JPS6453756U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の連続スパツタ装置の実施例を
示す断面図である。第２図は、本考案の連続スパ
ツタ装置で用いられる基板保持マスクを示す斜視
図である。第３図および第４図は、基板交換室の
動作を示す説明図である。 １１……真空槽、１３……回転軸、１５……回
転基板ホルダー、１７……プツシユ部材、１９…
…スパツタ電源、２１……スパツタ電極、２３…
…ターゲツト、２５……アースシールド、２７…
…ガス導入口、３１……基板保持マスク、３３…
…中央突起部、３５……外側保持マスク部、３７
……中央保持マスク部、３９……周壁部、４１…
…延出部、４３……支持杆、４５……下端面、５
１……基板、５３……透孔、５５……スパツタ帯
域、５７……スパツタ室、６１……基板交換帯域
、６３……交換室、６５……閉塞筒状体、６７…
…開放筒状体、７１……吸盤、７３……モータ、
７５……蓋体。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 基板移送ホルダーに複数の基板保持マスクを設
   け、 該基板保持マスク内に基板を配設し、該基板を
   基板交換帯域からスパツタ帯域へ移送してスパツ
   タ膜を形成し、この膜形成基板をさらに基板交換
   帯域へ移送して新たな基板と交換して連続的にス
   パツタ膜を形成する連続スパツタ装置において； 前記基板移送ホルダーとして、同心円方向に複
   数の基板保持マスクが設けられた回転基板ホルダ
   ーを用い、該回転基板ホルダーを立設すると共に
   、基板面を傾けて該基板が前記基板保持マスク内
   に載置されるように、該回転基板ホルダーを垂直
   方向に対して小さく傾けたことを特徴とする連続
   スパツタ装置。