JPWO2002053552A1 - エスクレチン化合物の製造方法、エスクレチン化合物、若しくはその中間体、又はそれらの利用 - Google Patents
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Abstract
エスクレチン化合物、エスクレチン化合物中間体、エスクレチン化合物の製造方法、エスクレチン化合物若しくはその中間体を含む農園芸用抗糸状菌組成物及び除草剤組成物を提供する。エスクレチン化合物の製造方法は、低コストかつ高収率で、工業化が可能であり、以下の工程を含む。式(1):のトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を、非プロトン性極性溶媒中で弱塩基の存在下に、無水酢酸などによって環化させることを特徴とする、式(2):のエスクレチン化合物の製造方法。
Description
技術分野
本発明は、エスクレチン化合物、エスクレチン化合物中間体、エスクレチン化合物の製造方法、エスクレチン化合物若しくはその中間体を含む農園芸用抗糸状菌組成物及び除草剤組成物に関する。特に、本発明は、活性を有するエスクレチン化合物の新規製造方法に関する。エスクレチン化合物は、近年、医薬品工業における重要な化合物であり、更に化学工業における合成中間体としても有用である。
背景技術
エスクレチンは、クマリンの6,7位が水酸基で置換された化合物、すなわち、6,7−ジヒドロキシクマリンである。クマリン類の製造方法は多く知られているが、6,7位に水酸基を有するエスクレチン類の製造方法の報告例は非常に少ない。
エスクレチン自身を直接に製造する方法としては、天然物のエスクリン(すなわち、6,7−ジヒドロキシクマリン−6−グルコシド)を酸加水分解により調製する方法〔Merz,Arch.Pharm.,270巻,486(1932)〕、又は1,2,4−トリアセトキシベンゼンとリンゴ酸とを硫酸中で反応させる方法〔Bull.Soc.Chim.France 512(1947),Heterocycle 41巻,1979(1995)〕が知られている。
しかしながら、天然物のエスクリンを加水分解する方法は、供給量に限界がある。また、1,2,4−トリアセトキシベンゼンとリンゴ酸とを用いて純度の高いエスクレチンを合成する方法は、収率が18%と低い上に、98%硫酸を使用するため、工業的に不利な点がある。
また、エスクレチンの製造方法としては、置換基を有するエスクレチンを合成した後、それらの置換基を除去してエスクレチンを誘導する方法も知られており、次のような方法を例示することができる。ピリジン中で、アニリン存在下に、2−ヒドロキシ−4,5−ジメトキシベンズアルデヒドをマロン酸と反応させてスコパロン−3−カルボン酸を合成した後、3位のカルボキシル基を脱炭酸し、更にヨウ化水素酸でメチルエーテルを切断して合成する方法〔Phytochemistry,27,391(1988)〕がある。エスクレチン誘導体の合成法としては、オルトヒドロキシベンズアルデヒド誘導体にカルベトキシメチレントリフェニルホスホランを作用させてスコパロンを合成する方法〔Indian J.Chem.,21B巻,759(1982)〕、サリチルアルデヒド誘導体にカルベトキシメチレントリフェニルホスホランを作用させて、クマリン誘導体を合成する方法〔Chem.Pharm.Bull.40巻,2614(1992)〕、サリチルアルデヒド誘導体に無水酢酸及び酢酸ナトリウムを用いてクマリン誘導体を合成する方法〔Chem.Pharm.Bull.40巻,2614(1992),Chem.Ber.32巻,287(1899)〕、2−ヒドロキシ−4,5−ジメトキシ−ベンズアルデヒドにハイドロキノン存在下で無水酢酸と酢酸カリウムによりスコパロン(6,7−ジメトシキクマリン)を合成する方法(特開昭48−22466号公報)等が知られている。これらは、いずれもエスクレチン誘導体の合成法でありエスクレチン自身を直接製造する方法ではないので、保護基あるいは置換基を除去する工程が必要であり、収率が低くなる。
前記のサリチルアルデヒド誘導体に無水酢酸及び酢酸ナトリウムを用いて6−イソプロポキシ−7−メトキシクマリンを合成する方法は、収率が45.7%と前記文献に記載されており、なお、満足すべきものではない。また、2−ヒドロキシ−4,5−ジメトキシ−ベンズアルデヒドにハイドロキノン存在下で無水酢酸と酢酸カリウムとを用いて、スコパロンを合成する方法も収率が41%であり、満足すべきものではない。
本発明者らは、工業的にも満足のゆくエスクレチン化合物の製造方法について鋭意研究を行なった結果、特定のベンズアルデヒド化合物をN,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒中で、酢酸ナトリウム等の弱塩基の存在下に、無水酢酸などによって縮合環化させることにより、高収率でエスクレチン化合物を得ることができることを見出した。また、本発明者らが見出した前記の新規製造方法に用いる出発化合物、中間体生成物、及び生成物の中に、新規化合物が存在することも見出した。更に、本発明者は、中間体生成物の中に、抗糸状菌活性又は除草活性を有する化合物が存在することも見出した。
本発明は、こうした知見に基づくものである。
発明の開示
従って、本発明は、一般式(1):
〔式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を、非プロトン性極性溶媒中で弱塩基の存在下に、無水酢酸又は反応系で無水酢酸を形成する化合物によって縮合環化させることを特徴とする、一般式(2):
(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味である)で表されるエスクレチン化合物の製造方法に関する。
また、本発明は、一般式(3):
〔式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である〕で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物をホルミル化することを特徴とする、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の製造方法にも関する。
前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物において、好ましい化合物は、R1及びR2が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3が水素原子又はアセチル基である前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物である。
また、前記一般式(2)で表されるエスクレチン化合物において、好ましい化合物は、R1及びR2が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3が水素原子又はアセチル基である前記一般式(2)で表されるエスクレチン化合物である。
更に、前記一般式(3)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物において、好ましい化合物は、R1及びR2が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3が水素原子又はアセチル基である前記一般式(3)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物である。
更に、本発明は、一般式(10):
〔式中、R11及びR12は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数2〜5のアルキル基であるか、あるいは、R11とR12とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R13は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるが、ただし、R11及びR12とが同時に水素原子であることはないものとする〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物にも関する。
前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物において、好ましい化合物は、R11及びR12が、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数2〜5のアルキル基であるか、あるいは、R11とR12とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R13が水素原子又はアセチル基である(ただし、R11及びR12とが同時に水素原子であることはないものとする)前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物である。
更にまた、本発明は、一般式(20):
〔式中、R21及びR22は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R21とR22とが一緒になって−C(CH3)2−基であるが、ただし、R21及びR22とが同時に水素原子であることはなく、更にR21及びR22とが同時にホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であることはないものとする〕で表されるエスクレチン化合物にも関する。
前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物において、好ましい化合物は、R21及びR22が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R21とR22とが一緒になって−C(CH3)2−基である(ただし、R21及びR22とが同時に水素原子であることはなく、更にR21及びR22とが同時にアセチル基であることはないものとする)前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物である。
更にまた、本発明は、一般式(30):
〔式中、R31は場合により置換されていることのあるベンジル基であり、R32は、水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R31とR32とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R33は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である〕で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物にも関する。
前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物において、好ましい化合物はR31がベンジル基であり、R32が水素原子又はアセチル基であるか、あるいは、R31とR32とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R33が水素原子又はアセチル基である前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物である。
更にまた、本発明は、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、又は前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物を有効成分とすることを特徴とする、農園芸用抗糸状菌組成物にも関する。
更にまた、本発明は、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、又は前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物を有効成分とすることを特徴とする、除草剤にも関する
発明を実施するための最良の形態
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法においては、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を出発材料として用いる。
前記一般式(1)において、R1及びR2は、同じか又は異なることができ、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。
本明細書において「アルキル基」は、直鎖状アルキル基、分枝状アルキル基、若しくは環状アルキル基(シクロアルキル基)、あるいは環状部分を含むアルキル基(シクロアルキル−アルキル基若しくはアルキル−シクロアルキル基)を意味する。炭素数1〜5のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、1−メチル−ブチル基、2−メチル−ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、2−シクロプロピル−エチル基、又は1−シクロブチル−メチル基を挙げることができる。
また、本明細書において、ベンジル基は、未置換であっても置換基を有していてもよく、置換基を有している場合には、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、及び/又はハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は沃素原子)の置換基1〜5個、好ましくは1〜2個で置換されていることができる。これらの置換基は、フェニル基上に存在することが好ましい。
更に、本明細書において、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基〔以下、C1−4アルキル−カルボニル基〕は、未置換であっても置換基を有していてもよい。置換基を有しているC1−4−アルキル−カルボニル基における炭素数1〜4のアルキル部分は、炭素数1〜4のアルコキシ基及び/又はハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は沃素原子)で置換されていてもよい。前記のC1−4−アルキル−カルボニル基のアルキル部分が炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されている場合は、その置換個数は、1〜2個が好ましい。
前記のC1−4−アルキル−カルボニル基のアルキル部分がハロゲン原子で置換されている場合は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び/又は沃素原子のハロゲン原子の、1〜置換可能な水素原子の個数で置換されていてもよい。1種類のハロゲン原子で置換する場合、置換個数は、フッ素原子の場合は、1〜置換可能な水素原子の個数、塩素原子の場合は、1〜3個、臭素原子及び沃素原子の場合は1〜2個が好ましく、複数の種類のハロゲン原子で置換する場合には、置換可能な水素原子の個数の範囲内で、1種類のハロゲン原子で置換する場合の好ましい置換個数を組み合わせることが好ましい。
複数の種類の置換基で置換する場合も同様に、各々の好ましい置換個数を組み合わせることが好ましい。
前記一般式(1)において、R1がメチル基、ベンジル基、又はアセチル基であり、R2が水素原子又はアセチル基であり、R3が水素原子、又はアセチル基であることが好ましい。また、R1がベンジル基であり、R2が水素原子又はアセチルであり、R3が水素原子又はアセチル基であることがより好ましい。
前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の具体例としては、例えば、2,4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒド、4−メチルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド、4−エチルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド、4−プロピルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド、4−ブチルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド、4−ベンジルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド、4,5−ジメチルオキシ−2−ヒドロキシベンズアルデヒド、4,5−メチレンジオキシ−2−ヒドロキシベンズアルデヒド、5−ヒドロキシ−6−ホルミル−2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール及びそれらのアセチル体である2,4,5−トリスアセトキシベンズアルデヒド、2−アセトキシ−4,5−ヒドロキシベンズアルデヒド、2、5−ジアセトキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド等を挙げることができる。
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法は、非プロトン性極性溶媒中で実施する。非プロトン性極性溶媒は、本発明の反応系において不活性であるかぎり特に限定されるものではない。N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリジノン、1,1,3,3,−テトラメチルウレア、又は1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを例示することができ、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、1,1,3,3,−テトラメチルウレア、又は1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを好ましく使用することができる。
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法は、弱塩基の存在下で実施する。弱塩基も特に限定されるものではないが、例えば、有機酸(例えば、カルボン酸、又はシュウ酸)のアルカリ金属塩(例えば、酢酸ナトリウム、又は酢酸カリウム)、又は無機酸のアルカリ金属塩(例えば、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸リチウム)、あるいは窒素含有芳香族性複素環式化合物(例えば、ピリジン、キノリン、又はジメチルアミノピリジン)を挙げることができる。
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法では、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を、無水酢酸又は反応系で無水酢酸を形成する化合物によって縮合環化させる。
ここで、反応系で無水酢酸を形成する化合物とは、本発明によるエスクレチン化合物の製造方法の工程において、前記の弱塩基と反応して無水酢酸を形成する化合物であり、例えば、ハロゲン化アセチル(例えば、塩化アセチル又は臭化アセチル)を挙げることができる。
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法において、無水酢酸を用いる場合には、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物に対して、1〜10当量(好ましくは3〜4当量)の弱塩基(例えば、酢酸ナトリウム)の存在下で、0.5〜8当量(好ましくは3〜4当量)の無水酢酸を用いることができる。
また、反応系で無水酢酸を形成する化合物(例えば、ハロゲン化アセチル)を用いる場合には、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物に対して、2〜10当量(好ましくは3〜4当量)の弱塩基(例えば、酢酸ナトリウム)の存在下で、1〜10当量(好ましくは3〜4当量)の無水酢酸形成性化合物(例えば、ハロゲン化アセチル)を用いることができる。
本発明の製造方法の特徴として、本明細書に記載した好ましい反応条件(若しくはより好ましい反応条件)を使用することにより、3位及び/又は4位にアセトキシ基の結合しているトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を原料として用いて反応を行っても、生成物において、クマリンの6位及び/又は7位のアセトキシ基が水酸基に変換しているエスクレチン化合物として得られる点を挙げることができる。
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法は、大気下で実施することもできるが、不活性ガス(例えば、窒素ガス又はアルゴンガス)の雰囲気下で行うのが好ましい。反応温度や反応時間は、使用する出発化合物によって変化するが、一般的には1〜24時間、好ましくは2〜5時間、好ましくは100〜200℃、より好ましくは150〜180℃での加熱下で実施する。
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法において出発化合物として用いる前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物は、前記一般式(3)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物をホルミル化することによって製造することができる。
前記のホルミル化は、それ自体公知の方法、例えば、必要により適当な触媒の存在下で、ホルミル化剤で処理することによって実施することができる。ホルミル化剤としては、例えば、オルトギ酸トリアルキルエステルを用いることができる。また、触媒としては、例えば、ハロゲン化アルミニウムを挙げることができる。
前記のホルミル化は、エーテル系又は芳香族系有機溶媒中で実施するのが好ましい。具体的には、エーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、又はクロロベンゼンを用いるのが好ましい。前記のホルミル化は、大気下で実施することもできるが、不活性ガス(例えば、窒素ガス又はアルゴンガス)の雰囲気下で行うのが好ましい。反応温度や反応時間は、使用する出発化合物によって変化するが、一般的には0.1〜10時間、好ましくは0.1〜1時間、好ましくは0〜40℃、より好ましくは0〜10℃で実施する。
前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を製造する際に用いる本発明のエスクレチン化合物中間体の1つである前記一般式(3)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物の内、前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物は新規化合物である。前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物は、それ自体公知の方法で調製することができる。
例えば、前記一般式(30)において、R31がベンジル基であり、R32がアセチル基であり、R33が水素原子又はアセチル基である化合物は、例えば、公知の2−ベンジルオキシフェノールを、フレミー(Fremy)塩(すなわち、ニトロソスルホン酸カリウム)を用いて、あるいはコバルト錯体〔Tetrahedron Letters 30巻,5929(1989)〕存在下で、酸素をバブリングして酸化することにより2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノンを形成し、続いて、無水酢酸及びピリジンの存在下で、亜鉛末等で還元的にアセトキシル化することによって得ることができる。なお、アセチル基は、塩酸等により容易に加水分解することができる。
また、前記一般式(30)において、R31とR32とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R33が水素原子又はアセチル基である化合物は、例えば、1,2,4−トリヒドロキシベンゼンにジメチルホルムアミド中でジクロロメタンとフッ化セシウムとを作用させるか、あるいは酸触媒の存在下で2,2−ジメトキシプロパンを作用させることによって得ることができる。
また、本発明によるエスクレチン化合物の製造方法において出発化合物として用いる本発明のエスクレチン化合物中間体の1つである前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の内、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物は新規化合物である。前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物は、それ自体公知の方法で調製することができる。
例えば、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物は、相当するトリヒドロキシベンゼン化合物から前記のホルミル化方法によって調製することができる。具体的には、例えば、前記一般式(10)において、R11が炭素数2〜5のアルキル基であり、R12が水素原子であり、R13が水素原子である化合物は、公知の2−アルキルオキシヒドロキノンを、塩化アルミニウム存在下で、オルトギ酸トリエチルエステル等でホルミル化することにより容易に得ることができる。また、前記一般式(10)において、R11とR12とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R13が水素原子である化合物は、5−ヒドロキシ(又はアセチルオキシ)−2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソールを前記と同様にホルミル化することにより容易に得ることができる。
なお、こうして得られた生成物を常法によりアセチル化することによりR13がアセチル基である化合物を得ることができる。
前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の内、代表的な公知化合物の製造方法を説明すると、例えば、前記一般式(1)においてR1が水素原子である場合に相当する2、4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒドは市販されている(東京化成など)。あるいは、市販の1,2,4−トリヒドロキシベンゼンを塩化アルミニウム存在下で、オルトギ酸トリエチルエステル等でホルミル化することにより容易に得ることができる。また、前記一般式(1)においてR1がメチル基である場合に相当する4−メチルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒドは、市販の2−メチルオキシ−ヒドロキノンを前記と同様にホルミル化することにより容易に得ることができる。前記一般式(1)においてR1がベンジル基である場合に相当する4−ベンジルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒドは、2,4,5−ヒドロキシベンズアルデヒドをベンジル化するか、あるいは2−ベンジルオキシヒドロキノンをホルミル化することにより容易に得ることができる。
更に、前記一般式(1)においてR1及びR2が共にメチル基である場合に相当する4,5−ジメチルオキシ−2−ヒドロキシベンズアルデヒドは、3,4−ジメトキシフェノールを、前記と同様にホルミル化することにより容易に得ることができる。前記一般式(1)においてR1とR2とが一緒になって−CH2−基である場合に相当する4,5−メチレンジオキシ−2−ヒドロキシベンズルデヒドは、市販のセサモールを、前記と同様にホルミル化することにより容易に得ることができる。
前記一般式(1)において、R1、R2、及び/又はR3が共にアセチル基である場合に相当する2,4,5−トリアセトキシベンズアルデヒド、2−アセトキシ−4,5−ヒドロキシベンズアルデヒド、2,5−ジアセトキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒドは、2,4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒド、4−ベンジルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒドを無水酢酸及び酢酸ナトリウム、あるいは塩化アセチルと酢酸ナトリウムとでアセチル化することにより得ることができる。
更に、本発明によるエスクレチン化合物の製造方法において得られる前記一般式(2)で表されるエスクレチン化合物の内、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物は新規化合物である。一般式(20)で表される新規エスクレチン化合物は、本発明によるエスクレチン化合物の製造方法によって調製することができる。
前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、及び前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物は、それぞれ、抗糸状菌活性及び除草活性を有するので、それぞれ、農園芸用抗糸状菌剤又は除草剤の有効成分として使用することができる。
農園芸用抗糸状菌剤あるいは農園芸用抗糸状菌組成物、又は除草剤あるいは除草剤組成物として使用する場合は、そのまま単独で使用することもできるが、通常は製剤補助剤とともに、粉剤、水和剤、粒剤、又は乳剤などの種々の形態に製剤化して使用する。このとき製剤中に、1種又は2種以上の前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、及び/又は前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物が、好ましくは0.1〜95重量%、より好ましくは0.5〜90重量%、最も好ましくは2〜70重量%含まれるように製剤する。
製剤補助剤として使用する担体、希釈剤、あるいは界面活性剤を例示すれば、固体担体として、タルク、カオリン、ベントナイト、珪藻土、ホワイトカーボン、又はクレーなどを挙げることができる。また、液体希釈剤として、水、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、クロロベンゼン、低級アルコール類、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、又はジメチルスルホキシドなどを挙げることができる。界面活性剤は、その効果により使いわけるのが好ましい。例えば、乳化剤としては、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、又はポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートなどが好ましく、分散剤としては、リグニンスルホン酸塩、又はジブチルナフタリンスルホン酸塩などが好ましく、また湿潤剤としては、アルキルスルホン酸塩、又はアルキルフェニルスルホン酸塩などを挙げることができる。
前記農園芸用抗糸状菌剤あるいは農園芸用抗糸状菌組成物、又は除草剤あるいは除草剤組成物は、そのまま使用することができるし、水等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用することもできる。希釈して使用する場合は、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、及び前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物の濃度は、0.001〜1.0%の範囲が望ましい。また、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、及び前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物の使用量は、栽培条件により、適宜変更することができるが、例えば、畑、田、果樹園、又は温室などの農園芸用地1haあたり、好ましく20〜5000g、より好ましくは、50〜1000gである。これらの使用濃度及び使用量は剤型、使用時期、使用方法、使用場所、又は対象作物等によっても異なるため上記の範囲にこだわることなく増減することは可能である。更に、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、及び前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物は、他の有効成分、例えば、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、肥料、あるいは土壌改良剤と組み合わせて使用することもできる。
栽培用地に適用する方法及び時期も特に限定されるものではなく、例えば、栽培植物の播種前、播種後、あるいは、栽培植物の発芽・生育後に土壌へ散布することができる。
実施例
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
実施例1:エスクレチンの合成
本実施例の反応工程式を以下に示す。なお、以下の各反応工程式において、DMFはジメチルホルムアミドであり、Ac2Oは無水酢酸である。
具体的な操作は以下のとおりである。
50mLのナス型フラスコに、2,4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒド(2.6g,16.9mmol,1.0当量)、酢酸ナトリウム(4.15g,50.7mmol,3.0当量)、無水酢酸(6.4mL,67.6mmol,4.0当量)、及び乾燥したDMF(26mL)を加えた。この混合物を窒素雰囲気下で、180℃にて5時間攪拌すると原料は消失した。続いて、加熱を中止し室温まで冷却した。
反応液を10%塩酸水溶液100mL中にあけて、酢酸エチル(60mL×10)にて抽出した。得られた有機層を蒸留水(150mL×1)と飽和食塩水(150mL×1)で洗浄した後、硫酸ナトリウムにて乾燥させた。
溶媒を減圧下で留去し、酢酸エチル(10mL)を加えて析出した結晶を集めるとエスクレチン(2.16g,収率=80%)が、淡黄茶色結晶として得られた。
TLC:Rf=0.57(CHCl3:MeOH:CH3COOH:H2O=16:8:1:2)
1H−NMR(d6−DMSO,δ ppm):6.15(d,1H,J=9.3Hz,H−3),6.72(s,1H,H−5),6.96(s,1H,H−8),7.85(d,1H,J=9.3Hz,H−4)
IR(KBr cm−1):3232,2364,1672,1626,1564,1524,1460,1404,1282,1200,1148,946,878,848,820,748,670,636,576,508,454,418
実施例2:6−ヒドロキシ−7−メチルオキシクマリン(イソスコポレチン)の合成
本実施例の反応工程式を以下に示す。なお、以下の各反応工程式においてMeはメチル基であり、AcClは塩化アセチルである。
具体的な操作は以下のとおりである。
ナス型フラスコに、酢酸ナトリウム(443mg,5.4mmol,5.0当量)と乾燥したDMF(26mL)との混合物を入れ、窒素気流中、氷冷下で攪拌しながら塩化アセチル(0.23mL,3.24mmol,3.0当量)を滴下した。室温で10分間攪拌した後、2,5−ジヒドロキシ−4−メトキシベンズアルデヒド(167mg,1.08mmol,1.0当量)のジメチルホルムアミド(DMF)溶液(0.66mL×3)を反応系に滴下し、この混合物を窒素雰囲気下で、180℃にて2時間攪拌すると原料は消失した。続いて、加熱を中止し室温まで冷却した。
反応液を氷冷下で10%塩酸水溶液30mLにあけて、酢酸エチル(20mL×6)にて抽出した。得られた有機層を蒸留水(50mL×3)と飽和食塩水(50mL×3)で洗浄した後、硫酸ナトリウムにて乾燥させた。
溶媒を減圧下で留去し、トルエンにてリパルプ洗浄し、析出した結晶を集めるとイソスコポレチン(154mg,収率=79%)が、淡黄茶色結晶として得られた。
TLC:Rf=0.29(n−ヘキサン/酢酸エチル=1:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):3.90(s,3H,CH3O),6.18(d,1H,J=9.3Hz,H−3),6.90(s,1H,H−5),6.91(s,1H,H−8),7.75(d,1H,J=9.3Hz,H−4)
実施例3:7−ベンジルオキシ−6−ヒドロキシクマリン(7−ベンジルエスクレチン)の合成
本実施例の反応工程式を以下に示す。なお、以下の各反応工程式において、Bnはベンジル基である。
具体的な操作は以下のとおりである。
50mLのナス型フラスコに、4−ベンジルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド(488.48mg,2.0mmol,1.0当量)、酢酸ナトリウム(492.2mg,6.0mmol,3.0当量)、無水酢酸(816.8mg,8.0mmol,4.0当量)、及び乾燥したDMF(10mL)を加えた。この混合物を窒素雰囲気下で、180℃にて、5時間攪拌すると原料は消失した。続いて、加熱を中止し室温まで冷却した。
反応液を1%塩酸水溶液20mLにあけて、酢酸エチル(100mL×1)にて抽出した。得られた有機層を蒸留水(20mL×3)と飽和食塩水(20mL×3)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(10g)にて乾燥させると粗生成物(652.2mg)が得られた。
溶媒を減圧下で留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(直径3.0×7cm,20g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(5:1−2:1)(300mL+120mL)により7−ベンジルエスクレチン(390mg,72.7%)が、淡黄茶色結晶として得られた(収率:72.7%)。
TLC:Rf=0.15(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):5.19(s,2H,CH2Ph),5.66(s,1H,OH),6.29(d,J=9.77Hz,1H,H−3),6.90(s,1H,Ar−H),6.99(s,1H,Ar−H),7.3−7.4(br,1H,Ph),7.60(d,J=9.77Hz,1H,H−4)
IR(KBr cm−1):3232,2304,1694,1624,1566,1512,1472,1456,1402,1386,1360,1320,1292,1210,1150,1106,986,942,888,828,744,700,630,594,572,478
得られた7−ベンジルエスクレチンを、メタノール中の10%Pd/C存在下に水素で加水素分解させることにより定量的にエスクレチンが得られる。
実施例4:エスクレチンの合成
本実施例の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
2,4,5−トリアセトキシベンズアルデヒド(455mg,1.62mmol)のDMF溶液(9.0mL,0.18mol/l)に、酢酸(0.19mL,2.0当量)、酢酸ナトリウム(267mg,2.0当量)及び無水酢酸(0.18mL,1.2当量)を加え、180℃で5時間反応させた。薄層クロマトグラフィー(TLC)で原料の消失を確認した後、10%塩酸水溶液(100mL)を加え、酢酸エチル(80mL×8)にて抽出し、蒸留水(100mL)及び飽和食塩水(100mL)で洗浄した。集めた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮(トルエンで共沸)すると、褐色の結晶301mgが得られた。この結晶をHPLCにより定量したところ、エスクレチン含量は74%であった。従って、エスクレチンの実収率は75%と計算される。
実施例5:7−ベンジルオキシ−6−ヒドロキシクマリンの合成
本実施例の反応工程式を以下に示す。以下の各反応工程式においてBnはベンジル基であり、AcClは塩化アセチルである。
具体的な操作は以下のとおりである。
25mLのナス型フラスコに、4−ベンジルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド(164mg,0.5mmol,1.0当量)、酢酸ナトリウム(82mg,1mmol,2.0当量)、及び乾燥したDMF(4mL)を加えた。この混合物に、無水酢酸(204mg,2mmol,4.0当量)を溶解させたDMF(1.5mL)溶液を室温でゆっくりと滴下した。この混合物を180℃で4時間、窒素雰囲気下で攪拌した。反応終了後、室温まで冷却した。
この反応液に酢酸エチル60mLと水30mLを加えてよく分配させた。水層を分離した後、得られた有機層を飽和食塩水(10mL×3)で洗浄し、硫酸ナトリウム(5g)にて乾燥させた。
溶媒を減圧下で留去し、得られた残渣(191.8mg)をシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×2cm,5g)で分離精製するとn−ヘキサン:酢酸エチル(1:2)により7−ベンジルエスクレチン(119.4mg)が得られた。n−ヘキサンで洗浄することにより黄茶色粉末状の結晶(100.3mg,収率=74.7%)が得られた。
TLC:Rf=0.18(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
得られた7−ベンジルエスクレチンを、メタノール中で10%Pd/C存在下に水素で加水素分解させると定量的にエスクレチンが得られる。
実施例6
(1)メチレンジオキシクマリンの合成
メチレンジオキシクマリンの合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
25mLのナス型フラスコに、4,5−メチレンジオキシサリチルアルデヒド(83.06mg,0.5mmol,1.0当量)、酢酸ナトリウム(123.03mg,1.5mmol,3.0当量)、無水酢酸(204.18mg,2.0mmol,4.0当量)、及び乾燥したDMF(5mL)を加えた。この混合物を窒素雰囲気下で、170℃にて、5時間攪拌すると原料はほぼ消失した。続いて、加熱を中止し室温まで冷却した。
反応液を1%塩酸水溶液10mLにあけて、酢酸エチル(40mL×1)にて抽出した。得られた有機層を飽和食塩水(20mL×2)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)にて乾燥させた。
溶媒を減圧下で留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×8cm,20g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(3:1)(150+50mL)によりメチレンジオキシクマリン(64.3mg,収率=67.6%)が、淡茶色結晶として得られた。
融点:198−205℃(分解)
TLC:Rf=0.27(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):6.07(s,6H,Me2),6.26(d,J=9.76Hz,1H),6.82(s,2H),7.56(d,J=9.76Hz,1H)
IR(KBr cm−1):3072,2928,1712,1636,1584,1494,1456,1420,1388,1318,1272,1260,1228,1188,1162,1124,1082,1040,942,922,884,850,838,766,752,732,552,514
(2)エスクレチンの合成
エスクレチン合成の反応工程式を以下に示す。以下の各反応工程式においてEtSHはエタンチオールである。
具体的な操作は以下のとおりである。
25mLのナス型フラスコに、エタンチオール(2mL)と三臭化アルミニウム(320.9mg,1.2mmol,4.8当量)を入れて0℃に冷却し、攪拌下に、6,7−メチレンジオキシクマリン(47.5mg,0.25mmol,1.0当量)を一度に加えた。反応液の色が薄茶色から黄茶色に変化した。0℃で2時間攪拌した後、室温にてドラフト内で一晩攪拌し、エタンチオールを蒸発させた。
得られた残渣に10%塩酸水溶液10mLを加えると薄茶色の沈殿が生じた。一晩攪拌した後、酢酸エチル(20mL×2)にて抽出した。得られた有機層を飽和食塩水(10mL×2)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)にて乾燥させた。
溶媒を減圧下で留去し、得られた残渣(41.6mg)をシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×1cm,2g)で分離精製すると、酢酸エチルによりエスクレチン(37.6mg,収率=84.4%)が淡茶色結晶として得られた。この化合物のIRスペクトルは標準品のIRスペクトルと一致した。
TLC:Rf=0.57(CHCl3:MeOH:CH3COOH:H2O=16:8:1:2:)
IR(KBr cm−1):3232,2364,1672,1626,1564,1524,1460,1404,1282,1200,1148,946,878,848,820,748,670,636,576,508,454,418,552
実施例7
(1)エスクレチンアセトナイドの合成
エスクレチンアセトナイド合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、2,2−ジメチル−5−ホルミル−6−ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール(164.3mg,0.85mmol,1.0当量)、酢酸ナトリウム(278mg,3.38mmol,4.0当量)、無水酢酸(259mg,2.54mmol,3.0当量)、及び乾燥したDMF(10mL)を加えた。この混合物を窒素雰囲気下で、170℃にて、5時間攪拌すると原料は、ほぼ消失した。続いて、加熱を中止し室温まで冷却した。
反応液を、氷を浮かべた蒸留水40mLにあけて、酢酸エチル(40mL×2)にて抽出した。得られた有機層を蒸留水(20mL×3)及び飽和食塩水(20mL×1)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)にて乾燥させた。
溶媒を減圧下で留去し、得られた残渣(200.2mg)をシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×4cm,10g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(6:1)(180+30mL)によりエスクレチンアセトナイド(158.1mg,収率=85.7%)が、淡茶色結晶として得られた。
融点:178−180℃
TLC:Rf=0.35(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):1.72(s,6H,Me2),6.25(d,J=9.76Hz,1H),6.74(s,1H),6.75(s,1H),7.57(d,J=9.76Hz,1H)
IR(KBr cm−1):3064,3012,2364,1726,1628,1580,1504,1454,1410,1386,1342,1284,1230,1198,1150,1106,1064,982,924,890,840,824,782,754,724,650,604,558,502,464,450
(2)エスクレチンの合成
エスクレチン合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、エスクレチンアセトナイド(67.1mg,0.31mmol,1.0当量)と6N塩酸水溶液(1mL)を加えた。この混合物を窒素雰囲気下で、120℃にて、2時間攪拌すると原料は、ほぼ消失した。続いて、加熱を中止し室温まで冷却した。
反応液を、氷を浮かべた蒸留水10mLにあけて、酢酸エチル(20mL×3)にて抽出した。得られた有機層を蒸留水(10mL×3)及び飽和食塩水(10mL×1)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)にて乾燥させた。溶媒を減圧下で留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(直径1.7×5cm,4g)で分離精製すると、酢酸エチルによりエスクレチン(39.4mg,収率=72.0%)が、淡茶色結晶として得られた。
TLC:Rf=0.57(CHCl3:MeOH:CH3COOH:H2O=16:8:1:2)
IR(KBr cm−1):3352,1671,1623,1569,1404,1368,1284,1149,948,879,849,822,672,636,579
6Nの塩酸水の代わりに酢酸:蒸留水(4:1)混合液を用いて脱保護反応を試みたところ、反応速度は遅かったが、反応終了後に得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(直径1.7×5cm,4g)で分離精製すると、酢酸エチルによりエスクレチン(62.2mg,収率=83.7%)が、淡茶色結晶として得られた。
TLC:Rf=0.57(CHCl3:MeOH:CH3COOH:H2O=16:8:1:2)
IR(KBr cm−1):2364,1672,1626,1572,1404,1366,1284,1200,1150,948,878,848,822,670,636,578
[原料アルデヒド化合物の合成例]
合成例1:2,5−ジヒドロキシ−4−メトキシベンズアルデヒド(実施例2の原料)
本合成例の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
メトキシヒドロキノン(618mg,4.41mmol)に、オルソギ酸トリメチル(2.89mL,6.0当量)を滴下し、更にエーテル(15.5mL)を加え、完全に溶解させた。反応系を水浴につけ、窒素気流撹拌下で、塩化アルミニウム(882mg,1.5当量)を添加した。10分間反応させた後、氷冷撹拌下で、10%塩酸水溶液(50mL)を加え、エーテル(30mL×3)にて抽出し、水(50mL×3)及び飽和食塩水(50mL×3)で洗浄した。得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮して2,5−ジヒドロキシ−4−メトキシベンズアルデヒド(166mg,収率=24.5%)を薄黄色結晶として得た。
1H−NMR(CD3OD):δ 3.85(3H,s,CH3O−),6.44(1H,s,H−3),6.94(1H,s,H−6),9.66(1H,s,−CHO)
合成例2:4−ベンジルオキシ−5−ヒドロキシサリチルアルデヒド(実施例3の原料)の合成
本合成例の反応工程式を以下に示す。なお、以下の反応工程式においてMEKはメチルエチルケトンである。
具体的な操作は以下のとおりである。
50mLのナス型フラスコに、2,4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒド(154mg,1.0mmol,1.0当量)、炭酸水素ナトリウム(126mg,1.5mmol,1.5当量)、ヨウ化カリウム(33mg,0.2mmol,0.2当量)、及びメチルエチルケトン(MEK)10mLを加えた。この溶液に塩化ベンジル(189.9mg,1.5mmol,1.5当量)を少しずつ室温で加えた。
反応液を105℃で窒素雰囲気下、合計22時間還流攪拌した。原料が完全に消失しているように見られたので、反応液を減圧下で留去した。
酸性水溶液(10mL,1%塩酸水溶液)を注いで、酢酸エチル(30mL×1)で抽出した。有機層を飽和食塩水(10mL×1)、蒸留水(10mL×1)、及び更に飽和食塩水(10mL×1)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)で乾燥した。減圧濃縮すると、粗生成物(297.8mg)が得られた。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(直径1.7×8cm,6g)で精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(4:1)により4−ベンジルオキシ−5−ヒドロキシサリチルアルデヒド(219.1mg,収率=89.7%)が淡黄茶色結晶として得られた。
融点:144〜145℃
TLC:Rf=0.5(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):5.15(s,2H,PhCH2),6.54(s,1H,Ar−H),7.04(s,1H,Ar−H),7.42(s,5H,Ph),9.67(s,1H,CHO)
IR(KBr cm−1):3332,1638,1588,1560,1504,1470,1398,1362,1218,1178,1142,990,914,866,834,798,746,698,602,552,482,410
合成例3:2,5−ジヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒドの合成(実施例3の原料)
(1)2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノンの合成1
2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノン合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、2−(ベンジルオキシ)フェノール(200.2mg,1.0mmol,1.0当量)とアセトン(5mL)を加えた。この攪拌溶液に、KH2PO4(204mg,1.5mmol,1.5当量)を含む蒸留水(15mL)を加えた。KH2PO4(544mg,4.0mmol,4.0当量)を含む4℃に冷やした蒸留水(40mL)に、フレミー(Fremy)塩(すなわち、ニトロソスルホン酸カリウム;1.07g,4.0mmol,4.0当量)を溶解させ、その溶液を室温で手早く滴下した。滴下終了後、室温で3時間攪拌させると、溶液が暗い茶色となり、黄色沈殿を生じた。原料はこの時点でほぼ消失しているように観察された。
反応終了後、酢酸エチル(40mL×1,20mL×1)を加え、水層を抽出した。得られた有機層を飽和食塩水(10mL×1)で洗浄し、硫酸ナトリウム(5g)で乾燥し、減圧下で濃縮すると、固体の粗結晶(224.3mg)が得られた。この粗結晶をシリカゲルクロマトグラフィー(直径21.7×7.5cm,6g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(6:1)により2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノン(182.9mg,収率=83.4%)が、淡黄茶色結晶として得られた。
TLC:Rf=0.41(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):5.05(s,2H,CH2Ph),6.00(s,1H,H−3),6.71(s,2H,H−5,6),7.40(s,5H,Ph−)
IR(KBr cm−1):3080,2344,1674,1642,1596,1504,1454,1386,1360,1316,1248,1210,1112,1004,886,836,728,692,466,424
(2)2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノンの合成2
2−(ベンジルオキシ)ヒドロキノン合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、2−ベンジルオキシフェノール(206mg,1.03mmol,1.0当量)とアセトニトリル(20mL)を加えた。この攪拌溶液に、Co(bpb)H2O(38.5mg,0.098mmol,0.05当量)を室温で加えた。混合液は茶緑色から茶色に変化した。なお、前記のCo(bpb)H2Oは、アクア−〔N,N−ビス((2’−ピリジンカルボキサミド)−1,2−ベンゼン〕コバルト(II)である。
反応混合物に、酸素を100mL/minの流速で合計24時間吹き込んだ。原料はまだ残っていた。反応終了後、減圧濃縮して溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(直径2.5×4.0cm,10g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(10:1)により、フラクションNo.11−16に2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノン(93.5mg,収率=42.4%)が金色結晶として得られた。更に、フラクションNo.2−4に原料(114.7mg,55.6%)が無色油状体として得られた。この収率は、原料回収を考慮すると95.5%に相当する。
TLC:Rf=0.41(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
(3)1,4−ジアセトキシ−2−ベンジルオキシベンゼンの合成
1,4−ジアセトキシ−2−ベンジルオキシベンゼン合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
25mLのナス型フラスコに、2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノン(250mg,1.17mmol,1.0当量)、無水酢酸(2.5mL,227.0当量)及び亜鉛末(250mg,3.82mmol,3.28当量)を0℃で加えた。この溶液にピリジン(0.25mL、3.69mmol,2.64当量)を少しずつ0℃で加えた。
20分後に反応液は茶色の沈殿状態から薄い緑色に変化した。更に45分間攪拌した。
反応混合物をグラスフィルター(3G4)でろ過し、亜鉛末と無機塩を除き、残渣を酢酸エチルで充分に洗浄した。得られたろ液を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム(5mL)で洗浄した。
有機層を蒸留水(5mL×2)及び飽和食塩水(5mL×1)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)で乾燥した。続いて、減圧濃縮すると、粗生成物(438mg)が得られた。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(直径2.5×3cm,8g)で精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(3:1)により1,4−ジアセトキシ−2−ベンジルオキシベンゼン(344.5mg,収率=98.3%)が淡黄茶色結晶として得られた。
TLC:Rf=0.41(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):2.25(s,3H,COCH3),2.27(s,1H,COCH3),5.05(s,2H,PhCH2),6.70(dd,J=8.30,2.44Hz,1H,Ar−H−6),6.78(d,J=2.44Hz,1H,Ar−H−5),7.04(d,J−8.30Hz,1H,Ar−H−3)
IR(KBr cm−1):3092,3048,1766,1620,1598,1510,1478,1458,1428,1392,1374,1282,1222,1184,1152,1112,1048,1010,972,914,888,840,826,766,742,720,700,634,624,602,588,484,468
(4)2−ベンジルオキシ−1,4−ヒドロキノンの合成
2−ベンジルオキシ−1,4−ヒドロキノン合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
10mLのナス型フラスコに、1,4−ジアセトキシ−2−ベンジルオキシベンゼン(35.2mg,1.17mmol,1.0当量)とアセトン(1mL)を加えた。この攪拌溶液に2%塩酸水溶液0.5mLを加えた。
この混合液を4時間加熱還流した。
反応終了後、減圧下で溶媒を除くと粗生成物(24mg)が得られた。これをシリカゲルクロマトグラフィー(直径1.7×6.5cm,5g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(2:1,100mL+50mL)により2−ベンジルオキシ−1,4−ヒドロキノン(18.2mg,収率=71.8%)が、無色結晶として得られた。
融点:99〜101℃
TLC:Rf=0.24(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):5.02(s,2H,CH2Ph),5.32(br,1H,OH,重水交換で消失),6.31(dd,J=8.79,2.93Hz,1H,H−6),6.50(d,J=8 2.93Hz,1H,H−3),6.78(d,J=8.79Hz,1H,H−5),7.40(s,5H,Ph−)
IR(KBr cm−1):3492,3412,1632,1512,1484,1386,1356,1320,1296,1258,1224,1160,1114,1026,946,832,792,752,722,706,628,448
元素分析:
理論値 C:72.21,H:5.59
実験値 C:72. 0,H:5.5
(5)2,5−ジヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒドの合成(実施例3の原料)
2,5−ジヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
25mLのナス型フラスコに、2−ベンジルオキシ−ヒドロキノン(108mg,0.5mmol,1.0当量)とオルトギ酸トリエチル(600mg,4.04mmol,8当量)とジエチルエーテル(3mL)を入れた。この混合物を8℃に冷却して塩化アルミニウム(100mg,0.75mmol,1.5当量)を少しずつ加えた。反応液は直ちに、薄緑色から深い緑色に変化した。この状態で6分間反応を行った。
原料が消失していたので、反応液を0℃に冷却した。この溶液に酸性水溶液(10mL)を加えて、エーテル(40mL×1,20mL×1)及び酢酸エチル(20mL×2)で抽出した。得られた有機層を蒸留水(10mL×1)及び飽和食塩水(10mL×1)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)で乾燥させ、減圧下で濃縮すると粗生成物が固体として得られた。
この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(直径1.7×6.5cm,5g)で精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(5:1)により2,5−ジヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド(76.2mg,収率=63.2%)が淡茶色結晶として得られた。
融点:147〜148℃
TLC:Rf=0.44(n−ヘキサン/EtOH=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):5.15(s,2H,PhCH2),6.54(s,1H,Ar−H),7.04(s,1H,Ar−H),7.42(s,5H,Ph),9.67(s,1H,CHO)
IR(KBr cm−1):3332,1638,1588,1560,1504,1470,1398,1362,1218,1178,1142,990,914,866,834,798,746,698,602,552,482,410
元素分析:
理論値 C:68.85,H:4.95
実験値 C:69. 0,H:5.1
合成例4:2,4,5−トリアセトキシベンズアルデヒド(実施例4の原料)の合成
本合成例の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
酢酸ナトリウム(80.7mg,6.0当量)のDMF(0.98mL)溶液に、無水酢酸(0.19mL,4.0当量)を滴下して、室温で15分間撹拌した後、2,4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒド(75.8mg,0.492mmol)のDMF溶液(0.30mL×3)を反応系に滴下し、室温で20分間反応させた。TLCで原料の消失を確認した後、氷冷撹拌下で10%塩酸水溶液(30mL)を加えると、白色結晶が析出した。この結晶を桐山ロートにてろ過し、水洗して2,4,5−トリアセトキシベンズアルデヒド(135mg,97%)を白色結晶として得た。
合成例5:2,5−ジアセトキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド(実施例5の原料)の合成
本合成例の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、4−ベンジルオキシ−2,5−ジヒドロキシアルデヒド(193.8mg,0.793mmol,1.0当量)、酢酸ナトリウム(82.05mg,1.0mmol,1.23当量)及び乾燥DMF1mLを加えた。この溶液に無水酢酸(204.2mg,2.0mmol,2.5当量)を少しずつ室温で加えた。
反応液を室温で窒素雰囲気下、2時間攪拌した。原料は完全に消失した。水10mLを注ぐと白色の沈殿を生じた。エーテル20mLと酢酸エチル10mLとを加えて沈殿を溶解させた。得られた有機層を水(10mL×3)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)で乾燥し、減圧濃縮すると、粗生成物が得られた。この粗生成物をn−ヘキサンで洗浄すると2,5−ジアセトキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド(236.8mg,収率=90.89%)が淡クリーム色の結晶として得られた。
融点:136〜137℃
TLC:Rf=0.28(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):2.27(s,3H,CH3CO),2.38(s,3H,CH3CO),5.13(s,2H,PhCH2),6.81(s,1H,Ar−H),7.38(s,5H,Ph),7.58(s,1H,Ar−H),9.95(s,1H,CHO)
IR(KBr cm−1):2340,1774,1690,1618,1510,1424,1370,1328,1284,1216,1156,1102,1008,944,830,786,770,742,700,668,616,596,484
元素分析:
理論値 C:65.85,H:4.91
実験値 C:66. 2,H:5.0
合成例6:4,5−メチレンジオキシサリチルアルデヒド(実施例6の原料)の合成
本合成例の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、セサモール(1.38g,10.0mmol,1.0当量)とエーテル(40mL)を加えて溶解させた。この溶液に、オルトギ酸トリエチルエステル(10mL,7.6mmol,7.6当量)を加えた。得られた黄色溶液に、塩化アルミニウム(2.0g,15mmol,1.5当量)を0℃で徐々に加えた。この混合物は、薄い赤色から緑色に変化し、深緑色から深青色に変化した。5分後に、混合物を0℃に冷やし、5%の塩酸溶液(10mL)を加えた。生成物は難溶性であり、分離は困難であった。
蒸留水(10mL)と酢酸エチル(40mL)を加えて分画した。水層を更に酢酸エチル(40mL)で抽出した。集めた有機層を飽和食塩水(10mL)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(約5g)で乾燥し、エバポレーターで濃縮乾固すると、赤黒色の固体(1.6g)が得られた。
この赤黒色固体506.6mgをとってシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×8.0cm,20g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(3:1)によりフラクションNo.2−4に4,5−メチレンジオキシサリチルアルデヒド(363.9mg,収率=70.9%)が淡茶色針状結晶として得られた。
融点:125−126℃
TLC:Rf=0.63(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):6.02(s,6H,Me2),6.47(s,1H),6.86(s,1H),9.62(s,1H,CHO)
IR(KBr cm−1):3076,1646,1614,1506,1482,1424,1388,1314,1270,1230,1162,1086,1036,934,872,854,786,774,722,710,514
合成例7
(1)2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソールの合成
2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール合成の反応工程式を以下に示す。なお、以下の反応工程式においてTsOHはp−トルエンスルホン酸である。
具体的な操作は以下のとおりである。
50mLのナス型フラスコに、カテコール(605mg,5.5mmol,1.1当量)、2,2−ジメトキシプロパン(520mg,5.0mmol,1.0当量)、p−トルエンスルホン酸(約2mg)、及びトルエン(40mL)を加えた。この混合物を130℃で、6時間共沸蒸留させたが原料はまだ存在していた。続いて、加熱を中止し室温まで冷却し、中和のために28%ナトリウムメチラートメタノール溶液を1滴加えた。
溶媒を減圧下で除いた。得られた残渣(689.9mg)をシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×4cm,10g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(4:1)(160+40mL)により2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール(373mg,収率=49.6%)が黄色油として得られ、同時に原料(216mg,35.8%)が得られた。
TLC:Rf=0.91(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):1.67(s,6H,Me2),6.75(m,4H)
IR(KBr cm−1):3080,3004,2948,1632,1490,1382,1370,1240,1112,1006,978,908,840,820,786,738,434
(2)5−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソールの合成 5−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
50mLのナス型フラスコに、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン(630.6mg,5.0mmol,1.0当量)、2,2−ジメトキシプロパン(781mg,7.5mmol,1.5当量)、p−トルエンスルホン酸(約1mg)、及びトルエン(40mL)を加えた。この混合物を130℃で、1.5時間共沸蒸留させたが原料はまだ存在していた。続いて、加熱を中止し室温まで冷却し、中和のために28%ナトリウムメチラートメタノール溶液を1滴加えた。
溶媒を減圧下で除いた。得られた残渣(831.5mg)をシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×4cm,10g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(4:1)(160+40mL)により、5−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール(240.9mg,収率=28.9%)が淡茶色油状体として得られ、更に副生成物(45.9mg)が得られた。
TLC:Rf=0.47(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):1.65(s,6H,,Me2),6.20(dd,J=8.30,2.45Hz,1H),6.35(d,J=2.45Hz,1H),6.55(d,J=8.30Hz,1H)
IR(KBr cm−1):3396,3004,1626,1498,1382,1224,1160,1118,1074,980,948,836,788,764,610,424,884
(3)2,2−ジメチル−5−ホルミル−6−ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール(実施例7の原料)の合成
2,2−ジメチル−5−ホルミル−6−ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、5−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール(240mg,1.45mmol,1.0当量)とエーテル(5mL)を加えて溶解させた。この溶液に、オルトギ酸トリエチルエステル(1.5mL,7.6mmol,7.6当量)を加えた。この黄色の溶液に、塩化アルミニウム(289mg,2.17mmol,1.0当量)を0℃で徐々に加えた。この混合物は、薄い赤色から緑色に変化し、深緑色から深青色に変化した。5分後に、混合物を0℃に冷やし、2%の塩酸溶液(10mL)を加えた。
エーテル(20mL)を加えて抽出した。集めた有機層を蒸留水(10mL×2)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(約3g)で乾燥し、エバポレーターで濃縮乾固すると、赤黒色の固体(187.3mg)が得られた。シリカゲルクロマトグラフィー(直径1.7×6.0cm,5g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(10:1)(150mL+15mL)によりフラクションNo.1−3に目的生成物を含む画分(106mg,37.6%)が得られた。
更に、この画分をシリカゲルクロマトグラフィー(直径1.7×8.5cm,8g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(10:1)(100mL+10mL)によりフラクションNo.1−3に2,2−ジメチル−5−ホルミル−6−ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール(収率=37.6%)が淡黄色針状結晶として得られた。
融点:104−105℃
TLC:Rf=0.68(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):1.69(s,6H,Me2),6.37(s,1H,H−7),6.76(s,1H,H−4),9.60(s,1H,CHO)
IR(KBr cm−1):3008,1650,1614,1494,1422,1394,1388,1382,1340,1282,1248,1182,1156,1068,984,882,844,800,782,758,704,524,470,430
試験例1:エスクレチン化合物中間体の抗菌活性試験
(1)供試化合物
以下の化合物(a)〜(e)の抗菌活性を調べた。
化合物(a):2−ベンジルオキシ−1,4−ヒドロキノン〔合成例3(4)の化合物〕
化合物(b):2,5−ジヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド〔合成例3(5)の化合物〕
化合物(c):2,5−ジアセトキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド〔合成例5の化合物〕
化合物(d):4,5−メチレンジオキシサリチルアルデヒド〔合成例6の化合物〕
化合物(e):2,2−ジメチル−5−ホルミル−6−ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール〔合成例7(3)の化合物〕
(2)供試病原糸状菌
以下の5種の植物病原糸状菌に対する抗菌活性を調べた。
(イ)ピリキュラリア・オリゼー(Pyricularia oryzae:表1ではP.o)〔いもち病菌〕
(ロ)フザリウム・ニバレ(Fusarium nivale:表1ではF.niv)〔コムギ赤かび病菌〕
(ハ)セプトリア・トリチシ(Septoria tritici:表1ではS.t)〔コムギ葉枯病菌〕
(ニ)ピシウム・アファニデルマタム(Pythium aphanidermatum:表1ではP.a)〔イネ菌立枯病菌〕
(ホ)フィトフトラ・インフェスタンス(Pytophthora infestans:表1ではP.i)〔トマト疫病菌〕
(3)試験方法
供試化合物(a)〜(e)を1mg/mLの濃度でジメチルホルムアミドに溶解し、試験用溶液を調製した。
植物病原糸状菌の内、ピリキュラリア・オリゼー(P.o)及びピシウム・アファニデルマタム(P.a)は、それらの胞子を形成したシャーレに蒸留水10mLを加え、胞子濃度1×105個/mLに調整した。フィトフトラ・インフェスタンス(P.i)は、胞子を形成したシャーレに蒸留水10mLを加え、胞子濃度1×104個/mLに調整した。フザリウム・ニバレ(F.niv)、及びセプトリア・トリチシ(S.t)は、PDA培地(ポテト・デキストロース・アガー培地)で充分に生育するまで培養した後、シャーレ1枚分の菌叢を培地と共にホモゲナイザーの容器に移し、滅菌水50mLを加え、ホモゲナイザーで5000rpmにて30秒間冷却しながら分散させて、2枚重ねの滅菌ガーゼでろ過した。遠心処理(3000rpm,5分間)の後、滅菌水50mLに懸濁した(血球計算盤視野×100あたり1〜3個)。
PD培地(ポテト・デキストロース培地)90mLに対して胞子懸濁液又は菌糸懸濁液10mLを添加し、よく攪拌した。フィトフトラ・インフェスタンス(P.i)のみライムギ液体培地をPD培地の代わりに使用した。
平底96穴のマイクロプレートを準備し、試験用溶液1μLをマイクロプレートに添加した後、植物病原糸状菌の接種菌を含む培地100μLを加え、よく攪拌した。供試化合物を含まない薬剤無添加区の対照試験では、ジメチルホルムアミド1μLのみを添加した。各供試化合物について3穴を用いた。
植物病原糸状菌の無接種対照試験には、無接種培地90mLに滅菌水10mLを加えて無接種対照試験液を調製し、マイクロプレート1穴あたり無接種対照試験液100μLを添加した。
20℃又は25℃で静置培養を行った。
(4)検査方法及び結果
以下の表1に記載の所定時間(DAT)に亘り培養した後、マイクロプレートリーダーによりOD595を測定した。抑制率は、以下の式(1):
〔1−(T−R)/(C−R)〕×100 (1)
〔式中、Tは、植物病原糸状菌の接種菌を含む培地に、供試化合物含有試験用溶液を添加した試験区の吸光度(OD595)であり、Cは、植物病原糸状菌の接種菌を含む培地に、供試化合物を含まない試験用溶液を添加した薬剤無添加区の吸光度(OD595)であり、Rは、植物病原糸状菌の無接種培地に、供試化合物を含まない試験用溶液を添加した無接種対照試験区の吸光度(OD595)である〕によって計算した。
こうして計算した抑制率を、以下の基準で3段階で評価した。
−:10%より低いもの
+:10〜60%のもの
++:60%より大のもの
結果を表1に示す。
試験例2:エスクレチン化合物中間体の除草活性試験
(1)供試化合物
前記抗菌活性試験例で用いた化合物(a)、(b)、(d)及び(e)の除草活性試験を実施した。
(2)供試植物
以下の4種の植物に対する発芽抑制効果を調べた。
(イ)アオゲイトウ(Amaranthus retroflexuso)(ヒユ科)
(ロ)レタス(Lactuca sativa)(キク科)
(ハ)イヌホオズキ(Solanum nigrum)(ナス科)
(ニ)エノコログサ(Setaria viridis)(イネ科)
(3)試験方法
供試植物の種子を次亜塩素酸ナトリウム1%溶液で2分間処理した後,滅菌水で洗浄し、風乾させた種子を用いて試験を実施した。12穴マイクロプレートに、ろ紙(桐山;ロート用;直径=21mm)1枚を敷いて、種子を播種した。
供試化合物を10mg/mL濃度となるようアセトンに溶解した後、2倍希釈のムラシゲーシュクーグ塩(Murashige−Skoog salts;MS)で200倍に希釈した。調製した供試化合物溶液0.3mLをマイクロプレートに分注し、セロファンテープで周囲を覆った後、温度調節室内で保持した。供試化合物を含まない薬剤無添加区の対照試験では、アセトンを2倍希釈のムラシゲーシュクーグ塩で200倍に希釈した希釈液0.3mLのみを添加した。
(4)調査方法
7日間、25℃にて4000〜5000l×(24時間照明条件)で栽培した後、茎葉部及び根部に及ぼす影響を達観評価した。評価は以下の6段階で行った。
0:無処理と同等,
1:20%未満の抑制,2:20%以上で40%未満の抑制,
3:40%以上で60%未満の抑制,4:60%以上で80%未満の抑制,
5:80%以上の抑制。
結果を表2に示す。なお、表2において、Gは、発芽阻害であり、Igは、生育抑制であり、Irは、根部抑制であり、そして、Urは、根上がりである。
試験例3:エスクレチン化合物の抗菌活性試験
試験例1に準じた方法で、つぎのエスクレチン化合物の活性を確認した。
7−ベンジルオキシ−6−ヒドロキシクマリン〔実施例3の化合物〕
メチレンジオキシクマリン〔実験例6(1)の化合物〕
エスクレチンアセトナイド〔実施例7(1)の化合物〕
試験例4:エスクレチン化合物の除草活性試験
試験例2に準じた方法で、つぎのエスクレチン化合物の活性を確認した。
7−ベンジルオキシ−6−ヒドロキシクマリン〔実施例3の化合物〕
メチレンジオキシクマリン〔実験例6(1)の化合物〕
エスクレチンアセトナイド〔実施例7(1)の化合物〕
製剤例1
以下の組成から粉剤を調製した。
前記の各成分を粉砕混合して、粉剤とした。
製剤例2
以下の組成から水和剤を調製した。
前記の各成分を粉砕混合して水和剤とした。水で希釈して使用することができる。
製剤例3
以下の組成から粒剤を調製した。
前記の各成分を均一に混合し、更に水を加えて練り合わせ、押し出し式造粒機で粒状に加工乾燥して粒剤とした。
製剤例4
以下の組成から乳剤を調製した。
前記の各成分を均一に混合溶解して乳剤とした。
産業上の利用可能性
本発明方法は従来の方法に比べて、エスクレチン合成の収率が著しく向上し、保護基を用いる場合でも、それらの除去が容易であり、その工業的価値が大きい。
以上、本発明を特定の態様に沿って説明したが、発明の趣旨を損なわない態様は本発明の範囲に含まれる。
本発明は、エスクレチン化合物、エスクレチン化合物中間体、エスクレチン化合物の製造方法、エスクレチン化合物若しくはその中間体を含む農園芸用抗糸状菌組成物及び除草剤組成物に関する。特に、本発明は、活性を有するエスクレチン化合物の新規製造方法に関する。エスクレチン化合物は、近年、医薬品工業における重要な化合物であり、更に化学工業における合成中間体としても有用である。
背景技術
エスクレチンは、クマリンの6,7位が水酸基で置換された化合物、すなわち、6,7−ジヒドロキシクマリンである。クマリン類の製造方法は多く知られているが、6,7位に水酸基を有するエスクレチン類の製造方法の報告例は非常に少ない。
エスクレチン自身を直接に製造する方法としては、天然物のエスクリン(すなわち、6,7−ジヒドロキシクマリン−6−グルコシド)を酸加水分解により調製する方法〔Merz,Arch.Pharm.,270巻,486(1932)〕、又は1,2,4−トリアセトキシベンゼンとリンゴ酸とを硫酸中で反応させる方法〔Bull.Soc.Chim.France 512(1947),Heterocycle 41巻,1979(1995)〕が知られている。
しかしながら、天然物のエスクリンを加水分解する方法は、供給量に限界がある。また、1,2,4−トリアセトキシベンゼンとリンゴ酸とを用いて純度の高いエスクレチンを合成する方法は、収率が18%と低い上に、98%硫酸を使用するため、工業的に不利な点がある。
また、エスクレチンの製造方法としては、置換基を有するエスクレチンを合成した後、それらの置換基を除去してエスクレチンを誘導する方法も知られており、次のような方法を例示することができる。ピリジン中で、アニリン存在下に、2−ヒドロキシ−4,5−ジメトキシベンズアルデヒドをマロン酸と反応させてスコパロン−3−カルボン酸を合成した後、3位のカルボキシル基を脱炭酸し、更にヨウ化水素酸でメチルエーテルを切断して合成する方法〔Phytochemistry,27,391(1988)〕がある。エスクレチン誘導体の合成法としては、オルトヒドロキシベンズアルデヒド誘導体にカルベトキシメチレントリフェニルホスホランを作用させてスコパロンを合成する方法〔Indian J.Chem.,21B巻,759(1982)〕、サリチルアルデヒド誘導体にカルベトキシメチレントリフェニルホスホランを作用させて、クマリン誘導体を合成する方法〔Chem.Pharm.Bull.40巻,2614(1992)〕、サリチルアルデヒド誘導体に無水酢酸及び酢酸ナトリウムを用いてクマリン誘導体を合成する方法〔Chem.Pharm.Bull.40巻,2614(1992),Chem.Ber.32巻,287(1899)〕、2−ヒドロキシ−4,5−ジメトキシ−ベンズアルデヒドにハイドロキノン存在下で無水酢酸と酢酸カリウムによりスコパロン(6,7−ジメトシキクマリン)を合成する方法(特開昭48−22466号公報)等が知られている。これらは、いずれもエスクレチン誘導体の合成法でありエスクレチン自身を直接製造する方法ではないので、保護基あるいは置換基を除去する工程が必要であり、収率が低くなる。
前記のサリチルアルデヒド誘導体に無水酢酸及び酢酸ナトリウムを用いて6−イソプロポキシ−7−メトキシクマリンを合成する方法は、収率が45.7%と前記文献に記載されており、なお、満足すべきものではない。また、2−ヒドロキシ−4,5−ジメトキシ−ベンズアルデヒドにハイドロキノン存在下で無水酢酸と酢酸カリウムとを用いて、スコパロンを合成する方法も収率が41%であり、満足すべきものではない。
本発明者らは、工業的にも満足のゆくエスクレチン化合物の製造方法について鋭意研究を行なった結果、特定のベンズアルデヒド化合物をN,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒中で、酢酸ナトリウム等の弱塩基の存在下に、無水酢酸などによって縮合環化させることにより、高収率でエスクレチン化合物を得ることができることを見出した。また、本発明者らが見出した前記の新規製造方法に用いる出発化合物、中間体生成物、及び生成物の中に、新規化合物が存在することも見出した。更に、本発明者は、中間体生成物の中に、抗糸状菌活性又は除草活性を有する化合物が存在することも見出した。
本発明は、こうした知見に基づくものである。
発明の開示
従って、本発明は、一般式(1):
〔式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を、非プロトン性極性溶媒中で弱塩基の存在下に、無水酢酸又は反応系で無水酢酸を形成する化合物によって縮合環化させることを特徴とする、一般式(2):
(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味である)で表されるエスクレチン化合物の製造方法に関する。
また、本発明は、一般式(3):
〔式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である〕で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物をホルミル化することを特徴とする、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の製造方法にも関する。
前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物において、好ましい化合物は、R1及びR2が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3が水素原子又はアセチル基である前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物である。
また、前記一般式(2)で表されるエスクレチン化合物において、好ましい化合物は、R1及びR2が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3が水素原子又はアセチル基である前記一般式(2)で表されるエスクレチン化合物である。
更に、前記一般式(3)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物において、好ましい化合物は、R1及びR2が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3が水素原子又はアセチル基である前記一般式(3)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物である。
更に、本発明は、一般式(10):
〔式中、R11及びR12は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数2〜5のアルキル基であるか、あるいは、R11とR12とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R13は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるが、ただし、R11及びR12とが同時に水素原子であることはないものとする〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物にも関する。
前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物において、好ましい化合物は、R11及びR12が、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数2〜5のアルキル基であるか、あるいは、R11とR12とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R13が水素原子又はアセチル基である(ただし、R11及びR12とが同時に水素原子であることはないものとする)前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物である。
更にまた、本発明は、一般式(20):
〔式中、R21及びR22は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R21とR22とが一緒になって−C(CH3)2−基であるが、ただし、R21及びR22とが同時に水素原子であることはなく、更にR21及びR22とが同時にホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であることはないものとする〕で表されるエスクレチン化合物にも関する。
前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物において、好ましい化合物は、R21及びR22が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R21とR22とが一緒になって−C(CH3)2−基である(ただし、R21及びR22とが同時に水素原子であることはなく、更にR21及びR22とが同時にアセチル基であることはないものとする)前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物である。
更にまた、本発明は、一般式(30):
〔式中、R31は場合により置換されていることのあるベンジル基であり、R32は、水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R31とR32とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R33は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である〕で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物にも関する。
前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物において、好ましい化合物はR31がベンジル基であり、R32が水素原子又はアセチル基であるか、あるいは、R31とR32とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R33が水素原子又はアセチル基である前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物である。
更にまた、本発明は、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、又は前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物を有効成分とすることを特徴とする、農園芸用抗糸状菌組成物にも関する。
更にまた、本発明は、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、又は前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物を有効成分とすることを特徴とする、除草剤にも関する
発明を実施するための最良の形態
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法においては、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を出発材料として用いる。
前記一般式(1)において、R1及びR2は、同じか又は異なることができ、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。
本明細書において「アルキル基」は、直鎖状アルキル基、分枝状アルキル基、若しくは環状アルキル基(シクロアルキル基)、あるいは環状部分を含むアルキル基(シクロアルキル−アルキル基若しくはアルキル−シクロアルキル基)を意味する。炭素数1〜5のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、1−メチル−ブチル基、2−メチル−ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、2−シクロプロピル−エチル基、又は1−シクロブチル−メチル基を挙げることができる。
また、本明細書において、ベンジル基は、未置換であっても置換基を有していてもよく、置換基を有している場合には、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、及び/又はハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は沃素原子)の置換基1〜5個、好ましくは1〜2個で置換されていることができる。これらの置換基は、フェニル基上に存在することが好ましい。
更に、本明細書において、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基〔以下、C1−4アルキル−カルボニル基〕は、未置換であっても置換基を有していてもよい。置換基を有しているC1−4−アルキル−カルボニル基における炭素数1〜4のアルキル部分は、炭素数1〜4のアルコキシ基及び/又はハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は沃素原子)で置換されていてもよい。前記のC1−4−アルキル−カルボニル基のアルキル部分が炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されている場合は、その置換個数は、1〜2個が好ましい。
前記のC1−4−アルキル−カルボニル基のアルキル部分がハロゲン原子で置換されている場合は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び/又は沃素原子のハロゲン原子の、1〜置換可能な水素原子の個数で置換されていてもよい。1種類のハロゲン原子で置換する場合、置換個数は、フッ素原子の場合は、1〜置換可能な水素原子の個数、塩素原子の場合は、1〜3個、臭素原子及び沃素原子の場合は1〜2個が好ましく、複数の種類のハロゲン原子で置換する場合には、置換可能な水素原子の個数の範囲内で、1種類のハロゲン原子で置換する場合の好ましい置換個数を組み合わせることが好ましい。
複数の種類の置換基で置換する場合も同様に、各々の好ましい置換個数を組み合わせることが好ましい。
前記一般式(1)において、R1がメチル基、ベンジル基、又はアセチル基であり、R2が水素原子又はアセチル基であり、R3が水素原子、又はアセチル基であることが好ましい。また、R1がベンジル基であり、R2が水素原子又はアセチルであり、R3が水素原子又はアセチル基であることがより好ましい。
前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の具体例としては、例えば、2,4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒド、4−メチルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド、4−エチルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド、4−プロピルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド、4−ブチルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド、4−ベンジルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド、4,5−ジメチルオキシ−2−ヒドロキシベンズアルデヒド、4,5−メチレンジオキシ−2−ヒドロキシベンズアルデヒド、5−ヒドロキシ−6−ホルミル−2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール及びそれらのアセチル体である2,4,5−トリスアセトキシベンズアルデヒド、2−アセトキシ−4,5−ヒドロキシベンズアルデヒド、2、5−ジアセトキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド等を挙げることができる。
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法は、非プロトン性極性溶媒中で実施する。非プロトン性極性溶媒は、本発明の反応系において不活性であるかぎり特に限定されるものではない。N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリジノン、1,1,3,3,−テトラメチルウレア、又は1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを例示することができ、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、1,1,3,3,−テトラメチルウレア、又は1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを好ましく使用することができる。
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法は、弱塩基の存在下で実施する。弱塩基も特に限定されるものではないが、例えば、有機酸(例えば、カルボン酸、又はシュウ酸)のアルカリ金属塩(例えば、酢酸ナトリウム、又は酢酸カリウム)、又は無機酸のアルカリ金属塩(例えば、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸リチウム)、あるいは窒素含有芳香族性複素環式化合物(例えば、ピリジン、キノリン、又はジメチルアミノピリジン)を挙げることができる。
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法では、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を、無水酢酸又は反応系で無水酢酸を形成する化合物によって縮合環化させる。
ここで、反応系で無水酢酸を形成する化合物とは、本発明によるエスクレチン化合物の製造方法の工程において、前記の弱塩基と反応して無水酢酸を形成する化合物であり、例えば、ハロゲン化アセチル(例えば、塩化アセチル又は臭化アセチル)を挙げることができる。
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法において、無水酢酸を用いる場合には、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物に対して、1〜10当量(好ましくは3〜4当量)の弱塩基(例えば、酢酸ナトリウム)の存在下で、0.5〜8当量(好ましくは3〜4当量)の無水酢酸を用いることができる。
また、反応系で無水酢酸を形成する化合物(例えば、ハロゲン化アセチル)を用いる場合には、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物に対して、2〜10当量(好ましくは3〜4当量)の弱塩基(例えば、酢酸ナトリウム)の存在下で、1〜10当量(好ましくは3〜4当量)の無水酢酸形成性化合物(例えば、ハロゲン化アセチル)を用いることができる。
本発明の製造方法の特徴として、本明細書に記載した好ましい反応条件(若しくはより好ましい反応条件)を使用することにより、3位及び/又は4位にアセトキシ基の結合しているトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を原料として用いて反応を行っても、生成物において、クマリンの6位及び/又は7位のアセトキシ基が水酸基に変換しているエスクレチン化合物として得られる点を挙げることができる。
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法は、大気下で実施することもできるが、不活性ガス(例えば、窒素ガス又はアルゴンガス)の雰囲気下で行うのが好ましい。反応温度や反応時間は、使用する出発化合物によって変化するが、一般的には1〜24時間、好ましくは2〜5時間、好ましくは100〜200℃、より好ましくは150〜180℃での加熱下で実施する。
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法において出発化合物として用いる前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物は、前記一般式(3)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物をホルミル化することによって製造することができる。
前記のホルミル化は、それ自体公知の方法、例えば、必要により適当な触媒の存在下で、ホルミル化剤で処理することによって実施することができる。ホルミル化剤としては、例えば、オルトギ酸トリアルキルエステルを用いることができる。また、触媒としては、例えば、ハロゲン化アルミニウムを挙げることができる。
前記のホルミル化は、エーテル系又は芳香族系有機溶媒中で実施するのが好ましい。具体的には、エーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、又はクロロベンゼンを用いるのが好ましい。前記のホルミル化は、大気下で実施することもできるが、不活性ガス(例えば、窒素ガス又はアルゴンガス)の雰囲気下で行うのが好ましい。反応温度や反応時間は、使用する出発化合物によって変化するが、一般的には0.1〜10時間、好ましくは0.1〜1時間、好ましくは0〜40℃、より好ましくは0〜10℃で実施する。
前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を製造する際に用いる本発明のエスクレチン化合物中間体の1つである前記一般式(3)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物の内、前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物は新規化合物である。前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物は、それ自体公知の方法で調製することができる。
例えば、前記一般式(30)において、R31がベンジル基であり、R32がアセチル基であり、R33が水素原子又はアセチル基である化合物は、例えば、公知の2−ベンジルオキシフェノールを、フレミー(Fremy)塩(すなわち、ニトロソスルホン酸カリウム)を用いて、あるいはコバルト錯体〔Tetrahedron Letters 30巻,5929(1989)〕存在下で、酸素をバブリングして酸化することにより2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノンを形成し、続いて、無水酢酸及びピリジンの存在下で、亜鉛末等で還元的にアセトキシル化することによって得ることができる。なお、アセチル基は、塩酸等により容易に加水分解することができる。
また、前記一般式(30)において、R31とR32とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R33が水素原子又はアセチル基である化合物は、例えば、1,2,4−トリヒドロキシベンゼンにジメチルホルムアミド中でジクロロメタンとフッ化セシウムとを作用させるか、あるいは酸触媒の存在下で2,2−ジメトキシプロパンを作用させることによって得ることができる。
また、本発明によるエスクレチン化合物の製造方法において出発化合物として用いる本発明のエスクレチン化合物中間体の1つである前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の内、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物は新規化合物である。前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物は、それ自体公知の方法で調製することができる。
例えば、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物は、相当するトリヒドロキシベンゼン化合物から前記のホルミル化方法によって調製することができる。具体的には、例えば、前記一般式(10)において、R11が炭素数2〜5のアルキル基であり、R12が水素原子であり、R13が水素原子である化合物は、公知の2−アルキルオキシヒドロキノンを、塩化アルミニウム存在下で、オルトギ酸トリエチルエステル等でホルミル化することにより容易に得ることができる。また、前記一般式(10)において、R11とR12とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R13が水素原子である化合物は、5−ヒドロキシ(又はアセチルオキシ)−2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソールを前記と同様にホルミル化することにより容易に得ることができる。
なお、こうして得られた生成物を常法によりアセチル化することによりR13がアセチル基である化合物を得ることができる。
前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の内、代表的な公知化合物の製造方法を説明すると、例えば、前記一般式(1)においてR1が水素原子である場合に相当する2、4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒドは市販されている(東京化成など)。あるいは、市販の1,2,4−トリヒドロキシベンゼンを塩化アルミニウム存在下で、オルトギ酸トリエチルエステル等でホルミル化することにより容易に得ることができる。また、前記一般式(1)においてR1がメチル基である場合に相当する4−メチルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒドは、市販の2−メチルオキシ−ヒドロキノンを前記と同様にホルミル化することにより容易に得ることができる。前記一般式(1)においてR1がベンジル基である場合に相当する4−ベンジルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒドは、2,4,5−ヒドロキシベンズアルデヒドをベンジル化するか、あるいは2−ベンジルオキシヒドロキノンをホルミル化することにより容易に得ることができる。
更に、前記一般式(1)においてR1及びR2が共にメチル基である場合に相当する4,5−ジメチルオキシ−2−ヒドロキシベンズアルデヒドは、3,4−ジメトキシフェノールを、前記と同様にホルミル化することにより容易に得ることができる。前記一般式(1)においてR1とR2とが一緒になって−CH2−基である場合に相当する4,5−メチレンジオキシ−2−ヒドロキシベンズルデヒドは、市販のセサモールを、前記と同様にホルミル化することにより容易に得ることができる。
前記一般式(1)において、R1、R2、及び/又はR3が共にアセチル基である場合に相当する2,4,5−トリアセトキシベンズアルデヒド、2−アセトキシ−4,5−ヒドロキシベンズアルデヒド、2,5−ジアセトキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒドは、2,4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒド、4−ベンジルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒドを無水酢酸及び酢酸ナトリウム、あるいは塩化アセチルと酢酸ナトリウムとでアセチル化することにより得ることができる。
更に、本発明によるエスクレチン化合物の製造方法において得られる前記一般式(2)で表されるエスクレチン化合物の内、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物は新規化合物である。一般式(20)で表される新規エスクレチン化合物は、本発明によるエスクレチン化合物の製造方法によって調製することができる。
前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、及び前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物は、それぞれ、抗糸状菌活性及び除草活性を有するので、それぞれ、農園芸用抗糸状菌剤又は除草剤の有効成分として使用することができる。
農園芸用抗糸状菌剤あるいは農園芸用抗糸状菌組成物、又は除草剤あるいは除草剤組成物として使用する場合は、そのまま単独で使用することもできるが、通常は製剤補助剤とともに、粉剤、水和剤、粒剤、又は乳剤などの種々の形態に製剤化して使用する。このとき製剤中に、1種又は2種以上の前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、及び/又は前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物が、好ましくは0.1〜95重量%、より好ましくは0.5〜90重量%、最も好ましくは2〜70重量%含まれるように製剤する。
製剤補助剤として使用する担体、希釈剤、あるいは界面活性剤を例示すれば、固体担体として、タルク、カオリン、ベントナイト、珪藻土、ホワイトカーボン、又はクレーなどを挙げることができる。また、液体希釈剤として、水、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、クロロベンゼン、低級アルコール類、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、又はジメチルスルホキシドなどを挙げることができる。界面活性剤は、その効果により使いわけるのが好ましい。例えば、乳化剤としては、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、又はポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートなどが好ましく、分散剤としては、リグニンスルホン酸塩、又はジブチルナフタリンスルホン酸塩などが好ましく、また湿潤剤としては、アルキルスルホン酸塩、又はアルキルフェニルスルホン酸塩などを挙げることができる。
前記農園芸用抗糸状菌剤あるいは農園芸用抗糸状菌組成物、又は除草剤あるいは除草剤組成物は、そのまま使用することができるし、水等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用することもできる。希釈して使用する場合は、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、及び前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物の濃度は、0.001〜1.0%の範囲が望ましい。また、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、及び前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物の使用量は、栽培条件により、適宜変更することができるが、例えば、畑、田、果樹園、又は温室などの農園芸用地1haあたり、好ましく20〜5000g、より好ましくは、50〜1000gである。これらの使用濃度及び使用量は剤型、使用時期、使用方法、使用場所、又は対象作物等によっても異なるため上記の範囲にこだわることなく増減することは可能である。更に、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、及び前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物は、他の有効成分、例えば、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、肥料、あるいは土壌改良剤と組み合わせて使用することもできる。
栽培用地に適用する方法及び時期も特に限定されるものではなく、例えば、栽培植物の播種前、播種後、あるいは、栽培植物の発芽・生育後に土壌へ散布することができる。
実施例
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
実施例1:エスクレチンの合成
本実施例の反応工程式を以下に示す。なお、以下の各反応工程式において、DMFはジメチルホルムアミドであり、Ac2Oは無水酢酸である。
具体的な操作は以下のとおりである。
50mLのナス型フラスコに、2,4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒド(2.6g,16.9mmol,1.0当量)、酢酸ナトリウム(4.15g,50.7mmol,3.0当量)、無水酢酸(6.4mL,67.6mmol,4.0当量)、及び乾燥したDMF(26mL)を加えた。この混合物を窒素雰囲気下で、180℃にて5時間攪拌すると原料は消失した。続いて、加熱を中止し室温まで冷却した。
反応液を10%塩酸水溶液100mL中にあけて、酢酸エチル(60mL×10)にて抽出した。得られた有機層を蒸留水(150mL×1)と飽和食塩水(150mL×1)で洗浄した後、硫酸ナトリウムにて乾燥させた。
溶媒を減圧下で留去し、酢酸エチル(10mL)を加えて析出した結晶を集めるとエスクレチン(2.16g,収率=80%)が、淡黄茶色結晶として得られた。
TLC:Rf=0.57(CHCl3:MeOH:CH3COOH:H2O=16:8:1:2)
1H−NMR(d6−DMSO,δ ppm):6.15(d,1H,J=9.3Hz,H−3),6.72(s,1H,H−5),6.96(s,1H,H−8),7.85(d,1H,J=9.3Hz,H−4)
IR(KBr cm−1):3232,2364,1672,1626,1564,1524,1460,1404,1282,1200,1148,946,878,848,820,748,670,636,576,508,454,418
実施例2:6−ヒドロキシ−7−メチルオキシクマリン(イソスコポレチン)の合成
本実施例の反応工程式を以下に示す。なお、以下の各反応工程式においてMeはメチル基であり、AcClは塩化アセチルである。
具体的な操作は以下のとおりである。
ナス型フラスコに、酢酸ナトリウム(443mg,5.4mmol,5.0当量)と乾燥したDMF(26mL)との混合物を入れ、窒素気流中、氷冷下で攪拌しながら塩化アセチル(0.23mL,3.24mmol,3.0当量)を滴下した。室温で10分間攪拌した後、2,5−ジヒドロキシ−4−メトキシベンズアルデヒド(167mg,1.08mmol,1.0当量)のジメチルホルムアミド(DMF)溶液(0.66mL×3)を反応系に滴下し、この混合物を窒素雰囲気下で、180℃にて2時間攪拌すると原料は消失した。続いて、加熱を中止し室温まで冷却した。
反応液を氷冷下で10%塩酸水溶液30mLにあけて、酢酸エチル(20mL×6)にて抽出した。得られた有機層を蒸留水(50mL×3)と飽和食塩水(50mL×3)で洗浄した後、硫酸ナトリウムにて乾燥させた。
溶媒を減圧下で留去し、トルエンにてリパルプ洗浄し、析出した結晶を集めるとイソスコポレチン(154mg,収率=79%)が、淡黄茶色結晶として得られた。
TLC:Rf=0.29(n−ヘキサン/酢酸エチル=1:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):3.90(s,3H,CH3O),6.18(d,1H,J=9.3Hz,H−3),6.90(s,1H,H−5),6.91(s,1H,H−8),7.75(d,1H,J=9.3Hz,H−4)
実施例3:7−ベンジルオキシ−6−ヒドロキシクマリン(7−ベンジルエスクレチン)の合成
本実施例の反応工程式を以下に示す。なお、以下の各反応工程式において、Bnはベンジル基である。
具体的な操作は以下のとおりである。
50mLのナス型フラスコに、4−ベンジルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド(488.48mg,2.0mmol,1.0当量)、酢酸ナトリウム(492.2mg,6.0mmol,3.0当量)、無水酢酸(816.8mg,8.0mmol,4.0当量)、及び乾燥したDMF(10mL)を加えた。この混合物を窒素雰囲気下で、180℃にて、5時間攪拌すると原料は消失した。続いて、加熱を中止し室温まで冷却した。
反応液を1%塩酸水溶液20mLにあけて、酢酸エチル(100mL×1)にて抽出した。得られた有機層を蒸留水(20mL×3)と飽和食塩水(20mL×3)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(10g)にて乾燥させると粗生成物(652.2mg)が得られた。
溶媒を減圧下で留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(直径3.0×7cm,20g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(5:1−2:1)(300mL+120mL)により7−ベンジルエスクレチン(390mg,72.7%)が、淡黄茶色結晶として得られた(収率:72.7%)。
TLC:Rf=0.15(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):5.19(s,2H,CH2Ph),5.66(s,1H,OH),6.29(d,J=9.77Hz,1H,H−3),6.90(s,1H,Ar−H),6.99(s,1H,Ar−H),7.3−7.4(br,1H,Ph),7.60(d,J=9.77Hz,1H,H−4)
IR(KBr cm−1):3232,2304,1694,1624,1566,1512,1472,1456,1402,1386,1360,1320,1292,1210,1150,1106,986,942,888,828,744,700,630,594,572,478
得られた7−ベンジルエスクレチンを、メタノール中の10%Pd/C存在下に水素で加水素分解させることにより定量的にエスクレチンが得られる。
実施例4:エスクレチンの合成
本実施例の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
2,4,5−トリアセトキシベンズアルデヒド(455mg,1.62mmol)のDMF溶液(9.0mL,0.18mol/l)に、酢酸(0.19mL,2.0当量)、酢酸ナトリウム(267mg,2.0当量)及び無水酢酸(0.18mL,1.2当量)を加え、180℃で5時間反応させた。薄層クロマトグラフィー(TLC)で原料の消失を確認した後、10%塩酸水溶液(100mL)を加え、酢酸エチル(80mL×8)にて抽出し、蒸留水(100mL)及び飽和食塩水(100mL)で洗浄した。集めた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮(トルエンで共沸)すると、褐色の結晶301mgが得られた。この結晶をHPLCにより定量したところ、エスクレチン含量は74%であった。従って、エスクレチンの実収率は75%と計算される。
実施例5:7−ベンジルオキシ−6−ヒドロキシクマリンの合成
本実施例の反応工程式を以下に示す。以下の各反応工程式においてBnはベンジル基であり、AcClは塩化アセチルである。
具体的な操作は以下のとおりである。
25mLのナス型フラスコに、4−ベンジルオキシ−2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド(164mg,0.5mmol,1.0当量)、酢酸ナトリウム(82mg,1mmol,2.0当量)、及び乾燥したDMF(4mL)を加えた。この混合物に、無水酢酸(204mg,2mmol,4.0当量)を溶解させたDMF(1.5mL)溶液を室温でゆっくりと滴下した。この混合物を180℃で4時間、窒素雰囲気下で攪拌した。反応終了後、室温まで冷却した。
この反応液に酢酸エチル60mLと水30mLを加えてよく分配させた。水層を分離した後、得られた有機層を飽和食塩水(10mL×3)で洗浄し、硫酸ナトリウム(5g)にて乾燥させた。
溶媒を減圧下で留去し、得られた残渣(191.8mg)をシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×2cm,5g)で分離精製するとn−ヘキサン:酢酸エチル(1:2)により7−ベンジルエスクレチン(119.4mg)が得られた。n−ヘキサンで洗浄することにより黄茶色粉末状の結晶(100.3mg,収率=74.7%)が得られた。
TLC:Rf=0.18(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
得られた7−ベンジルエスクレチンを、メタノール中で10%Pd/C存在下に水素で加水素分解させると定量的にエスクレチンが得られる。
実施例6
(1)メチレンジオキシクマリンの合成
メチレンジオキシクマリンの合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
25mLのナス型フラスコに、4,5−メチレンジオキシサリチルアルデヒド(83.06mg,0.5mmol,1.0当量)、酢酸ナトリウム(123.03mg,1.5mmol,3.0当量)、無水酢酸(204.18mg,2.0mmol,4.0当量)、及び乾燥したDMF(5mL)を加えた。この混合物を窒素雰囲気下で、170℃にて、5時間攪拌すると原料はほぼ消失した。続いて、加熱を中止し室温まで冷却した。
反応液を1%塩酸水溶液10mLにあけて、酢酸エチル(40mL×1)にて抽出した。得られた有機層を飽和食塩水(20mL×2)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)にて乾燥させた。
溶媒を減圧下で留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×8cm,20g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(3:1)(150+50mL)によりメチレンジオキシクマリン(64.3mg,収率=67.6%)が、淡茶色結晶として得られた。
融点:198−205℃(分解)
TLC:Rf=0.27(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):6.07(s,6H,Me2),6.26(d,J=9.76Hz,1H),6.82(s,2H),7.56(d,J=9.76Hz,1H)
IR(KBr cm−1):3072,2928,1712,1636,1584,1494,1456,1420,1388,1318,1272,1260,1228,1188,1162,1124,1082,1040,942,922,884,850,838,766,752,732,552,514
(2)エスクレチンの合成
エスクレチン合成の反応工程式を以下に示す。以下の各反応工程式においてEtSHはエタンチオールである。
具体的な操作は以下のとおりである。
25mLのナス型フラスコに、エタンチオール(2mL)と三臭化アルミニウム(320.9mg,1.2mmol,4.8当量)を入れて0℃に冷却し、攪拌下に、6,7−メチレンジオキシクマリン(47.5mg,0.25mmol,1.0当量)を一度に加えた。反応液の色が薄茶色から黄茶色に変化した。0℃で2時間攪拌した後、室温にてドラフト内で一晩攪拌し、エタンチオールを蒸発させた。
得られた残渣に10%塩酸水溶液10mLを加えると薄茶色の沈殿が生じた。一晩攪拌した後、酢酸エチル(20mL×2)にて抽出した。得られた有機層を飽和食塩水(10mL×2)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)にて乾燥させた。
溶媒を減圧下で留去し、得られた残渣(41.6mg)をシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×1cm,2g)で分離精製すると、酢酸エチルによりエスクレチン(37.6mg,収率=84.4%)が淡茶色結晶として得られた。この化合物のIRスペクトルは標準品のIRスペクトルと一致した。
TLC:Rf=0.57(CHCl3:MeOH:CH3COOH:H2O=16:8:1:2:)
IR(KBr cm−1):3232,2364,1672,1626,1564,1524,1460,1404,1282,1200,1148,946,878,848,820,748,670,636,576,508,454,418,552
実施例7
(1)エスクレチンアセトナイドの合成
エスクレチンアセトナイド合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、2,2−ジメチル−5−ホルミル−6−ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール(164.3mg,0.85mmol,1.0当量)、酢酸ナトリウム(278mg,3.38mmol,4.0当量)、無水酢酸(259mg,2.54mmol,3.0当量)、及び乾燥したDMF(10mL)を加えた。この混合物を窒素雰囲気下で、170℃にて、5時間攪拌すると原料は、ほぼ消失した。続いて、加熱を中止し室温まで冷却した。
反応液を、氷を浮かべた蒸留水40mLにあけて、酢酸エチル(40mL×2)にて抽出した。得られた有機層を蒸留水(20mL×3)及び飽和食塩水(20mL×1)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)にて乾燥させた。
溶媒を減圧下で留去し、得られた残渣(200.2mg)をシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×4cm,10g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(6:1)(180+30mL)によりエスクレチンアセトナイド(158.1mg,収率=85.7%)が、淡茶色結晶として得られた。
融点:178−180℃
TLC:Rf=0.35(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):1.72(s,6H,Me2),6.25(d,J=9.76Hz,1H),6.74(s,1H),6.75(s,1H),7.57(d,J=9.76Hz,1H)
IR(KBr cm−1):3064,3012,2364,1726,1628,1580,1504,1454,1410,1386,1342,1284,1230,1198,1150,1106,1064,982,924,890,840,824,782,754,724,650,604,558,502,464,450
(2)エスクレチンの合成
エスクレチン合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、エスクレチンアセトナイド(67.1mg,0.31mmol,1.0当量)と6N塩酸水溶液(1mL)を加えた。この混合物を窒素雰囲気下で、120℃にて、2時間攪拌すると原料は、ほぼ消失した。続いて、加熱を中止し室温まで冷却した。
反応液を、氷を浮かべた蒸留水10mLにあけて、酢酸エチル(20mL×3)にて抽出した。得られた有機層を蒸留水(10mL×3)及び飽和食塩水(10mL×1)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)にて乾燥させた。溶媒を減圧下で留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(直径1.7×5cm,4g)で分離精製すると、酢酸エチルによりエスクレチン(39.4mg,収率=72.0%)が、淡茶色結晶として得られた。
TLC:Rf=0.57(CHCl3:MeOH:CH3COOH:H2O=16:8:1:2)
IR(KBr cm−1):3352,1671,1623,1569,1404,1368,1284,1149,948,879,849,822,672,636,579
6Nの塩酸水の代わりに酢酸:蒸留水(4:1)混合液を用いて脱保護反応を試みたところ、反応速度は遅かったが、反応終了後に得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(直径1.7×5cm,4g)で分離精製すると、酢酸エチルによりエスクレチン(62.2mg,収率=83.7%)が、淡茶色結晶として得られた。
TLC:Rf=0.57(CHCl3:MeOH:CH3COOH:H2O=16:8:1:2)
IR(KBr cm−1):2364,1672,1626,1572,1404,1366,1284,1200,1150,948,878,848,822,670,636,578
[原料アルデヒド化合物の合成例]
合成例1:2,5−ジヒドロキシ−4−メトキシベンズアルデヒド(実施例2の原料)
本合成例の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
メトキシヒドロキノン(618mg,4.41mmol)に、オルソギ酸トリメチル(2.89mL,6.0当量)を滴下し、更にエーテル(15.5mL)を加え、完全に溶解させた。反応系を水浴につけ、窒素気流撹拌下で、塩化アルミニウム(882mg,1.5当量)を添加した。10分間反応させた後、氷冷撹拌下で、10%塩酸水溶液(50mL)を加え、エーテル(30mL×3)にて抽出し、水(50mL×3)及び飽和食塩水(50mL×3)で洗浄した。得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮して2,5−ジヒドロキシ−4−メトキシベンズアルデヒド(166mg,収率=24.5%)を薄黄色結晶として得た。
1H−NMR(CD3OD):δ 3.85(3H,s,CH3O−),6.44(1H,s,H−3),6.94(1H,s,H−6),9.66(1H,s,−CHO)
合成例2:4−ベンジルオキシ−5−ヒドロキシサリチルアルデヒド(実施例3の原料)の合成
本合成例の反応工程式を以下に示す。なお、以下の反応工程式においてMEKはメチルエチルケトンである。
具体的な操作は以下のとおりである。
50mLのナス型フラスコに、2,4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒド(154mg,1.0mmol,1.0当量)、炭酸水素ナトリウム(126mg,1.5mmol,1.5当量)、ヨウ化カリウム(33mg,0.2mmol,0.2当量)、及びメチルエチルケトン(MEK)10mLを加えた。この溶液に塩化ベンジル(189.9mg,1.5mmol,1.5当量)を少しずつ室温で加えた。
反応液を105℃で窒素雰囲気下、合計22時間還流攪拌した。原料が完全に消失しているように見られたので、反応液を減圧下で留去した。
酸性水溶液(10mL,1%塩酸水溶液)を注いで、酢酸エチル(30mL×1)で抽出した。有機層を飽和食塩水(10mL×1)、蒸留水(10mL×1)、及び更に飽和食塩水(10mL×1)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)で乾燥した。減圧濃縮すると、粗生成物(297.8mg)が得られた。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(直径1.7×8cm,6g)で精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(4:1)により4−ベンジルオキシ−5−ヒドロキシサリチルアルデヒド(219.1mg,収率=89.7%)が淡黄茶色結晶として得られた。
融点:144〜145℃
TLC:Rf=0.5(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):5.15(s,2H,PhCH2),6.54(s,1H,Ar−H),7.04(s,1H,Ar−H),7.42(s,5H,Ph),9.67(s,1H,CHO)
IR(KBr cm−1):3332,1638,1588,1560,1504,1470,1398,1362,1218,1178,1142,990,914,866,834,798,746,698,602,552,482,410
合成例3:2,5−ジヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒドの合成(実施例3の原料)
(1)2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノンの合成1
2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノン合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、2−(ベンジルオキシ)フェノール(200.2mg,1.0mmol,1.0当量)とアセトン(5mL)を加えた。この攪拌溶液に、KH2PO4(204mg,1.5mmol,1.5当量)を含む蒸留水(15mL)を加えた。KH2PO4(544mg,4.0mmol,4.0当量)を含む4℃に冷やした蒸留水(40mL)に、フレミー(Fremy)塩(すなわち、ニトロソスルホン酸カリウム;1.07g,4.0mmol,4.0当量)を溶解させ、その溶液を室温で手早く滴下した。滴下終了後、室温で3時間攪拌させると、溶液が暗い茶色となり、黄色沈殿を生じた。原料はこの時点でほぼ消失しているように観察された。
反応終了後、酢酸エチル(40mL×1,20mL×1)を加え、水層を抽出した。得られた有機層を飽和食塩水(10mL×1)で洗浄し、硫酸ナトリウム(5g)で乾燥し、減圧下で濃縮すると、固体の粗結晶(224.3mg)が得られた。この粗結晶をシリカゲルクロマトグラフィー(直径21.7×7.5cm,6g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(6:1)により2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノン(182.9mg,収率=83.4%)が、淡黄茶色結晶として得られた。
TLC:Rf=0.41(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):5.05(s,2H,CH2Ph),6.00(s,1H,H−3),6.71(s,2H,H−5,6),7.40(s,5H,Ph−)
IR(KBr cm−1):3080,2344,1674,1642,1596,1504,1454,1386,1360,1316,1248,1210,1112,1004,886,836,728,692,466,424
(2)2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノンの合成2
2−(ベンジルオキシ)ヒドロキノン合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、2−ベンジルオキシフェノール(206mg,1.03mmol,1.0当量)とアセトニトリル(20mL)を加えた。この攪拌溶液に、Co(bpb)H2O(38.5mg,0.098mmol,0.05当量)を室温で加えた。混合液は茶緑色から茶色に変化した。なお、前記のCo(bpb)H2Oは、アクア−〔N,N−ビス((2’−ピリジンカルボキサミド)−1,2−ベンゼン〕コバルト(II)である。
反応混合物に、酸素を100mL/minの流速で合計24時間吹き込んだ。原料はまだ残っていた。反応終了後、減圧濃縮して溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(直径2.5×4.0cm,10g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(10:1)により、フラクションNo.11−16に2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノン(93.5mg,収率=42.4%)が金色結晶として得られた。更に、フラクションNo.2−4に原料(114.7mg,55.6%)が無色油状体として得られた。この収率は、原料回収を考慮すると95.5%に相当する。
TLC:Rf=0.41(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
(3)1,4−ジアセトキシ−2−ベンジルオキシベンゼンの合成
1,4−ジアセトキシ−2−ベンジルオキシベンゼン合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
25mLのナス型フラスコに、2−ベンジルオキシ−1,4−ベンゾキノン(250mg,1.17mmol,1.0当量)、無水酢酸(2.5mL,227.0当量)及び亜鉛末(250mg,3.82mmol,3.28当量)を0℃で加えた。この溶液にピリジン(0.25mL、3.69mmol,2.64当量)を少しずつ0℃で加えた。
20分後に反応液は茶色の沈殿状態から薄い緑色に変化した。更に45分間攪拌した。
反応混合物をグラスフィルター(3G4)でろ過し、亜鉛末と無機塩を除き、残渣を酢酸エチルで充分に洗浄した。得られたろ液を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム(5mL)で洗浄した。
有機層を蒸留水(5mL×2)及び飽和食塩水(5mL×1)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)で乾燥した。続いて、減圧濃縮すると、粗生成物(438mg)が得られた。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(直径2.5×3cm,8g)で精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(3:1)により1,4−ジアセトキシ−2−ベンジルオキシベンゼン(344.5mg,収率=98.3%)が淡黄茶色結晶として得られた。
TLC:Rf=0.41(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):2.25(s,3H,COCH3),2.27(s,1H,COCH3),5.05(s,2H,PhCH2),6.70(dd,J=8.30,2.44Hz,1H,Ar−H−6),6.78(d,J=2.44Hz,1H,Ar−H−5),7.04(d,J−8.30Hz,1H,Ar−H−3)
IR(KBr cm−1):3092,3048,1766,1620,1598,1510,1478,1458,1428,1392,1374,1282,1222,1184,1152,1112,1048,1010,972,914,888,840,826,766,742,720,700,634,624,602,588,484,468
(4)2−ベンジルオキシ−1,4−ヒドロキノンの合成
2−ベンジルオキシ−1,4−ヒドロキノン合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
10mLのナス型フラスコに、1,4−ジアセトキシ−2−ベンジルオキシベンゼン(35.2mg,1.17mmol,1.0当量)とアセトン(1mL)を加えた。この攪拌溶液に2%塩酸水溶液0.5mLを加えた。
この混合液を4時間加熱還流した。
反応終了後、減圧下で溶媒を除くと粗生成物(24mg)が得られた。これをシリカゲルクロマトグラフィー(直径1.7×6.5cm,5g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(2:1,100mL+50mL)により2−ベンジルオキシ−1,4−ヒドロキノン(18.2mg,収率=71.8%)が、無色結晶として得られた。
融点:99〜101℃
TLC:Rf=0.24(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):5.02(s,2H,CH2Ph),5.32(br,1H,OH,重水交換で消失),6.31(dd,J=8.79,2.93Hz,1H,H−6),6.50(d,J=8 2.93Hz,1H,H−3),6.78(d,J=8.79Hz,1H,H−5),7.40(s,5H,Ph−)
IR(KBr cm−1):3492,3412,1632,1512,1484,1386,1356,1320,1296,1258,1224,1160,1114,1026,946,832,792,752,722,706,628,448
元素分析:
理論値 C:72.21,H:5.59
実験値 C:72. 0,H:5.5
(5)2,5−ジヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒドの合成(実施例3の原料)
2,5−ジヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
25mLのナス型フラスコに、2−ベンジルオキシ−ヒドロキノン(108mg,0.5mmol,1.0当量)とオルトギ酸トリエチル(600mg,4.04mmol,8当量)とジエチルエーテル(3mL)を入れた。この混合物を8℃に冷却して塩化アルミニウム(100mg,0.75mmol,1.5当量)を少しずつ加えた。反応液は直ちに、薄緑色から深い緑色に変化した。この状態で6分間反応を行った。
原料が消失していたので、反応液を0℃に冷却した。この溶液に酸性水溶液(10mL)を加えて、エーテル(40mL×1,20mL×1)及び酢酸エチル(20mL×2)で抽出した。得られた有機層を蒸留水(10mL×1)及び飽和食塩水(10mL×1)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)で乾燥させ、減圧下で濃縮すると粗生成物が固体として得られた。
この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(直径1.7×6.5cm,5g)で精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(5:1)により2,5−ジヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド(76.2mg,収率=63.2%)が淡茶色結晶として得られた。
融点:147〜148℃
TLC:Rf=0.44(n−ヘキサン/EtOH=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):5.15(s,2H,PhCH2),6.54(s,1H,Ar−H),7.04(s,1H,Ar−H),7.42(s,5H,Ph),9.67(s,1H,CHO)
IR(KBr cm−1):3332,1638,1588,1560,1504,1470,1398,1362,1218,1178,1142,990,914,866,834,798,746,698,602,552,482,410
元素分析:
理論値 C:68.85,H:4.95
実験値 C:69. 0,H:5.1
合成例4:2,4,5−トリアセトキシベンズアルデヒド(実施例4の原料)の合成
本合成例の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
酢酸ナトリウム(80.7mg,6.0当量)のDMF(0.98mL)溶液に、無水酢酸(0.19mL,4.0当量)を滴下して、室温で15分間撹拌した後、2,4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒド(75.8mg,0.492mmol)のDMF溶液(0.30mL×3)を反応系に滴下し、室温で20分間反応させた。TLCで原料の消失を確認した後、氷冷撹拌下で10%塩酸水溶液(30mL)を加えると、白色結晶が析出した。この結晶を桐山ロートにてろ過し、水洗して2,4,5−トリアセトキシベンズアルデヒド(135mg,97%)を白色結晶として得た。
合成例5:2,5−ジアセトキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド(実施例5の原料)の合成
本合成例の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、4−ベンジルオキシ−2,5−ジヒドロキシアルデヒド(193.8mg,0.793mmol,1.0当量)、酢酸ナトリウム(82.05mg,1.0mmol,1.23当量)及び乾燥DMF1mLを加えた。この溶液に無水酢酸(204.2mg,2.0mmol,2.5当量)を少しずつ室温で加えた。
反応液を室温で窒素雰囲気下、2時間攪拌した。原料は完全に消失した。水10mLを注ぐと白色の沈殿を生じた。エーテル20mLと酢酸エチル10mLとを加えて沈殿を溶解させた。得られた有機層を水(10mL×3)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(5g)で乾燥し、減圧濃縮すると、粗生成物が得られた。この粗生成物をn−ヘキサンで洗浄すると2,5−ジアセトキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド(236.8mg,収率=90.89%)が淡クリーム色の結晶として得られた。
融点:136〜137℃
TLC:Rf=0.28(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):2.27(s,3H,CH3CO),2.38(s,3H,CH3CO),5.13(s,2H,PhCH2),6.81(s,1H,Ar−H),7.38(s,5H,Ph),7.58(s,1H,Ar−H),9.95(s,1H,CHO)
IR(KBr cm−1):2340,1774,1690,1618,1510,1424,1370,1328,1284,1216,1156,1102,1008,944,830,786,770,742,700,668,616,596,484
元素分析:
理論値 C:65.85,H:4.91
実験値 C:66. 2,H:5.0
合成例6:4,5−メチレンジオキシサリチルアルデヒド(実施例6の原料)の合成
本合成例の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、セサモール(1.38g,10.0mmol,1.0当量)とエーテル(40mL)を加えて溶解させた。この溶液に、オルトギ酸トリエチルエステル(10mL,7.6mmol,7.6当量)を加えた。得られた黄色溶液に、塩化アルミニウム(2.0g,15mmol,1.5当量)を0℃で徐々に加えた。この混合物は、薄い赤色から緑色に変化し、深緑色から深青色に変化した。5分後に、混合物を0℃に冷やし、5%の塩酸溶液(10mL)を加えた。生成物は難溶性であり、分離は困難であった。
蒸留水(10mL)と酢酸エチル(40mL)を加えて分画した。水層を更に酢酸エチル(40mL)で抽出した。集めた有機層を飽和食塩水(10mL)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(約5g)で乾燥し、エバポレーターで濃縮乾固すると、赤黒色の固体(1.6g)が得られた。
この赤黒色固体506.6mgをとってシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×8.0cm,20g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(3:1)によりフラクションNo.2−4に4,5−メチレンジオキシサリチルアルデヒド(363.9mg,収率=70.9%)が淡茶色針状結晶として得られた。
融点:125−126℃
TLC:Rf=0.63(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):6.02(s,6H,Me2),6.47(s,1H),6.86(s,1H),9.62(s,1H,CHO)
IR(KBr cm−1):3076,1646,1614,1506,1482,1424,1388,1314,1270,1230,1162,1086,1036,934,872,854,786,774,722,710,514
合成例7
(1)2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソールの合成
2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール合成の反応工程式を以下に示す。なお、以下の反応工程式においてTsOHはp−トルエンスルホン酸である。
具体的な操作は以下のとおりである。
50mLのナス型フラスコに、カテコール(605mg,5.5mmol,1.1当量)、2,2−ジメトキシプロパン(520mg,5.0mmol,1.0当量)、p−トルエンスルホン酸(約2mg)、及びトルエン(40mL)を加えた。この混合物を130℃で、6時間共沸蒸留させたが原料はまだ存在していた。続いて、加熱を中止し室温まで冷却し、中和のために28%ナトリウムメチラートメタノール溶液を1滴加えた。
溶媒を減圧下で除いた。得られた残渣(689.9mg)をシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×4cm,10g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(4:1)(160+40mL)により2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール(373mg,収率=49.6%)が黄色油として得られ、同時に原料(216mg,35.8%)が得られた。
TLC:Rf=0.91(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):1.67(s,6H,Me2),6.75(m,4H)
IR(KBr cm−1):3080,3004,2948,1632,1490,1382,1370,1240,1112,1006,978,908,840,820,786,738,434
(2)5−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソールの合成 5−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
50mLのナス型フラスコに、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン(630.6mg,5.0mmol,1.0当量)、2,2−ジメトキシプロパン(781mg,7.5mmol,1.5当量)、p−トルエンスルホン酸(約1mg)、及びトルエン(40mL)を加えた。この混合物を130℃で、1.5時間共沸蒸留させたが原料はまだ存在していた。続いて、加熱を中止し室温まで冷却し、中和のために28%ナトリウムメチラートメタノール溶液を1滴加えた。
溶媒を減圧下で除いた。得られた残渣(831.5mg)をシリカゲルクロマトグラフィー(直径2.5×4cm,10g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(4:1)(160+40mL)により、5−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール(240.9mg,収率=28.9%)が淡茶色油状体として得られ、更に副生成物(45.9mg)が得られた。
TLC:Rf=0.47(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):1.65(s,6H,,Me2),6.20(dd,J=8.30,2.45Hz,1H),6.35(d,J=2.45Hz,1H),6.55(d,J=8.30Hz,1H)
IR(KBr cm−1):3396,3004,1626,1498,1382,1224,1160,1118,1074,980,948,836,788,764,610,424,884
(3)2,2−ジメチル−5−ホルミル−6−ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール(実施例7の原料)の合成
2,2−ジメチル−5−ホルミル−6−ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール合成の反応工程式を以下に示す。
具体的な操作は以下のとおりである。
100mLのナス型フラスコに、5−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール(240mg,1.45mmol,1.0当量)とエーテル(5mL)を加えて溶解させた。この溶液に、オルトギ酸トリエチルエステル(1.5mL,7.6mmol,7.6当量)を加えた。この黄色の溶液に、塩化アルミニウム(289mg,2.17mmol,1.0当量)を0℃で徐々に加えた。この混合物は、薄い赤色から緑色に変化し、深緑色から深青色に変化した。5分後に、混合物を0℃に冷やし、2%の塩酸溶液(10mL)を加えた。
エーテル(20mL)を加えて抽出した。集めた有機層を蒸留水(10mL×2)で洗浄した後、硫酸ナトリウム(約3g)で乾燥し、エバポレーターで濃縮乾固すると、赤黒色の固体(187.3mg)が得られた。シリカゲルクロマトグラフィー(直径1.7×6.0cm,5g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(10:1)(150mL+15mL)によりフラクションNo.1−3に目的生成物を含む画分(106mg,37.6%)が得られた。
更に、この画分をシリカゲルクロマトグラフィー(直径1.7×8.5cm,8g)で分離精製すると、n−ヘキサン:酢酸エチル(10:1)(100mL+10mL)によりフラクションNo.1−3に2,2−ジメチル−5−ホルミル−6−ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール(収率=37.6%)が淡黄色針状結晶として得られた。
融点:104−105℃
TLC:Rf=0.68(n−ヘキサン/酢酸エチル=2:1)
1H−NMR(CDCl3,δ ppm):1.69(s,6H,Me2),6.37(s,1H,H−7),6.76(s,1H,H−4),9.60(s,1H,CHO)
IR(KBr cm−1):3008,1650,1614,1494,1422,1394,1388,1382,1340,1282,1248,1182,1156,1068,984,882,844,800,782,758,704,524,470,430
試験例1:エスクレチン化合物中間体の抗菌活性試験
(1)供試化合物
以下の化合物(a)〜(e)の抗菌活性を調べた。
化合物(a):2−ベンジルオキシ−1,4−ヒドロキノン〔合成例3(4)の化合物〕
化合物(b):2,5−ジヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド〔合成例3(5)の化合物〕
化合物(c):2,5−ジアセトキシ−4−ベンジルオキシベンズアルデヒド〔合成例5の化合物〕
化合物(d):4,5−メチレンジオキシサリチルアルデヒド〔合成例6の化合物〕
化合物(e):2,2−ジメチル−5−ホルミル−6−ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール〔合成例7(3)の化合物〕
(2)供試病原糸状菌
以下の5種の植物病原糸状菌に対する抗菌活性を調べた。
(イ)ピリキュラリア・オリゼー(Pyricularia oryzae:表1ではP.o)〔いもち病菌〕
(ロ)フザリウム・ニバレ(Fusarium nivale:表1ではF.niv)〔コムギ赤かび病菌〕
(ハ)セプトリア・トリチシ(Septoria tritici:表1ではS.t)〔コムギ葉枯病菌〕
(ニ)ピシウム・アファニデルマタム(Pythium aphanidermatum:表1ではP.a)〔イネ菌立枯病菌〕
(ホ)フィトフトラ・インフェスタンス(Pytophthora infestans:表1ではP.i)〔トマト疫病菌〕
(3)試験方法
供試化合物(a)〜(e)を1mg/mLの濃度でジメチルホルムアミドに溶解し、試験用溶液を調製した。
植物病原糸状菌の内、ピリキュラリア・オリゼー(P.o)及びピシウム・アファニデルマタム(P.a)は、それらの胞子を形成したシャーレに蒸留水10mLを加え、胞子濃度1×105個/mLに調整した。フィトフトラ・インフェスタンス(P.i)は、胞子を形成したシャーレに蒸留水10mLを加え、胞子濃度1×104個/mLに調整した。フザリウム・ニバレ(F.niv)、及びセプトリア・トリチシ(S.t)は、PDA培地(ポテト・デキストロース・アガー培地)で充分に生育するまで培養した後、シャーレ1枚分の菌叢を培地と共にホモゲナイザーの容器に移し、滅菌水50mLを加え、ホモゲナイザーで5000rpmにて30秒間冷却しながら分散させて、2枚重ねの滅菌ガーゼでろ過した。遠心処理(3000rpm,5分間)の後、滅菌水50mLに懸濁した(血球計算盤視野×100あたり1〜3個)。
PD培地(ポテト・デキストロース培地)90mLに対して胞子懸濁液又は菌糸懸濁液10mLを添加し、よく攪拌した。フィトフトラ・インフェスタンス(P.i)のみライムギ液体培地をPD培地の代わりに使用した。
平底96穴のマイクロプレートを準備し、試験用溶液1μLをマイクロプレートに添加した後、植物病原糸状菌の接種菌を含む培地100μLを加え、よく攪拌した。供試化合物を含まない薬剤無添加区の対照試験では、ジメチルホルムアミド1μLのみを添加した。各供試化合物について3穴を用いた。
植物病原糸状菌の無接種対照試験には、無接種培地90mLに滅菌水10mLを加えて無接種対照試験液を調製し、マイクロプレート1穴あたり無接種対照試験液100μLを添加した。
20℃又は25℃で静置培養を行った。
(4)検査方法及び結果
以下の表1に記載の所定時間(DAT)に亘り培養した後、マイクロプレートリーダーによりOD595を測定した。抑制率は、以下の式(1):
〔1−(T−R)/(C−R)〕×100 (1)
〔式中、Tは、植物病原糸状菌の接種菌を含む培地に、供試化合物含有試験用溶液を添加した試験区の吸光度(OD595)であり、Cは、植物病原糸状菌の接種菌を含む培地に、供試化合物を含まない試験用溶液を添加した薬剤無添加区の吸光度(OD595)であり、Rは、植物病原糸状菌の無接種培地に、供試化合物を含まない試験用溶液を添加した無接種対照試験区の吸光度(OD595)である〕によって計算した。
こうして計算した抑制率を、以下の基準で3段階で評価した。
−:10%より低いもの
+:10〜60%のもの
++:60%より大のもの
結果を表1に示す。
試験例2:エスクレチン化合物中間体の除草活性試験
(1)供試化合物
前記抗菌活性試験例で用いた化合物(a)、(b)、(d)及び(e)の除草活性試験を実施した。
(2)供試植物
以下の4種の植物に対する発芽抑制効果を調べた。
(イ)アオゲイトウ(Amaranthus retroflexuso)(ヒユ科)
(ロ)レタス(Lactuca sativa)(キク科)
(ハ)イヌホオズキ(Solanum nigrum)(ナス科)
(ニ)エノコログサ(Setaria viridis)(イネ科)
(3)試験方法
供試植物の種子を次亜塩素酸ナトリウム1%溶液で2分間処理した後,滅菌水で洗浄し、風乾させた種子を用いて試験を実施した。12穴マイクロプレートに、ろ紙(桐山;ロート用;直径=21mm)1枚を敷いて、種子を播種した。
供試化合物を10mg/mL濃度となるようアセトンに溶解した後、2倍希釈のムラシゲーシュクーグ塩(Murashige−Skoog salts;MS)で200倍に希釈した。調製した供試化合物溶液0.3mLをマイクロプレートに分注し、セロファンテープで周囲を覆った後、温度調節室内で保持した。供試化合物を含まない薬剤無添加区の対照試験では、アセトンを2倍希釈のムラシゲーシュクーグ塩で200倍に希釈した希釈液0.3mLのみを添加した。
(4)調査方法
7日間、25℃にて4000〜5000l×(24時間照明条件)で栽培した後、茎葉部及び根部に及ぼす影響を達観評価した。評価は以下の6段階で行った。
0:無処理と同等,
1:20%未満の抑制,2:20%以上で40%未満の抑制,
3:40%以上で60%未満の抑制,4:60%以上で80%未満の抑制,
5:80%以上の抑制。
結果を表2に示す。なお、表2において、Gは、発芽阻害であり、Igは、生育抑制であり、Irは、根部抑制であり、そして、Urは、根上がりである。
試験例3:エスクレチン化合物の抗菌活性試験
試験例1に準じた方法で、つぎのエスクレチン化合物の活性を確認した。
7−ベンジルオキシ−6−ヒドロキシクマリン〔実施例3の化合物〕
メチレンジオキシクマリン〔実験例6(1)の化合物〕
エスクレチンアセトナイド〔実施例7(1)の化合物〕
試験例4:エスクレチン化合物の除草活性試験
試験例2に準じた方法で、つぎのエスクレチン化合物の活性を確認した。
7−ベンジルオキシ−6−ヒドロキシクマリン〔実施例3の化合物〕
メチレンジオキシクマリン〔実験例6(1)の化合物〕
エスクレチンアセトナイド〔実施例7(1)の化合物〕
製剤例1
以下の組成から粉剤を調製した。
前記の各成分を粉砕混合して、粉剤とした。
製剤例2
以下の組成から水和剤を調製した。
前記の各成分を粉砕混合して水和剤とした。水で希釈して使用することができる。
製剤例3
以下の組成から粒剤を調製した。
前記の各成分を均一に混合し、更に水を加えて練り合わせ、押し出し式造粒機で粒状に加工乾燥して粒剤とした。
製剤例4
以下の組成から乳剤を調製した。
前記の各成分を均一に混合溶解して乳剤とした。
産業上の利用可能性
本発明方法は従来の方法に比べて、エスクレチン合成の収率が著しく向上し、保護基を用いる場合でも、それらの除去が容易であり、その工業的価値が大きい。
以上、本発明を特定の態様に沿って説明したが、発明の趣旨を損なわない態様は本発明の範囲に含まれる。
【0003】
合物を得ることができることを見出した。また、本発明者らが見出した前記の新規製造方法に用いる出発化合物、中間体生成物、及び生成物の中に、新規化合物が存在することも見出した。更に、本発明者は、中間体生成物の中に、抗糸状菌活性又は除草活性を有する化合物が存在することも見出した。
本発明は、こうした知見に基づくものである。
発明の開示
従って、本発明は、一般式(1):
〔式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基である。R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を、非プロトン性極性溶媒中で弱塩基の存在下に、無水酢酸又は反応系で無水酢酸を形成する化合物によって縮合環化させることを特徴とする、一般式(2):
(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味である。)で表されるエスクレチン化合物の製造方法に関する。
また、本発明は、一般式(3):
合物を得ることができることを見出した。また、本発明者らが見出した前記の新規製造方法に用いる出発化合物、中間体生成物、及び生成物の中に、新規化合物が存在することも見出した。更に、本発明者は、中間体生成物の中に、抗糸状菌活性又は除草活性を有する化合物が存在することも見出した。
本発明は、こうした知見に基づくものである。
発明の開示
従って、本発明は、一般式(1):
〔式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基である。R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を、非プロトン性極性溶媒中で弱塩基の存在下に、無水酢酸又は反応系で無水酢酸を形成する化合物によって縮合環化させることを特徴とする、一般式(2):
(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味である。)で表されるエスクレチン化合物の製造方法に関する。
また、本発明は、一般式(3):
【0004】
〔式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基である。R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。〕で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物をホルミル化することを特徴とする、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の製造方法にも関する。
更に、本発明は、一般式(1’):
〔式中、R1’及びR2’は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1’とR2’とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基である。R3’は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。ただし、次の定義化合物は除く。R1’とR2’とが同時に水素原子。R3’が水素原子であって、R1’とR2’とが、各々、ベンジル基とベンジル基、エチル基とエチル基。〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の製造方法であって、
一般式(3’):
(式中、R1’、R2’、及びR3’は、前記と同じ意味である。)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物をホルミル化することを特徴とする、前記一般式(1’)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の製造方法にも関する。
前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物において、好ましい化合物は、R1及びR2が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3が水素原子又はアセチル基である前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物である。
また、前記一般式(2)で表されるエスクレチン化合物において、好ましい化合物は、R1及びR2が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3が水素原子又はアセチル基である前記一般式(2)で表されるエスクレチン化合物である。
更に、前記一般式(3)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物において、好ましい化合物は、R1及びR2が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3が水素原子又はアセチル基である前記一般式(3)で表されるトリヒドロキシベンズア
〔式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基である。R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。〕で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物をホルミル化することを特徴とする、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の製造方法にも関する。
更に、本発明は、一般式(1’):
〔式中、R1’及びR2’は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1’とR2’とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基である。R3’は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。ただし、次の定義化合物は除く。R1’とR2’とが同時に水素原子。R3’が水素原子であって、R1’とR2’とが、各々、ベンジル基とベンジル基、エチル基とエチル基。〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の製造方法であって、
一般式(3’):
(式中、R1’、R2’、及びR3’は、前記と同じ意味である。)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物をホルミル化することを特徴とする、前記一般式(1’)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の製造方法にも関する。
前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物において、好ましい化合物は、R1及びR2が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3が水素原子又はアセチル基である前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物である。
また、前記一般式(2)で表されるエスクレチン化合物において、好ましい化合物は、R1及びR2が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3が水素原子又はアセチル基である前記一般式(2)で表されるエスクレチン化合物である。
更に、前記一般式(3)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物において、好ましい化合物は、R1及びR2が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3が水素原子又はアセチル基である前記一般式(3)で表されるトリヒドロキシベンズア
【0005】
ルデヒド化合物である。
また、本発明は、前記一般式(1’)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物にも関する。
更に、本発明は、一般式(1”):
〔式中、R1”及びR2”は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1”とR2”とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基である。R3”は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。ただし、次の定義化合物は除く。R1”とR2”とが同時に水素原子。R3”が水素原子であって、R1”とR2”とが、各々、ベンジル基とベンジル基、エチル基とエチル基。R1”とR2”とが同時にアセチル基であって、R3”が水素原子又はアセチル基。R1”とR2”とが一緒になって−CH2−基であって、R3”が水素原子又はアセチル基。〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物にも関する。
更に、本発明は、一般式(10):
〔式中、R11及びR12は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数2〜5のアルキル基であるか、あるいは、R11とR12とが一緒になって−C(CH3)2−基である。R13は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。ただし、R11とR12とが同時に水素原子であることはない。〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物にも関する。
前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物において、好ましい化合物は、R11及びR12が、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数2〜5のアルキル基であるか、あるいは、R11とR12とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R13が水素原子又はアセチル基である(ただし、R11とR12とが同時に水素原子であることはない。)前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物である。
更に、本発明は、一般式(2’):
〔式中、R21’及びR22’は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R21’とR22’とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基である。ただし、R21’とR22’とが同時に水素原子、エチル基、プロピル基、ベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であることはなく、また、R21’がエチル基である場合には、R22’は水素原子であることはない。〕で表されるエスクレチン化合物にも関する。
更に、本発明は、一般式(2”):
〔式中、R21”及びR22”は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R21”とR22”とが一緒になって−C(CH3)2−基である。ただし、R21”とR22”とが同時に水素原子、エチル基、プロピル基、ベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であることはなく、また、R21”がエチル基である場合には、R22”は水素原子であることはない。〕で表されるエスクレチン化合物にも関する。
更にまた、本発明は、一般式(20):
〔式中、R21及びR22は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R21とR22とが一緒になって−C(CH3)2−基である。ただし、R21とR22とが同時に水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であることはない。〕で表されるエスクレチン化合物にも関する。
ルデヒド化合物である。
また、本発明は、前記一般式(1’)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物にも関する。
更に、本発明は、一般式(1”):
〔式中、R1”及びR2”は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1”とR2”とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基である。R3”は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。ただし、次の定義化合物は除く。R1”とR2”とが同時に水素原子。R3”が水素原子であって、R1”とR2”とが、各々、ベンジル基とベンジル基、エチル基とエチル基。R1”とR2”とが同時にアセチル基であって、R3”が水素原子又はアセチル基。R1”とR2”とが一緒になって−CH2−基であって、R3”が水素原子又はアセチル基。〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物にも関する。
更に、本発明は、一般式(10):
〔式中、R11及びR12は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数2〜5のアルキル基であるか、あるいは、R11とR12とが一緒になって−C(CH3)2−基である。R13は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。ただし、R11とR12とが同時に水素原子であることはない。〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物にも関する。
前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物において、好ましい化合物は、R11及びR12が、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数2〜5のアルキル基であるか、あるいは、R11とR12とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R13が水素原子又はアセチル基である(ただし、R11とR12とが同時に水素原子であることはない。)前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物である。
更に、本発明は、一般式(2’):
〔式中、R21’及びR22’は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R21’とR22’とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基である。ただし、R21’とR22’とが同時に水素原子、エチル基、プロピル基、ベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であることはなく、また、R21’がエチル基である場合には、R22’は水素原子であることはない。〕で表されるエスクレチン化合物にも関する。
更に、本発明は、一般式(2”):
〔式中、R21”及びR22”は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R21”とR22”とが一緒になって−C(CH3)2−基である。ただし、R21”とR22”とが同時に水素原子、エチル基、プロピル基、ベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であることはなく、また、R21”がエチル基である場合には、R22”は水素原子であることはない。〕で表されるエスクレチン化合物にも関する。
更にまた、本発明は、一般式(20):
〔式中、R21及びR22は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R21とR22とが一緒になって−C(CH3)2−基である。ただし、R21とR22とが同時に水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であることはない。〕で表されるエスクレチン化合物にも関する。
【0006】
前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物において、好ましい化合物は、R21及びR22が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R21とR22とが一緒になって−C(CH3)2−基である(ただし、R21とR22とが同時に水素原子又はアセチル基であることはない。)前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物である。
更にまた、本発明は、一般式(30):
〔式中、R31は場合により置換されていることのあるベンジル基であり、R32は、水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R31とR32とが一緒になって−C(CH3)2−基である。R33は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアキル−カルボニル基である。〕で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物にも関する。
前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物において、好ましい化合物はR31がベンジル基であり、R32が水素原子又はアセチル基であるか、あるいは、R31とR32とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R33が水素原子又はアセチル基である前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物である。
更に、本発明は、前記一般式(1’)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、又は前記一般式(2’)で表されるエスクレチン化合物を有効成分とすることを特徴とする、農園芸用抗糸状菌組成物にも関する。
更にまた、本発明は、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、又は前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物を有効成分とすることを特徴とする、農園芸用抗糸状菌組成物にも関する。
更に、本発明は、前記一般式(1’)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、又は前記一般式(2’)で表されるエスクレチン化合物を有効成分とすることを特徴とする、除草剤にも関する。
前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物において、好ましい化合物は、R21及びR22が、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、ベンジル基、又はアセチル基であるか、あるいは、R21とR22とが一緒になって−C(CH3)2−基である(ただし、R21とR22とが同時に水素原子又はアセチル基であることはない。)前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物である。
更にまた、本発明は、一般式(30):
〔式中、R31は場合により置換されていることのあるベンジル基であり、R32は、水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R31とR32とが一緒になって−C(CH3)2−基である。R33は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアキル−カルボニル基である。〕で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物にも関する。
前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物において、好ましい化合物はR31がベンジル基であり、R32が水素原子又はアセチル基であるか、あるいは、R31とR32とが一緒になって−C(CH3)2−基であり、R33が水素原子又はアセチル基である前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物である。
更に、本発明は、前記一般式(1’)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、又は前記一般式(2’)で表されるエスクレチン化合物を有効成分とすることを特徴とする、農園芸用抗糸状菌組成物にも関する。
更にまた、本発明は、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、又は前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物を有効成分とすることを特徴とする、農園芸用抗糸状菌組成物にも関する。
更に、本発明は、前記一般式(1’)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、又は前記一般式(2’)で表されるエスクレチン化合物を有効成分とすることを特徴とする、除草剤にも関する。
【0007】
更にまた、本発明は、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、又は前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物を有効成分とすることを特徴とする、除草剤にも関する。
発明を実施するための最良の形態
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法においては、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を出発材料として用いる。
前記一般式(1)において、R1及びR2は、同じか又は異なることができ、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。
本明細書において「アルキル基」は、直鎖状アルキル基、分枝状アルキル基、若しくは環状アルキル基(シクロアルキル基)、あるいは環状部分を含むアルキル基(シクロアルキル−アルキル基若しくはアルキル−シクロアルキル基)を意味する。炭素数1〜5のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、1−メチル−ブチル基、2−メチル−ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、2−シクロプロピル−エチル基、又は1−シクロブチル−メチル基を挙げることができる。
また、本明細書において、ベンジル基は、未置換であっても置換基を有していてもよく、置換基を有している場合には、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、及び/又はハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は沃素原子)の置換基1〜5個、好ましくは1〜2個で置換されていることができる。これらの置換基は、フェニル基上に存在することが好ましい。
更にまた、本発明は、前記一般式(10)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物、前記一般式(20)で表されるエスクレチン化合物、又は前記一般式(30)で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物を有効成分とすることを特徴とする、除草剤にも関する。
発明を実施するための最良の形態
本発明によるエスクレチン化合物の製造方法においては、前記一般式(1)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を出発材料として用いる。
前記一般式(1)において、R1及びR2は、同じか又は異なることができ、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である。
本明細書において「アルキル基」は、直鎖状アルキル基、分枝状アルキル基、若しくは環状アルキル基(シクロアルキル基)、あるいは環状部分を含むアルキル基(シクロアルキル−アルキル基若しくはアルキル−シクロアルキル基)を意味する。炭素数1〜5のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、1−メチル−ブチル基、2−メチル−ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、2−シクロプロピル−エチル基、又は1−シクロブチル−メチル基を挙げることができる。
また、本明細書において、ベンジル基は、未置換であっても置換基を有していてもよく、置換基を有している場合には、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、及び/又はハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は沃素原子)の置換基1〜5個、好ましくは1〜2個で置換されていることができる。これらの置換基は、フェニル基上に存在することが好ましい。
Claims (11)
- 一般式(1):
〔式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である〕で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物を、非プロトン性極性溶媒中で弱塩基の存在下に、無水酢酸又は反応系で無水酢酸を形成する化合物によって縮合環化させることを特徴とする、一般式(2):
(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味である)で表されるエスクレチン化合物の製造方法。 - 一般式(3):
〔式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R1とR2とが一緒になって−CH2−基又は−C(CH3)2−基であり、R3は水素原子、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基である〕で表されるトリヒドロキシベンゼン化合物をホルミル化することを特徴とする、一般式(1):
(式中、R1、R2、及びR3は、前記と同じ意味である)で表されるトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物の製造方法。 - 一般式(20):
〔式中、R21及びR22は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R21とR22とが一緒になって−C(CH3)2−基であるが、ただし、R21及びR22とが同時に水素原子であることはなく、更にR21及びR22とが同時にホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であることはないものとする〕で表されるエスクレチン化合物を有効成分とすることを特徴とする、農園芸用抗糸状菌組成物。 - 一般式(20):
〔式中、R21及びR22は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数2〜5のアルキル基、場合により置換されていることのあるベンジル基、ホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であるか、あるいは、R21とR22とが一緒になって−C(CH3)2−基であるが、ただし、R21及びR22とが同時に水素原子であることはなく、更にR21及びR22とが同時にホルミル基、又は場合により置換されていることがあり、アルキル部分が炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基であることはないものとする〕で表されるエスクレチン化合物を有効成分とすることを特徴とする、除草剤。
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