JPS6378123A - 偏極と位相の連続的無リセット調整装置 - Google Patents
偏極と位相の連続的無リセット調整装置Info
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- JPS6378123A JPS6378123A JP62231955A JP23195587A JPS6378123A JP S6378123 A JPS6378123 A JP S6378123A JP 62231955 A JP62231955 A JP 62231955A JP 23195587 A JP23195587 A JP 23195587A JP S6378123 A JPS6378123 A JP S6378123A
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/0136—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour for the control of polarisation, e.g. state of polarisation [SOP] control, polarisation scrambling, TE-TM mode conversion or separation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Stabilization Of Oscillater, Synchronisation, Frequency Synthesizers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、光導波路内を特定の方向(R)に伝搬する
TEモード(又はTMモード)の光波の伝搬定数β、と
この光波に対して垂直に偏極されたTMモード(又はT
Eモード)の光波の伝搬定数β、が特定の波長λ。にお
いて互に異る光導波路と、同じ方向(R)において等し
い周期長(L)のm個の区分Ak (k−1,2,−
、m)に分割された区間(S)内に各区分に同数の機能
個所(F五、l−1,2,・・・、N)が収まるように
分布されたN=n−m個の機能個所を備え、周期長(L
)は両方の光波の特定波長λ。に対応するうなり波長λ
。又はその整数倍に等しく、両光波の偏極状態と位相が
各機能個所(Fりにおいて調整可能であり、偏極状態と
位相の調整の大きさは各機能個所に個別に定められ、次
式: %式% で与えられる可調整結合係数Kiによって決められる(
この場合に0は結合係数に、の可変最大値、ηは少くと
もO〜2πの範囲で調整可能な制御量、α(i)は機能
個所(Fりの指数iに関係する特定の機能を意味する)
偏極と位相の調整装置に関するものである。
TEモード(又はTMモード)の光波の伝搬定数β、と
この光波に対して垂直に偏極されたTMモード(又はT
Eモード)の光波の伝搬定数β、が特定の波長λ。にお
いて互に異る光導波路と、同じ方向(R)において等し
い周期長(L)のm個の区分Ak (k−1,2,−
、m)に分割された区間(S)内に各区分に同数の機能
個所(F五、l−1,2,・・・、N)が収まるように
分布されたN=n−m個の機能個所を備え、周期長(L
)は両方の光波の特定波長λ。に対応するうなり波長λ
。又はその整数倍に等しく、両光波の偏極状態と位相が
各機能個所(Fりにおいて調整可能であり、偏極状態と
位相の調整の大きさは各機能個所に個別に定められ、次
式: %式% で与えられる可調整結合係数Kiによって決められる(
この場合に0は結合係数に、の可変最大値、ηは少くと
もO〜2πの範囲で調整可能な制御量、α(i)は機能
個所(Fりの指数iに関係する特定の機能を意味する)
偏極と位相の調整装置に関するものである。
この種の装置は文献「アイ・イー・イー・イー・トラン
サクシッンズ・オン・マイクロウニイブ(rEEE T
ransactions on Microwave
and Techniqus) J MTT−30(1
982年)、613−617頁に載せられているハイス
マン(U、Heismann)およびウルリッヒ(R,
Ulrich)の論文により公知である。この公知装置
に使用されている光導波路はX方向に切られたニオブ酸
リチウム結晶の表面に拡散形成されたストライプ光導波
路から成り、この複屈折結晶の光学軸であるZ軸に垂直
なX方向に延びる。これによってこの光導波路内でTE
モードとTMモードは互に異る伝搬定数β1とβ2を示
し、その差は上記の結晶材料とその切断方向に対して最
大の値となる。
サクシッンズ・オン・マイクロウニイブ(rEEE T
ransactions on Microwave
and Techniqus) J MTT−30(1
982年)、613−617頁に載せられているハイス
マン(U、Heismann)およびウルリッヒ(R,
Ulrich)の論文により公知である。この公知装置
に使用されている光導波路はX方向に切られたニオブ酸
リチウム結晶の表面に拡散形成されたストライプ光導波
路から成り、この複屈折結晶の光学軸であるZ軸に垂直
なX方向に延びる。これによってこの光導波路内でTE
モードとTMモードは互に異る伝搬定数β1とβ2を示
し、その差は上記の結晶材料とその切断方向に対して最
大の値となる。
この装置では固定周期長の各区分に1対の機能個所が収
まり、各対の2つの機能個所の間の間隔は隣接する機能
個所対の間の間隔より小さい。
まり、各対の2つの機能個所の間の間隔は隣接する機能
個所対の間の間隔より小さい。
固定周期長は結晶材料によって決められる波長において
TEモードとTMモードの間のうなり波長又はその整数
倍に等しい上記の公知装置では3倍になっている。
TEモードとTMモードの間のうなり波長又はその整数
倍に等しい上記の公知装置では3倍になっている。
機能個所には2つの結合係数が交互に配付され、その一
方はsin ηに、他方はcos η−5in (η+
π/2)に比例する。
方はsin ηに、他方はcos η−5in (η+
π/2)に比例する。
機能個所自体はこの場合くし形の互にかみ合った電極構
造によって画定され、基板表面の光導波路の上に置かれ
る。
造によって画定され、基板表面の光導波路の上に置かれ
る。
公知装置では真性複屈折とそれに対して小さい角度で誘
起された複屈折の双方が利用される。TEモードとTM
モードの間のリセット無しの連続的偏極変換は、集積光
回路に二相同期電動機原理を応用することによって達成
される。
起された複屈折の双方が利用される。TEモードとTM
モードの間のリセット無しの連続的偏極変換は、集積光
回路に二相同期電動機原理を応用することによって達成
される。
結晶材料によって決められる0、6μ−又は1.3μm
の波長λ。は7μ−又は16μmの極めて短い周期長を
与える。この短い周期長は互に直行する偏極モードの間
の完全な偏極変換に対して極めて多数の周期即ちこの長
さの区分を必要とする。
の波長λ。は7μ−又は16μmの極めて短い周期長を
与える。この短い周期長は互に直行する偏極モードの間
の完全な偏極変換に対して極めて多数の周期即ちこの長
さの区分を必要とする。
その結実装置が2nm以下の極端に狭帯域のものとなる
。
。
文献「エレクトロニック・レターズ(Electron
。
。
Lett、)」22 (1986年)155頁のへルモ
ルト(C,H,von He1a+olt)の論文に記
載されているTE−TM変換器では、X方向に切られた
ニオブ酸リチウム結晶の表面にストライブ形の光導波路
が結晶のχ軸に対して90m以下の角θ(θ〈90°)
で延び、このストライプ光導波路に沿って多数の電極が
等間隔で配置され、交互に正と負の電圧を印加される。
ルト(C,H,von He1a+olt)の論文に記
載されているTE−TM変換器では、X方向に切られた
ニオブ酸リチウム結晶の表面にストライブ形の光導波路
が結晶のχ軸に対して90m以下の角θ(θ〈90°)
で延び、このストライプ光導波路に沿って多数の電極が
等間隔で配置され、交互に正と負の電圧を印加される。
この電極列は固定周期長の区分に分割され、各区分に2
つの電極が収められる。
つの電極が収められる。
この変換器はストライプ形光導波路が結晶のX軸に平行
従ってその2軸に垂直に延びている変換器に比べて帯域
幅が広い、角θが80°のとき特定の波長λo−1,3
arsにおいて比帯域幅(λ−λ。)/λ。は3.2%
となる。この場合完全な偏極変換に対しては22個の固
定周期長の区分が必要となる。この固定周期長は約0.
55mmであり、特定波長λ。の約423倍となる。
従ってその2軸に垂直に延びている変換器に比べて帯域
幅が広い、角θが80°のとき特定の波長λo−1,3
arsにおいて比帯域幅(λ−λ。)/λ。は3.2%
となる。この場合完全な偏極変換に対しては22個の固
定周期長の区分が必要となる。この固定周期長は約0.
55mmであり、特定波長λ。の約423倍となる。
この発明の目的は、冒頭に挙げた装置の広帯域性を著し
く高めるための方策を示すことでる。
く高めるための方策を示すことでる。
この目的は特許請求の範囲第1項に特徴として挙げた構
成によって達成される。
成によって達成される。
この発明の方策においては拡大された有効波長領域がま
ず要旨(a)によりmを小さくすることによって達成さ
れる。要旨(C)によりこの有効波長領域は装置の機能
個所を画定する空間的固定した電極構造を動作波長λ1
に電気的可変に適合させることにより最高度に改善され
る。その際波長のオクターブ以上の拡大が特性の変化を
伴うことなく達成される。即ちデルタ(λ。)/4≦Δ
β(λ、)/2≦Δβ(λ。)となる、動作波長への電
気的適合のない固定周期長の場合3dB半値幅は1/m
に過ぎない(Δ工、/Δβ(λ。) −1/m) 。
ず要旨(a)によりmを小さくすることによって達成さ
れる。要旨(C)によりこの有効波長領域は装置の機能
個所を画定する空間的固定した電極構造を動作波長λ1
に電気的可変に適合させることにより最高度に改善され
る。その際波長のオクターブ以上の拡大が特性の変化を
伴うことなく達成される。即ちデルタ(λ。)/4≦Δ
β(λ、)/2≦Δβ(λ。)となる、動作波長への電
気的適合のない固定周期長の場合3dB半値幅は1/m
に過ぎない(Δ工、/Δβ(λ。) −1/m) 。
ハイスマン(Heissmann)およびウルリッヒ(
R。
R。
Ulrich)の場合と同様にこの発明の装置において
も制御量ηの変化は無制限の相変位に導き、最大値に、
の変化は偏極の回転に導(、この発明の装置においても
純粋のTE偏極又はTM偏極の場合続く光学的接続の影
響無しに位相飛躍が可能であるという事実が利用される
。
も制御量ηの変化は無制限の相変位に導き、最大値に、
の変化は偏極の回転に導(、この発明の装置においても
純粋のTE偏極又はTM偏極の場合続く光学的接続の影
響無しに位相飛躍が可能であるという事実が利用される
。
この発明の装置によって、避けることができない製作の
許容誤差を補償するのに適した電気的に調整可能の周期
長をもつ装置が実現する。
許容誤差を補償するのに適した電気的に調整可能の周期
長をもつ装置が実現する。
この発明の装置は、偏極ならびに位相角の任意の初期状
態から任意の最終状態までの変換を実行する単一デバイ
スとして実現可能である。
態から任意の最終状態までの変換を実行する単一デバイ
スとして実現可能である。
この発明による装置ではmが小さい値であるから、ハイ
スマン(U、He1ss+++ann)およびウルリツ
ヒ(R,Ulrich)の非常に大きなmの値に対する
直線化された理論は通用されず、偏極変換器の作用を記
述する結合モード理論に戻り、特に1近くのmの値に対
してデバイスの特性曲線の非線形度合を求めなければな
らない、その際この発明による装置の調整に対しては行
き過ぎ無しに単調に上昇又は下降する特性曲線が必要で
ある。解析の結果によればm>2又は3に対する偏極角
と位相角はK。
スマン(U、He1ss+++ann)およびウルリツ
ヒ(R,Ulrich)の非常に大きなmの値に対する
直線化された理論は通用されず、偏極変換器の作用を記
述する結合モード理論に戻り、特に1近くのmの値に対
してデバイスの特性曲線の非線形度合を求めなければな
らない、その際この発明による装置の調整に対しては行
き過ぎ無しに単調に上昇又は下降する特性曲線が必要で
ある。解析の結果によればm>2又は3に対する偏極角
と位相角はK。
とηの一義関数である。充分直線に近い関数を得るため
にはmを5と10の間に選ぶこと(5≦m≦10)が推
奨される。この場合周期長L=Δ。
にはmを5と10の間に選ぶこと(5≦m≦10)が推
奨される。この場合周期長L=Δ。
は所定の波長λ。の200倍から700倍の間に選ぶの
が効果的である。
が効果的である。
伝搬定数β、とβ2の間の差Δβを小さくすることは、
真性複屈折を与えない特許請求の範囲第5項の構成によ
って達成される。
真性複屈折を与えない特許請求の範囲第5項の構成によ
って達成される。
不可避的の製作許容差の補償に対しては特許請求の範囲
第6項に従い、電気光学効果によって誘起された複屈折
により所望の固有複屈折からの偏差を打消すか所望の複
屈折を設定するのが効果的である。
第6項に従い、電気光学効果によって誘起された複屈折
により所望の固有複屈折からの偏差を打消すか所望の複
屈折を設定するのが効果的である。
この発明の装置の機能個所は個々の電極配置によって画
定できるが、それは一般に材料に関係する。ニオブ酸リ
チウムに対する実施態様が特許請求の範囲第7項に示さ
れているが、この実施M様は他の材料に対しても好適で
ある。そこに挙げられている式においてに!はUlに比
例しに0はUoに比例するから、Uoが変化すると偏極
も変化する0機能個所が4個でなく2個であるだけで外
の点では等しい構成であり、それを画定する電極には完
全な偏極の変換を達成するため順次に電圧値+U、と−
U、が交互に印加される装置に比べて、特許請求の範囲
第7項による装置の場合完全な偏極の変換を達成するた
めにはUoをU、より大きく、UO−r丁U1となるよ
うに選定する。
定できるが、それは一般に材料に関係する。ニオブ酸リ
チウムに対する実施態様が特許請求の範囲第7項に示さ
れているが、この実施M様は他の材料に対しても好適で
ある。そこに挙げられている式においてに!はUlに比
例しに0はUoに比例するから、Uoが変化すると偏極
も変化する0機能個所が4個でなく2個であるだけで外
の点では等しい構成であり、それを画定する電極には完
全な偏極の変換を達成するため順次に電圧値+U、と−
U、が交互に印加される装置に比べて、特許請求の範囲
第7項による装置の場合完全な偏極の変換を達成するた
めにはUoをU、より大きく、UO−r丁U1となるよ
うに選定する。
特許請求の範囲第7項による装置の有利な構成は特許請
求の範囲第8項に示される。この構成ではモードの影響
が直接光導波路にとりつけられた電極によって避けるこ
とができる。
求の範囲第8項に示される。この構成ではモードの影響
が直接光導波路にとりつけられた電極によって避けるこ
とができる。
この発明の装置のニオブ酸リチウム基板上への構成は特
許請求の範囲第9項に示されるのに対して、4成分材料
の基板上への構成は特許請求の範囲第10項および第1
1項に示される。ニオブ酸リチウムの場合0.6μ■又
は1.3μMの波長が使用されるのに対して、Ir、G
aAsP/InPの場合使用される波長は1μ個以上で
ある。リブ形導波路(リッジ導波路RWG)を4成分層
上に設けると、材料の関係で周期長し一へ。が300乃
至700μ■程・度となり、帯域幅も広くなる。
許請求の範囲第9項に示されるのに対して、4成分材料
の基板上への構成は特許請求の範囲第10項および第1
1項に示される。ニオブ酸リチウムの場合0.6μ■又
は1.3μMの波長が使用されるのに対して、Ir、G
aAsP/InPの場合使用される波長は1μ個以上で
ある。リブ形導波路(リッジ導波路RWG)を4成分層
上に設けると、材料の関係で周期長し一へ。が300乃
至700μ■程・度となり、帯域幅も広くなる。
この発明による装置の一例では、機能個所が特許請求の
範囲第12項に従い等間隔で配置されるのが有利である
。
範囲第12項に従い等間隔で配置されるのが有利である
。
この発明による装置は広範囲同調可能のフィルタとして
(特許請求の範囲第13項)、あるいは波長選択性のス
イッチとして(同第14項)使用される。
(特許請求の範囲第13項)、あるいは波長選択性のス
イッチとして(同第14項)使用される。
図面についてこの発明の実施例を更に詳細に説明する。
第1図に示した偏極ならびに位相のリセット無しの連続
UR節装置fff (POLTRA)では基板1がニオ
ブ酸リチウムから成り、ストライプ形光導波路10はこ
の基板の表面に拡散形成された光導波路である。ストラ
イプ光導波路10の長軸Aは、複屈折性の基板1の結晶
の光軸0に対して小さい角εで傾斜して置かれる。
UR節装置fff (POLTRA)では基板1がニオ
ブ酸リチウムから成り、ストライプ形光導波路10はこ
の基板の表面に拡散形成された光導波路である。ストラ
イプ光導波路10の長軸Aは、複屈折性の基板1の結晶
の光軸0に対して小さい角εで傾斜して置かれる。
ストライプ導波路10の上では、等しい周期長し一へ。
の5個(m−5)の区分A+乃至A M II sに分
割された区間Sに20個(N−20)の個別電極が設け
られる。これらの電極は特定の方向Rにおいて左から右
にEl+E!+ ・・・EN−z。と表わされている。
割された区間Sに20個(N−20)の個別電極が設け
られる。これらの電極は特定の方向Rにおいて左から右
にEl+E!+ ・・・EN−z。と表わされている。
これらの電極は等間隔で配置され、その長さ2は区分A
、乃至A1..にそれぞれn=4個の電極が収まるよう
に小さく選ばれている。
、乃至A1..にそれぞれn=4個の電極が収まるよう
に小さく選ばれている。
2つの電極間の間隔はL/4となる。
各電極Elには導線Zcを通して次式で与えられる電圧
Uムが印加される。
Uムが印加される。
υ直漏υasin(i+(1−1)gAa/2 A+)
、 +−1,2++、Nこのようにして電極EN乃至E
N−16はPOLTRAの機能個所F、乃至Fs−z。
、 +−1,2++、Nこのようにして電極EN乃至E
N−16はPOLTRAの機能個所F、乃至Fs−z。
を画定する。
電極El乃至EN−t。は直接基板1の表面に設けられ
るのではなく、間に電気絶縁性の光バツフア層PSをは
さんで設けられる(第2図)、この層は導波路10中の
モード伝搬が妨害されないようにするものである。
るのではなく、間に電気絶縁性の光バツフア層PSをは
さんで設けられる(第2図)、この層は導波路10中の
モード伝搬が妨害されないようにするものである。
基板1の表面11にはストライブ導波路10の両側に置
かれ区間Sの全長に亘って延びる電極EwとEl4が直
接とりつけられる。これらの電極の間に電位差Ullを
加えることにより電界Eが作られ、その力線はストライ
ブ導波路10を区間Sの全長に亘って導波路10の長軸
Aに垂直に一方の長辺から他方の長辺まで貫通する。−
例として特定の方向Rにおいてストライブ導波路10の
左側の長辺に設けられた電極Elには電圧U3を印加し
右側の長辺に設けられた電極E。は地電位に置(。
かれ区間Sの全長に亘って延びる電極EwとEl4が直
接とりつけられる。これらの電極の間に電位差Ullを
加えることにより電界Eが作られ、その力線はストライ
ブ導波路10を区間Sの全長に亘って導波路10の長軸
Aに垂直に一方の長辺から他方の長辺まで貫通する。−
例として特定の方向Rにおいてストライブ導波路10の
左側の長辺に設けられた電極Elには電圧U3を印加し
右側の長辺に設けられた電極E。は地電位に置(。
個別電極El乃至EHmz@に導くリード線Zcのため
電極E、とE9はこの配線の部分で中断されている。電
極EsとE、にもリード線Z、又はZ。
電極E、とE9はこの配線の部分で中断されている。電
極EsとE、にもリード線Z、又はZ。
があり、電圧U1又はUoをそれぞれのi極に印加する
ことができる。
ことができる。
電圧印加に必要な接触部の基板上の分布を改善するため
、リード線Zc、ZoおよびZMは区間Sの一方の半分
ではストライブ導波路の一方の側に、他方の半分ではそ
の反対の側に設ける。
、リード線Zc、ZoおよびZMは区間Sの一方の半分
ではストライブ導波路の一方の側に、他方の半分ではそ
の反対の側に設ける。
具体的な実施例ではストライブ導波路10が、間隙幅7
5nmの拡散マスクを使用し1040°C16時間25
分の拡散処理によって作られT、をドープされた導波路
から成る。光バツフア層は厚さ7(LOnmの170層
であり、電極El乃至EN−KO1ElおよびE8とリ
ード線Z、、Z、、Z、は厚さ200n+sの金属から
成る。
5nmの拡散マスクを使用し1040°C16時間25
分の拡散処理によって作られT、をドープされた導波路
から成る。光バツフア層は厚さ7(LOnmの170層
であり、電極El乃至EN−KO1ElおよびE8とリ
ード線Z、、Z、、Z、は厚さ200n+sの金属から
成る。
個別電極の幅W、は7μI、個別電極と電極Ex又はE
。の間の間隔は5μ謡である。2つのリード線の間に設
けられた電極E3又はE、の幅Wlは20μmであるの
に対して、リード線の外側に設けられたt極E、又はE
、の幅W、は100μmである0個別電極E1の長さは
リード線Z、の幅を考えないで1mである。リード線の
幅と隣り合せる個別電極間又は隣り合せる電極E、又は
EN間の間隔はリード線の区域で100μ鋼以下である
。
。の間の間隔は5μ謡である。2つのリード線の間に設
けられた電極E3又はE、の幅Wlは20μmであるの
に対して、リード線の外側に設けられたt極E、又はE
、の幅W、は100μmである0個別電極E1の長さは
リード線Z、の幅を考えないで1mである。リード線の
幅と隣り合せる個別電極間又は隣り合せる電極E、又は
EN間の間隔はリード線の区域で100μ鋼以下である
。
第1図は偏極ならびに位相の連続リセット無し調節装置
(POLTRA)の−例の平面図、第2図は第1図の■
−■線に沿う断面図、第3図は同じ(■−■線に沿う断
面図である。 1・・・基板、10・・・ストライプ光導波路、E、乃
至E、I−t。・・・個別電極、Fl乃至FH*z。・
・・機能個所、PS・・・光バツフア層。
(POLTRA)の−例の平面図、第2図は第1図の■
−■線に沿う断面図、第3図は同じ(■−■線に沿う断
面図である。 1・・・基板、10・・・ストライプ光導波路、E、乃
至E、I−t。・・・個別電極、Fl乃至FH*z。・
・・機能個所、PS・・・光バツフア層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)光導波路(10)内を特定の方向(R)に伝搬する
TEモード(又はTMモード)の光波の伝搬定数β_1
と、この光波に対して垂直に偏極されたTMモード(又
はTEモード)の光波の伝搬定数β_2が特定の波長λ
_0において互に異る光導波路と、 特定方向(R)において等しい周期長(L)のm個の区
分(A_k、k=1、2、・・・、m)に分割された区
間(S)内に各区分に同数の機能個所(F_i、i=1
、2、・・・、N、)が収まるように分布されたN=n
・m個の機能個所を備え、 周期長(L)は両方の光波の特定波長λ_0に対応する
うなり波長Λ_0又はその整数倍に等しく、 両光波の偏極状態と位相が各機能個所(F_i)におい
て調整可能であり、偏極状態と位相の調整の大きさは各
機能個所に個別に定められ次式 K_i=K_0sin(η+α(i)),i=1、2、
・・・、Nで与えられる可変結合係数K_iによって決
められる(この場合K_0は結合係数K_1の可変最大
値、ηは少くとも0〜2πの範囲で調整可能な制御量、
α(i)は機能個所(F_i)の指数iに関係する特定
の機能を意味する)偏極と位相の調節装置において、 a)互に異る伝搬定数β_1とβ_2の差Δβ(λ)と
結合係数の最大値K_0(λ)が特定波長λ_0におい
て小さく、式Λ_0= π/√((Δβ(λ_0)/2)^2+(K_0(λ_
0))^2)によってλ_0に対応するうなり波長Λ_
0が少くとも波長λ_0の100倍となる光導波路が設
けられていること、 b)各区分(A_k)にn=4個の機能個所(F_i)
が収められること、 c)α(i)が次式 α(i)=(i−1)π・Λ_0/2・Λ_1,i=1
、2、・・・、NΛ1=π/√((Δβ(λ_1)/2
)^2+(K_0(λ_1))^2)λ_1:装置の事
実上の動作波長で一般に形態から与えられるものと異る
、 に従って選定されていることを特徴とする偏極と位相の
連続的無リセット調節装置。 2)周期長(L)がΛ_0に等しく(L=Λ_0)選定
されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の装置。 3)区分(A_k)の個数mが周期長(L)を固定して
5から10の間で変化することを特徴とする特許請求の
範囲第1項又は第2項記載の装置。 4)特定の波長λ_0に対応するうなり波長Λ_0が少
くとも特定波長λ_0の200倍から300倍になるよ
うに差Δβ(λ_0)と最大値K_0(λ_0)が小さ
く選定されていることを特徴とする特許請求の範囲第1
項乃至第3項の1つに記載の装置。 5)光導波路(10)が複屈折性の電気光学効果材料基
板上に集積されたストライプ導波路から成り、その長軸
(A)が基板の光学結晶軸(O)から小さい角度(ε)
だけ傾斜し、この傾斜に基く差デルタ(λ_0)が最大
値K_0(λ_0)と共に所望の周期長(L)を与える
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第4項の1
つに記載の装置。 6)光導波路(10)が電気光学効果材料の基板(1)
上に集積されたストライプ光導波路から成ること、区間
(S)の全長に亘ってストライプ光導波路の両側に電極
(E_E、E_M)が基板上に設けられ、それに電位差
(U_E)を加えることにより電界(E)が発生し、そ
の力線が区間(S)の全長に亘って導波路(10)をそ
の長軸(A)に垂直に横切ることを特徴とする特許請求
の範囲第4項記載の装置。 7)各機能個所(F_i、i=1、2、・・・、N)が
基板表面の光導波路(10)の上に分離して設けられた
電極(E_i、i=1、2、・・・N)によって画定さ
れ、この電極にはそれぞれの機能個所に対応し次式 U_i=U_0sin(η+(i−1)π・Λ_0/2
・Λ_1),i=1、2・・・、N で与えられる電圧U_iが印加される(この場合U_0
はU_iを示し得る可変最大電圧)ことを特徴とする特
許請求の範囲第4項又は第5項記載の装置。 8)光導波路(10)とその上に設けられた電極(E_
i)の間に光バッファ層(PS)が設けられていること
を特徴とする特許請求の範囲第7項記載の装置。 9)ストライプ光導波路(10)がニオブ酸リチウム基
板(1)内のドープされたストライプ区域から成ること
を特徴とする特許請求の範囲第5項乃至第8項の1つに
記載の装置。 10)ストライプ光導波路(10)が4成分物質のリブ
形導波路から成ることを特徴とする特許請求の範囲第5
項乃至第8項の1つに記載の装置。 11)4成分物質がInGaAsP/InPであること
を特徴とする特許請求の範囲第10項記載の装置。 12)機能個所(F_i)が等間隔で配置されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第11項の1
つに記載の装置。 13)同調範囲が極めて広い同軸可能フィルタとして使
用されることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第
12項の1つに記載の装置。 14)光波選択性のスイッチとして使用されることを特
徴とする特許請求の範囲第1項乃至第11項の1つに記
載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3631798 | 1986-09-18 | ||
DE3631798.5 | 1986-09-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6378123A true JPS6378123A (ja) | 1988-04-08 |
Family
ID=6309863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62231955A Pending JPS6378123A (ja) | 1986-09-18 | 1987-09-16 | 偏極と位相の連続的無リセット調整装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4832431A (ja) |
EP (1) | EP0260595B1 (ja) |
JP (1) | JPS6378123A (ja) |
AT (1) | ATE86766T1 (ja) |
DE (1) | DE3784603D1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3883492T2 (de) * | 1987-11-20 | 1993-12-23 | Ericsson Telefon Ab L M | Verfahren zur Anordnung eines polarisationsrichtenden optoelektronischen Schalters und ein Schalter dafür. |
US4966431A (en) * | 1989-08-10 | 1990-10-30 | At&T Bell Laboratories | Integrated-optic endless polarization transformer |
US5146518A (en) * | 1990-03-30 | 1992-09-08 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Optical directional coupler device and a method of driving same |
JP2902082B2 (ja) * | 1990-08-30 | 1999-06-07 | 沖電気工業株式会社 | 光波長フィルタ及びその駆動方法 |
US5202941A (en) * | 1991-12-02 | 1993-04-13 | Telefonaktiebolaget L M Ericsson | Four section optical coupler |
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DE4230932A1 (de) * | 1992-09-16 | 1994-06-16 | Deutsche Aerospace | Einrichtung für die Erzeugung von Rückkopplungssignalen zur Regelung optischer Überwachungskreise (PLL) |
JPH0829738A (ja) * | 1994-07-18 | 1996-02-02 | Nikon Corp | 防振ズームレンズ |
US5611005A (en) * | 1996-04-26 | 1997-03-11 | Lucent Technologies, Inc. | High-speed polarization scrambler with adjustable chirp |
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US6483954B2 (en) * | 2000-12-20 | 2002-11-19 | Intel Corporation | Method and apparatus for coupling to regions in an optical modulator |
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US7283708B2 (en) * | 2003-12-30 | 2007-10-16 | The Boeing Company | Digitally controlled optical fiber delay line |
US7542686B2 (en) * | 2004-02-20 | 2009-06-02 | Alcatel-Lucent Usa Inc. | Reset free devices |
US20050185970A1 (en) * | 2004-02-20 | 2005-08-25 | Madsen Christi K. | Reset free devices |
US8373852B2 (en) | 2007-11-26 | 2013-02-12 | Exfo Inc. | Optical waveguide rotator mechanism, birefringence-inducing element and polarization control devices employing either or both and methods of using same |
DE102020202819A1 (de) * | 2020-03-05 | 2021-09-09 | Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung | LiDAR-Vorrichtung |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US4220395A (en) * | 1974-05-13 | 1980-09-02 | Regents Of University Of California | Polarization converter and circuit elements for use in optical waveguides |
US4384760A (en) * | 1980-12-15 | 1983-05-24 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Polarization transformer |
US4415226A (en) * | 1980-12-31 | 1983-11-15 | Battelle Memorial Institute | Apparatus for controlling light in electrooptic waveguides with individually addressable electrodes |
JPS57158616A (en) * | 1981-03-25 | 1982-09-30 | Ricoh Co Ltd | Optical coupler |
JPS5891425A (ja) * | 1981-11-27 | 1983-05-31 | Nec Corp | 導波形偏光調整器 |
JPS5993430A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-29 | Fujitsu Ltd | 光回路素子 |
US4533207A (en) * | 1983-06-21 | 1985-08-06 | At&T Bell Laboratories | Wavelength tunable TE to TM mode converter |
US4613204A (en) * | 1983-11-25 | 1986-09-23 | Battelle Memorial Institute | D/A conversion apparatus including electrooptical multipliers |
FR2579774B1 (fr) * | 1985-03-26 | 1988-07-08 | Thomson Csf | Dispositif optique integre de conversion de polarisation optique |
-
1987
- 1987-09-09 DE DE8787113205T patent/DE3784603D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-09-09 AT AT87113205T patent/ATE86766T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-09-09 EP EP87113205A patent/EP0260595B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-11 US US07/095,240 patent/US4832431A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-09-16 JP JP62231955A patent/JPS6378123A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE86766T1 (de) | 1993-03-15 |
US4832431A (en) | 1989-05-23 |
EP0260595A2 (de) | 1988-03-23 |
EP0260595A3 (en) | 1989-11-15 |
EP0260595B1 (de) | 1993-03-10 |
DE3784603D1 (de) | 1993-04-15 |
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