JPS6385330A - 試料台 - Google Patents

試料台

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JPS6385330A
JPS6385330A JP61232984A JP23298486A JPS6385330A JP S6385330 A JPS6385330 A JP S6385330A JP 61232984 A JP61232984 A JP 61232984A JP 23298486 A JP23298486 A JP 23298486A JP S6385330 A JPS6385330 A JP S6385330A
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JP61232984A
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Hiroharu Yamada
山田 弘治
Masaichi Adachi
安達 政一
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Shimadzu Corp
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  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、主として半導体ディスクのような極薄試料板
乃至その分断試料片の表面評価に用いる硬度計用の試料
台に関するものである。
[従来の技術] S1ウエハー等の表面評価に利用される超微小硬度計で
は、ピンセットで取扱われる非常に小さな細片からある
程度の径寸を有する円盤状のものまで、多種多様な形状
、サイズの試料を試料台に載せて硬度測定を行なうよう
にしている。
[発明が解決しようとする問題点] しかし、単一の定形試料台を形態の異なる様々な試料の
硬度測定に゛兼用するようにした現状の設備では、試料
の種別によってはその取扱作業が非常に煩雑となり能率
低下を来たす。つまり、試料台のステージ面積に見合う
大きさの試料であれば支障ないけれども、例えば非常に
小さな細片試料を試験する場合では、試料台が相対的に
広いステージ面積を有することが却って試料をセツティ
ングすることの妨げとなり、試料の載せ降ろし作業に難
渋する結果を招いている。
本発明は、かかる現状の問題点に鑑み、上記硬度計等に
供する試料台として、その上に載置する試料の大きさに
応じてステージ面の面積を自在に可変できるものを提供
することを第1の目的とし、加えて試料を安定に保持す
る吸着孔をステージ面に備えて更に便利化されるものを
提供することを第2の目的としてなされたものである。
[問題点を解決するための手段] 本発明が、その第1の目的を実現するために採用する手
段は、試料台を、中芯ステージと、この中芯ステージの
外周に配設されてそれぞれ内側のステージに隣接する一
又は二辺上の環状の昇降ステージとに分割し、さらに各
昇降ステージの高さを、前記中芯ステージと面一な上昇
位置と内側のステージに段差をなす下降位置とに選択切
換する切換機構とを具備せしめることである。
また、その第2の目的の実現には、上記の手段に加えて
、次のような手段を採る。すなわち、中芯ステージとそ
の外周の環状の昇降ステージとにそのステージ面でそれ
ぞれ吸着孔を適当に分布して開口させておくとともに、
その中芯ステージの吸着孔と、これと面一な上昇位置に
ある昇降ステージの吸着孔のみを真空排気系に連通させ
る吸引機構を具備せしめるようにする。
[作用] このようにしてなる試料台であれば、まず前者の手段に
より、そのステージ面積を試料の大きさに応じて自在に
可変し調節することができる。つまり小さな試料であれ
ば、周りの昇降ステージを下げてその中芯ステージのみ
を利用すればよく、また試料が大きければ外周の昇降ス
テージを中芯ステージと面一となる上昇位置に順次切換
えて、試料の大きさに見合ったステージ面積を確保する
ようにすればよいからである。
そして又、これに加えて後者の手段を付加すれば、ステ
ージ面に載置した試料をその裏面の吸着孔から吸着して
、これを密着状態で安定に保持することができる。しか
も、この際には載置面として使用されない下降位置にあ
る昇降ステージの吸着孔は、真空排気系との連通が断た
れて真空漏れを来たすことがない。
[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
〈実施例I〉 まず、第1の発明に係るステージ面積を試料の大きさに
合せて調節できるようにした試料台の実施例を第1図乃
至第4図を参照して説明する。
試料台は、その台盤1の中心から基端を固定した丸軸状
の中芯ステージ2を立設し、その外周に各円環状をなす
第1および第2昇降ステージ3.4を配設し、さらに第
2昇降ステージ4の外周にこれら昇降ステージ3.4の
下方部を格納する円筒状のケーシング5を配設してなる
。そして、この外枠をなすケーシング5は、前記台盤1
から一体に突設形成したものである。
中芯ステージ2はその上に小径の円形ステージ面2aを
有し、またその外周の第1昇降ステージ3はその上に中
径輪状のステージ面3aを有し、さらにその外周の第2
昇降ステージ4はその上に大径輪状のステージ面4aを
有する。各ステージの寸法は、この場合具体的には、ス
テージ面2aが外径φ50mm、ステージ面3aが内径
φ50mm、外径φ1OOIIII111ステージ面4
aが内径φ100mm、外径φ150mmに形成されて
いる。すなわち、中芯ステージ2の外周面と第1昇降ス
テージ3の内周面とが摺接して隣接し、また第1ステー
ジ3の外周面と第2昇降ステージ4の内周面とが摺接し
て隣接している。そして、さらに第2昇降ステージ4の
外周面が前記ケーシング5の内周面に摺接して嵌合して
いる。
そして、これら第1、第2昇降ステージ3.4は、中芯
ステージ2の外周でそれぞれ上下方向に昇降可能に配設
されているとともに、そのステージ高さを、前記中芯ス
テージ2と面一な上昇位置と、内側のステージ(中芯ス
テージ2又は第1昇降ステージ3)と適当な段差をなす
下降位置とに選択切換するための切換機構6を備えてい
る。
この切換機構6の構成を説明すると、まず前記ケーシン
グ5内の台盤1上に、その上方に位置する昇降ステージ
3.4を支持する環状の円形カム7を装着している。こ
の円形カム7は、ケーシング5内でその中央に直立して
いる中芯ステージ2のまわりに回転自在に嵌装されてい
るとともに、その上面(カム面)に各昇降ステージ3.
4からそれぞれ下方に突設した3本の脚3A、4Aを受
けて、これら昇降ステージ3.4の高さを調節する役目
を果す。そして、昇降ステージ3.4を各4脚3A、4
Aを介しカム面に密着して追従させるべく、両者の間の
高さ位置にその周縁部をケーシング5に挟持させた円板
状のガイド板8を介設し、このガイド板8のガイド孔に
各脚3A、4Aを貫通させているとともに、各脚3A、
4Aの先端近傍に突設したワッシャ9.10とガイド板
8の下面との間の脚まわりに圧縮バネ11.12を介装
して、昇降ステージ3.4の各4脚3A14Aを円形カ
ム7のカム面に弾接させるようにしている。このように
して昇降ステージ3.4の各3本の脚3A、4Aを受け
る円形カム7は、その上面に第4図に展開して図示する
ようなカム面を形成しているとともに、その−側に固設
しである回動切換レバー13をケーシング5の周壁に6
0’の挟角で開口した窓穴溝14から外方に延出してい
る。そして、この切換レバー13が、第1図のr150
Jの位置にあるときは、脚3A、4A共に第4図におけ
る高さ位置■のカム面に当接し、またrlooJの位置
にあるときは、脚3Aが同じく高さ位置■のカム面に当
接される一方、脚4Aはこれよりも一段低い高さ位置■
のカム面に当接され、さらに「50」の位置にあるとき
は脚3Aが高さ位置■のカム面に当接される一方、脚4
Aはこれよりも更に一段低い高さ位置■のカム面に当接
されるようになっている。なお、高さ位置■のカム面に
相当する昇降ステージ3.4の位置は、そのステージ面
3a、4aが中芯ステージ2のそれと丁度面一となるよ
うに調整されている。
このように構成してなる試料台であれば、切換レバー1
3の簡便なるワンタッチ操作により、試料の大きさに応
じたステージ面積を選ぶことができる。つまり切換レバ
ーをr150Jの位置にセットすれば、第1図並びに第
3図の右半部のように第1、第2昇降ステージ3.4が
中芯ステージ2と面一となる上昇位置に保持されて大面
積(φ150+nm)のステージ面2 a r  3 
a −= 4 aが利用でき、またrlooJの位置に
切換えると、第2昇降ステージ4のみが第1昇降ステー
ジ3に段差をなす下降位置におかれて小面積(φ100
 mm)のステージ面2a、3aが利用でき、さらに「
50」の位置に切換えると、第1、第2昇降ステージ3
.4が各内側のステージ3.2に段差をなす下降位置に
降下されて小面積(φ50non)のステージ面2aの
みが利用できるものとなる。そして、かかる具合に試料
の大きさに合せてそのステージ面積を選べることは、ス
テージ面の上部空間の隙間が狭いなどの制約がある硬度
計等の試料台において、ステージ面への試料の載せ降ろ
し作業を簡便ならしめる上で非常に好都合なものとなる
のである。
なお、このような作業性の利便に加えて、この分割ステ
ージ形のものでは、隣接するステージの境界が同心環を
形成するから、それらを面一にして使用するときはその
同心環を標線として試料のセツティングに利用できる便
宜も得られる。
次いで、上述した実施例の変形例について述べる。まず
、上記の例で中芯ステージ2のまわりに二重に昇降ステ
ージ3.4を配設するものを示しているが、外周昇降ス
テージの個数は一重でもよいし、あるいは必要に応じ三
重以上に配設するようにしてもよい。また、実施例では
各ステージに丸形のものを使用する場合を例示したが、
これは第5図に示すように角形のものに形成するように
してもよい。なお、この場合には各昇降ステージ3.4
の脚3A、4Aは、等間隔に4本設けるようにした方が
安定性がよい。また、この場合円形カム7のカム面は脚
の本数に対応した4周期に形成し、切換レバー13を4
5°の挟角で回動させるようにする。
〈実施例■〉 次に、上記第1の発明に係るものに所要の吸引機構と共
に吸着孔を有してなる第2の発明に係る試料台の実施例
を、第6図、第7図を参照して説明する。
この試料台の主要部の構成は、第1図〜第4図に示した
ものと共通している。しかして、このものでは中芯ステ
ージ2、第1昇降ステージ3および第2昇降ステージ4
の各ステージ面2a、3aおよび4aの外周近傍位置に
、それぞれ吸着孔15.16および17を環状に分布し
て開口させている。これらの吸着孔15.16.17は
、中芯ステージ2に開口するものと、該中芯ステージ2
に面一な上昇位置にある昇降ステージ3(および4)に
開口するもののみが、これらを中芯ステージ2等の内部
に穿設した吸引孔18に選択的に接続させる吸引機構1
9を介して図外の真空排気系に連通される。
、詳述すると、台盤1の肉厚内部とこれと一体に形成さ
れた中芯ステージ2の軸心とには、台盤1の一側に螺着
した吸引プラグ20を介して真空排気系から吸引される
吸引孔18を穿設している。
そして、まず中芯ステージ2にある吸着孔(縦孔)15
は、そのステージ面2aから適宜の高さだけ低い外周位
置に設けた環状の吸引溝21に開通しており、この吸引
溝21から軸心に向けて穿孔した横孔22を介して常時
吸引孔18の上端に連通されるようになっている。また
第1、第2昇降ステージ3.4についてもそのステージ
面3a14aから中芯ステージ2のそれと同様の距離を
おいた高さ位置で、その外周にそれぞれ吸着孔(縦孔)
16.17が開通される環状の吸引溝23.24を設け
ている。そして、これら環状溝23.24からその内周
に開口する横孔25.26を穿孔している。なお、中芯
ステージ2と第1昇降ステージ3との摺動面並びに第1
昇降ステージ3と第2昇降ステージ4との摺動面とには
、各々その吸引溝21.23からの真空漏れを防止すべ
くその上下近傍にOリングのようなシール27.28を
介入している。また第2昇降ステージ3の吸引溝24の
その外方端に輪状の栓部材29を詰めている。
しかして、かかる構成よりなる吸引機構19を備えたも
のであると、その中芯ステージ2に開口する吸着孔15
は何時も吸引孔18に連通される一方、昇降ステージ3
.4に開口する吸着孔16.17はそれが中芯ステージ
2と面一な上昇位置にあるとき吸引孔18と連通し、そ
れ以外の下降位置にあるときは自動的に吸引孔18との
連通が遮断され、しかも真空漏れを生じることがない。
このようにステージ面2as 3a、4aに吸着孔15
.16.17を設けたものであれば、その上に載せる試
料をその裏面から吸着して、これをステージ面に密着し
て安定確実に保持することができることになるから、試
料台への試料のセツティング作業がより一層便利なもの
となる。そして特に実施例のような吸引機構19を備え
たものでは、その昇降ステージ2.3の昇降切換に連動
して、試料を載せるステージ面に存在する吸着が吸引作
動されるようになっているからとりわけ作業の便宜に資
するものとなり、余分な吸着孔から真空漏れを来たすお
それもない。
なお、この実施例■についても前記実施例工と同様に種
々の変形例を採用できる。
[発明の効果] 以上に詳述した通り、第1の発明に係る試料台であると
、そのステージ面に載置する試料の大きさ合せて中芯ス
テージ外周の昇降ステージの昇降位置を切換えることで
そのステージ面積を選ぶことができて、これにより試料
台べの試料の取付、取外し作業を簡便化できる。また、
第2の発明に係る試料台であると、上記効果に加えて試
料をステージ面に吸着保持できるから、試料のセラティ
グ等が一層便利化されるものとなる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第4図は第1の発明に係る実施例を示す。第1
図は試料台の全体斜視図、第2図はその平面図、第3図
はその合成縦断面図である。第4図はその円形カムのカ
ム面の展開図である。第5図はこの第1の発明に係る実
施例の変形例を示す試料台の平面図である。第6図と第
7図は第2の発明に係る実施例を示し、第6図は試料台
の平面図、第7図はその合成縦断面図である。 1・・・台盤       2・・・中芯ステージ3・
・・第1昇降ステージ 4・・・第2昇降ステージ2a
、3a、4a・・・ステージ面 3A、4A・・・脚    5・・・ケーシング6・・
・切換機構     7・・・円形カム8・・・ガイド
板     9.10・・・ワッシャ11.12・・・
圧縮バネ 13・・・切換レバー14・・・窓穴溝 15.16.17・・・吸着孔 18・・・吸引孔     19・・・吸引機構20・
・・吸引プラグ 21.23.24・・・吸引溝 22.25.26・・・横孔

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)中芯ステージと、この中芯ステージの外周に配設
    されてそれぞれ内側のステージに隣接する一又は二以上
    の環状の昇降ステージと、各昇降ステージの高さを前記
    中芯ステージと面一な上昇位置と内側のステージに段差
    をなす下降位置とに選択切換する切換機構とを具備して
    なることを特徴とする試料台。
  2. (2)ステージ面に吸着孔を有する中芯ステージと、こ
    の中芯ステージの外周に配設されてそれぞれステージ面
    に吸着孔を有するとともに内側のステージに隣接する一
    又は二以上の環状の昇降ステージと、各昇降ステージの
    高さを前記中芯ステージと面一な上昇位置と内側のステ
    ージに段差をなす下降位置とに選択切換する切換機構と
    、前記中芯ステージの吸着孔と該中芯ステージに面一な
    上昇位置にある前記昇降ステージの吸着孔とを真空排気
    系に連通させる吸引機構とを具備してなることを特徴と
    する試料台。
JP61232984A 1986-09-29 1986-09-29 試料台 Expired - Fee Related JPH0663943B2 (ja)

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JPH0663943B2 JPH0663943B2 (ja) 1994-08-22

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009206417A (ja) * 2008-02-29 2009-09-10 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体装置の製造方法および半導体装置の製造装置
JP2009250972A (ja) * 2008-04-03 2009-10-29 Korea Techno Co Ltd 半導体ウエーハ汚染物質測定装置のスキャンステージ
JP2010062345A (ja) * 2008-09-04 2010-03-18 Fuji Electric Systems Co Ltd 半導体装置の製造方法および半導体装置の製造装置
JPWO2014157014A1 (ja) * 2013-03-29 2017-02-16 株式会社クリエイティブテクノロジー チャック装置

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