え、さらに室温にて２０時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄し、白色粉末（融点６７〜６９℃）の５−クロロメチル−３−（５−エトキシ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．７１ｇ（収率４３．８％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．５８（２Ｈ，ｓ），４．３２（２Ｈ，ｑ），４．０９（２Ｈ，ｑ），３．６１（２Ｈ，ｑ），３．２８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．８，Δν＝１２１．７Ｈｚ），１．６２（３Ｈ，ｓ），１．４８〜１．４３（６Ｈ，ｍ）
＜実施例２０＞
５−クロロメチル−３−（５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号２１）の製造
５−クロロメチル−５−メチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン８．５ｇ（４０．０ミリモル）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド４０ｍｌ溶液中に、室温にて水硫化ナトリウム水和物６．４ｇ（純度７０％、８０．０ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、氷冷下にて無水炭酸カリウム６．６ｇ（４８．０ミリモル）、ロンガリット７．４ｇ（４８．０ミリモル）及び４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール１０．４ｇ（４０．０ミリモル）を加え、さらに氷冷下にて３０分攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色粘稠性液体（屈折率：ｎ_Ｄ ^２０＝１．４９７４）の５−クロロメチル−３−（５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１１．８ｇ（収率８５．５％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．１５（２Ｈ，ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．５４（２Ｈ，ｑ），３．０１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．８，Δν＝１４７．８Ｈｚ），１．５３（３Ｈ，ｓ）
＜実施例２１＞
５−クロロメチル−３−（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号２２）の製造
５−クロロメチル−３−（５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．０ｇ（２．９ミリモル）のメタノール１０ｍｌ溶液中に、室温にてナトリウムメトキシド０．９ｇ（２８％メタノール溶液、４．４ミリモル）を加え、さらに５時間加熱環流した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し５−クロロメチル−３−（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン３．３ｇ（収率：定量的）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．２６（２Ｈ，ｓ），４．０６（３Ｈ，ｓ），３．７２（３Ｈ，ｓ），３．５５（２Ｈ，ｑ），３．０２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．７，Δν＝１１１．０Ｈｚ），１．５６（３Ｈ，ｓ）
＜実施例２２＞
５−クロロメチル−３−（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号２３）の製造
５−クロロメチル−３−（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１０．０ｇ（２８．０ミリモル）のジクロロメタン３０ｍｌ溶液中に、０℃にて三臭化ホウ素２８．０ｍｌ（２モル／ｌジクロロメタン溶液、５５．９ミリモル）を加え、さらに室温にて３０分間攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をｎ−ヘキサンで洗浄し、淡桃色粉末（融点１１１〜１１２℃）の５−クロロメチル−３−（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン８．４ｇ（収率８７．２％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．０１（２Ｈ，ｓ），３．６９（３Ｈ，ｓ），３．５５（２Ｈ，ｑ），３．０９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．０，Δν＝１１４．４Ｈｚ），１．５６（３Ｈ，ｓ）
＜実施例２３＞
５−クロロメチル−３−（１−メチル−５−ｉｓｏ−プロポキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号２４）の製造
５−クロロメチル−３−（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．０ｇ（２．９ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液中に、室温にて無水炭酸カリウム０．５ｇ（３．５ミリモル）を加えた。さらに、室温にて反応溶液中にヨウ化イソプロピル０．６ｇ（３．５ミリモル）を加え３０分間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し５−クロロメチル−３−（１−メチル−５−ｉｓｏ−プロポキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．５ｇ（収率４５．０％）を得た。
＜実施例２４＞
５−クロロメチル−３−（１−メチル−５−ｉｓｏ−プロポキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−メチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号２５）の製造
５−クロロメチル−３−（１−メチル−５−ｉｓｏ−プロポキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．５ｇ（１．２ミリモル）のクロロホルム１０ｍｌ溶液中に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０．６５ｇ（純度７０％、２．６４ミリモル）を加え、さらに室温にて２０時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄し、淡黄色粘稠性液体の５−クロロメチル−３−（１−メチル−５−ｉｓｏ−プロポキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．４９ｇ（収率９０．０％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．６４（１Ｈ，ｍ），４．５１（２Ｈ，ｓ），３．７６（３Ｈ，ｓ），３．６１（２Ｈ，ｑ），３．２４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．８，Δν＝１１６．９Ｈｚ），１．６１（３Ｈ，ｓ），１．４０（６Ｈ，ｄ）
実施例１−２４の方法に準じて製造した化合物を表５８〜６０に示す。

（中間体の製造例）
＜参考例１＞
１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オールの製造
トリフルオロアセト酢酸エチルエステル９２．１ｇ（０．５モル）のエタノール５００ｍｌ溶液にモノメチルヒドラジン２３．０ｇ（０．５モル）及び濃塩酸５ｍｌを加えた後、２日間加熱還流した。反応終了後、溶媒の大部分を減圧留去し、残渣を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し、白色粉末の１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール６０．０ｇ（収率７２．２％）を得た。
＜参考例２＞
５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６０．０ｇ（０．７６モル）に、氷冷下、オキシ塩化リン３６０ｇ（２．３１モル）を加えた。次に、室温で１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール６４．０ｇ（０．３８５モル）を加えた後、１時間加熱還流した。反応終了後、氷冷下、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、白色結晶の５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド６０．４ｇ（収率７３．４％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：９．９６（１Ｈ，ｄ），３．９６（３Ｈ，ｓ）
＜参考例３＞
（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノールの製造
５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド１０．０ｇ（４７．０ミリモル）のメタノール１００ｍｌ溶液を０℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム２．１ｇ（５６．５ミリモル）を徐々に加えた。さらに室温で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール８．３ｇ（収率８２．２％）を得た。
＜参考例４＞
４−ブロモメチル−５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール８．３ｇ（３８．７ミリモル）のジエチルエーテル１００ｍｌ溶液を−１０℃に冷却し、三臭化リン１２．６ｇ（４６．４ミリモル）を加えた。さらに室温で１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、４−ブロモメチル−５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール１０．７ｇ（収率９９．９％）を得た。
＜参考例５＞
１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オールの製造
トリフルオロアセト酢酸エチルエステル５５２．３ｇ（３．０モル）のエタノール１５００ｍｌ溶液にｔｅＲｔ−ブチルヒドラジン塩酸塩３７３．８ｇ（３．０モル）及び濃塩酸５０ｍｌを加えた後、２日間加熱還流した。反応終了後、溶媒の大部分を減圧留去し、残渣を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し、白色粉末の１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール３６９．０ｇ（収率５９．１％）を得た。
＜参考例６＞
１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８７．７ｇ（１．２モル）に、氷冷下、オキシ塩化リン４６２．０ｇ（３．０モル）を加えた。次に、室温で１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール２０８．２ｇ（１．０モル）を加えた後、１０時間加熱還流した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を水、５％水酸化ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン：酢酸エチル混合溶媒）で精製し、白色結晶の１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド１３１．５ｇ（収率２１．７％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：９．９７（１Ｈ，ｄ），１．７６（９Ｈ，ｓ）
＜参考例７＞
（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノールの製造
１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３９．９ｇ（１５６．９ミリモル）のメタノール３００ｍｌ溶液を０℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム６．５ｇ（１７２．６ミリモル）を徐々に加えた。さらに室温で３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール３７．７ｇ（収率９３．６％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：４．６０（２Ｈ，ｄ），１．７２（９Ｈ，ｓ），１．５８（１Ｈ，ｔ）
＜参考例８＞
４−ブロモメチル−１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール９．２ｇ（３５．７ミリモル）のジエチルエーテル１００ｍｌ溶液を−１０℃に冷却し、三臭化リン１１．６ｇ（４２．９ミリモル）を加えた。さらに室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、４−ブロモメチル−１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール１０．０ｇ（収率８７．３％）を得た。
＜参考例９＞
（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタンチオールの製造
水硫化ナトリウム水和物２１．８ｇ（純度７０％、２７２．２ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３００ｍｌに４−ブロモメチル−１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール４３．５ｇ（１３６．１ミリモル）を加えた。さらに室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタンチオール３２．３ｇ（収率８７．０％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：３．６５（２Ｈ，ｄ），１．９０（１Ｈ，ｔ），１．７０（９Ｈ，ｓ）
＜参考例１０＞
５−ブロモ−４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン４９．２ｇ（３００．０ミリモル）の酢酸６００ｍｌ溶液に、室温で無水酢酸ナトリウム７７．５ｇ（９４５．０ミリモル）を加えた。さらに４５℃で反応溶液中に臭素５０．３ｇ（３１５ミリモル）を徐々に加え、同温度で３時間攪拌した。反応終了確認後、溶媒を減圧留去し、残渣を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し５−ブロモ−４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン３８．９ｇ（収率５３．４％）を得た。
＜参考例１１＞
５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
５−ブロモ−４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン２４．３ｇ（１００．０ミリモル）をオキシ塩化リン１８．５ｇ（１２０．０ミリモル）に懸濁させ、１００℃で２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を徐々に水にあけクロロホルムで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリミジン２１．５ｇ（収率８２．４％）を得た。
＜参考例１２＞
５−ブロモ−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリミジン３．００ｇ（１１．４８ミリモル）のエタノール５０ｍｌ溶液に、室温でナトリウムエトキシド０．９４ｇ（１３．７７ミリモル）を加え攪拌した。反応終了確認後、溶媒を減圧留去した。残渣を水にあけ、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し５−ブロモ−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン２．４４ｇ（収率８２．９％）を得た。
＜参考例１３＞
４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒドの製造
５−ブロモ−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン５．７６ｇ（２１．３ミリモル）のテトラヒドロフラン２５０ｍｌ溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム−ヘキサン１．６Ｍ溶液２２．６ｍｌ（３６．１ミリモル）を滴下し、４０分間攪拌した。ギ酸メチル２．７ｇ（４５．１ミリモル）を加え、さらに１．５時間攪拌した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテルで抽出した。得られた有機相を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド３．８２ｇ（収率８１．６％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：１０．４１（１Ｈ，ｓ），８．９５（１Ｈ，ｓ），４．６３（２Ｈ，ｑ），１．４８（３Ｈ，ｔ）
＜参考例１４＞
（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタノールの製造
水素化ほう素ナトリウム１．７ｇ（４５．７ミリモル）のメタノール５０ｍｌ溶液に、氷冷下、４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド３．８２ｇ（１７．２ミリモル）のメタノール５０ｍｌ溶液を加えた。０℃で１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタノール３．７７ｇ（収率９７．８％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：８．８０（１Ｈ，ｓ），４．８１（２Ｈ，ｓ），４．５９（２Ｈ，ｑ），２．２８（１Ｈ，ｂＲ），１．４８（３Ｈ，ｔ）
＜参考例１５＞
５−ブロモメチル−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタノール３．７７ｇ（１７．０ミリモル）のエーテル５０ｍｌ溶液を０℃に冷却し、三臭化リン２．０ｇ（７．２ミリモル）を加えた。室温で１時間攪拌した。生じた塩をメタノールで溶解し、さらに１時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎエーテルで抽出した。得られた有機相を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、５−ブロモメチル−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンをクルードで得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：８．７９（１Ｈ，ｓ），４．６１（２Ｈ，ｑ），４．５５（２Ｈ，ｓ），１．４９（３Ｈ，ｔ）
＜参考例１６＞
１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オールの製造
トリフルオロアセト酢酸エチルエステル５５．２ｇ（３００．０ミリモル）のエタノール３００ｍｌ溶液中にモノエチルヒドラジン１８．０ｇ（３００．０ミリモル）及び濃塩酸５ｍｌを加えた後、２日間加熱還流した。反応終了後、減圧下溶媒を大部分留去し、残渣を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンにて洗浄し、白色粉末の１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール３５．５ｇ（収率６５．７％）を得た。
＜参考例１７＞
５−クロロ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１８．０ｇ（２４６．３ミリモル）に、氷冷下、オキシ塩化リン９１．１ｇ（５９１．２ミリモル）を加えた。次に、室温にて１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール３５．５ｇ（１９７．１ミリモル）を加えた後、３時間加熱還流した。反応終了後、氷冷下、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、５−クロロ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの粗生成物を得た。
＜参考例１８＞
１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
５−クロロ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの粗生成物（１９７．１ミリモル相当）のジメチルスルホキシド１００ｍｌ溶液中に室温にてフッ化カリウム３４．３ｇ（スプレードライ品、５９１．３ミリモル）を加えた後、１００℃にて３日間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド１１．１ｇ（収率２６．８％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：９．８６（１Ｈ，ｄ），４．１９（２Ｈ，ｑ），１．５２（３Ｈ，ｔ）
＜参考例１９＞
（１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノールの製造
１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド１１．１ｇ（５２．８ミリモル）のメタノール５０ｍｌ溶液を０℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム２．１ｇ（５５．５ミリモル）を徐々に加えた。さらに室温にて３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、（１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール９．１ｇ（収率８１．３％）を得た。
＜参考例２０＞
４−ブロモメチル−１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
（１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール９．１ｇ（４２．９ミリモル）のジエチルエーテル１００ｍｌ溶液を−１０℃に冷却し、三臭化リン１２．２ｇ（４５．０ミリモル）を加えた。さらに室温にて一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−１−エチル−５−フルオロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの粗生成物を得た。
＜参考例２１＞
５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド６０．４ｇ（２８２．７ミリモル）のジメチルスルホキシド７００ｍｌ溶液に、ふっ化カリウム４２．０ｇ（７１１．９ミリモル）を加え、１２０〜１４０℃で５時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−３６．８ｇ（収率６６．０％）を得た。
＜参考例２２＞
（５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノールの製造
水素化ホウ素ナトリウム３．９ｇ（１０２．６ミリモル）のメタノール５００ｍｌに溶液、氷冷下、５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３６．８ｇ（１８７．６ミリモル）のメタノール２００ｍｌ溶液を加えた。０℃で３０分間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、（５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール３５．４ｇ（収率９５．４％）を得た。
＜参考例２３＞
４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３５．４ｇ（１７８．７ミリモル）のジエチルエーテル５００ｍｌ溶液を−３０℃に冷却し、三臭化りん５４．０ｇ（１９９．５ミリモル）を加えた。室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３１．４ｇ（収率８０．８％）を得た。
本発明の除草剤は、一般式［Ｉ］で示されるイソオキサゾリン誘導体を有効成分としてなるものである。
本発明化合物を除草剤として使用するには、本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤又は補助剤等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、フロアブル剤、微粒剤又は粒剤等に製剤して使用することもできる。
製剤化に際して用いられる担体としては、例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチルナフタレン等の液体担体等があげられる。
界面活性剤及び分散剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等があげられる。使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するか又は直接施用する。
本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用又は水面施用等により使用することができる。有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤又は粒剤とする場合は０．０１〜１０％（重量）、好ましくは０．０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。乳剤及び水和剤とする場合は１〜５０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。又、フロアブル剤とする場合は１〜４０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。
本発明の除草剤の施用量は使用される化合物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそのまま使用する場合は、有効成分として１ヘクタール当り１ｇ〜５０ｋｇ、好ましくは１０ｇ〜１０ｋｇの範囲から適宜選ぶのがよい。又、乳剤、水和剤及びフロアブル剤とする場合のように液状で使用する場合は、０．１〜５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から適宜選ぶのがよい。
又、本発明の化合物は必要に応じて殺虫剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混用してもよい。
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において「部」は重量部を意味する。
〈製剤例１〉 水和剤
本発明化合物番号２の１０部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２０部、クレーの６９部を混合粉砕し、水和剤を得た。
〈製剤例２〉 フロアブル剤
粗粉砕した本発明化合物番号２の２０部を水６９部に分散させ、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸塩４部、エチレングリコール７部を加えるとともにシリコーンＡＦ−１１８Ｎ（旭化成工業株式会社製）を製剤に対し２００ｐｐｍ加え、高速攪拌機で３０分間混合した後、湿式粉砕機で粉砕しフロアブル剤を得た。
〈製剤例３〉 乳剤
本発明化合物番号２の３０部にキシレンとイソホロンの等量混合物６０部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の１０部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤を得た。
〈製剤例４〉 粒剤
本発明化合物番号２の１０部、タルクとベントナイトを１：３の割合の混合した増量剤の８０部、ホワイトカーボンの５部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の５部に水１０部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径０．７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０．５〜１ｍｍの長さに切断し、粒剤を得た。
次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。
〈試験例１〉 水田土壌処理による除草効果試験
１００ｃｍ^２プラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ、コナギの種子を播種し、水深３ｃｍに湛水した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を、１ヘクタール当り１０００ｇとした。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に表６１の基準に従って除草効果を調査した。結果を表６２に示す。

〈試験例２〉 畑地土壌処理による除草効果試験
８０ｃｍ^２プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ、エノコログサの種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１ヘクタール当り有効成分が１０００ｇになる様に、１ヘクタール当り１０００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理２１日目に表６１の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表６３に示す。

〈試験例３〉 畑地茎葉処理による除草効果試験
８０ｃｍ^２プラスチックポットに砂を充填し、イヌビエ、エノコログサの種子を播種し、温室内で２週間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤を水に希釈し、１ヘクタール当り有効成分が１０００ｇになる様に、１ヘクタール当り１０００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表６１の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表６４に示す。

産業上の利用可能性
一般式［Ｉ］で表される本発明の化合物は、畑地において問題となる種々の雑草、例えばオオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム、アサガオ、オナモミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生及び１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草の発芽前から生育期の広い範囲にわたって優れた除草効果を発揮する。又、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ等の一年生雑草及びウリカワ、オモダカ、ミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年生雑草を防除することもできる。
一方、本発明の除草剤は作物に対する安全性も高く、中でもイネ、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、グレインソルガム、ダイズ、ワタ、テンサイ等に対して高い安全性を示す。

Claims (10)

1. 一般式［Ｉ］を有するイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩：
   

   

   式中、
   Ｒ^１は、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基を示し、
   Ｒ^２は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキル基示し、
   Ｒ^３及びＲ^４は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基を示すか、或いは、Ｒ^３とＲ^４とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と共にＣ３〜Ｃ７のスピロ環を形成しても、さらにＲ^２とＲ^３とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と共に５〜８員環を形成してもよく、
   Ｒ^５及びＲ^６は、同一又は相異なって、水素原子又はＣ１〜Ｃ１０アルキル基を示し、
   Ｙはピロリル基、ピラゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、ベンゾチエニル基、インドリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾイソキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、インダゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、フサラジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基又はベンゾトリアゾリル基を示し（ここで、これらのヘテロ環基のヘテロ原子が窒素原子の時は酸化されてＮ−オキシドになってもよい。）、これらのヘテロ環基は置換基群αより選択される１〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよく（ここで、ヘテロ環基の置換基は、隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成してもよい。）、
   ｎは０〜２の整数を示す。
   「置換基群α」
   水酸基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルフィニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルフィニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ６アシルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）
   「置換基群β」
   水酸基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されてもよい）、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基、アミノ基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい。）、カルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、Ｃ２〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシイミノ基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基
   「置換基群γ」
   Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されていてもよい。）
2. 置換基群αが、水酸基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）によって表される請求項１記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
3. 置換基群αが、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシＣ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なってＣ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されていてもよい）によって表される請求項２記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
4. Ｒ^１がクロロメチル基、Ｒ^２がメチル基もしくはエチル基、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６が水素原子である請求項１、２又は３記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
5. Ｙがピロリル基、ピラゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基である請求項１、２、３又は４記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
6. Ｙがピラゾリル基又はピリミジニル基である請求項５記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
7. Ｙがピラゾール−４−イル基又はピリミジン−５−イル基である請求項６記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
8. Ｙがピラゾール−４−イル基で、置換基群αより選択される任意の基がピラゾール環の３及び５位に置換され、更に、１位に水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、アミノ基（該基の窒素原子は、同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が置換した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
9. Ｙがピリミジン−５−イル基で、置換基群αより選択される任意の基がピリミジン環の４位及び６位に置換した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩。
10. 請求項１〜９のいずれかに記載のイソオキサゾリン誘導体又は薬理上許容される塩を有効成分として含有する除草剤。