JPS6391128A - ＣＣｌ↓４含有廃ガスの分解処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

〈産業上の利用分野〉 本発明は、ＣＣρ、を含有する廃ガスの処理方法に関し
、 （１）低濃度のＣＣｌ４含有廃ガスであっても安全な許
容限界以下にｃｃｐ、を効率良く確実に処理できるとと
もに、 （２）　　ＣＣｌ２．を処理の容易な他の物質に分解し
て、簡易、迅速に廃ガスを処理でとる ものを提供する。 〈従来技術及びその問題点〉 現在、ハロゲン系ガスはドライエツチング、ドーピング
等の半導体用を初めとして、光ファイバー、エキシマレ
ーザ−等にも拡く使用されている。 しかしなが呟このハロゲン系ガスは毒性が強いので、使
用後には不活性ガスやガス状フッ化物で希釈したうえで
、中に含まれる有毒ガスが安全な低濃度になるように当
該ハロゲン県境ガスを処理する必要がある。 しかしながら、ハロゲン系ガスの中でも、Ｃｌ２、ＨＣ
ｌ、ＢＣｌ３、ＳｉＣｌ４、ＳｉＨ２Ｃｌ２、ＢＣρ３
、ＳｉＣｌ２等が比較的容易にアルカリ水溶液に反応す
るのに対し、特に、ＣＣｌ４は安定であって当該アルカ
リ水溶液にも反応しないので、ＣＣρ、を含む廃ガスの
湿式処理方法としては有効なものがないのが実情である
。 一方、乾式処理方法としては、粉末状の活性炭を充填し
た処理装置にＣＣｌ４含有廃ガスを常温で通して、ｃｃ
ｐ、を活性炭で吸着することが行なわれている。 しかし、上記吸着処理においては、脱着反応が吸着反応
と平衡関係にあるので、平衡が脱着反応の方に傾けばＣ
Ｃρ、を許容限界以下（ＡＣＧ　Ｉ　ＨのＴＬＶによる
自主基準では５ｐ囲以下）に処理するという所期の目的
に反する場合が出て来るうえ、吸着反応においては本来
的に、−旦吸着したｃｃｐ、が再び脱着する虞れがある
。 また、処理が長期に亘り、吸着量が増えて来ると、吸着
速度が減少し、低濃度に希釈されたＣＣＱ、に対する吸
着能力が低下して来る虞れもある。 本発明は、活性炭による吸着処理方法とは異なる別途の
処理方法を提供し、ＣＣｌ４を別の物質に化学変化させ
て根本的に排除することを技術的課題とする。 〈問題点を解決するための手段〉 本発明者等は、 （１）ＣＣρ、は上述のように安定で、酸、塩基、濃硫
酸には作用されないが、鉄又はアルミニウムを触媒とし
て加水分解されることを出発点として、種々検討の結果
、 （２）酸化アルミニウムと水を反応物としてＣＣρ、に
作用させると加水分解反応を起こし、ＣＣｌ２４はＨＣ
ｌ、ＣＯ２及びＡρＣρ３に分解されてしまうことを新
たに見い出し、この発見に基づいて本発明を完成した。 即ち、本発明は、ＣＣｌ４含有廃ガスを処理剤を収容し
た処理装置に通してＣＣｌ４の濃度を低減するＣＣＱ４
含有廃ガスの処理方法において、酸化アルミニウム及び
水を処理剤として、ＣＣｌ４を含有する廃ガスを３３０
℃以上で、且つ、水分の存在下に酸化アルミニウムに接
触させて、ＣＣｌ４を加水分解することを特徴とするも
のである。 ＣＣｌ４含有廃がスは、曹達のように、半導体工場等か
ら出るｃｃｐ、ガスをＮ２、Ｃｏ２、Ｈｅ、Ａｒ５Ｎｅ
等の不活性ガス或いは、ＣＦ、、０２Ｆ６、Ｓ　Ｆ　６
等の不活性なガス状フッ化物で希釈したものである。 当該廃ガスは、ＣＣρ、を単独で含有する場合だけでな
く、Ｃｌ２、ＨＣｌ、ＢＣｌ３、ＳｉＣｌ４、ＳｉＨ２
Ｃｌ２、ＢＣ４３，５ｉＣＱ４、３　ｉ　８２　Ｃｌ２
、ＨＣｌ、ＢＣｌ３、ＳｉＣｌ４、ＳｉＨ２Ｃｌ２等の
塩素系有毒ガス及びＦ２、ＨＦ、ＢＦ２、ＳｉＦ、、Ｇ
ｅＦ、、ＭｏＦ６、ＷＦ６等のフッ素系有毒ガスの少な
くとも一種を併存する場合をも含む。 酸化アルミニウムは、工業的にはα型、γ型アルミナで
あって、か粒状、粉末状を問わない。また、結晶水を有
する水利酸化アルミニウムが好ましいが、結晶水を持た
ないものであっても差し支えない。この場合には、別途
処理剤として水分を補填する必要がある。 分解処理操作としては、廃ガスを加熱して処理装置に通
しても、また、処理装置に加熱器をセットして所定温度
に加熱するようにしても良い。 尚、処理温度が３３０℃より低いと分解除去効率が低下
し、ＣＣｌ４を許容濃度以下に処理できなくなる。 〈作　用〉 廃ガス中に含有されるＣＣｌ４は加水分解されて処理の
容易なＨＣｌ、ＣＯ２、ＡρＣρ３に化学変化される。 しかも、上記加水分解反応は化学量論的に進行するので
、希釈されて低濃度になっているＣＣＱ、でも確実に反
応して分解されてしまう。 〈発明の効果〉 （１）本発明では、廃ガス中のＣＣｌ２は化学量論的に
分解されるので、低濃度に希釈されたＣＣρ４含有廃ガ
スでも、反応物である酸化アルミニウムと水が処理装置
内に存在する限り、有効に加水分解反応を継続して、確
実にＣＣρ、を許容濃度以下に低減できる。 また、ＣＣｌ２を処理の容易な他の物質に分解してしま
うので、吸着反応のようにＣＣＱ、が再び脱着して来る
という虞れは全くなく、ＣＣｌ２４を根本的に排除でき
る。 （２）酸化アルミニウムと水でＣＣρ、を加水分解する
だけなので、吸着反応のように、吸着・脱着の操作を必
要とせず簡便な処理がでおる。 特に、水和酸化アルミニウムを処理剤にすれば、水を別
途補填する必要がなく、乾式処理によって簡便、迅速に
ＣＣｌ２を分解除去できる。 また、か粒状の酸化アルミニウムを用いれば、廃ガスを
処理装置に供給する際の圧力損失が低減で外、粉末状活
性炭を用いるために圧力損失の大きい吸着法に比べて有
利である。 （３）他のハロゲン系ガスとは反応しないので、ＣＣρ
、の選択除去に利用で慇る。 また、本発明の処理剤の少なくとも下流側に、所定処理
を施したソーダ石灰層を配置すれば、ＣＣρ、以外のハ
ロゲン系ガス、例えば、Ｃｌ２、ＨＣｌ、ＢＣｌ３、Ｓ
ｉＣｌ４、ＳｉＨ２Ｃｌ２、ＢＣρ３．５ｉＣＱ４、Ｆ
２、ＨＦ％ＢＦ３等を廃ガス中に併存する場合でも、こ
れらを完全に除去でき、ドライエツチング等の一般のハ
ロゲン系廃〃スの処理を確実に達成できる。 〈実　施　例〉 以下、実験装置を用いて、 （１）原料ＣＣρ４ガス（ＣＣρ、ガスを不活性ガスで
希釈したもの）を処理剤に接触させ、処理装置内に生じ
た生成物を確認するとともに、（２）原料ｃｃｐ４ガス
を処理剤に接触させる際の温度、ガス流速、酸化アルミ
ニウムの粒径、ＣＣｌ２の希釈濃度、原料ＣＣρ４ガス
の種類（ＣＣρ、以外のハロゲン系ガスの併存の有、無
）を各々変化させた場合の除去効率を順次実験した。 実験装置は、反応筒１、ＣＣρ、供給源２、ＣＣρ、気
化器３、希釈ガス供給源４、原料ガス供給ライン５、ガ
ス濃度検知ライン６及び反応筒加熱器７から成る（第８
図のうちＢブロックを除いた系統を示す）。 反応筒１は長さ５００帥、内径５３ｍｍの円筒体であり
、処理剤充填部の容積を６６１．９ｃｍ３、その断面積
を２２．１ｃｍ２に設定し、当該充填部にか粒状の水和
アルミナ８を充填し、その両端にフィルター１０を各々
固定した垂直固定床式反応器である。 ＣＣρ、供給源２の下方にマントルヒータを組み込んだ
ＣＣρ４気化器３を配置するとともに、ＣＣρ、気化器
３の上流側に希釈ガス供給源４を可変流量弁、流量計を
介して接続し、その下流側から原料ガス供給ライン５を
導出して反応筒１の入口１ａに接続する。 ＣＣρ、は常温で液体であるため（沸点７６．８℃）、
ＣＣρ、供給源２に収容した液状ＣＣρ４をニードル弁
１２で調整のうえＣＣρ、気化器３に微量づつ滴下して
気化させ、これを希釈ガス供給源４から送られたＮ２ガ
スで希釈して原料ＣＣρ４ガスとし、原料ガス供給ライ
ン５から反応筒１に供給する。 また、反応筒１の出口１ｂからガス濃度検知ライン６を
導出し、ガス吸着による色彩変化で濃度を検知する市販
の吸引式ガス検知器１４をこれに接続して、出口１ｂか
ら排出されるガスの濃度を測定する。 尚、符号７は反応筒１に付設された加熱器で、反応筒１
の温度１よ処理剤充填部に挿し入れたＣＡ熱電対１５で
測定する。

【実験例１】 粒径２〜４ｍｍのか粒状水和アルミナを反応筒１に充填
し、ガス濃度検知ライン６に市販のＨＣρガス検知器を
接続したのち、反応筒温度を３時間に亘り６６℃、２１
１℃、３０４℃，３３０℃、３５１℃に順次上昇させな
がら、希釈濃度７．２％の原料ｃ　ｃρ、ガスを５３９
ｍρ／ｍ　ｉ　ｎの速度で反応筒に供給して、反応筒出
口でのＨＣρ濃度を、３０秒間隔で打点するレコーダー
を用いて測定した。 第７図はその結果を示すＨＣρ〃ス濃度の記録図であっ
て、ＨＣρガスの濃度は３３０℃付近か・　ら上昇し、
３５１℃を越えると急速に高まることが判る。 これは、３３０℃付近からＣＣρイが化学変化してＨＣ
ｐに分解されてしまうことを示している。 尚、３００℃以下の時点でもＨＣｐを微量（ｉｐｐｍ以
下）検出するのは、ガスラインに残存して内壁に付着し
ていたＨＣｐが加熱によってパージされるためと考えら
れる。 因みに、この実験に際して、反応筒１の出口付近及びこ
れに続く下流側配管部分には若干黄味を帯びた白色粉末
状の付着物が認められた。 この粉末の付着した配管をアセトン及び水の混合液で洗
浄したところ、付着物は多量の熱を発して溶けた。 また、この付着物は空気中で発煙した。 一方、ＡジＣβ３は、（１）潮解性が強く空気中の湿気
に合うと発煙する、（２）水に溶けるときに発熱すると
いう性状を示すことか呟上記付着物はＡｌＣｌ２である
と推定できる。 しかも、上記実験結果では、反応筒出口だけでなく、そ
の下流側の配管内にも付着物が認められたが、これはＡ
ｐＣρ、の昇華点が１８３℃で、例えば、３０４℃以上
に保たれた反応筒では１２ｃρ３は昇華してしまうのに
対し、下流側の配管では冷やされて凝固するためと考え
られる。 他方、ＨＣρガス検知器に代えてＣｏ２ｘス検知器をガ
ス濃度検知ライン６に接続したところ、Ｃ０２の排出を
確認できた。 また、ＣＣρ４〃ス検知器を接続したところ、３３０℃
以上ではＣＣρイを検出しなかった。 以上のことから上記実験結果を総合すると、ＣＣρ、原
料ガスを水和アルミナの充填された反応筒に通せば、反
応筒の下流側に１２ｃＮ３、１ｌ− ＨＣｐ及びＣｏ２が生成し、ＣＣρ、は排除されてしま
うことが判る。 このことは、ＣＣρ、を水和アルミナに接触させれば、
前述した従来技術の吸着反応のように水利アルミナにＣ
Ｃρ、が吸着されるのではなく、反応物としてふるまう
ｃｃｐ、が水和アルミナによって他の物質、即ちＡｌＣ
ｌ２、ＨＣｐ及びＣＯ２に加水分解されてしまうことを
意味する。 そこで、上記実験例で確認した定性的な関係を一歩進め
て、実験で得られる反応物と生成物とを定量することに
よって上記反応の化学論量関係を以下に確かめることに
した。

【実験例２】 反応筒１に粒径２〜４ｍｍのか粒状水和アルミナを充填
し、ｃｃｐ４供給源２に所定量の液状ＣＣρ４を入れ、
１００ｇのソーダ石灰を充填しＨｅρ処理器をガス濃度
検知ライン６に（即ち、反応筒１の下流側に）接続して
、原料ＣＣρ、ガスを反応筒１で処理することによりそ
の下流側に排出されるＨＣｐを当該ＨＣｐ処理処理油し
、ＨＣ１処理器が処理能力の上限を越えた時点（即ち、
ＨＣρ処理器がＨＣｐを処理し切れずに、当該処理器の
下流側でＨＣＱが検出される時点）で、ＣＣρ、原料ガ
スの供給を停止したところ、ＣＣρ、の消費量は４９．
５ｇであった。 但し、経験的に、ソーダ石灰６０ｇのＨＣρ〃ス処理能
力は１０ρ（常温常圧）であることが確認されている。 上記実験によれば、ｉｏｏ、のソーダ石灰が処理したＨ
Ｃρガス量が反応筒１で生成したＨＣ７ｌ量となり、こ
れは上記データか呟１０ρ×（１００ｇ／６０ｇ）＝１
６．’？１となる。 単位モル数当たりのガス容積は常温・常圧では２２．４
ρであることから、ＨＣρガスのモル数は１６，７．Ｃ
／２２．４ｊ２＝０．７４ｍｏｆｆとなる。 一方、ＣＣρ４の供給量は４９．５ｇであるので、その
モル数は４９．５ｇ／ｌ　５４ｇ＝０．３２ｍｏＱとな
り、ＣＣρ、とＨＣｐのモル比をとると、ＣＣρ、：Ｈ
Ｃ７ｌ＝０．３２：０．７４＝１：２．３１となる。 因みに、当該実験に際して反応筒１及びその出口付近の
配管に生じた付着物をＡｌＣｌ３と推定して、この定量
も行なった。 しかしながら、実験問題として、反応筒及び配管に付着
したＡρＣＱ３を全てかき集めることは不可能であり、
ＣＣρ、原料ガスを流し終えた後にはＨＣｆｉやＣ０２
はガスとして反応筒から流去し、残存する成分はｉＣρ
、に限定できることか呟実験後の水和アルミナに含有さ
れるＣ６分の割合に着目し、このＣｒ分の重量％からＡ
ＱＣρ、量を逆算することにした。 そこで、反応筒の複数個所から採取した水和アルミナに
含まれるＣｒ分の定量分析値の平均をとったところ６．
０７重量％であったので、これに配管へ流去する割合を
経験的に加味して水和アルミナ中のＣｒ分を６．５重量
％とじた。 この実験後の水利アルミナの重量は２８６ｇだったので
、Ｃ１分＝２８６ｇＸ６．５％＝１．８．６ｇとなる。 今、このＣｒ分がＡｌＣｌ３の塩素分に等しいとすると
、ＡｌＣｌ２の重量及びモル数は次のようになる。 ＡＱＣｆｆ３＝（ＡｆｆＣり、／ＣＱ分）・１８．６ｇ
＝（ＡσＣＱ　３／ＣＮ　３）・１８．６ｇ＝２３．３
ｇ＝０．１７ｍｏρ そこで、ＣＣρ、の供給モル数が前述の通り０．３２ｍ
ｏρであることか呟ＣＣρ、とＡｌＣｌ３のモル比をと
ると、 ＣＣｌ２：ＡρＣρ、＝０．３２：０．１７＝１．８１
：１となる。 従って、前記実験例１の定性結果と本実験例２の定量結
果を総合すると、ＣＣρ、を水和アルミナ反応筒に通せ
ば、次式に示すような化学量論関係を有する加水分解反
応が進行するものと推定で外る。 ４ＣＣＱ４＋Ａρ２０３＋５Ｈ２０→ １０ＨＣρ↑＋４ＣＯ２↑＋２ＡρＣＣ３以下、反応筒
に原料ＣＣＱ、ガスを接触させる際の条件、具体的には
反応温度、ガス流速等を種々変化させて、ｃｃｌ、の除
去効率がどのようになるかを実験した。

【実験例３】 粒径２〜４ｍｍのか粒状水和アルミナを反応筒に充填し
、ガス流速を１９．９ｃｍ／ｍｉｎ、　Ｎ２ｆｆスによ
る原料ｃｃ１２．ガスの希釈濃度を８．８％に各々設定
し、反応筒温度を２５９℃、３００℃１３３０℃、３４
０℃、３５１℃及び３７８℃の６段階に変化させて、反
応筒出口でのＣＣρ、の濃度を各々測定した。 第１図はその結果を示す図表であって、処理温度の上昇
に伴って出口ｃｃｐ、濃度は減少した。 ３３０℃でＣＣρ４濃度は許容基準限界の５ｐｐｍを示
しく実際には、３４０℃で３　、５　ｐｐｍを示したの
で、漸次的に温度を下げて５　ｐｐｍになる限界を調べ
たところ３３０℃であった）、３５１℃以上ではＮ、Ｄ
、　を示した。 従って、実用上の処理温度としては３３０℃以上が必要
である。但し、処理温度を高くし過ぎると、ランニング
コストが増加するうえ、処理装置の耐熱性に問題が出て
来る。

【実験例４】 反応筒温度を３５５℃、ガス流速を１９．５ｃｍ／ｍｉ
ｎ、原料ＣＣρ４Ｃｒの希釈濃度を７．２％に各々設定
し、反応筒に充填するか粒状水和アルミナの粒径を２〜
４關の細径品し、４〜６ｍｍの粗径品とに各々変化させ
て、反応筒出口でのＣＣρ。 の濃度を測定した。 第２図はその結果を示す図表であって、水和アルミナの
粒径に関係なく、出口ＣＣρ４濃度はＮ、Ｄ、　　を維
持した。 従って、水和アルミナは粒径の大・小に拘らずＣＣρ、
を確実に分解できるが、粒径が大きい場合は排圧を抑え
てエネルギー損失を小さくできる。

【実験例５】 反応筒温度を３５０℃１水和アルミナの粒径を２〜４　
ｍｍ、原料ＣＣρ、ガスの希釈濃度を６．８％に各々設
定し、原料ＣＣＱ、ガスのガス流速を１９．１ｃ市／ｍ
ｉｎ、　　１　９．４ｃｍ／ｍｉ口、　２８．５ｃｍ／
ｍｉｎ及び２９．３０ｍ／ｍｉｎの４段階に変化させて
各々反応筒に供給し、反応筒出口でのＣＣρ４濃度を測
定した。 第３図はその結果を示す図表であって、ガス流速の増加
に伴いＣＣρ４出口濃度は増加した。 即ち、ガス流速が１９．４　ｃｍ／ｍｉｎ以下ではｃｃ
ｐ４濃度はＮ、Ｄ、を維持するが、２８．５ｃ＋ｎ／ｍ
　ｉ　ｎでは４．５　ｐｐｍに上昇してＣＣｌ２の許容
限界濃度である５　ｐｐｍに近づくので、このあたりの
流速が実用上の限界である。 尚、ガス流速１９　、４　ｃｎ＋／ｍｉｎの条件下で（
他の条件は上述の通りである）ＣＣρ４原料ガスを反応
筒に流し続けて、Ｎ、Ｄ、を越える時点までの処理量、
即ち、反応筒に供給した純ＣＣρ、、Ｖス量（常温、常
圧下）を測定したところ、１６．４ρであった。

【実施例６】 反応筒温度を３５２℃、水和アルミナの粒径を２−４ｍ
ｍ、ガス流速を１９．４ｃｍ／ｍｉｎに各々設定し、原
料ＣＣρ４〃スの希釈濃度を２２．５％→１４．３％→
６．８％→３．４％に順次減少させていくとともに、Ｃ
Ｃρ、の滴下量を調整するニードル弁１２を封止したの
ち、ＣＣρ４加熱器３に残留するＣＣＸ、ガスをパージ
させて、当該希釈濃度を１１０００ｐｐ→５００　ｐｐ
ｍ→１１００ｐｐ→ＳＯｐｐｍの如＜　ｐｐｍ単位で徐
々に減少させて行き、各希釈濃度における反応筒出口で
のＣＣρ、濃度を測定した。 第４図はその結果を示す図表であって、２２．５％の高
濃度から５０ｐｐｍの低濃度に亘り、出口ＣＣρ４濃度
は全てＮ、Ｄ、を示した。 従って、原料ガス中のｃｃ４．濃度が５０ｐｐｍのよう
にきわめて低い場合でも、確実に検出限界以下にＣＣｌ
２を分解処理で外る。

【実験例７】 反応筒温度を３５０℃、水和アルミナの粒径を２〜４■
、原料ＣＣρ４〃スのガス流速を１９．３ｃ　ｍ／ｍ　
ｉ　ｎに各々設定し、反応筒に供給する希釈埠料ガスの
種類をＣＣム単独、ＢＣρ３単独及びＣＣρ、＋ＢＣ４
，の混合ガスに変化させて、反応筒出口でのＣＣρ、及
びＢＣｌ２の濃度を各々測定した。 尚、ＢＣｌ２は常温で気体なので、ＣＣρ、気化器３の
上流側にＢＣρ３供給ライン２０（第８図の想像線で示
す）を接続して、反応筒１に供給するようにした。 第５図はその結果を示す図表であって、ＣＣρ、ガス単
独の希釈原料ガスを流した場合には、反応筒出口の含有
廃ガス濃度はガス流速及び希釈濃度を二連りに変化させ
ても、いずれの場合もＮ、Ｄ、を示したが、Ｃ（Ｊ２．
＋ＢＣρ３の混合希釈ガスを流した場合には、反応筒出
口でのＣＣρ、濃度はＮ、Ｄ、であったが、ＢＣρ３濃
度は原料ガス濃度と全く同じ１．８％を示した。 また、ＢＣρ３ガス単独の希釈原料ガスを流した場合に
は、反応筒出口でのＢＣρ３濃度は、ガス流速及び希釈
濃度を変化させても、原料ガス濃度と全く同じであった
。 従って、ＣＣｌ２は水和アルミナ反応筒で分解排除され
るが、これ以外の物質、例えばＢＣｌ２は排除されずに
素通りしてしまう。 即ち、水和アルミナ処理剤はＣＣρ、を選択的に分解処
理することが判る。 そこで、水和アルミナを充填した反応筒１の下流側に、
第８図のＢブロックに示すように、３００℃で５時間、
予め加熱脱水乾燥させたソーダ石灰を充填した別途の反
応筒３０を直列状に接続し、このソーダ石灰反応筒３０
の出口から導出される排ガスライン３１にガス検知器３
２を接続して、ＣＣρ、と他のハロゲン系ガスの混合希
釈ガスを原料ガスとして水和アルミナ反応筒１及びソー
ダ石灰反応筒３０に順次通して、上記排ガスライン３１
に排出される〃ス濃度を測定することにした。 尚、ソーダ石灰を予め加熱脱水するのは、水分を排除す
ることにより、ソーダ石灰の処理ガスに対する接触面積
を大きくして処理効率を向上するためである。 また、ソーダ石灰反応筒の加熱温度は、処理効率とラン
ニングコストを勘案して２００〜３００℃に設定するの
が好ましい。 【実験例８］ 水和アルミナの粒径を２〜４ｍｍ、水和アルミナ反応筒
の温度を３５０℃、ソーダ石灰反応筒の温度を２８２℃
に各々投設し、ガス流速を１９．３０ｍ／ｍｉｎに調整
された原料ガスの種類を、ＣＣｌｆ、＋ＢＣρ、の混合
ガス及びＣＣρ４＋Ｃρ２の混合ガスに各々変化させて
、水和アルミナ及びソーダ石灰で処理した後に徘〃スラ
インに排出されるガス濃度を測定した。 第６図はその結果も示す図表であって、ソーダ石灰反応
筒の下流側ではＣＣｌ２、ＢＣｌ２、Ｃｆ２の各濃度は
ともにＮ、Ｄ、を示した。 従って、水和アルミナでは処理できないＣＣρ４以外の
ハロゲン系ガス、即ち、ＢＣｌ２やＣｆ２ガスは、ソー
ダ石灰層を通すことにより、これを円滑に除去できる。 実際上、半導体工場におけるドライエツチング等の廃〃
スの中にはＣＣρ、のほかに、ＢＣＱ、、Ｃｆ２等の有
毒ハロゲン系ガスを併存している場合が多く、上記二段
式の処理を施せばＣＣｌ２ばかりでなく有毒ガスを一括
して処理できる。 尚、上記実験装置では、水和アルミナ反応筒１とソーダ
石灰反応筒３０を別途直列状に接続したが、実用上の処
理装置としては、次のようなものが考えられる。 （１）第９図に示すように、一つの反応筒１００に水和
アルミナ層Ｒとソーダ石灰層Ｓを二層状に組み込んだも
の （２）第１０図に示すように、一つの反応筒１００にソ
ーダ石灰層Ｓ、水和アルミナ層Ｒ及びソーダ石灰層Ｓを
サンドイッチ状に組み込んだもの（３）第１１図に示す
ように、水和アルミナ反応筒Ｒとソーダ石灰反応筒Ｓと
を別々に直列状に接続するとともに、水和アルミナ反応
筒Ｒの上流側と下流側をバイパス管２００で接続して、
ＣＣρ、を含有する廃ガスでは水和アルミナ反応筒Ｒ→
ソーダ石灰反応筒Ｓを通し、ＣＣρ、を含有しないハロ
ゲン県境ガスではバイパス管２００を通して、ソーダ石
灰反応筒Ｓのみに供給するように構成したもの

【図面の簡単な説明】

第１図は反応筒温度を変化させた場合のＣＣρ４処理能
力の実験結果を示す図表、第２図は水和アルミナの粒径
を変えた場合の第１図相当図、第３図はガス流速を変え
た場合の第１図相当図、第４図はｃｃｐ４原料ガスの希
釈濃度を変えた場合の第１図相当図、第５図は導入原料
ガスの種類を変えた場合の処理能力の実験結果を示す図
表、第６図は他のハロゲン系ガスを併存するＣＣρ、原
料ガスを水利アルミナ反応筒とソーダ石灰反応筒に順次
通した場合の実験結果を示す図表、第７図はＨＣρガス
の温度・濃度関係図、第８図は本発明方法について実験
装置の概略説明図、第９図〜第１１図は各々実用上の処
理装置を示す概略系統図である。 １・・・反応筒、　　２・・・ＣＣρイ供給源、３・・
・ＣＣρ４気化器、　４・・・希釈ガス供給源、５・・
・原料ガス供給ライン、　　６・・・ガス濃度検知ライ
ン、　７・・・反応筒加熱器。 滅　　　　　　　　　　べρυ 嶌郊ｏ　　　ｃ９鈴 表　和ｑＮ ｂＹ　！、ｌ鳩　　　い峠 区　塚　　　　　　　、−吠 Ｒ壺　　　　　叩＼響霊 、　璽 Ｅトご 紹　　　　　　　　　　　　　　　　　　“ｌ　・・・
ビ゛へｃｉｏ　べ＼　　　　１１Ｒ 、ｋ　、、０笥　鳴　　　　　俣凌票〉〕　　　梢＼　
＼　　　　　　Ｎ央釆ぺ［δ　　　３　　　目本可；「
Ｊ」 甘 砂　　　筒部　帖 ■

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ＣＣｌ＿４含有廃ガスを処理剤を収容した処理装置
   に通してＣＣｌ＿４の濃度を低減するＣＣｌ＿４含有廃
   ガスの処理方法において、酸化アルミニウム及び水を処
   理剤として、 ＣＣｌ＿４を含有する廃ガスを３３０℃以上で、且つ、
   水分の存在下に酸化アルミニウムに接触させて、ＣＣｌ
   ＿４を加水分解することを特徴とするＣＣｌ＿４含有廃
   ガスの分解処理方法 ２、処理剤が水和酸化アルミニウムであることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項に記載のＣＣｌ＿４含有廃ガ
   スの分解処理方法 ３、酸化アルミニウムがか粒状であることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項又は第２項に記載のＣＣｌ＿４含
   有廃ガスの分解処理方法 ４、ＣＣｌ＿４含有廃ガスがＣｌ＿２、ＨＣｌ、ＢＣｌ
   ＿３、ＳｉＣｌ＿４、ＳｉＨ＿２Ｃｌ＿２、Ｆ＿２、Ｈ
   Ｆ、ＢＦ＿３、ＳｉＦ＿４、ＧｅＦ＿４、ＭｏＦ＿６、
   及びＷＦ＿６の少なくとも一種を併存し、酸化アルミニ
   ウム及び水から成る処理剤の少なくとも下流側に予め脱
   水乾燥させたソーダ石灰層を配置し、当該ＣＣｌ＿４含
   有廃ガスを上記処理剤で分解したのち、２００〜３００
   ℃の温度下でソーダ石灰層に接触させることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１、２又は３項に記載のＣＣｌ＿４
   含有廃ガスの分解処理方法