JPS6130239U - 赤外線加熱装置 - Google Patents

赤外線加熱装置

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Publication number
JPS6130239U
JPS6130239U JP11530384U JP11530384U JPS6130239U JP S6130239 U JPS6130239 U JP S6130239U JP 11530384 U JP11530384 U JP 11530384U JP 11530384 U JP11530384 U JP 11530384U JP S6130239 U JPS6130239 U JP S6130239U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
infrared heating
chamber
heated
heating source
heating device
Prior art date
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Pending
Application number
JP11530384U
Other languages
English (en)
Inventor
繁蔵 牧野
博 西村
Original Assignee
ニチデン機械株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by ニチデン機械株式会社 filed Critical ニチデン機械株式会社
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Publication of JPS6130239U publication Critical patent/JPS6130239U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図乃至第３図は本考案に係る赤外線加熱装置の実施
例を示すもので、第１図は加熱処理前後の被加熱物を搬
出人する状態を示す断面図、第２図は加熱処理中の状態
を示す断面図、第３図は他の実施例を示す断面図である
。 第４図及び第５図は従来の赤外線加熱装置の具体例を示
すもので、第４図は加熱処理前後の被加熱物を搬出入す
る状態を示す断面図、第５図は加熱処理中の状態を示す
断面図である。 ′ １０・・・赤外線加熱源（赤外線ランプ）、１１・
・・とい状反射鏡、１２・・・チャンバー、１４・・・
開口部、１５・・・反射面、１６・・・支持体、１７・
・・被加熱物（半導体ウエーハ）、１８・・・反射面、
１９・・・筒状体。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 横断面放物形のとい状反射鏡の焦点位置に配設して被加
    熱物を加熱する赤外線加熱源と、該赤外線加熱源の下方
    に設けられ、且つ、内周壁部に赤外線を反射する反射面
    を形成すると共に、下部に被加熱物出入れ用の開口部を
    形成したチャンバーと、被加熱物をチャンバー内で赤外
    線加熱源と対向して支持し、且つチャンバーの開口部を
    閉塞して密閉空間を形成する上下動自在の支持体と、被
    加熱物を囲繞するようにチャンバー内に配設した筒状体
    とを具備したことを特徴とする赤外線加熱装置。
JP11530384U 1984-07-27 1984-07-27 赤外線加熱装置 Pending JPS6130239U (ja)

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JP11530384U JPS6130239U (ja) 1984-07-27 1984-07-27 赤外線加熱装置

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JP11530384U JPS6130239U (ja) 1984-07-27 1984-07-27 赤外線加熱装置

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JPS6130239U true JPS6130239U (ja) 1986-02-24

Family

ID=30674281

Family Applications (1)

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JP11530384U Pending JPS6130239U (ja) 1984-07-27 1984-07-27 赤外線加熱装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01319934A (ja) * 1988-05-09 1989-12-26 Siemens Ag 電磁放射照射による半導体円板の急速熱処理方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5577145A (en) * 1978-12-05 1980-06-10 Ushio Inc Annealing furnace
JPS5691417A (en) * 1979-12-26 1981-07-24 Fujitsu Ltd Heating treatment device for wafer

Patent Citations (2)

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