JPS6418731U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6418731U JPS6418731U JP4311087U JP4311087U JPS6418731U JP S6418731 U JPS6418731 U JP S6418731U JP 4311087 U JP4311087 U JP 4311087U JP 4311087 U JP4311087 U JP 4311087U JP S6418731 U JPS6418731 U JP S6418731U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor wafer
- cleaning position
- chuck
- rotates
- rotating brush
- Prior art date
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- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
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- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
Description
第１図はこの考案の一実施例の半導体製造装置
の概略構成図、第２は洗浄補助具の斜視図である
。第３図は従来の半導体製造装置の概略構成図で
ある。 １……チヤツク、２……半導体ウエーハ、３…
…回転ブラシ、６……洗浄ポジシヨン、１１……
洗浄補助具。
の概略構成図、第２は洗浄補助具の斜視図である
。第３図は従来の半導体製造装置の概略構成図で
ある。 １……チヤツク、２……半導体ウエーハ、３…
…回転ブラシ、６……洗浄ポジシヨン、１１……
洗浄補助具。
補正 昭６３．９．２
図面の簡単な説明を次のように補正する。
明細書第６頁第７行の「第２は」を、「第２図
は」に訂正する。
は」に訂正する。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 半導体ウエーハを吸着して回転させるチヤツク
と、前記半導体ウエーハ上で回転して半導体ウエ
ーハを清浄化するとともにチヤツクへの半導体ウ
エーハの着脱時に洗浄ポジシヨンで洗浄される回
転ブラシと、前記洗浄ポジシヨンで回転ブラシに
純水を供給する手段とを備えた半導体製造装置に
おいて、 前記洗浄ポジシヨンに剣山状の洗浄補助具を配
置したことを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987043110U JPH069491Y2 (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | 半導体ウェーハ用ブラシスクラブ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987043110U JPH069491Y2 (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | 半導体ウェーハ用ブラシスクラブ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6418731U true JPS6418731U (ja) | 1989-01-30 |
| JPH069491Y2 JPH069491Y2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=31269511
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987043110U Expired - Lifetime JPH069491Y2 (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | 半導体ウェーハ用ブラシスクラブ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069491Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0352230A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-06 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6076034U (ja) * | 1983-10-27 | 1985-05-28 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置，部品表面などの拭き取り装置 |
| JPS61203545U (ja) * | 1985-06-11 | 1986-12-22 |
-
1987
- 1987-03-24 JP JP1987043110U patent/JPH069491Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6076034U (ja) * | 1983-10-27 | 1985-05-28 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置，部品表面などの拭き取り装置 |
| JPS61203545U (ja) * | 1985-06-11 | 1986-12-22 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0352230A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-06 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH069491Y2 (ja) | 1994-03-09 |