JPH0610342B2 - 真空蒸着装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、真空蒸着装置に係り、特に室温以下の温度に
おいて薄膜を形成するに好適な真空蒸着装置に関する。

〔従来の技術〕

従来の真空蒸着装置には、レビューオブ サイエンティ
ック インスツルメンツ、５６巻９号（１９８５年）第
１７９９頁から第１８０３頁（Review of Scienfic Ins
truments,Volume 56，No.９（1985）Ｐ Ｐ 1799〜180
3）において示されたものがある。また半導体等の基板
を真空中で冷却する装置が種々提案されている。（例え
ば実開昭５９−９１７３４号）。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記従来の技術では、基板を交換するためには、いった
ん真空環境を大気圧に戻して作業せざるを得ず、再度高
真空環境を作るには数字関以上を要し、作業能率が劣る
という問題があった。また真空容器内の装置主要部を大
気圧にさらす時、水分付着等がおこるのを避けるため、
基板温度が室温以下の場合、これを室温に回復させるた
めの時間も必要であった。また基板冷却の手段として液
体窒素や液体ヘリウムの寒剤を使用していたが、これら
の寒剤は魔法びんの如き断熱容器に入れて運搬し、また
寒剤の温度が−１９０℃以下であるため取扱いが煩雑に
なるという問題があった。

本発明の目的は、真空環境中で基板冷却手段を低温に保
持したままで、基板交換が可能な真空蒸着装置を提供す
ることである。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するため、本発明（第１発明）は、真空
容器と、該真空容器内部を真空にする手段と、前記真空
容器内に設けられ基板を一方の面に搭載するサセプタ
と、蒸着源又は分子線源とを備え、前記基板に薄膜を形
成する真空蒸着装置において、部屋の一部を構成する有
底中空の第１の部材と、熱伝導性の平板状の第２の部材
と、該第２の部材が前記第の部材の開口側に対向して配
置されかつ前記基板方向に移動可能に支持するととも
に、前記両部材間に部屋を形成する伸縮自在なシール手
段と、前記サセプタ前記第１の部材に着脱自在に保持す
る手段と、前記部屋に寒剤と伝熱媒体のいずれか一方を
供給する手段と、前記サセプタの他方の面と前記第２の
部材とを密着させるための前記第２の部材を移動させる
手段と、を設けたものである。また本発明（第２発明）
は、真空容器と、該真空容器内部を真空にする手段と、
前記真空容器内に設けられ、基板を一方の面に搭載する
サセプタと、蒸着源又は分子線源とを備え、前記基板に
薄膜を形成する真空蒸着装置において、部屋の一部を構
成する有底中空の第１の部材と、熱伝導性の平板状の第
２の部材と、該第２の部材が前記第１の部材の開口側に
対向して配置されかつ前記基板方向に移動可能に支持す
るとともに、前記両部材間に部屋を形成する伸縮自在な
シール手段と、前記サセプタを前記第１の部材に着脱自
在に保持する手段と、前記部屋に伝熱媒体を供給および
排出する手段と、前記第１の部材を小形冷凍機により冷
却する手段と、前記真空容器と仕切り弁を介して接続す
る予備真空室と、前記真空容器と前記予備真空室とを往
来して前記基板の着脱操作をするマニピュレータと、を
設けたものである。さらに本発明（第３発明）は、真空
容器と、該真空容器内部を真空にする手段と、前記真空
容器内に設けられ、基板を一方の面に搭載するサセプタ
と、蒸着源又は分子線源とを備え、前記基板に薄膜を形
成する真空蒸着装置において、部屋の一部を構成する有
底中空の第１の部材と、熱伝導性の平板状の第２の部材
と、該第２の部材が前記第１の部材の開口側に対向して
配置されかつ前記基板方向に移動可能に支持するととも
に、前記両部材間に部屋を形成する伸縮自在なシール手
段と、前記サセプタを前記第１の部材に着脱自在に保持
する手段と、前記部屋に寒剤と伝熱媒体のいずれか一方
を供給する手段と、前記サセプタの他方の面と前記第２
の部材とを密着させるための前記第２の部材を移動させ
る手段と、前記真空容器と仕切り弁を介して接続する予
備真空室と、前記真空容器と前記予備真空室とを往来し
て前記基板の着脱操作をするマニピュレータと、を設け
たものである。

〔作用〕

上述の構成によれば、基板装着のときは、予備真空室で
基板を固着したサセプタはマニピュレータによって正位
置に案内される。第１の部材、第２の部材およびシール
手段で形成された部屋を真空状態にしておき、サセプタ
を保持手段で第１の部材に装着した後、部屋に寒剤又は
伝熱媒体を供給すると、部屋は内圧を受けてシール手段
が伸びて第２の部材とサセプタとが密着し、第２の部材
とサセプタ間の接触熱抵抗が低下する。これにより基板
は寒剤によって冷却されるか、又は小形冷凍機によって
冷却された伝熱媒体により第１の部材と熱的につながり
冷却される。つぎに、基板をサセプタから離脱させると
きは、寒剤又は伝熱媒体を排出して部屋を真空にし、第
２の部材とサセプタ間の接触圧をなくすことによってサ
セプタを保持手段から容易にはずれるようにし、マニピ
ュレータによってサセプタを予備真空室に移送する。

〔実施例〕

以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて説明する。

第１図および第２図は本発明の第１実施例に係り、真空
容器１は、弁２を経由して真空排気系３に接続され、こ
れにより真空容器内部４は高真空に維持されている。真
空容器１には仕切り弁５が設けられており、該仕切り弁
５により真空容器内部４と予備真空室６とが区分されて
いる。予備真空室６には別の真空排気系７および基板導
入機構であるマニピュレータ８が設けてあり、大気中と
の後記基板３０との出し入れが可能である。

装置主要部９は、基板３０が一方の面に貼りつけられた
サセプタ１０を内蔵しており、基板３０には蒸着源又は
分子線源である蒸発源１１から蒸発する異なる物質が蒸
着され、その蒸着量はシャッター１２により制御されて
いる。また装置主要部９は、液体窒素などの寒剤１３を
貯蔵する有底中空の室（第１の部材）１４およびベロー
ズ（伸縮自在なシール手段）１５と、保持器１６と、平
板状の冷却ステージ（第２の部材）１７と、寒剤用のフ
レキシブル配管である供給配管１８および排出配管１９
と、室１４の回転機構２０および上下動機構２１と、か
らなっている。

なお、第１図において、２２は液体窒素等で冷却された
シュラウドで、真空維持の一役を担う。２３は寒剤を供
給する供給槽、２４は真空排気ポンプ、２５は流量計、
２６は圧力計、２７，２８，２９は弁である。

つぎに装置要部９を第２図によって詳述する。シリコン
やガリウムひ素、石英等からなる基板３０は、インジウ
ム、ガリウム、半田等で鋼、ステンレス鋼、セラミック
ス等で形成されたサセプタ１０に貼り付けられている。
サセプタ１０は外周部において保持器（保持手段）１６
により室１４に連結される。室１４の下部には、サセプ
タ１０と対接する冷却ステージ１７がベローズ１５を介
して気密に取り付けてある。室１４および冷却ステージ
１７を形成する材質としては、鋼、アルミニウム、しん
ちゅう、ステンレス鋼等が適している。寒剤１３の供給
配管１８下端は室１４の底部に達している。冷却ステー
ジ１７の室１４側の表面には、溝を設けて放熱面積を増
やしたり、溝のかわりに沸騰熱伝達を促進するような多
孔状表面を形成してもよい。排出配管１９からは寒剤１
３の蒸発したガスが外へ排出される。室１４の中心軸上
には軸３１が設けられており、該軸３１は外部より回転
又は上下動を加えるのに使用される。

つぎに、本発明の第１実施例の作用を第３図から第６図
をも参照にして説明する。

まず、予備真空室６に装着されたサセプタ１０は、マニ
ピュレータ８に例えばねじ機構で支持され、矢印Ａの方
に冷却ステージ１７の下部まで搬送される（第３図に破
線で示す）。この状態で回転機構２０および上下動機構
２１を操作して保持器１６のつめ上にサセプタ１０の外
周面を合致させて嵌め込み、第６図に示すようにサセプ
タ１０が落下しないようにする。この操作を行う間は、
室１４は排出配管１９より真空に排気しておく。冷却ス
テージ１７は、室１４の内外の圧力差がない場合、サセ
プタ１０と適当な間隙をもって配置されている。

サセプタ１０の設定が終ったら、マニピュレータ８をサ
セプタ１０から引き抜き、室１４に供給配管１８から寒
剤１３を導入する。すると室１４の内外に圧力差を生
じ、これによる力が冷却ステージ１７をサセプタ１０に
押し付ける（第４図）。基板３０を液体窒素温度近辺に
まで冷却する必要があるときは、寒剤１３を液体窒素と
するが、必要な温度領域によって、塩化炭素系冷媒、炭
化水素系液体、液体空気液体ネオン、液体水素、液体ヘ
リウムなどを選択することができる。

第４図に示す状態で基板３０に対する蒸着作業を終えた
後、基板３０を交換する場合は、室１４を真空排気して
マニピュレータ８をサセプタ１０にセットし、回転機構
２０と上下動機構２１によりサセプタ１０を保持器１６
からはずし、マニピュレータ８を予備真空室６に引き込
み弁５を閉じて予備真空室６を大気開放してサセプタ１
０を取り出し、基板３０を変換すればよい なお、基板３０に対する蒸着作業時に回転機構２０によ
り室１４を回転させることにより基板３０に対する蒸着
が均一に行われ、蒸着むらの発生を防ぐことができる。
またサセプタ１０着脱時に上下動機構２１により室１４
を上下動させることによりサセプタ１０の着脱が容易に
行われる。

このように第１実施例によれば、真空容器内部４は大気
にさらされることがないので、新しい基板を導入して一
時適に真空度が劣化しても短時間で高真空に回復する。

第７図は本発明の第２実施例に係り、第１実施例と異な
る点は、温度の異なる２種類の寒剤を使用し、高温側の
寒剤３５を低温側の寒剤１３の熱損失低減に用いた点で
ある。すなわち、基板１０を液体ヘリウム温度（−２６
９℃）付近にまで冷却する場合、寒剤１３として液体ヘ
リウムを使うが、液体ヘリウムは極めて気化し易いた
め、液体窒素等の寒剤３５で周囲をシールドし、輻射や
熱伝導による熱損失を少なくする必要がある。第７図に
おいては、液体ヘリウムを寒剤１３として、室１４の上
部に寒剤３５を貯える容器３６を設け、その下部には銅
やアルミニウム正のシールド板３７を容器３６に熱的に
接続している。寒剤１３のための配管１８，１９は、容
器３６の貫通孔３８，３９に非接触の状態で挿入され、
スペーサ４０，４１の部分で容器３６と配管１８，１９
が熱的に接続している。

なお、４２および４３は、寒剤３５のための供給配管お
よび排出配管である。またサセプタ１０と冷却ステージ
１７の互いに接触する面に金メッキをすると、接触面の
酸化を防ぎ、かつ接触熱抵抗を小さくすることができ
る。

このような構成とすることにより、寒剤１３への周囲か
らの熱侵入は、その大部分を寒剤３５で吸収し、寒剤１
３の熱損失を最小限にとどめることができる。

第８図は本発明の第３実施例に係り、第１実施例と特に
異なる点は、室１４が伝熱ブロック４４と一体化されて
いて、該伝熱ブロック４４とベローズ１５と冷却ステー
ジ１７とにより別の室４５が形成され、該室４５には細
管４６を通して寒剤１３と同一又は別種の伝熱媒体を出
し入れできるようにした点である。この伝熱媒体として
は、熱伝導率の高いヘリウムガスなどがよい。

このような構成にすることにより、サセプタ１０の着脱
の際に、その都度寒剤１３を出し入れしなくても、室４
５内に伝熱媒体を封入したり、室４５内の真空排気した
りする操作だけでよい。

第９図および第１０図は、本発明の第４実施例に係り、
第１実施例に示すものと同一の構成要素には同一の符号
して説明する。装置主要部９は、窒素、水素、ヘリウム
などの伝熱媒体１３を貯蔵する室（第１の部材）１４
と、ベローズ１５と、保持器１６と、伝熱媒体の配管５
０と、小形冷凍機のコールドヘッド５１と、モータ５２
と、圧縮機５３と、モータ５２、圧縮機５３とを結ぶフ
レキシブル配管５４と、からなっている。

なお、第９図において、５５は装置主要部９の周辺を含
む系、５６は伝熱媒体１３を供給するガス容器、５７は
安全弁である。

装置主要部９において、室１４には電気的に絶縁された
ヒータ（熱を供給する手段）５９が冷却ステージ１７上
面に装着されている。室１４の上部には、小形冷凍機の
コールドヘッド５１がインジウム、半田付け等の熱的接
続手段によって固定されており、室１４の上部内壁には
フィン６０が設けられている。その他の構成は第１実施
例に示すものと同一である。

なお、小形冷凍機としては、スターリングサイクル、ギ
ホードマクマホンサイクル、ソルベーサイクル、ヴィル
マイアーサイクル、クロードサイクルなどのヘリウム冷
凍機サイクル、又は塩化炭素系冷媒を用いたサイクルな
どがあり、コールドヘッド５１で寒冷を発生する。

つぎに、本発明の第４実施例の作用を説明する。基板３
０を液体窒素温度近辺にまで冷却する必要があるとき
は、小形冷凍基を起動し、伝熱媒体１３を窒素とし、容
器５６より窒素ガスを一定量だけ供給してから弁２８，
２９を封ずる。この間、窒素ガスはフィン６０の温度が
その圧力の飽和温度よりも低ければ凝縮して液体窒素６
１となって溜まる。冷却ステージ１７に入熱があると、
液体窒素６１は蒸発するが、フィン６０で再凝縮してコ
ールドヘッド５１の寒冷発生量と入熱量とで決まる平衡
状態に落ちつく。そしてヒータ５９を使って平衡点を変
えれば、基板温度を変えることができる。例えば、窒素
の場合、最大許容圧力を２０atmとすれば、１１６Ｋ〜
６４Ｋ間の飽和温度を得ることができる。温度領域はガ
スの種類を変えて選択できる。

その他の作用は第１実施例に示すものと実質的に同一で
あるので、その説明は省略する。

第１１図は本発明の第５実施例に係り、第４実施例と異
なる点は、第１０図に示す室１４に対応する熱伝導性の
ブロック（第１の部材）６２が、連結部６３でコールド
ヘド５１と熱的に接続されていて、ブロック６２と冷却
ステージ１７とベローズ１５とにより形成される部屋６
５中には、使用する温度領域で凝固することのない伝熱
媒体１３を細管６８より導入し、くし歯状にかみ合った
ブロック６２と冷却ステージ１７が狭い間隙６９により
熱的につながれている点である。なお、７０はストッパ
ーで、誤操作によりサセプタ１０がセットされない状態
で室６５に圧力がかけられベローズ１５が伸びきって破
損するのを防ぐものである。このストッパ機構はいずれ
の実施例にも付けるのが望ましい。

この場合、ブロック６２と冷却ステージ１７は熱伝導率
の良い材料、例えば鋼などが好ましく、連結部６３は中
程度の熱伝導性を有するステンレス鋼やしんちゅうが良
い。また間隙６９の大きさは約１０μｍ〜１００μｍと
し、導入するガス６６は熱伝導性の良いヘリウムが好ま
しい。

このような構成にすることにより、基板３０を冷却する
ときはヒータ５９を切り、連結部６３およびブロック６
２中の熱伝導、並びに間隙６９での伝熱媒体１３の熱伝
導により、冷却ステージ１７を冷却する。この場合、ブ
ロック６２と冷却ステージ１７とがくし歯状にかみ合っ
ているので、熱伝達面積が増大し、冷却性能が向上す
る。基板３０を加熱するときは、連結部６３が熱抵抗と
なってコールドヘッド５１とブロック６２間の温度差を
つける。サセプタ１０を着脱するときは、伝熱媒体１３
をポンプで排出してベローズ１５の復元力により冷却ス
テージ１７をサセプタ１０から離せばよい。

第１２図〜第１６図は本発明の第６〜第１０実施例に係
り、いずれも第９図に示す系５５の別実施例を示し、そ
の特徴は、小形冷凍機と基板冷却部とが直結されていな
いことである。

第１２図は本発明の第６実施例に係り、第９図および第
１０図に対応する系５５とを示している。サセプタ１０
と連結した室１４の上部には、操作棒７２が取り付けら
れ、回転機構２０および上下動機構２１を介して真空容
器１に固定されている。小形冷凍機のコールドヘッド５
１は、室１４とやや離れた位置に設置され、コールドヘ
ッド５１の先端に取り付けられた凝縮器７３と室１４と
はフレキシブル配管７５で接続されている。この場合、
凝縮器７３で液化した伝熱媒体を重力により室１４に導
くため、凝縮器７３は室１４より高い位置に設置されて
いる。フレキシブル配管７５は、蒸気と凝縮液との流れ
を円滑にするため、往復二重管にしてもよい。またシュ
ラウド２２はコールドヘッド５１に接続されている。

第１３図は本発明の第７実施例に係り、第１１図に示す
系５５の別実施例を示している。ブロック６２に操作棒
７２および伝熱体７６が取り付けてあり、コールドヘッ
ド５１は２段になっていて、高温側５１ａがシュラウド
２２に、低温側５１ｂが伝熱体７６に接続されている。
小形冷凍機は、高温側５１ａを−２６０℃付近に、また
低温側５１ｂを−２００℃以下に冷却することができ
る。伝熱体７６は編組線や鋼線のような熱伝導率が大き
く、かつ可撓性のある金属体である。このような構成に
よれば、小形冷凍機の運転を制御したり、又はコールド
ヘッド５１にヒータを装着させて基板３０の温度を０℃
〜−２６０℃間の任意の値に設定することが可能であ
る。

第１４図は本発明の第８実施例に係り、第１３図に示し
た伝熱体７６のかわりに、コールドヘッド５１とブロッ
ク６２とを結ぶ配管７８とファン７９を用いたものであ
る。配管７８は、一部にらせん管部８０を設け、これに
より配管７８に可撓性を持たせている。また、配管７８
内には、不凝縮性のガス、例えばヘリウムを入してあ
り、ファン７９の動作によりコールドヘッド５１の寒冷
をブロック６２に伝えることができる。

このような構成によれば、ファン７９を停止してブロッ
ク６２にヒータ５９に付設し、室温以上までサセプタ１
０の温度を上昇させることができる。また配管７８を断
熱して延長すれば、小形冷凍機やファン７９を真空容器
１の外に置くことができる。

第１５図は本発明の第９実施例に係り、第１４図に示す
ものの別実施例のシステム図である。基板冷却部８１お
よびシュラウド２２を同一寒冷源で冷却するもので、フ
ァン７９から供給された主ループ８２中の伝熱媒体は、
小形冷凍機８３２で再液化された寒剤８５の貯槽８６中
で熱交換し、弁８８，８９により分配される。９０およ
び９１は、伝熱媒体供給のための弁および安全弁であ
る。

９２は寒剤の初期供給ならびに不足時の補充用弁であ
る。

このような構成によれば、小形冷凍機８３のコールドヘ
ッドは、貯槽８６内に挿入されており修理、保守のとき
は、引き抜くだけでよい。

第１６図は本発明の第１０実施例に係り、第１５図に示
すものの別実施例のシステム図で、断熱配管の利用によ
り、基板冷却部８１およびシュラウド２２を含む真空容
器１の外部にファン７９および貯槽８６を設置したもの
に相当する。シュラウド２２は第１のループ９３および
第１のファン９５により、また基板冷却部８１は第２の
ループ９６および第２のファン９８により、それぞれ小
形冷凍機８３のコールドヘッド部である第１ステージ９
９および第２ステージ１００から寒冷の供給を受ける。
なお小形冷凍機８３のコールドヘッド部９９，１００お
よびファン９５，９８の一部とループ９３，９６は、い
ずれも真空容器１と別系の真空容器１０１内に収めら
れ、断熱されている。

なお、小形冷凍機８３の第１ステージ９９および第２ス
テージ１００の温度を変える方法として、圧縮機の回転
数をインバータ多を用いて変える方法、コールドヘッド
に供給するガス量を圧縮機のバイパス弁により調整して
変える方法、コールドヘッドにヒータを設けて温度調節
する方法がある。

〔発明の効果〕

上述のとおり、本発明によれば、高真空環境下で基板を
冷却し、着脱することが可能となり、真空蒸着のための
作業能率が大幅に向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明の第１実施例に係り、第１
図は真空蒸着装置のシステム図、第２図は装置主要部の
縦断面図、第３図から第６図は基板導入機構の動作説明
図、第７図は本発明の第２実施例に係る装置主要部の縦
断面図、第８図は本発明の第２実施例に係る装置主要部
の縦断面図、第９図および第１０図は本発明の第４実施
例に係り、第９図は真空蒸着装置のシステム図、第１０
図は装置主要部の縦断面図、第１１図は本発明の第５実
施例に係る装置主要部の縦断面図、第１２図は本発明の
第６実施例に係る装置主要部の概略縦断面図、第１３図
は本発明の第７実施例に係る装置主要部の概略縦断面
図、第１４図は本発明の第８実施例に係る装置主要部の
概略縦断面図、第１５図は本発明の第９実施例に係る真
空蒸着装置のシステム図、第１６図は本発明の第１０実
施例に係る真空蒸着装置のシステム図である。 １……真空容器、 ４……真空容器内部、 ５……仕切り弁、 ６……予備真空室、 ８……マニピュレータ、 １０……サセプタ、 １１……蒸着源又は分子線源である蒸発源、 １３……寒剤、 １４……第１の部材である室、 １５……シール手段であるベローズ、 １６……保持手段である保持器、 １７……第２の部材である冷却ステージ、 ３０……基板、 ５９……ヒータ、 ８３……小形冷凍機。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 直行 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社日 立製作所機械研究所内 (72)発明者 佐保 典英 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社日 立製作所機械研究所内 (72)発明者 金井 謙雄 山口県下松市東豊井794番地 株式会社日 立製作所笠戸工場内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】真空容器と、該真空容器内部を真空にする
   手段と、前記真空容器内に設けられ、基板を一方の面に
   搭載するサセプタと、蒸着源又は分子線源とを備え、前
   記基板に薄膜を形成する真空蒸着装置において、部屋の
   一部を構成する有底中空の第１の部材と、熱伝導性の平
   板状の第２の部材と、該第２の部材が前記第１の部材の
   開口側に対向して配置されかつ前記基板方向に移動可能
   に支持するとともに、前記両部材間に部屋を形成する伸
   縮自在にシール手段と、前記サセプタを前記第１の部材
   に着脱自在に保持する手段と、前記部屋に寒剤と伝熱媒
   体のいずれか一方を供給する手段と、前記サセプタの他
   方の面と前記第２の部材とを密着させるための前記第２
   の部材を移動させる手段と、を設けた真空蒸着装置。
2. 【請求項２】真空容器と、該真空容器内部を真空にする
   手段と、前記真空容器内に設けられ、基板を一方の面に
   搭載するサセプタと、蒸着源又は分子線源とを備え、前
   記基板に薄膜を形成する真空蒸着装置において、部屋の
   一部を構成する有底中空の第１の部材と、熱伝導性の平
   板状の第２の部材と、該第２の部材が前記第１の部材の
   開口側に対向して配置されかつ前記基板方向に移動可能
   に支持するとともに、前記両部材間に部屋を形成する伸
   縮自在なシールする手段と、前記サセプタを前記第１の
   部材に着脱自在に保持する手段と、前記部屋に伝熱媒体
   を供給および排出する手段と、前記第１の部材を小形冷
   凍機により冷却する手段と、前記真空容器と仕切弁を介
   して接続する予備真空室と、前記真空容器と前記予備真
   空室とを往来して前記基板の着脱操作をするマニピュレ
   ータと、を設けた真空蒸着装置。
3. 【請求項３】真空容器と、該真空容器内部を真空にする
   手段と、前記真空容器内に設けられ、基板を一方の面に
   搭載するサセプタと、蒸着源又は分子線源とを備え、前
   記基板に薄膜を形成する真空蒸着装置において、部屋の
   一部を構成する有底中空の第１の部材と、熱伝導性の平
   板状の第２の部材と、該第２の部材が前記第１の部材の
   開口側に対向して配置されかつ前記基板方向に移動可能
   に支持するとともに、前記両部材間に部屋を形成する伸
   縮自在なシールする手段と、前記サセプタを前記第１の
   部材に着脱自在に保持する手段と、前記部屋に寒剤と伝
   熱媒体のいずれか一方を供給する手段と、前記サセプタ
   の他方の面と前記第２の部材とを密着させるための前記
   第２の部材を移動させる手段と、前記真空容器と仕切り
   弁を介して接続する予備真空室と、前記真空容器と前記
   予備真空室とを往来して前記基板の着脱操作をするマニ
   ピュレータと、を設けた真空蒸着装置。
4. 【請求項４】前記第２の部材に前記基板の温度を調節す
   るヒータを装着した特許請求の範囲第１項乃至第３項の
   いずれか一つの項記載の真空蒸着装置。