JPS649392U - - Google Patents
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- JPS649392U JPS649392U JP10385487U JP10385487U JPS649392U JP S649392 U JPS649392 U JP S649392U JP 10385487 U JP10385487 U JP 10385487U JP 10385487 U JP10385487 U JP 10385487U JP S649392 U JPS649392 U JP S649392U
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- JP
- Japan
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- heating
- far
- oxide
- infrared radiation
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- Prior art date
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- Pending
Links
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 7
- 238000010792 warming Methods 0.000 claims description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
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- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical group [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
Description
第１図はこの考案の加熱、加温装置の第一実施
例を示す縦断面図、第２図及び第３図はこの考案
における遠赤外線放射手段の別の実施例を示す拡
大断面図、第３図及び第４図は第一実施例におけ
る加熱器と従来の加熱器の温度状態の比較実験例
における加熱器の縦断面図、第６図はこの考案の
加熱、加温装置の第二実施例を示す横断面図、第
７図はこの考案の加熱、加温装置の第三実施例を
示す横断面図、第８図は従来の加熱、加温装置を
示す縦断面図である。 符号説明、１０……装置本体、１４……加熱炉
本体（装置本体）、１６……サウナ本体（装置本
体）、２０……ヒータ（加熱手段）、３０……遠
赤外線放射手段、３２……遠赤外線放射壁板、３
４……壁板基部、３６……被膜。
例を示す縦断面図、第２図及び第３図はこの考案
における遠赤外線放射手段の別の実施例を示す拡
大断面図、第３図及び第４図は第一実施例におけ
る加熱器と従来の加熱器の温度状態の比較実験例
における加熱器の縦断面図、第６図はこの考案の
加熱、加温装置の第二実施例を示す横断面図、第
７図はこの考案の加熱、加温装置の第三実施例を
示す横断面図、第８図は従来の加熱、加温装置を
示す縦断面図である。 符号説明、１０……装置本体、１４……加熱炉
本体（装置本体）、１６……サウナ本体（装置本
体）、２０……ヒータ（加熱手段）、３０……遠
赤外線放射手段、３２……遠赤外線放射壁板、３
４……壁板基部、３６……被膜。
補正 昭６２．８．７
実用新案登録請求の範囲を次のように補正する
。
。
【実用新案登録請求の範囲】
(1) 密閉状の装置本体内に加熱手段を配設する
と共に、上記装置本体の内周面に上記加熱手段か
ら受けた熱を遠赤外線に変換する遠赤外線放射手
段を形成して成ることを特徴とする加熱、加温装
置。 (2) 遠赤外線放射手段が、酸化アルミニウム、
酸化ジルコニウム、酸化ケイ素又は窒化ケイ素を
主成分とするセラミツクス製壁板である実用新案
登録請求の範囲第１項記載の加熱、加温装置。 (3) 遠赤外線放射手段が、装置本体を構成する
壁板基部の表面に酸化アルミニウム、酸化ジルコ
ニウム、酸化ケイ素又は窒化ケイ素を主成分とす
る被膜を形成して成るものである実用新案登録請
求の範囲第１項記載の加熱、加温装置。 図面の簡単な説明を次のように補正する。 明細書、第１１頁末行中に「第３図及び第４図
」とあるのを「第４図及び第５図」と訂正する。
と共に、上記装置本体の内周面に上記加熱手段か
ら受けた熱を遠赤外線に変換する遠赤外線放射手
段を形成して成ることを特徴とする加熱、加温装
置。 (2) 遠赤外線放射手段が、酸化アルミニウム、
酸化ジルコニウム、酸化ケイ素又は窒化ケイ素を
主成分とするセラミツクス製壁板である実用新案
登録請求の範囲第１項記載の加熱、加温装置。 (3) 遠赤外線放射手段が、装置本体を構成する
壁板基部の表面に酸化アルミニウム、酸化ジルコ
ニウム、酸化ケイ素又は窒化ケイ素を主成分とす
る被膜を形成して成るものである実用新案登録請
求の範囲第１項記載の加熱、加温装置。 図面の簡単な説明を次のように補正する。 明細書、第１１頁末行中に「第３図及び第４図
」とあるのを「第４図及び第５図」と訂正する。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 密閉上の装置本体内に加熱手段を配設する
と共に、上記装置本体の内周面に上記加熱手段か
ら受けた熱を遠赤外線に変換する遠赤外線放射手
段を形成して成ることを特徴とする加熱、加温装
置。 (2) 遠赤外線放射手段が、酸化アルミニウム、
酸化ジルコニウム、酸化ケイ素又は窒化ケイ素を
主成分とするセラミツクス製壁板である実用新案
登録請求の範囲第１項記載の加熱、加温装置。 (3) 遠赤外線放射手段が、装置本体を構成する
壁板基部の表面に酸化アルミニウム、酸化ジルコ
ニウム、酸化ケイ素又は窒化ケイ素を主成分とす
る被膜を形成して成るものである実用新案登録請
求の範囲第１項記載の加熱、加温装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10385487U JPS649392U (ja) | 1987-07-08 | 1987-07-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10385487U JPS649392U (ja) | 1987-07-08 | 1987-07-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS649392U true JPS649392U (ja) | 1989-01-19 |
Family
ID=31335051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10385487U Pending JPS649392U (ja) | 1987-07-08 | 1987-07-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS649392U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011034272A1 (ko) * | 2009-09-21 | 2011-03-24 | 한국전기연구원 | 적외선 방사층이 코팅된 그릴이 구비된 조리기 |
| JP5284518B1 (ja) * | 2012-06-30 | 2013-09-11 | 株式会社 サングリル | セラミック製遠赤外線輻射手段付き調理装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6157485B2 (ja) * | 1980-05-29 | 1986-12-06 | Chuo Hatsujo Kk | |
| JPS6211468A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-20 | 武居 煕夫 | 遠赤外線輻射板 |
-
1987
- 1987-07-08 JP JP10385487U patent/JPS649392U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6157485B2 (ja) * | 1980-05-29 | 1986-12-06 | Chuo Hatsujo Kk | |
| JPS6211468A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-20 | 武居 煕夫 | 遠赤外線輻射板 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011034272A1 (ko) * | 2009-09-21 | 2011-03-24 | 한국전기연구원 | 적외선 방사층이 코팅된 그릴이 구비된 조리기 |
| JP5284518B1 (ja) * | 2012-06-30 | 2013-09-11 | 株式会社 サングリル | セラミック製遠赤外線輻射手段付き調理装置 |
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