JPS636839A - 縮小投影露光装置の露光量モニタ - Google Patents

縮小投影露光装置の露光量モニタ

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Publication number
JPS636839A
JPS636839A JP61149430A JP14943086A JPS636839A JP S636839 A JPS636839 A JP S636839A JP 61149430 A JP61149430 A JP 61149430A JP 14943086 A JP14943086 A JP 14943086A JP S636839 A JPS636839 A JP S636839A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
detector
reticle
exposure
oscillation
exposure amount
Prior art date
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Pending
Application number
JP61149430A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiro Nozue
野末 康博
Noriaki Itou
伊藤 仙聡
Osamu Wakabayashi
理 若林
Junichi Fujimoto
准一 藤本
Masahiko Kowaka
雅彦 小若
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Komatsu Ltd filed Critical Komatsu Ltd
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Publication of JPS636839A publication Critical patent/JPS636839A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は縮小投影露光装置に関し、特に上記縮小投影
露光装置の露光量を、より正確に把握することができる
露光量モニタに関するものである。
(従来の技術) 従来上記縮小投影露光装置(ステツパー)の光源は一般
に水銀ランプが用いられており、光源が水銀ランプの場
合にはその光量が安定しているため、露光量モニタを必
要としない。
しかし乍ら分解能が0.5μm以上の性能を有するステ
ッパーには、光源として通常エキシマレーザが用いられ
るが、エキシマレーザのパルス出力安定性は低く、凡そ
±3〜4%であり。
ステッパー用の光源としては不安定である。そのために
露光に使われるパルス数で露光量の調整を行なっている
そして現在エキシマレーザの出力制御は第4図に図解し
たような方法が用いられている。図においてaはレーザ
管、bはビームスプリッタ。
Cは出力ディテクタ、dはコンピュータ、eは電源、f
はトリガユニット+gはコンデンサ。
hはサイラトロン(スイッチ)である。図において出力
ディテクタCはレーザ出射口の近傍におかれていて、エ
キシマレーザの出力制御はこの出力ディテクタからの信
号をコンピュータdによって解析して、°放電電圧を上
下するなどをしてその制御を行なっている。
(奪明が解決しようとする問題点) しかして上記ステッパーは第3図に示したような構成を
有しており、すなわち図においてlは光源(エキシマレ
ーザ)、2はミラー、3はインテグレータ、4はミラー
、5はコンデンサレンズ、6はレチクル、7は投影レン
ズ、8はウェハであり、つまりステッパーは夏の光源系
Hの照明系、Iffの投影系、■のステージと大別され
るが、この場合ディテクタを投影系■以降に置くと、投
影系■に収差を与え1分解能を低下させるような不具合
を有しており、また光源系■にディテクタを置くと照明
系■の変化(ホコリが付着したり、材質が劣化したり、
コートの損傷など)に対応できないので正確に露光量を
推算することができない等の不具合を有している。
この発明は上記のような不具合を解消することをその目
的とするものである。
(問題点を解決するための手段及び作用)この発明は上
記問題点に鑑みなされたものであって、ステッパー内の
レチクルの近傍にディテクタを配置して、ディテクタか
らのパルスエネルギなどの信号を積算することによって
露光量を推算し、露光の継続、終了を判断し、レーザ光
の透過、遮断、或いは発振1発振停止を制御するもので
、ディテクタはレチクルの近傍に設けであるので、投影
光学系をとおらなくすることになり投影系に収差を与え
ることもなくなって正味の露光量をほぼ正確に推算把握
できると共に、ゴミの付着などをなくすことができレチ
クルの保護としての機能をも有するものである。
(実施例) つぎにこの発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図において6はレチクルで、これは第3図に示した
ステッパーの構成図の6に示したレチクルと同じ箇所に
設けである。10はフォトダイオードなどのディテクタ
であり、真空チャック機能を有するレチクルホルダ11
内に図のように取付られる。14.15は排気管である
。なお12はCr膜パターンであってこのCr膜パター
ンでの散乱光をレチクルのエツジに位置するディテクタ
10によって散乱光を検知測定し、ディテクタからのパ
ルスエネルギなどの信号を信号ケーブル13によりコン
ピュータへ伝達して、その信号を積算することによって
露光量を推算し露光のm続+終了を判断してエキシマレ
ーザの出力制御を行うものである。
第2図はこの発明の他の実施例を示し、第1図と同様に
真空チャック機能をもっレチクルホルダ11′に固体1
8を取付け、この国体18内にビームスプリッタ19を
設けると共にその底部においてレチクル6のエツジ近く
にディテクタ10’を取付け、固体18の内周壁面に砂
面20を設け。
このようにして国体18内に散乱室21を形成してビー
ムスプリッタ19で反射したモニタ光を散乱室21の砂
面20で散乱させてそれをディテクタ10′によって検
知測定する。
この実施例においては上記ビームスプリッタ19はレチ
クル6′を保護する働きをも有していて、いわゆるペリ
クルとしての作用もするのでゴミ等の付着が防止できる
。なお12′はCr膜パターン、13′は信号ケーブル
、14’、15’は排気管を示す。
(発明の効果) この発明は以上詳述したようにして成るので。
つまりステッパー内のレチクルの近傍にディテクタを設
けてディテクタからのパルスエネルギなどの信号を積算
し露光量を推算して露光の継続、終了を判断し、レーザ
光の透過、遮断2発振9発振停止等を制御することがで
き、特にディテクタをレチクルの近傍に設けたことは投
影光学系からの影響をうけることなしに、ビームの散乱
光を十分にディテクタによって測定し正味の露光量をほ
ぼ正確に推算1把握できると共に、ビームスプリッタを
設けることにより、モニタ光を散乱させる効果のほかに
レチクルにゴミ等が付着するのを防止することができ−
るというような効果をも奏するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例の要部を示す部分図で、第
2図は同じく別の実施例の部分図。 第3図は縮小投影露光装置の構成を示し、この発明と従
来装置に共通するもの、第4図は従来装置による出力制
御方法を図解的に示したものである。 6.6′・・・レチクル、 10.10’・・・ディテ
クタ。 11.11’・・・レチクルホルダ。 12、12 ’ −Cr膜パターン。 14、14’、 15.15’・・・排気管。 18・・・[L   19・・・ビームスプリッタ。 20・・・砂面、21・・・散乱室。 1   〈

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)縮小投影露光装置において、レチクルの近傍にデ
    ィテクタを設けたことを特徴とする、露光量モニタ。
  2. (2)真空チャック機能を有するレチクルホルダにディ
    テクタを設けた、特許請求の範囲第1項記載の露光量モ
    ニタ。
  3. (3)真空チャック機能を有するレチクルホルダに設け
    た匡体内にビームスプリッタを設けて散乱室を形成し、
    該散乱室の内周壁面に砂面を設けると共にその底面にデ
    ィテクタを設けたことを特徴とする、特許請求の範囲第
    1項記載の露光量モニタ。
JP61149430A 1986-06-27 1986-06-27 縮小投影露光装置の露光量モニタ Pending JPS636839A (ja)

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JP61149430A JPS636839A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 縮小投影露光装置の露光量モニタ

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9446566B2 (en) 2011-05-13 2016-09-20 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Laminate, method for cutting laminate, method for processing laminate, and device and method for cutting brittle plate-like object

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9446566B2 (en) 2011-05-13 2016-09-20 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Laminate, method for cutting laminate, method for processing laminate, and device and method for cutting brittle plate-like object
US10279568B2 (en) 2011-05-13 2019-05-07 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Laminate, method for cutting laminate, method for processing laminate, and device and method for cutting brittle plate-like object

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