JPS6245421Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6245421Y2 JPS6245421Y2 JP1981045789U JP4578981U JPS6245421Y2 JP S6245421 Y2 JPS6245421 Y2 JP S6245421Y2 JP 1981045789 U JP1981045789 U JP 1981045789U JP 4578981 U JP4578981 U JP 4578981U JP S6245421 Y2 JPS6245421 Y2 JP S6245421Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- cooling trap
- cryopump
- cylinder
- cooling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 26
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims description 12
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 6
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 6
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は冷却トラツプによつて試料汚染の原因
となるガス分子をトラツプするようにした電子顕
微鏡等における試料汚染防止装置に関する。
となるガス分子をトラツプするようにした電子顕
微鏡等における試料汚染防止装置に関する。
斯種装置の試料汚染防止装置としては試料に接
近して置かれた冷却トラツプを試料室外壁に固定
された液体窒素を満たした冷却槽により冷却する
構造が広く使用されている。
近して置かれた冷却トラツプを試料室外壁に固定
された液体窒素を満たした冷却槽により冷却する
構造が広く使用されている。
しかし乍ら、斯様に液体窒素により冷却トラツ
プを冷却する方式においては、液体窒素が消費さ
れるたびに補給しなければならないため取扱いが
非常に厄介であり、又冷却トラツプの温度も140
〜150C〓程度が限界であるためハイドローカー
ボン等のガス分子を完全にトラツプすることがで
きず、試料汚染を皆無とすることができない。
プを冷却する方式においては、液体窒素が消費さ
れるたびに補給しなければならないため取扱いが
非常に厄介であり、又冷却トラツプの温度も140
〜150C〓程度が限界であるためハイドローカー
ボン等のガス分子を完全にトラツプすることがで
きず、試料汚染を皆無とすることができない。
本考案は以上の点に鑑みなされたもので、試料
近傍に配置された冷却トラツプを、極低温(20〓
程度)に冷却することにより、試料近傍のガス分
子を完全にトラツプして試料の汚染防止を図つた
電子顕微鏡等の試料汚染防止装置を提供すること
を目的としている。
近傍に配置された冷却トラツプを、極低温(20〓
程度)に冷却することにより、試料近傍のガス分
子を完全にトラツプして試料の汚染防止を図つた
電子顕微鏡等の試料汚染防止装置を提供すること
を目的としている。
上記目的を達成するため本考案は、試料を収納
する試料室とクライオポンプを排気管によつて接
続すると共に、試料近傍に冷却トラツプを配置し
て試料の汚染を防止するようになした装置におい
て、前記冷却トラツプと前記クライオポンプの極
低温に保持されたシリンダー先端部とを前記排気
管内に配置された熱伝導部材で接続すると共に、
前記クライオポンプから前記冷却トラツプへ振動
が伝達されないように該熱伝導部材の一部はフレ
キシブルな部材で形成したことを特徴としてい
る。
する試料室とクライオポンプを排気管によつて接
続すると共に、試料近傍に冷却トラツプを配置し
て試料の汚染を防止するようになした装置におい
て、前記冷却トラツプと前記クライオポンプの極
低温に保持されたシリンダー先端部とを前記排気
管内に配置された熱伝導部材で接続すると共に、
前記クライオポンプから前記冷却トラツプへ振動
が伝達されないように該熱伝導部材の一部はフレ
キシブルな部材で形成したことを特徴としてい
る。
以下添付図面に基づき本考案の一実施例を詳述
する。
する。
第1図は本考案の一実施例を示す構成略図であ
り、1は透過型電子顕微鏡の鏡筒である。該鏡筒
1内には電子銃室2、集束レンズ部3、試料室
4、結像レンズ部5、観察室6及びカメラ室7が
順次設けられている。8は排気管9及び10を介
して例えば試料室4や電子銃室2等の高真空且つ
高清浄を必要とする室を排気するためのクライオ
ポンプであり、該ポンプは第2図に示す様にケー
シング11とピストンを収納し且つヘリウムガス
の膨脹室となるシリンダー12とこのシリンダー
の上方に取付けられた第1、第2のフイン13,
14と前記シリンダー12内へのヘリウムガスの
出し入れを制御するためのモータを含むバルブ制
御機構部15とから構成されている。その大まか
な動作原理は、前記バルブ制御機構部15を介し
て図示外のコンプレツサーから圧縮されたヘリウ
ムガスをシリンダー12内に導入して断熱膨脹さ
せることによりヘリウムガスの温度を極低温(10
〓程度)まで下げ、その極低温のヘリウムガスに
よりシリンダー12を介して第1、第2のフイン
13,14を極低温(10〓程度)に冷却してガス
分子を該フインに凝縮させ、それにより試料室4
や電子銃室2内を高真空に保つものである。又低
圧のヘリウムガスはバルブ制御機構部15を介し
てシリンダー12の外に排出され、コンプレツサ
ーに回収される。前記ケーシング11とバルブ制
御機構部15との間にはベローズ16が設けてあ
り、シリンダー12内でピストンが移動する際に
生ずる振動が鏡体1に伝わるのを防止している。
又前記バルブ制御機構部15の外壁には環状の重
り17が取付けてある。これはケーシング11内
が高真空に排気されたとき背圧によりシリンダー
12及びバルブ制御機構部15が上方に引張られ
てベローズが圧縮されるのを防止するためであ
る。尚図示しないがケーシング11とバルブ制御
機構部15との間にはバルブ制御機構部等が受け
る背圧と重りの荷重(実際にはシリンダー12及
びバルブ制御機構部の荷重も含む)とがつり合つ
ているときには外れ、又背圧がなくなつたとき係
合する様なフツク状のひつかけ部材が設けてあ
る。
り、1は透過型電子顕微鏡の鏡筒である。該鏡筒
1内には電子銃室2、集束レンズ部3、試料室
4、結像レンズ部5、観察室6及びカメラ室7が
順次設けられている。8は排気管9及び10を介
して例えば試料室4や電子銃室2等の高真空且つ
高清浄を必要とする室を排気するためのクライオ
ポンプであり、該ポンプは第2図に示す様にケー
シング11とピストンを収納し且つヘリウムガス
の膨脹室となるシリンダー12とこのシリンダー
の上方に取付けられた第1、第2のフイン13,
14と前記シリンダー12内へのヘリウムガスの
出し入れを制御するためのモータを含むバルブ制
御機構部15とから構成されている。その大まか
な動作原理は、前記バルブ制御機構部15を介し
て図示外のコンプレツサーから圧縮されたヘリウ
ムガスをシリンダー12内に導入して断熱膨脹さ
せることによりヘリウムガスの温度を極低温(10
〓程度)まで下げ、その極低温のヘリウムガスに
よりシリンダー12を介して第1、第2のフイン
13,14を極低温(10〓程度)に冷却してガス
分子を該フインに凝縮させ、それにより試料室4
や電子銃室2内を高真空に保つものである。又低
圧のヘリウムガスはバルブ制御機構部15を介し
てシリンダー12の外に排出され、コンプレツサ
ーに回収される。前記ケーシング11とバルブ制
御機構部15との間にはベローズ16が設けてあ
り、シリンダー12内でピストンが移動する際に
生ずる振動が鏡体1に伝わるのを防止している。
又前記バルブ制御機構部15の外壁には環状の重
り17が取付けてある。これはケーシング11内
が高真空に排気されたとき背圧によりシリンダー
12及びバルブ制御機構部15が上方に引張られ
てベローズが圧縮されるのを防止するためであ
る。尚図示しないがケーシング11とバルブ制御
機構部15との間にはバルブ制御機構部等が受け
る背圧と重りの荷重(実際にはシリンダー12及
びバルブ制御機構部の荷重も含む)とがつり合つ
ているときには外れ、又背圧がなくなつたとき係
合する様なフツク状のひつかけ部材が設けてあ
る。
18は前記試料室内におかれた試料で、該試料
は図示外の水平移動可能な試料ステージに保持さ
れている。19は該試料18に接近しておかれた
試料汚染防止用冷却トラツプで、前記試料室4等
の内壁に熱的に遮断された状態で固定された熱伝
導棒20の一端に取り付けられている。該熱伝導
棒20の他端は排気管9内に導入され、その先端
は銅線等をコイル状に巻いた熱伝導部材21を介
して極低温に保たれる前記シリンダー12の上端
(第2のフイン14が取り付けられる部分)に連
結されている。これにより冷却トラツプ19の熱
は熱伝導棒20及び熱伝導部材21を介してシリ
ンダー12に吸収されるため、冷却トラツプは超
低温(20〓程度)に保たれる。その結果試料近傍
のガス分子は冷却トラツプにトラツプされる為試
料が汚染されるのを防止することができる。又シ
リンダー12内でピストンが移動することにより
発生する振動はコイル状のフレキシブルな熱伝導
部材21に吸収されるため、冷却トラツプ19等
に伝達されることはない。
は図示外の水平移動可能な試料ステージに保持さ
れている。19は該試料18に接近しておかれた
試料汚染防止用冷却トラツプで、前記試料室4等
の内壁に熱的に遮断された状態で固定された熱伝
導棒20の一端に取り付けられている。該熱伝導
棒20の他端は排気管9内に導入され、その先端
は銅線等をコイル状に巻いた熱伝導部材21を介
して極低温に保たれる前記シリンダー12の上端
(第2のフイン14が取り付けられる部分)に連
結されている。これにより冷却トラツプ19の熱
は熱伝導棒20及び熱伝導部材21を介してシリ
ンダー12に吸収されるため、冷却トラツプは超
低温(20〓程度)に保たれる。その結果試料近傍
のガス分子は冷却トラツプにトラツプされる為試
料が汚染されるのを防止することができる。又シ
リンダー12内でピストンが移動することにより
発生する振動はコイル状のフレキシブルな熱伝導
部材21に吸収されるため、冷却トラツプ19等
に伝達されることはない。
以上詳述したように本考案によれば、冷却トラ
ツプの冷却にあたり、冷却トラツプと極低温に保
持されたクライオポンプのシリンダー先端部とを
排気管内に配置された熱伝導部材で接続すると共
に、該熱伝導部材の一部はフレキシブルな部材で
接続するようにしたため、クライオポンプから冷
却トラツプへ振動が伝達されることは無く、又、
シリンダー先端部と冷却トラツプは熱伝導部材で
接続されているにもかかわらず、冷却トラツプは
従来の液体窒素温度よりはるかに低い20〓程度の
極低温に保たれる。従つて、試料近傍のガス分子
を完全にトラツプして試料の汚染防止を図つた電
子顕微鏡等の試料汚染防止装置が提供される。
ツプの冷却にあたり、冷却トラツプと極低温に保
持されたクライオポンプのシリンダー先端部とを
排気管内に配置された熱伝導部材で接続すると共
に、該熱伝導部材の一部はフレキシブルな部材で
接続するようにしたため、クライオポンプから冷
却トラツプへ振動が伝達されることは無く、又、
シリンダー先端部と冷却トラツプは熱伝導部材で
接続されているにもかかわらず、冷却トラツプは
従来の液体窒素温度よりはるかに低い20〓程度の
極低温に保たれる。従つて、試料近傍のガス分子
を完全にトラツプして試料の汚染防止を図つた電
子顕微鏡等の試料汚染防止装置が提供される。
又、本考案を透過型電子顕微鏡に実施した場合
について述べたが、走査型電子顕微鏡や電子線露
光装置等にも同様に実施することができる。
について述べたが、走査型電子顕微鏡や電子線露
光装置等にも同様に実施することができる。
第1図は本考案の一実施例を示す構成略図、第
2図は本考案に使用されるクライオポンプの説明
図である。 1:鏡筒、2:電子銃室、3:集束レンズ部、
4:試料室、5:結像レンズ部、6:観察室、
7:カメラ室、8:クライオポンプ、9:10:
排気管、11:ケーシング、12:シリンダー、
13:第1のフイン、14:第2のフイン、1
5:バルブ制御機構部、16:ベローズ、17:
重り、18:試料、19:冷却トラツプ、20:
熱伝導棒、21:熱伝導部材。
2図は本考案に使用されるクライオポンプの説明
図である。 1:鏡筒、2:電子銃室、3:集束レンズ部、
4:試料室、5:結像レンズ部、6:観察室、
7:カメラ室、8:クライオポンプ、9:10:
排気管、11:ケーシング、12:シリンダー、
13:第1のフイン、14:第2のフイン、1
5:バルブ制御機構部、16:ベローズ、17:
重り、18:試料、19:冷却トラツプ、20:
熱伝導棒、21:熱伝導部材。
Claims (1)
- 試料を収納する試料室とクライオポンプを排気
管によつて接続すると共に、試料近傍に冷却トラ
ツプを配置して試料の汚染を防止するようになし
た装置において、前記冷却トラツプと前記クライ
オポンプの極低温に保持されたシリンダー先端部
とを前記排気管内に配置された熱伝導部材で接続
すると共に、前記クライオポンプから前記冷却ト
ラツプへ振動が伝達されないように該熱伝導部材
の一部はフレキシブルな部材で形成したことを特
徴とする電子顕微鏡等における試料汚染防止装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981045789U JPS6245421Y2 (ja) | 1981-03-31 | 1981-03-31 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981045789U JPS6245421Y2 (ja) | 1981-03-31 | 1981-03-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57158164U JPS57158164U (ja) | 1982-10-04 |
JPS6245421Y2 true JPS6245421Y2 (ja) | 1987-12-04 |
Family
ID=29842665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1981045789U Expired JPS6245421Y2 (ja) | 1981-03-31 | 1981-03-31 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6245421Y2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49744A (ja) * | 1972-04-20 | 1974-01-07 | ||
JPS5532297U (ja) * | 1978-08-24 | 1980-03-01 | ||
JPS55152942A (en) * | 1979-05-18 | 1980-11-28 | Fujitsu Ltd | Vibration-proof structure of vacuum apparatus |
-
1981
- 1981-03-31 JP JP1981045789U patent/JPS6245421Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49744A (ja) * | 1972-04-20 | 1974-01-07 | ||
JPS5532297U (ja) * | 1978-08-24 | 1980-03-01 | ||
JPS55152942A (en) * | 1979-05-18 | 1980-11-28 | Fujitsu Ltd | Vibration-proof structure of vacuum apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57158164U (ja) | 1982-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4679401A (en) | Temperature control of cryogenic systems | |
US4546613A (en) | Cryopump with rapid cooldown and increased pressure | |
US20100115971A1 (en) | Cryopump | |
US5156007A (en) | Cryopump with improved second stage passageway | |
CN110617650A (zh) | 低温冷却系统 | |
JP2001510523A (ja) | 改良型シールド付きクライオポンプ | |
JPS6245421Y2 (ja) | ||
EP2641038B1 (en) | Cooling apparatus and method | |
JP2668261B2 (ja) | 2段冷凍機クライオポンプを所定の気体に適合させる方法及びこの方法を実施するために適したクライオポンプ | |
EP0126909B1 (en) | Cryopump with rapid cooldown and increased pressure stability | |
JPS6338862A (ja) | ヒ−トパイプ付冷凍機 | |
JP2015111010A (ja) | 循環冷却システムの冷却源およびこれを用いたイオン顕微鏡 | |
JPH0610342B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
JPS643171Y2 (ja) | ||
JPS6119832B2 (ja) | ||
US5101635A (en) | Refrigeration system | |
US20040206239A1 (en) | Method for reducing gaseous contamination in a pressure vessel | |
CN108915991B (zh) | 一种带热桥的快速降温型低温泵 | |
JP2792004B2 (ja) | 冷凍機 | |
JPH05312423A (ja) | ダブルインレット型冷凍装置 | |
JPH0642459A (ja) | クライオポンプ | |
JPH11502597A (ja) | 冷凍機用のシール装置 | |
JPH04313649A (ja) | 冷凍装置 | |
RU2406044C2 (ru) | Способ криостатирования объекта и устройство для его осуществления | |
JPH0894197A (ja) | パルス管冷凍機 |