JPS6146733U - 半導体用熱処理装置 - Google Patents

半導体用熱処理装置

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JPS6146733U
JPS6146733U JP13239684U JP13239684U JPS6146733U JP S6146733 U JPS6146733 U JP S6146733U JP 13239684 U JP13239684 U JP 13239684U JP 13239684 U JP13239684 U JP 13239684U JP S6146733 U JPS6146733 U JP S6146733U
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JP
Japan
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heat treatment
semiconductors
treatment equipment
treatment apparatus
parabolic reflector
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Pending
Application number
JP13239684U
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English (en)
Inventor
昭 大沢
茂 岡村
耕一郎 本田
律夫 滝沢
Original Assignee
富士通株式会社
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Publication date
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  • Resistance Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案にかかる熱処理装置の側断面を示す図、
第２図ａ〜ｄは本考案にかかる放物面反射鏡め種々の形
状を示す斜視図、第３図は従来の熱処理装置の側断面を
示す図である。 図において、１はハロゲンランプ、２は石英処理容器、
３はウエハー、４はウエハーホルダー、５は従来の反射
鏡、１１，１２，１３．１４は本考案にかかる反射鏡を
示している。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 赤外線および可視光を透過する材料からなる処理容器を
    挟んで、上下に高出力ランプと放物面反射鏡を組み合わ
    せた加熱体を有する熱処理装置において、前記放物面反
    射鏡に凹凸が設けられていることを特徴とする半導体用
    熱処理装置。
JP13239684U 1984-08-30 1984-08-30 半導体用熱処理装置 Pending JPS6146733U (ja)

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JP13239684U JPS6146733U (ja) 1984-08-30 1984-08-30 半導体用熱処理装置

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JPS6146733U true JPS6146733U (ja) 1986-03-28

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JP13239684U Pending JPS6146733U (ja) 1984-08-30 1984-08-30 半導体用熱処理装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013058627A (ja) * 2011-09-08 2013-03-28 Shin Etsu Handotai Co Ltd エピタキシャル成長装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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