JPS6369246A - Icプローブ装置 - Google Patents

Icプローブ装置

Info

Publication number
JPS6369246A
JPS6369246A JP62217759A JP21775987A JPS6369246A JP S6369246 A JPS6369246 A JP S6369246A JP 62217759 A JP62217759 A JP 62217759A JP 21775987 A JP21775987 A JP 21775987A JP S6369246 A JPS6369246 A JP S6369246A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chuck
probe
contact
carrier
controller
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP62217759A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0469816B2 (ja
Inventor
デルマー・イー・スナイダ
コーネリス・ティー・ビーネンダール
セオドール・ジー・クリードン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tektronix Inc
Original Assignee
Tektronix Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tektronix Inc filed Critical Tektronix Inc
Publication of JPS6369246A publication Critical patent/JPS6369246A/ja
Publication of JPH0469816B2 publication Critical patent/JPH0469816B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
    • G01R31/2887Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks involving moving the probe head or the IC under test; docking stations

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はIC(集積回路)プローブ装置、特にICウェ
ハ又はチップの動作テストに好適な装置に関する。
〔従来技術とその問題点〕
量産ICテスト用でないエンジニアリング用ICテスト
、即ち新たに設計されたICの特性評価等に使用するI
Cプローブ装置はICチップを載置する固定(静止)台
を有する。この台に対してプローブが可動であって、プ
ローブの接触素子をチップの接触パッドと電気的に接触
させるよう構成している。このプローブは1984年1
1月16日付米国特許出願第672.846 号明細書
に記載する如きセラミックプローブであってもよい。こ
の種のセラミックプローブを使用するプローブステーシ
ョンの2種の実用装置では、複数のプローブを支持構体
上に取付け、各プローブをX−Y (水平)軸に沿って
相互に移動し、各接触素子のパターンを被測定チップの
接触バンドパターンに対応させ、且つ2(垂直)軸に沿
って接触素子を共通面内で位置させる。プローブを支持
構体上で適切に位置させると、支持構体の1例では2軸
精密ねじを用いて水平方向へ移動させ、プローブの接触
素子を被測定チップの接触パッドと位置合わせ(アライ
メント)する。他の例では、プローブ支持構体は静止し
ており、被測定チップがグリース板上で水平方向へ移動
する。いずれの場合とも、次に支持構体を下げてプロー
ブの接触素子とチップの接触パッド間の物理的接触が行
われるようにする。プローブの支持構体を正確に加工す
ることが困難であり、プローブの接触素子の平面性を正
確に実現するのが極めて困難であるので、この技法は面
倒であることが判っている。更にまた、この支持構体は
重く且つ大型であるので、支持構体を垂直方向へ高精度
に移動するのが困難である。第1の理由により、プロー
ブの1以上の接触素子は電気的接触を確立するに足る十
分な力で被測定チップの接触パッドに接触できないか、
接触パッドに全く接触しない。もしオペレータが支持構
体を垂直方向に移動させて総ての接触素子が好ましい接
触を図ると、2番目のファクタが支持構体の移!JJ精
度を制限する。その結果、セラミックプローブの1個又
は複数個がチップのパッドとプローブの接触素子間の接
触力により過度の歪みを生じて破壊するかも知れない。
更に、支持構体の性質により、支持構体を垂直方向に移
動すると、接触素子の同一平面性が損なわれるかも知れ
ない。
エレクトログラス社のモデル1034 Xオートブロー
バは上面にプローブが取付けられ使用時に静止している
水平面を定めるテーブル(台)を有する。
2軸ステツピングモータを用いてテーブル上へウニハチ
セックを移動し、ウェハチャック上のチップの接触パッ
ドをプローブの接触素子の下に位置させる。ウェハチャ
ックを正しい水平位置にすると、Z軸ステッピングモー
タを作動してチップを持ち上げチップの接触パッドとプ
ローブの接触素子間の物理的接触を行わせる。ウェハチ
ャックの最初の位置は、ジョイスティックを用いて手動
で行う。このジョイスティックはX及びY軸パルス発生
器に結合されて、X、Y軸ステッピングモータを駆動す
るパルスを発生する。初期位置決めが終わった後、チャ
ンクを順次のグイ位置へ何ろオペレータの関与なく自動
的に進める。
〔発明の概要〕
本発明のICプローブ装置は、略平面状の上面を有する
テーブル(台)と、そのテーブル上に上面から離間して
位置したICプローブと、チャックキャリヤと、チアツ
クとにより構成される。このチャックキャリヤは略平坦
な下面を具えテーブルの上面と向かい合って配置され、
テーブルの上面とチャックキャリヤの下面間に粘着性材
料の被膜を設けている。チャックキャリヤはテーブル上
にとどまったままでテーブルに対して水平方向に移動で
きるよう手動で移動可能である。チャックはチャンクキ
ャリヤに取付けられるが、チャックキャリヤに対して垂
直方向に移動可能である。チャックとチャックキャリヤ
間の最も適切な(プライム)機械的移動が行われると、
チャックキャリヤに対してチャックが垂直方向に移動す
る。
この粘着性材料はオペレータがチアツクをつかんで水平
方向に移動するとき触覚フィードバックを与え、オペレ
ータが高精度でチャックを水平移動の制御を可能にする
。従って、水平方向の分解能と反復体は、水平移動の制
御にメカトロニクス(電気機械)手法を使用する既存の
プローブステーションに比して優れている。チャックキ
ャリ4.・とチャック間で適切なメカニカル移動が作動
するとすれば、プローブ支持構体の垂直移動に関する問
題が解決できる。
〔実施例〕
第1図に示すプローブ装fit(ステーション)は精密
加工した上面(4)を有するテーブル(2)を具えてい
る。このプローブステーションを使用するには、上面(
4)が水平になるよう配置する。ブリッジ(橋脚状〉構
体(6)をテーブル(4)に取付け、これにプローブ(
8)を上面(4)に対して固定した高さに固定する。
プローブ(8)の詳細は図示していないが、上述したセ
ラミック製プローブ、又は1985年12月23日付米
国特許出願第812.145号明細書(対応日本特許、
特開昭62−163973号公報)に開示する如きポリ
イミドプローブであってもよい。セラミック製プローブ
を使用した場合には、このブリッジ構体にXYZマニピ
ュレータ(操作器)を組込んで、多数のプローブ相互間
を移動できるようにする。もしポリイミドプローブを使
用すると、ブリッジ構体はプローブがテーブルに対して
移動を阻止するよう設計してもよい。また、ブリッジ構
体はポリイミドプローブとセラミックプローブとを(X
YZマニピュレータと共に)交換可能に設計してもよい
チャックキャリヤ(10)は面(4)上に停止する。ナ
ラツタキャリヤ(10)は精密研磨した下面(12)を
有し、グリース被膜が上面(4)と下面(12)面に挿
入されている。上面(4)でのチャックキャリヤ(10
)の移動はグリース被膜により粘着性ダンピング力によ
ってのみ実質的に制約される。よって、チャックキャリ
ヤ(lO)は手動で力を加えることによりXY(水平)
方向に容易に移動することができ、手の力を抜くと粘着
性ダンピング力により略瞬間的に移動停止する。チャッ
クキャリヤを介して粘着性ダンピング力によりオペレー
タに与えられる触覚帰還により、チャックキャリヤを面
(4)の任意の位置(チャックキャリヤ自体の寸法及び
形状で決まる限界内)に高精度で移動することができる
(図中では1つのみを示す)一連のプレー) (14)
はチャックキャリヤ(10)に固定され、チャックキャ
リヤと共に移動し、上面(4)及びグリース被膜からゴ
ミや他の汚染物を排除し、グリースにより与えられる触
覚帰還を保存するっ チャック(20)はチャックキャリヤ(10)に載置さ
れ、チャックキャリヤと共にX及びY方向に移動する。
このチャックキャリヤはケーブル(24)を介してコン
トローラ(60)から電気信号を受ける2個の固定子巻
線を有するステッピングモータ(22)を組込んでいる
。このモータはねじ(26)を各パルス毎に所定角度だ
け回転応答させる。このねじ(26)はチャック(20
)に固定されたナツト←12)とねじ係合している。ガ
イド(図示せず)はチャックをチャックキャリヤに対し
てねじ(26)の中心軸に平行方向に線形移動を可能に
するが、チャックがナラツタキャリヤに対して回転する
のを阻止する。従って、ねじ(26)をモータ(22)
により回転すると、チャックはチャックキャリヤに対し
て上下する。
モータ(22)とねじ(26)はコントローラ(60)
により与えられる各パルスに対してチャックが約0.0
13mmの距離だけ上下するようにする。限界スイッチ
(28)がチャックキャリヤ上に取付けられ、それが限
界点まで下がるときチャックにより付勢される。
この限界スイッチはケーブル(24)によりコントロー
ラ(60)に接続される。
チャック(20)は凹部を有するウェハ受け上面(44
)を具えており、この凹面は真空ポンプに接続される管
(46)で連結されている。従って、プローブしたいチ
ップを含むウェハ(48) (第1図)がウェハ受け面
(44)に配置され、真空ポンプを付勢すると、真空は
凹部とつながり、ウェハ(48)は面〈44)に確実に
保持される。別の管(52)が面(44)のすぐ下方に
形成され、管(52)を介して帰還しておりウェハ(4
8)の温度を制御する温度調整流体供給源に接続されて
いる。
また、プローブステーションには図中では単に模型的に
示す顕微鏡(54)を有し、これを通してプローブステ
ーションのユーザはプローブの接触素子とチャックに保
持するウェハのICチップの接触パッドを観察すること
ができるようにする。
コントローラ(60)はメモリを有し且つ、5つの異な
る動作状態を有する。コントローラ(60)がHOME
状態にあると、コントローラ(60)はパルスを与えて
チャックが限界スイッチに係合するまでチャックを下げ
、次にチャックを僅かに上げる。これがホーム位置であ
る。チアツクがホーム位置になる為に持ち上げられる量
は、コントローラ(60)のメモリにストアされたデー
タにて定まる。チアツク(20)がホーム位置になると
、チャックキャリヤ(10)はX及びY方向に移動し、
プローブすべきチップの接触パッドが、顕微鏡(54)
で観察して決めたプローブの接触位置の略直下に来るよ
うにする。次にコントローラ(60)をM A N U
 A L状態にする。
!、+ A N U A L状態では、調節つまみ(6
2)を用いてチャック(20)の高さを調整する。即ち
、つまみ(62)は1回転毎に所定数のパルスを発生す
るパルス発生器(64)に接続される。これらパルスを
モータ(22)に供給して、このモータによりねじ(2
6)をつまみ(62)の回転方向に応じて一方又は他方
に回転し、チャック(20)を上下する。コントローラ
(60)が!、l A N U A L状態にあると、
オペレータはチャック(20)をホーム位置から被試験
チップの接触パッドがプローブの接触素子と電気的接触
するまで持ち上げる方向へつまみ(62)を回転する。
この状態は顕微鏡(54)により監視するが(図示せず
も)プローブに接続された電子計器により検出すること
が可能である。チャック(20)がこの位置にあると、
オペレータはチャックキャリヤ(10〉位置の微調整を
行い、チップの接触パッドがプローブの接触素子に正常
に接触されることを保証する。また、オペレータはコン
トローラ(60)を5TOR巳状態(ごすることもでき
る。この状態では、チャック(20)をホーム位置から
接触パッドが接触素子に丁度接触するまで持ち上げるに
必要なパルス発生器(64)が発生するパルス数を表す
デジタルワードをコントローラ(60)がそのメモリに
ストアする。次に、オペレータはコントローラ(60)
をPROBB 状態にする。もし、コントローラがMA
NUAL状態にあると、オペレータは不注意によりつま
み(62)をチッヤクが下がる方向に回転し、チャック
は限界スイッチ(28)と係合し、コントローラ(60
)はHO!、I E状態を入力することにより応答し、
つまみ(62)をディスエーブルし、チャックをホーム
位置に戻す。
PROBB状態では、コントローラは付加パルスをモー
タ(22)に供給して、プローブ又はウェハのいずれか
を破損することなくプローブの接触素子と被試験チップ
の接触パッド間が確実に接触するようチャックを十分に
持ち上げる。セラミックプローブの場合、プローブには
ストレンゲージを組込んでプローブの歪みを検出し、P
ROBE 状態ではコ ゛ントローラ(60)はモータ
にパルスを供給し続け、ストレンゲージが検出した歪み
の程度が適正接触圧になったことを示すと停止する。ポ
リイミドプローブの場合には、接触素子はポリイミド被
膜上に形成され、接触圧は弾性変形バックアップ部材(
例えばエラストマ)で行われるので、限界スイッチを用
いポリイミド被膜の最高反りを定め、この値に到達する
ときコントローラ(60)に対して信号を送る。限界ス
イッチが出した信号はコントローラ(60)がモータに
付加パルスを供給するのをディスエーブルする。第2図
の回路ブロック(66)はプローブに関連ないし付随す
るストレンゲージ又は限界スイッチを示すものである。
或いは、これに加えて、ポリイミドプローブの場合には
、十分な接触圧を加えるに必要な付加パルスは上述した
パンクアンプ部材の機械的特性で決定してコントローラ
(60)のメモリにストアしてもよい。
特定のチップがプローブされ、必要な測定が行われると
、オペレータはコントローラ(60)にIIOMB状態
を人力させ、且つコントローラはチャック(20)が限
界スイッチ(28)に係合するまで下げ、次にチャック
を僅かに持ち上げてチャックをホーム位置に戻す。チャ
ンクがホーム位置にあると、オペレータはチャックキャ
リヤ(10)の水平位置を調整し、他のチップの接触パ
ッドをプローブの接触素子の下に位置させ、次にコント
ローラ(60)が丁度接触(J[IST TOUCHI
NG)  状態にする。この状態では、コントローラは
5TOPεモードでストアした数を読み出してモータフ
22)にそのパルス数を供給する。従って、チャックは
ホーム位置から、次のチップの接触パッドがプローブの
接触素子に丁度接触する位置に上げる。チャックの水平
位置はこの時点で調整してチップの接触パッドがプロー
ブの接触素子と正しくアライメントされることを保証し
、アライメントが完了するとオペレータはコントローラ
(60)をPROBB 状態にする。
上述の説明から、明らかな如く、チャックをホーム位置
から丁度接触する位置へチッヤクを持ち上げるに要する
パルス数を1度ストアすると、Z軸移動はオペレータが
コントローラ(60)に与えた命令に応じて自動的に行
われ、しかもプローブ又はチップを破壊する危険は軽減
するので、本発明によるプローブステーションは半自動
であると言える。チャックの水平移動を直接手動調整す
ると、チャックが任意の希望水平位置に迅速且つ正確に
移動可能にする。コントローラがHOM巳、 JUST
 TO−LICHING又はPROBB 状態にあると
、ステッピングモ−タに印加されるパルス速度は、モー
タが静止状態から円滑に加速又は減速され、チップ及び
プローブの振動衝撃は回避できる。
以上は本発明のICプローブ装置を好適実施例に基づき
詳述したが、本発明は何ら斯る実施例のみに限定すべき
ではなく、必要に応じて種々の変形変更が可能であり、
これらも本発明の技術範囲に包含されること勿論である
。例えば、本発明はウェハ状、即ちグイ (又はチップ
状)に切断する前にブロービングすることにつき説明し
たが、真空チャックの設計を適当に行うことにより、本
発明は、グイ状のチップのブロービング又はハイプリン
トICの他の半導体エレクトロニクスデバイスのブロー
ビングにも適用可能である。
〔発明の効果〕。
チッヤクキャリアはテーブル面の粘着膜にて滑動するの
で水平移動が極めて滑らかでありウェハとプローブ間の
正しいアライメントが可能である。
チャックとプローブ間の間隔は例えばステッピングモー
タにより高精度且つ電気的に迅速に行うことが可能であ
り、またメモリ用を用いることにより予め定めた複数位
置へ自動的に移動できるので、正しい接触、迅速な動作
が可能となり、量産用IC(ウェハ又はチップ)プロー
ブ装置に好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるICプローブ装置の一部断面とし
た正面図、第2図は第1図の−お拡大且つ詳細図である
。 (2)はテーブル、(8)はプローブ、(10)はチャ
ックキャリヤ、(20)はチッヤク、(22)はステッ
ピングモータ、(26)はねじ、(28)は限界スイッ
チ、(44)はウェハ受け面、(48)はウェハ、(5
8)は顕微鏡、(62)は調節つまみである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、テーブルと、該テーブル面に平行に固定されたプロ
    ーブと、上記テーブル面に滑動可能に配置されたチャッ
    クキャリヤと、該チャックキャリヤに可動的に取付けら
    れ上記プローブとの対向面に被試験デバイス受け部を有
    するチッャクとを具えるICプローブ装置。 2、上記チャックの上記プローブ方向への移動にステッ
    ピングモータとねじを用い、上記ステッピングモータの
    位置は予めストアした複数位置に自動的に設定可能にし
    たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のICプ
    ローブ装置。
JP62217759A 1986-09-08 1987-08-31 Icプローブ装置 Granted JPS6369246A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US905359 1986-09-08
US06/905,359 US4904933A (en) 1986-09-08 1986-09-08 Integrated circuit probe station

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6369246A true JPS6369246A (ja) 1988-03-29
JPH0469816B2 JPH0469816B2 (ja) 1992-11-09

Family

ID=25420692

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62217759A Granted JPS6369246A (ja) 1986-09-08 1987-08-31 Icプローブ装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4904933A (ja)
EP (1) EP0260096A1 (ja)
JP (1) JPS6369246A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015105834A (ja) * 2013-11-28 2015-06-08 東京エレクトロン株式会社 電子部品検査装置、電子部品の検査方法、及び、検査方法のプログラム

Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5172053A (en) * 1989-02-24 1992-12-15 Tokyo Electron Limited Prober apparatus
US5012187A (en) * 1989-11-03 1991-04-30 Motorola, Inc. Method for parallel testing of semiconductor devices
US5345170A (en) * 1992-06-11 1994-09-06 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe station having integrated guarding, Kelvin connection and shielding systems
US6380751B2 (en) * 1992-06-11 2002-04-30 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe station having environment control enclosure
US5561377A (en) * 1995-04-14 1996-10-01 Cascade Microtech, Inc. System for evaluating probing networks
US6232789B1 (en) * 1997-05-28 2001-05-15 Cascade Microtech, Inc. Probe holder for low current measurements
US5621333A (en) * 1995-05-19 1997-04-15 Microconnect, Inc. Contact device for making connection to an electronic circuit device
US5731708A (en) * 1995-10-31 1998-03-24 Hughes Aircraft Company Unpackaged semiconductor testing using an improved probe and precision X-Y table
US6046599A (en) * 1996-05-20 2000-04-04 Microconnect, Inc. Method and device for making connection
US5914613A (en) * 1996-08-08 1999-06-22 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system with local contact scrub
US6002263A (en) * 1997-06-06 1999-12-14 Cascade Microtech, Inc. Probe station having inner and outer shielding
US5949002A (en) * 1997-11-12 1999-09-07 Teradyne, Inc. Manipulator for automatic test equipment with active compliance
US6256882B1 (en) 1998-07-14 2001-07-10 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6343369B1 (en) * 1998-09-15 2002-01-29 Microconnect, Inc. Methods for making contact device for making connection to an electronic circuit device and methods of using the same
US6578264B1 (en) 1999-06-04 2003-06-17 Cascade Microtech, Inc. Method for constructing a membrane probe using a depression
US6445202B1 (en) * 1999-06-30 2002-09-03 Cascade Microtech, Inc. Probe station thermal chuck with shielding for capacitive current
US6496026B1 (en) 2000-02-25 2002-12-17 Microconnect, Inc. Method of manufacturing and testing an electronic device using a contact device having fingers and a mechanical ground
US6838890B2 (en) * 2000-02-25 2005-01-04 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6483336B1 (en) * 2000-05-03 2002-11-19 Cascade Microtech, Inc. Indexing rotatable chuck for a probe station
US6914423B2 (en) * 2000-09-05 2005-07-05 Cascade Microtech, Inc. Probe station
US6965226B2 (en) * 2000-09-05 2005-11-15 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
DE20114544U1 (de) 2000-12-04 2002-02-21 Cascade Microtech Inc Wafersonde
AU2002327490A1 (en) 2001-08-21 2003-06-30 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
WO2003020467A1 (en) * 2001-08-31 2003-03-13 Cascade Microtech, Inc. Optical testing device
US6777964B2 (en) * 2002-01-25 2004-08-17 Cascade Microtech, Inc. Probe station
EP1509776A4 (en) * 2002-05-23 2010-08-18 Cascade Microtech Inc TEST PROBE OF A DEVICE SUBMITTED TEST
US6847219B1 (en) * 2002-11-08 2005-01-25 Cascade Microtech, Inc. Probe station with low noise characteristics
US6724205B1 (en) * 2002-11-13 2004-04-20 Cascade Microtech, Inc. Probe for combined signals
US7250779B2 (en) * 2002-11-25 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe station with low inductance path
US6861856B2 (en) * 2002-12-13 2005-03-01 Cascade Microtech, Inc. Guarded tub enclosure
US7221172B2 (en) * 2003-05-06 2007-05-22 Cascade Microtech, Inc. Switched suspended conductor and connection
US7492172B2 (en) * 2003-05-23 2009-02-17 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
US7057404B2 (en) * 2003-05-23 2006-06-06 Sharp Laboratories Of America, Inc. Shielded probe for testing a device under test
US7250626B2 (en) * 2003-10-22 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe testing structure
US7187188B2 (en) * 2003-12-24 2007-03-06 Cascade Microtech, Inc. Chuck with integrated wafer support
GB2425844B (en) * 2003-12-24 2007-07-11 Cascade Microtech Inc Active wafer probe
US7330041B2 (en) * 2004-06-14 2008-02-12 Cascade Microtech, Inc. Localizing a temperature of a device for testing
JP4980903B2 (ja) * 2004-07-07 2012-07-18 カスケード マイクロテック インコーポレイテッド 膜懸垂プローブを具えるプローブヘッド
WO2006031646A2 (en) 2004-09-13 2006-03-23 Cascade Microtech, Inc. Double sided probing structures
US7656172B2 (en) 2005-01-31 2010-02-02 Cascade Microtech, Inc. System for testing semiconductors
US20060169897A1 (en) * 2005-01-31 2006-08-03 Cascade Microtech, Inc. Microscope system for testing semiconductors
US7535247B2 (en) 2005-01-31 2009-05-19 Cascade Microtech, Inc. Interface for testing semiconductors
US7403028B2 (en) 2006-06-12 2008-07-22 Cascade Microtech, Inc. Test structure and probe for differential signals
US7723999B2 (en) * 2006-06-12 2010-05-25 Cascade Microtech, Inc. Calibration structures for differential signal probing
US7764072B2 (en) * 2006-06-12 2010-07-27 Cascade Microtech, Inc. Differential signal probing system
US7443186B2 (en) * 2006-06-12 2008-10-28 Cascade Microtech, Inc. On-wafer test structures for differential signals
US7876114B2 (en) 2007-08-08 2011-01-25 Cascade Microtech, Inc. Differential waveguide probe
US7888957B2 (en) * 2008-10-06 2011-02-15 Cascade Microtech, Inc. Probing apparatus with impedance optimized interface
WO2010059247A2 (en) 2008-11-21 2010-05-27 Cascade Microtech, Inc. Replaceable coupon for a probing apparatus
US8319503B2 (en) * 2008-11-24 2012-11-27 Cascade Microtech, Inc. Test apparatus for measuring a characteristic of a device under test

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3094212A (en) * 1961-12-14 1963-06-18 Gen Precision Inc Automatic component tester
US3446065A (en) * 1965-08-11 1969-05-27 Transistor Automation Corp Automatic probing apparatus
US3785507A (en) * 1968-12-19 1974-01-15 Teledyne Inc Die sorting system
US3761808A (en) * 1970-07-08 1973-09-25 Aai Corp Testing arrangement
US3743904A (en) * 1972-05-01 1973-07-03 Teledyne Inc Precision positioning mechanism, particularly for positioning test probes and the like with respect to micro-electronic units
US3835750A (en) * 1973-05-14 1974-09-17 Unimation Inc Record-playback manipulator system utilizing hydraulic microbit actuators
US3930809A (en) * 1973-08-21 1976-01-06 Wentworth Laboratories, Inc. Assembly fixture for fixed point probe card
US3936743A (en) * 1974-03-05 1976-02-03 Electroglas, Inc. High speed precision chuck assembly
US3970830A (en) * 1974-06-24 1976-07-20 Cone-Blanchard Machine Company Computer controlled machine tool contouring system
US3958740A (en) * 1974-07-08 1976-05-25 Dixon Automation, Inc. Automatic component assembly machine and method relating thereto
US3996517A (en) * 1975-12-29 1976-12-07 Monsanto Company Apparatus for wafer probing having surface level sensing
US4201939A (en) * 1978-06-26 1980-05-06 Texas Instruments Incorporated Multiprobe contact monitor and control system
US4266191A (en) * 1979-04-18 1981-05-05 Spano John D Test probe alignment apparatus
US4500836A (en) * 1980-10-31 1985-02-19 Pacific Western Systems, Inc. Automatic wafer prober with programmable tester interface
US4590422A (en) * 1981-07-30 1986-05-20 Pacific Western Systems, Inc. Automatic wafer prober having a probe scrub routine
JPS5968003A (ja) * 1982-10-13 1984-04-17 Toyoda Mach Works Ltd 数値制御工作機械の非常機械原点復帰装置
DE3336854C2 (de) * 1983-10-11 1986-01-16 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Tasteinrichtung zur Ermittlung von Lage und/oder Abmessungen eines Prüfobjekts

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015105834A (ja) * 2013-11-28 2015-06-08 東京エレクトロン株式会社 電子部品検査装置、電子部品の検査方法、及び、検査方法のプログラム

Also Published As

Publication number Publication date
EP0260096A1 (en) 1988-03-16
US4904933A (en) 1990-02-27
JPH0469816B2 (ja) 1992-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6369246A (ja) Icプローブ装置
KR100248569B1 (ko) 프로우브장치
US20020024354A1 (en) Test apparatus for semiconductor circuit and method of testing semiconductor circuits
US6885197B2 (en) Indexing rotatable chuck for a probe station
US4934064A (en) Alignment method in a wafer prober
US5982182A (en) Interface apparatus for automatic test equipment with positioning modules incorporating kinematic surfaces
US3345567A (en) Multipoint probe apparatus for electrically testing multiple surface points within small zones
US20070240322A1 (en) Testing system for flatness and parallelism
US5166603A (en) Probe method
JP2001228212A (ja) 針荷重測定方法、針荷重設定方法及び検査装置
CN110501539A (zh) 用于探针卡制造、检测及维修的设备及其使用方法
CN107677948A (zh) 测量系统
US7218097B2 (en) Wafer test equipment and method of aligning test equipment
US4694776A (en) Step and repeat apparatus
JPS60256030A (ja) 微小荷重負荷装置
EP0758454B1 (en) Test system for equipped and unequipped printed circuit boards
JP2932464B2 (ja) 半導体チップマーキング装置のマーキング位置決め方法
JP2932465B2 (ja) 半導体チップマーキング装置のマーキング位置決め方法
US7081768B2 (en) Device for testing printed circuit boards
JPH07181031A (ja) 測定用補助台
JPS614968A (ja) プロ−ブ装置及びプロ−ブカ−ド
JPS612080A (ja) プロ−ブ装置及びプロ−ブカ−ド
JPH06342832A (ja) ウェハプローバ装置
JPH09213757A (ja) ウエハプローブ容易化方法
US3426576A (en) Self-leveling scorsby machine

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees