JPH0469816B2 - - Google Patents

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JPH0469816B2
JPH0469816B2 JP62217759A JP21775987A JPH0469816B2 JP H0469816 B2 JPH0469816 B2 JP H0469816B2 JP 62217759 A JP62217759 A JP 62217759A JP 21775987 A JP21775987 A JP 21775987A JP H0469816 B2 JPH0469816 B2 JP H0469816B2
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JP
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probe
chuck
contact
carrier
controller
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JP62217759A
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JPS6369246A (ja
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Ii Sunaida Derumaa
Teii Biinendaaru Koonerisu
Jii Kuriidon Seodooru
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Tektronix Inc
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Tektronix Inc
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Publication of JPS6369246A publication Critical patent/JPS6369246A/ja
Publication of JPH0469816B2 publication Critical patent/JPH0469816B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
    • G01R31/2887Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks involving moving the probe head or the IC under test; docking stations

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はIC(集積回路)プローブ装置、特にIC
ウエハ又はチツプの動作テストに好適な装置に関
する。
〔従来技術とその問題点〕
量産ICテスト用でないエンジニアリング用IC
テスト、即ち新たに設計されたICの特性評価等
に使用するICプローブ装置はICチツプを載置す
る固定(静止)台を有する。この台に対してプロ
ーブが可動であつて、プローブの接触素子をチツ
プの接触パツドを電気的に接触させるよう構成し
ている。このプローブは1984年11月16日付米国特
許出願第672846号明細書に記載する如きセラミツ
クプローブであつてもよい。この種のセラミツク
プローブを使用するプローブステーシヨンの2種
の実用装置では、複数のプローブを支持構体上に
取付け、各プローブをX−Y(水平)軸に沿つて
相互に移動し、各接触素子のパターンを被測定チ
ツプの接触パツドパターンに対応させ、且つZ
(垂直)軸に沿つて接触素子を共通面内で位置さ
せる。プローブを支持構体上で適切に位置させる
と、支持構体の1例では2軸精密ねじを用いて水
平方向に移動させ、プローブの接触素子を被測定
チツプの接触パツドと位置合わせ(アライメン
ト)する。他の例では、プローブ支持構体は静止
しており、被測定チツプがグリース板上で水平方
向へ移動する。いずれの場合とも、次に支持構体
を下げてプローブの接触素子とチツプの接触パツ
ド間の物理的接触が行われるようにする。プロー
ブの支持構体を正確に加工することが困難であ
り、プローブの接触素子の平面性を正確に実現す
るのが極めて困難であるので、この技法は面倒で
あることが判つている。更にまた、この支持構体
は重く且つ大型であるので、支持構体を垂直方向
へ高精度に移動するのが困難である。第1の理由
により、プローブの1以上の接触素子は電気的接
触を確立するに足る十分な力で被測定チツプの接
触パツドに接触できないか、接触パツドに全く接
触しない。もしオペレータが支持構体を垂直方向
に移動させて総ての接触素子が好ましい接触を図
ると、2番目のフアクタが支持構体の移動精度を
制限する。その結果、セラミツクプローブの1個
又は複数個がチツプのパツドとプローブの接触素
子間の接触力により過度の歪みを生じて破壊する
かも知れない。更に、支持構体の性質により、支
持構体を垂直方向に移動すると、接触素子の同一
平面性が損なわれるかも知れない。
エレクトログラス社のモデル1034Xオートプロ
ーバは上面にプローブが取付けられ使用時に静止
している水平面を定めるテーブル(台)を有す
る。2軸ステツピングモータを用いてテーブル上
へウエハチヤツクを移動し、ウエハチヤツク上の
チツプの接触パツドをプローブの接触素子の下に
位置させる。ウエハチヤツクを正しい水平位置に
すると、Z軸ステツピングモータを作動してチツ
プを持ち上げチツプの接触パツドとプローブの接
触素子間の物理的接触を行わせる。ウエハチヤツ
クの最初の位置は、ジヨイステイツクを用いて手
動で行う。このジヨイステイツクはX及びY軸パ
ルス発生器に結合されて、X,Y軸ステツピング
モータを駆動するパルスを発生する。初期位置決
めが終わつた後、チヤツクを順次のダイ位置へ何
らオペレータの関与なく自動的に進める。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、プローブの支持構体を移動さ
せせる必要のないICプローブ装置を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、高程度でチヤツ
クの水平移動の制御が可能なICプローブ装置を
提供することである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明によるICプローブ装置は、平らなテー
ブル表面(又は上面)4を有するテーブル2上に
載置したチヤツクキヤリア10を具え、このテー
ブル表面4から一定の位置にICプローブ8が支
持されている。テーブル表面4とチヤツクキヤリ
ア10の間に、グリースなどで粘着性薄膜層5を
設ける。これによりチヤツクキヤリア10は、手
動で力を加えればテーブル表面4上でXY(水平)
方向に容易に滑動して移動できる一方、力を加え
るのをやめれば略瞬間的に滑動を停止できる。チ
ヤツクキヤリア10の上には、被試験デバイス
(ICウエハ)受け部44を有するチヤツク20が
載置されている。チヤツク20とチヤツクキヤリ
ア10の間に設けられた移動手段22,26及び
42により、チヤツク20はテーブル表面4に垂
直に、プローブ8の方向へ移動できる。
粘着性薄膜層5はオペレータがチヤツクをつか
んで水平方向に移動すると触覚フイードバツクを
与え、オペレータが高精度でチヤツクを水平移動
の制御を可能にする。従つて、水平方向の分解能
と反復体は、水平移動の制御にメカトロニクス
(電気機械)手法を使用する既存のプローブステ
ーシヨンに比して優れている。チヤツクキヤリヤ
とチヤツク間で適切なメカニカル移動が作動する
とすれば、プローブ支持構体の垂直移動に関する
問題が解決できる。
〔実施例〕
第1図に示すプローブ装置(ステーシヨン)は
精密加工した上面4を有するテーブル2を具えて
いる。このプローブステーシヨンを使用するに
は、上面4が水平になるよう配置する。ブリツジ
(橋脚状)構体6をテーブル4に取付け、これに
プローブ8を上面4に対して固定した高さに固定
する。プローブ8の詳細は図示していないが、上
述したセラミツク製プローブ、又は1985年12月23
日付米国特許出願第812145号明細書(対応日本特
許、特開昭62−163973号公報)に開示する如きポ
リイミドプローブであつてもよい。セラミツク製
プローブを使用した場合には、このブリツジ構体
にXYZマニピユレータ(操作器)を組込んで、
多数のプローブ相互間を移動できるようにする。
もしポリイミドプローブを使用すると、ブリツジ
構体はプローブがテーブルに対して移動を阻止す
るよう設計してもよい。また、ブリツジ構体はポ
リイミドプローブとセラミツクプローブとを
(XYZマニピユレータと共に)交換可能に設計し
てもよい。
チヤツクキヤリヤ10は面4上に停止する。チ
ヤツクキヤリヤ10は精密研磨した下面12を有
し、グリース薄膜層5が上面4と下面12間に挿
入されている。上面4でのチヤツクキヤリヤ10
の移動はグリース薄膜層5により粘着性ダンピン
グ力によつてのみ実質的に制約される。よつて、
チヤツクキヤリヤ10は手動で力を加えることに
よりXY(水平)方向に容易に移動することがで
き、手の力を抜くと粘着性ダンピング力により略
瞬間的に移動停止する。チヤツクキヤリヤを介し
て粘着性ダンピング力によりオペレータに与えら
れる触覚帰還により、チヤツクキヤリヤを面4の
任意の位置(チヤツクキヤリヤ自体の寸法及び形
状で決まる限界内)に高精度で移動することがで
きる。
(図中では1つのみを示す)一連のプレート1
4はチヤツクキヤリヤ10に固定され、チヤツク
キヤリヤと共に移動し、上面4及びグリース薄膜
層5からゴミや他の汚染物を排除し、グリースに
より与えられる触覚帰還を保存する。
チヤツク20はチヤツクキヤリヤ10に載置さ
れ、チヤツクキヤリヤと共にX及びY方向に移動
する。このチヤツクキヤリヤはケーブル24を介
してコントローラ60から電気信号を受ける2個
の固定子巻線を有するステツピングモータ22を
組込んでいる。このモータはねじ26を各パルス
毎に所定角度だけ回転応答させる。このねじ26
はチヤツク20に固定されたナツト42とねじ係
合している。ガイド(図示せず)はチヤツクをチ
ヤツクキヤリヤに対してねじ26の中心軸に平行
方向に線形移動を可能にするが、チヤツクがチヤ
ツクキヤリヤに対して回転するのを阻止する。従
つて、ねじ26をモータ22により回転すると、
チヤツクはチヤツクキヤリヤに対して上下する。
モータ22とねじ26はコントローラ60により
与えられる各パルスに対してチヤツクが約0.013
mmの距離だけ上下するようにする。限界スイツチ
28がチヤツクキヤリヤ上に取付けられ、それが
限界点まで下がるときチヤツクにより付勢され
る。この限界スイツチはケーブル24によりコン
トローラ60に接続される。
チヤツク20は凹部を有するウエハ受け上面4
4を具えており、この凹面は真空ポンプに接続さ
れる管46で連結されている。従つて、プローブ
したいチツプを含むウエハ48(第1図)がウエ
ハ受け面44に配置され、真空ポンプを付勢する
と、真空は凹部とつながり、ウエハ48は面44
に確実に保持される。別の管52が面44のすぐ
下方に形成され、管52を介して帰還しておりウ
エハ48の温度を制御する温度調整流体供給源に
接続されている。
またプローブステーシヨンには図中では単に模
型的に示す顕微鏡54を有し、これを通してプロ
ーブステーシヨンのユーザはプローブの接触素子
とチヤツクに保持するウエハのICチツプの接触
パツドを観察することができるようにする。
コントローラ60はメモリを有し且つ、5つの
異なる動作状態を有する。コントローラ60が
HOME状態にあると、コントローラ60はパル
スを与えてチヤツクが限界スイツチに係合するま
でチヤツクを下げ、次にチヤツクを僅かに上げ
る。これがホーム位置である。チヤツクがホーム
位置になる為に持ち上げられる量は、コントロー
ラ60のメモリにストアされたデータにて定ま
る。チヤツク20がホーム位置になると、チヤツ
クキヤリヤ10はX及びY方向に移動し、プロー
ブすべきチツプの接触パツドが、顕微鏡54で観
察して決めたプローブの接触位置の略直下に来る
ようにする。次にコントローラ60を
MANUAL状態にする。MANUAL状態では、
調節つまみ62を用いてチヤツク20の高さを調
整する。即ち、つまみ62は1回転毎に所定数の
パルスを発生するパルス発生器64に接続され
る。これらパルスをモータ22に供給して、この
モータによりねじ26をつまみ62の回転方向に
応じて一方又は他方に回転し、チヤツク20を上
下する。コントローラ60がMANUAL状態に
あると、オペレータはチヤツク20をホーム位置
から被試験チツプの接触パツドがプローブの接触
素子と電気的接触するまで持ち上げる方向へつま
み62を回転する。この状態は顕微鏡54により
監視するが(図示せずも)プローブに接続された
電子計器により検出することが可能である。チヤ
ツク20がこの位置にあると、オペレータはチヤ
ツクキヤリヤ10位置の微調整を行い。チツプの
接触パツドがプローブの接触素子に正常に接触さ
れることを保証する。また、オペレータはコント
ローラ60をSTORE状態にすることもできる。
この状態では、チヤツク20をホーム位置から接
触パツドが接触素子に丁度接触するまで持ち上げ
るに必要なパルス発生器64が発生するパルス数
を表すデジタルワードをコントローラ60がその
メモリにストアする。次に、オペレータはコント
ローラ60をPROBE状態にする。もし、コント
ローラがMANUAL状態にあると、オペレータ
は不注意によりつまみ62をチヤツクが下がる方
向に回転し、チヤツクは限界スイツチ28と係合
し、コントローラ60はHOME状態を入力する
ことにより応答し、つまみ62をデイスエーブル
し、チヤツクをホーム位置に戻す。
PROBE状態では、コントローラは付加パルス
をモータ22に供給して、プローブ又はウエハの
いずれかを破損することなくプローブの接触素子
と被試験チツプの接触パツド間が確実に接触する
ようチヤツクを十分に持ち上げる。セラミツクプ
ローブの場合、プローブにはストレンゲージを組
込んでプローブの歪みを検出し、PROBE状態で
はコントローラ60はモータにパルスを供給し続
け、ストレンゲージが検出した歪みの程度が適正
接触圧になつたことを示すと停止する。ポリイミ
ドプローブの場合には、接触素子はポリイミド被
膜上に形成され、接触圧は弾性変形バツクアツプ
部材(例えばエラストマ)で行われるので、限界
スイツチを用いポリイミド被膜の最高反りを定
め、この値に到達するときコントローラ60に対
して信号を送る。限界スイツチが出した信号はコ
ントローラ60がモータに付加パルスを供給する
のをデイスエーブルする。第2図の回路ブロツク
66はプローブに関連ないし付随するストレンゲ
ージ又は限界スイツチを示すものである。或い
は、これに加えて、ポリイミドプローブの場合に
は、十分な接触圧を加えるに必要な付加パルスは
上述したバツクアツプ部材の機械的特性で決定し
てコントローラ60のメモリにストアしてもよ
い。
特定のチツプがプローブされ、必要な測定が行
われると、オペレータはコントローラ60に
HOME状態を入力させ、且つコントローラはチ
ヤツク20が限界スイツチ28に係合するまで下
げ、次にチヤツクを僅かに持ち上げてチヤツクを
ホーム位置に戻す。チヤツクがホーム位置にある
と、オペレータはチヤツクキヤリヤ10の水平位
置を調整し、他のチツプの接触パツドをプローブ
の接触素子の下に位置させ、次にコントローラ6
0が丁度接触(JUST TOUCHING)状態にす
る。この状態では、コントローラはSTOREモー
ドでストアした数を読み出してモータ22にその
パルス数を供給する。従つて、チヤツクはホーム
位置から、次のチツプの接触パツドがプローブの
接触素子に丁度接触する位置に上げる。チヤツク
の水平位置はこの時点で調整してチツプの接触パ
ツドがプローブの接触素子と正しくアライメント
されることを保証し、アライメントが完了すると
オペレータはコントローラ60をPROBE状態に
する。
上述の説明から、明らかな如く、チヤツクをホ
ーム位置から丁度接触する位置へチヤツクを持ち
上げるに要するパルス数を1度ストアすると、Z
軸移動はオペレータがコントローラ60に与えた
命令に応じて自動的に行われ、しかもプローブ又
はチツプを破壊する危険は軽減するので、本発明
によるプローブステーシヨンは半自動であると言
える。チヤツクの水平移動を直接手動調整する
と、チヤツクが任意の希望水平位置に迅速且つ正
確に移動可能にする。コントローラがHOME,
JUST TOUCHING又はPROBE状態にあると、
ステツピングモータに印加されるパルス速度は、
モータが静止状態から円滑に加速又は減速され、
チツプ及びプローブの振動衝撃は回避できる。
以上は本発明のICプローブ装置を好適実施例
に基づき詳述したが、本発明は何ら斯る実施例の
みに限定すべきではなく、必要に応じて種々の変
形変更が可能であり、これらも本発明の技術範囲
に包含されること勿論である。例えば、本発明は
ウエハ状、即ちダイ(又はチツプ状)に切断する
前にプロービングすることにつき説明したが、真
空チヤツクの設計を適当に行うことにより、本発
明は、ダイ状のチツプのプロービング又はハイブ
リツドICの他の半導体エレクトロニクスデバイ
スのプロービングにも適用可能である。
〔発明の効果〕
プローブの支持構体を高精度に加工し、被測定
ICウエハと接触するプローブの接触素子を平行
にすることは容易でない。また、プローブ支持構
体は大きくて重たいため、移動させるのは困難で
ある。しかし、本発明のICプローブ装置は、プ
ローブの支持構体を移動させないでICウエハ又
はチツプ(被試験デバイス)を乗せるチヤツクを
移動させるため、プローブを移動させる必要がな
く、ICウエハとプローブの平行に接触させるこ
とが容易である。また、本発明によれば、チヤツ
クを載置したチヤツクキヤリヤが、テーブル表面
の粘着性薄膜層上に滑動する。これによつて、手
動で平行方向に容易にチヤツクキヤリヤを滑動で
きる一方で、略瞬間的に滑動を停止することもで
きる。さらに、テーブル表面を平面にすること
は、プローブの支持構体を高精度で加工するより
も容易である。従つて、チヤツクキヤリヤをテー
ブル表面上で滑動させれば、水平方向についてプ
ローブの支持構体を動かすよりも容易にチヤツク
上のICウエハとプローブとを高精度でアライメ
ント(位置決め)できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるICプローブ装置の一部
断面とした正面図、第2図は第1図の一部拡大且
つ詳細図である。 2はテーブル、4はテーブル表面、5は粘着性
薄膜層、10はチヤツクキヤリヤ、20はチヤツ
ク、22,26及び42は移動手段である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 テーブルと、 該テーブルのテーブル表面から一定距離に支持
    されたプローブと、 上記テーブル表面上に載置されたチヤツクキヤ
    リアと、 上記テーブル表面と上記チヤツクキヤリアとの
    間に設けられ、該チヤツクキヤリアを上記テーブ
    ル表面上で滑動可能にする粘着性薄膜層と、 上記チヤツクキヤリアと上記プローブとの間に
    設けられ、上記プローブとの対向面に被試験デパ
    イス受け部を有するチヤツクと、 該チヤツクと上記チヤツクキヤリアの間に設け
    られ、上記テーブル表面の垂直方向に上記チヤツ
    クを移動可能な移動手段とを具えるICプローブ
    装置。
JP62217759A 1986-09-08 1987-08-31 Icプローブ装置 Granted JPS6369246A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/905,359 US4904933A (en) 1986-09-08 1986-09-08 Integrated circuit probe station
US905359 1997-08-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6369246A JPS6369246A (ja) 1988-03-29
JPH0469816B2 true JPH0469816B2 (ja) 1992-11-09

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ID=25420692

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62217759A Granted JPS6369246A (ja) 1986-09-08 1987-08-31 Icプローブ装置

Country Status (3)

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US (1) US4904933A (ja)
EP (1) EP0260096A1 (ja)
JP (1) JPS6369246A (ja)

Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5172053A (en) * 1989-02-24 1992-12-15 Tokyo Electron Limited Prober apparatus
US5012187A (en) * 1989-11-03 1991-04-30 Motorola, Inc. Method for parallel testing of semiconductor devices
US5345170A (en) * 1992-06-11 1994-09-06 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe station having integrated guarding, Kelvin connection and shielding systems
US6380751B2 (en) * 1992-06-11 2002-04-30 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe station having environment control enclosure
US6232789B1 (en) * 1997-05-28 2001-05-15 Cascade Microtech, Inc. Probe holder for low current measurements
US5561377A (en) * 1995-04-14 1996-10-01 Cascade Microtech, Inc. System for evaluating probing networks
US5621333A (en) * 1995-05-19 1997-04-15 Microconnect, Inc. Contact device for making connection to an electronic circuit device
US5731708A (en) * 1995-10-31 1998-03-24 Hughes Aircraft Company Unpackaged semiconductor testing using an improved probe and precision X-Y table
US6046599A (en) * 1996-05-20 2000-04-04 Microconnect, Inc. Method and device for making connection
US5914613A (en) * 1996-08-08 1999-06-22 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system with local contact scrub
US6002263A (en) * 1997-06-06 1999-12-14 Cascade Microtech, Inc. Probe station having inner and outer shielding
US5949002A (en) * 1997-11-12 1999-09-07 Teradyne, Inc. Manipulator for automatic test equipment with active compliance
US6256882B1 (en) * 1998-07-14 2001-07-10 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6343369B1 (en) 1998-09-15 2002-01-29 Microconnect, Inc. Methods for making contact device for making connection to an electronic circuit device and methods of using the same
US6578264B1 (en) 1999-06-04 2003-06-17 Cascade Microtech, Inc. Method for constructing a membrane probe using a depression
US6445202B1 (en) * 1999-06-30 2002-09-03 Cascade Microtech, Inc. Probe station thermal chuck with shielding for capacitive current
US6838890B2 (en) * 2000-02-25 2005-01-04 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6496026B1 (en) 2000-02-25 2002-12-17 Microconnect, Inc. Method of manufacturing and testing an electronic device using a contact device having fingers and a mechanical ground
US6483336B1 (en) * 2000-05-03 2002-11-19 Cascade Microtech, Inc. Indexing rotatable chuck for a probe station
US6965226B2 (en) * 2000-09-05 2005-11-15 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
US6914423B2 (en) * 2000-09-05 2005-07-05 Cascade Microtech, Inc. Probe station
DE20114544U1 (de) * 2000-12-04 2002-02-21 Cascade Microtech, Inc., Beaverton, Oreg. Wafersonde
US7355420B2 (en) * 2001-08-21 2008-04-08 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
EP1432546A4 (en) * 2001-08-31 2006-06-07 Cascade Microtech Inc OPTICAL TEST EQUIPMENT
US6777964B2 (en) * 2002-01-25 2004-08-17 Cascade Microtech, Inc. Probe station
JP2005527823A (ja) * 2002-05-23 2005-09-15 カスケード マイクロテック インコーポレイテッド デバイスのテスト用プローブ
US6847219B1 (en) * 2002-11-08 2005-01-25 Cascade Microtech, Inc. Probe station with low noise characteristics
US6724205B1 (en) * 2002-11-13 2004-04-20 Cascade Microtech, Inc. Probe for combined signals
US7250779B2 (en) * 2002-11-25 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe station with low inductance path
US6861856B2 (en) * 2002-12-13 2005-03-01 Cascade Microtech, Inc. Guarded tub enclosure
US7221172B2 (en) * 2003-05-06 2007-05-22 Cascade Microtech, Inc. Switched suspended conductor and connection
US7057404B2 (en) * 2003-05-23 2006-06-06 Sharp Laboratories Of America, Inc. Shielded probe for testing a device under test
US7492172B2 (en) * 2003-05-23 2009-02-17 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
WO2006017078A2 (en) * 2004-07-07 2006-02-16 Cascade Microtech, Inc. Probe head having a membrane suspended probe
US7250626B2 (en) * 2003-10-22 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe testing structure
US7187188B2 (en) * 2003-12-24 2007-03-06 Cascade Microtech, Inc. Chuck with integrated wafer support
WO2005065258A2 (en) 2003-12-24 2005-07-21 Cascade Microtech, Inc. Active wafer probe
US7330041B2 (en) * 2004-06-14 2008-02-12 Cascade Microtech, Inc. Localizing a temperature of a device for testing
US7420381B2 (en) 2004-09-13 2008-09-02 Cascade Microtech, Inc. Double sided probing structures
US7656172B2 (en) 2005-01-31 2010-02-02 Cascade Microtech, Inc. System for testing semiconductors
US20060169897A1 (en) * 2005-01-31 2006-08-03 Cascade Microtech, Inc. Microscope system for testing semiconductors
US7535247B2 (en) 2005-01-31 2009-05-19 Cascade Microtech, Inc. Interface for testing semiconductors
US7723999B2 (en) * 2006-06-12 2010-05-25 Cascade Microtech, Inc. Calibration structures for differential signal probing
US7764072B2 (en) * 2006-06-12 2010-07-27 Cascade Microtech, Inc. Differential signal probing system
US7443186B2 (en) * 2006-06-12 2008-10-28 Cascade Microtech, Inc. On-wafer test structures for differential signals
US7403028B2 (en) * 2006-06-12 2008-07-22 Cascade Microtech, Inc. Test structure and probe for differential signals
US7876114B2 (en) 2007-08-08 2011-01-25 Cascade Microtech, Inc. Differential waveguide probe
US7888957B2 (en) * 2008-10-06 2011-02-15 Cascade Microtech, Inc. Probing apparatus with impedance optimized interface
US8410806B2 (en) * 2008-11-21 2013-04-02 Cascade Microtech, Inc. Replaceable coupon for a probing apparatus
US8319503B2 (en) * 2008-11-24 2012-11-27 Cascade Microtech, Inc. Test apparatus for measuring a characteristic of a device under test
JP2015105834A (ja) * 2013-11-28 2015-06-08 東京エレクトロン株式会社 電子部品検査装置、電子部品の検査方法、及び、検査方法のプログラム

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3094212A (en) * 1961-12-14 1963-06-18 Gen Precision Inc Automatic component tester
US3446065A (en) * 1965-08-11 1969-05-27 Transistor Automation Corp Automatic probing apparatus
US3785507A (en) * 1968-12-19 1974-01-15 Teledyne Inc Die sorting system
US3761808A (en) * 1970-07-08 1973-09-25 Aai Corp Testing arrangement
US3743904A (en) * 1972-05-01 1973-07-03 Teledyne Inc Precision positioning mechanism, particularly for positioning test probes and the like with respect to micro-electronic units
US3835750A (en) * 1973-05-14 1974-09-17 Unimation Inc Record-playback manipulator system utilizing hydraulic microbit actuators
US3930809A (en) * 1973-08-21 1976-01-06 Wentworth Laboratories, Inc. Assembly fixture for fixed point probe card
US3936743A (en) * 1974-03-05 1976-02-03 Electroglas, Inc. High speed precision chuck assembly
US3970830A (en) * 1974-06-24 1976-07-20 Cone-Blanchard Machine Company Computer controlled machine tool contouring system
US3958740A (en) * 1974-07-08 1976-05-25 Dixon Automation, Inc. Automatic component assembly machine and method relating thereto
US3996517A (en) * 1975-12-29 1976-12-07 Monsanto Company Apparatus for wafer probing having surface level sensing
US4201939A (en) * 1978-06-26 1980-05-06 Texas Instruments Incorporated Multiprobe contact monitor and control system
US4266191A (en) * 1979-04-18 1981-05-05 Spano John D Test probe alignment apparatus
US4500836A (en) * 1980-10-31 1985-02-19 Pacific Western Systems, Inc. Automatic wafer prober with programmable tester interface
US4590422A (en) * 1981-07-30 1986-05-20 Pacific Western Systems, Inc. Automatic wafer prober having a probe scrub routine
JPS5968003A (ja) * 1982-10-13 1984-04-17 Toyoda Mach Works Ltd 数値制御工作機械の非常機械原点復帰装置
DE3336854C2 (de) * 1983-10-11 1986-01-16 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Tasteinrichtung zur Ermittlung von Lage und/oder Abmessungen eines Prüfobjekts

Also Published As

Publication number Publication date
US4904933A (en) 1990-02-27
JPS6369246A (ja) 1988-03-29
EP0260096A1 (en) 1988-03-16

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