JPS643171Y2 - - Google Patents

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JPS643171Y2
JPS643171Y2 JP13465883U JP13465883U JPS643171Y2 JP S643171 Y2 JPS643171 Y2 JP S643171Y2 JP 13465883 U JP13465883 U JP 13465883U JP 13465883 U JP13465883 U JP 13465883U JP S643171 Y2 JPS643171 Y2 JP S643171Y2
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JP
Japan
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cooling
sample
stage
heat
cryopump
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JP13465883U
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JPS6042256U (ja
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Publication of JPS643171Y2 publication Critical patent/JPS643171Y2/ja
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、冷却トラツプによつて試料汚染の原
因となるガス分子をトラツプするようにした電子
顕微鏡等における試料汚染防止装置の改良に関す
る。
斯かる試料汚染防止装置としては、試料を囲む
ように置かれた冷却トラツプを液体窒素等の冷媒
にて冷却するものが広く一般に使用されている。
しかし乍ら、斯様な構造では、鏡体外壁に固定
された冷却槽に冷媒を補給したりしなければなら
ないため、取り扱いが非常に面倒である。
そこで、近時前記冷却トラツプをクライオポン
プにて冷却することにより冷却槽を使用しないよ
うにした試料汚染防止装置が提案されている。
ところで、試料を囲むように置かれた冷却トラ
ツプは、非常に狭い対物レンズの上磁極片と下磁
極片との空間に置かれるため、熱輻射によるロス
がある。この熱輻射を防止するためには、冷却ト
ラツプの外周を更に冷却体で熱シールドする必要
があり、そのためには、熱シールド用の冷却体を
冷却槽で冷却する必要がある。
本考案は、斯様な点に鑑みて、冷却槽を使用す
ることなく熱シールド用の冷却体を冷却すること
のできる試料汚染防止装置を提供するもので、そ
の構成は、試料の近傍に冷却トラツプを置くこと
により試料の汚染を防止するようになした装置に
おいて、前記冷却トラツプを熱遮蔽するための熱
シールド部材を設け、前記冷却トラツプ及び熱シ
ールド部材を冷却するためのクライオポンプを設
け、該クライオポンプの一番低い温度の第2のス
テージを前記冷却トラツプに接続すると共に該ク
ライオポンプの第2のステージよりも高い温度の
第1のステージを前記熱シールド部材に接続した
ことを特徴とする。
以下、本考案の一実施例を図面に基づき詳説す
る。
第1図は、本考案の一実施例を示す構成略図
で、1は電子顕微鏡の鏡体である。該鏡体1内に
は、図示しないが電子銃室、照射系レンズ部、試
料室、結像レンズ部、観察室及びカメラ室が順次
設けられている。2は前記結像レンズ部の対物レ
ンズの上磁極片と下磁極片との間に置かれた試料
で、該試料は互いに熱絶縁された汚染防止用の冷
却トラツプ3と熱シールド用の冷却体4との二重
の冷却部材によつて囲まれている。前記冷却体4
は対物レンズ部に熱的に遮断された状態で取付け
てある。
5は前記排気管6を介して鏡体1内を排気する
ためのクライオポンプで、該ポンプは第2図に示
すようにケーシング7と、ピストンを収納し且つ
ヘリウムガスの膨脹室となるシリンダー8と、こ
のシリンダーの上方に取付けられた第1、第2の
ステージ9,10と、前記シリンダー8内へのヘ
リウムガスの出し入れを制御するためのモータを
含むバルブ制御機構部11とから構成されてい
る。その大まかな動作原理は、前記バルブ制御機
構部11を介して図示外のコンプレツサーから圧
縮されたヘリウムガスをシリンダー8内に導入し
て断熱膨脹させることによりヘリウムガスの温度
を極低温まで下げ、その極低温のヘリウムガスに
よりシリンダー8を介して第1、第2のステージ
9,10を冷却してガス分子を該ステージに凝縮
させ、それにより鏡体1内を高真空に保つもので
ある。
ここで、クライオポンプが定常状態において
は、第1、第2のステージ9,10は夫々80〓、
20〓程度に冷却される。前記低温のヘリウムガス
は、バルブ制御機構部11を介してシリンダー8
の外に排出され、コンプレツサーに回収される。
又、前記ケーシング7とバルブ制御機構11との
間には、ベローズ12が設けてあり、シリンダー
8内でピストンが移動する際に生ずる振動が鏡体
1に伝わるのを防止している。更に、前記バルブ
制御機構11の外壁には、環状の重り13が取付
けてある。これはケーシング7内が高真空に排気
されたとき、背圧によりシリンダー8及びバルブ
制御機構部11が上方に引張られてベローズ12
が圧縮されるのを防止するためである。
尚、図示しないがケーシング7とバルブ制御機
構部11との間には、バルブ制御機構部等が受け
る背圧と重りの荷重(実際にはシリンダー8及び
バルブ制御機構部の荷重も含む)とがつり合つて
いるときには外れ、又、背圧がなくなつたとき係
合する様なフツク状のひつかけ部材が設けてあ
る。
14は前記冷却トラツプ3を取付けた熱伝導棒
で、該熱伝導棒の一端は鏡体1側壁を貫通した状
態でベローズ15内を介して前記排気管6内に導
かれ、更に、その先端は銅線等の可撓性熱伝導部
材16を介して前記第2のステージ10の上端に
接続されている。これにより冷却トラツプ3の熱
は、熱伝導棒14及び熱伝導部材16を介して第
2のステージ10に吸収されるため、冷却トラツ
プは極低温に保たれる。その結果、試料2の近傍
のガス分子は、冷却トラツプにトラツプされるた
め、試料が汚染されるのを防止することができ
る。
一方、前記第1のステージ9には、第2のステ
ージ10及び熱伝導部材16を包囲した第1の熱
シールド筒17が取付けてあり、該熱シールド筒
の上端には、排気管6を通して鏡体1内に導入さ
れた熱伝導体18が固定してある。該熱伝導体1
8は、可撓性の熱伝導部材19を介して前記冷却
体4に接続されている。21も同じくベローズ1
5内の熱伝導棒14を熱シールドするための第2
のシールド筒で、可撓性の熱伝導部材22を介し
て前記第1のシールド筒17に接続されている。
これにより冷却体4及び第1、第2の熱シールド
筒17,21が第1のステージ9により冷却され
るため、これらの部材は前記冷却トラツプ3の温
度よりも少し高い極低温に保たれ、熱シールドの
役目を果す。その結果、冷却トラツプ3の熱輻射
を抑えることができると共に熱伝導棒14の熱輻
射をも抑えることができるため、冷却トラツプ3
を効率よく冷却(40〓程度)でき、試料近傍は清
浄且つ高真空が得られるので、試料汚染を極少と
なすことができる。
前記第2のシールド筒21は前記ベローズ15
の左側のフランジ部分に固定され、この第2のシ
ールド筒の中に熱絶縁物(図示せず)を介して前
記熱伝導棒14が熱的に遮断された状態で支持さ
れている。その結果、可撓性の熱伝導部材16に
伝達されたクライオポンプ5からの僅かの振動
は、ベローズ15により吸収されて、鏡体(試料
ステージ)に伝達されるのを防止することができ
る。又、熱伝導部材16に伝達された振動により
冷却トラツプ3が振動するが、このトラツプは、
試料2とは何等機械的に接続されていないため、
試料に振動が伝達されることはない。
尚、23は前記試料2を光軸と直交する方向か
ら挿入すると共に水平移動させるための試料装置
である。
以上の様に本考案においては、クライオポンプ
を使用するにあたり、一番温度の低い第2のステ
ージを冷却トラツプに接続すると共にこの第2の
ステージよりも僅かに高い温度に保たれる第1の
ステージを、冷却体及び熱伝導棒もしくは第2の
ステージの熱シールド筒に接続してあるため、従
来のように熱シールド用の冷却槽を必要としない
ので、取り扱いが容易になると共にコストの低下
を図ることができる効果を有し、利用価値は極め
て大である。
前述の説明では、透過電子顕微鏡に実施した場
合について述べたが、走査電子顕微鏡や電子線露
光装置等に実施できることは言うまでない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す構成略図、第
2図は本考案に使用されるクライオポンプの説明
図である。 1:鏡体、2:試料、3:冷却トラツプ、4:
冷却体、5:クライオポンプ、6:排気管、9:
第1のステージ、10:第2のステージ、14:
熱伝導棒、15:ベローズ、17:第1のシール
ド筒、21:第2のシールド筒。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 試料の近傍に冷却トラツプを置くことにより試
    料の汚染を防止するようになした装置において、
    前記冷却トラツプを熱遮蔽するための熱シールド
    部材を設け、前記冷却トラツプ及び熱シールド部
    材を冷却するためのクライオポンプを設け、該ク
    ライオポンプの一番低い温度の第2のステージを
    前記冷却トラツプに接続すると共に該クライオポ
    ンプの第2のステージよりも高い温度の第1のス
    テージを前記熱シールド部材に接続してなる電子
    顕微鏡等における試料冷却装置。
JP13465883U 1983-08-31 1983-08-31 電子顕微鏡等における試料汚染防止装置 Granted JPS6042256U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13465883U JPS6042256U (ja) 1983-08-31 1983-08-31 電子顕微鏡等における試料汚染防止装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13465883U JPS6042256U (ja) 1983-08-31 1983-08-31 電子顕微鏡等における試料汚染防止装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6042256U JPS6042256U (ja) 1985-03-25
JPS643171Y2 true JPS643171Y2 (ja) 1989-01-26

Family

ID=30303353

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13465883U Granted JPS6042256U (ja) 1983-08-31 1983-08-31 電子顕微鏡等における試料汚染防止装置

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10344492B4 (de) * 2003-09-24 2006-09-07 Carl Zeiss Nts Gmbh Teilchenstrahlgerät

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JPS6042256U (ja) 1985-03-25

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