JPS636839A - 縮小投影露光装置の露光量モニタ - Google Patents
縮小投影露光装置の露光量モニタInfo
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- JPS636839A JPS636839A JP61149430A JP14943086A JPS636839A JP S636839 A JPS636839 A JP S636839A JP 61149430 A JP61149430 A JP 61149430A JP 14943086 A JP14943086 A JP 14943086A JP S636839 A JPS636839 A JP S636839A
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Landscapes
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は縮小投影露光装置に関し、特に上記縮小投影
露光装置の露光量を、より正確に把握することができる
露光量モニタに関するものである。
露光装置の露光量を、より正確に把握することができる
露光量モニタに関するものである。
（従来の技術）
従来上記縮小投影露光装置（ステツパー）の光源は一般
に水銀ランプが用いられており、光源が水銀ランプの場
合にはその光量が安定しているため、露光量モニタを必
要としない。
に水銀ランプが用いられており、光源が水銀ランプの場
合にはその光量が安定しているため、露光量モニタを必
要としない。
しかし乍ら分解能が０．５μｍ以上の性能を有するステ
ッパーには、光源として通常エキシマレーザが用いられ
るが、エキシマレーザのパルス出力安定性は低く、凡そ
±３〜４％であり。
ッパーには、光源として通常エキシマレーザが用いられ
るが、エキシマレーザのパルス出力安定性は低く、凡そ
±３〜４％であり。
ステッパー用の光源としては不安定である。そのために
露光に使われるパルス数で露光量の調整を行なっている
。
露光に使われるパルス数で露光量の調整を行なっている
。
そして現在エキシマレーザの出力制御は第４図に図解し
たような方法が用いられている。図においてａはレーザ
管、ｂはビームスプリッタ。
たような方法が用いられている。図においてａはレーザ
管、ｂはビームスプリッタ。
Ｃは出力ディテクタ、ｄはコンピュータ、ｅは電源、ｆ
はトリガユニット＋ｇはコンデンサ。
はトリガユニット＋ｇはコンデンサ。
ｈはサイラトロン（スイッチ）である。図において出力
ディテクタＣはレーザ出射口の近傍におかれていて、エ
キシマレーザの出力制御はこの出力ディテクタからの信
号をコンピュータｄによって解析して、°放電電圧を上
下するなどをしてその制御を行なっている。
ディテクタＣはレーザ出射口の近傍におかれていて、エ
キシマレーザの出力制御はこの出力ディテクタからの信
号をコンピュータｄによって解析して、°放電電圧を上
下するなどをしてその制御を行なっている。
（奪明が解決しようとする問題点）
しかして上記ステッパーは第３図に示したような構成を
有しており、すなわち図においてｌは光源（エキシマレ
ーザ）、２はミラー、３はインテグレータ、４はミラー
、５はコンデンサレンズ、６はレチクル、７は投影レン
ズ、８はウェハであり、つまりステッパーは夏の光源系
。
有しており、すなわち図においてｌは光源（エキシマレ
ーザ）、２はミラー、３はインテグレータ、４はミラー
、５はコンデンサレンズ、６はレチクル、７は投影レン
ズ、８はウェハであり、つまりステッパーは夏の光源系
。
Ｈの照明系、Ｉｆｆの投影系、■のステージと大別され
るが、この場合ディテクタを投影系■以降に置くと、投
影系■に収差を与え１分解能を低下させるような不具合
を有しており、また光源系■にディテクタを置くと照明
系■の変化（ホコリが付着したり、材質が劣化したり、
コートの損傷など）に対応できないので正確に露光量を
推算することができない等の不具合を有している。
るが、この場合ディテクタを投影系■以降に置くと、投
影系■に収差を与え１分解能を低下させるような不具合
を有しており、また光源系■にディテクタを置くと照明
系■の変化（ホコリが付着したり、材質が劣化したり、
コートの損傷など）に対応できないので正確に露光量を
推算することができない等の不具合を有している。
この発明は上記のような不具合を解消することをその目
的とするものである。
的とするものである。
（問題点を解決するための手段及び作用）この発明は上
記問題点に鑑みなされたものであって、ステッパー内の
レチクルの近傍にディテクタを配置して、ディテクタか
らのパルスエネルギなどの信号を積算することによって
露光量を推算し、露光の継続、終了を判断し、レーザ光
の透過、遮断、或いは発振１発振停止を制御するもので
、ディテクタはレチクルの近傍に設けであるので、投影
光学系をとおらなくすることになり投影系に収差を与え
ることもなくなって正味の露光量をほぼ正確に推算把握
できると共に、ゴミの付着などをなくすことができレチ
クルの保護としての機能をも有するものである。
記問題点に鑑みなされたものであって、ステッパー内の
レチクルの近傍にディテクタを配置して、ディテクタか
らのパルスエネルギなどの信号を積算することによって
露光量を推算し、露光の継続、終了を判断し、レーザ光
の透過、遮断、或いは発振１発振停止を制御するもので
、ディテクタはレチクルの近傍に設けであるので、投影
光学系をとおらなくすることになり投影系に収差を与え
ることもなくなって正味の露光量をほぼ正確に推算把握
できると共に、ゴミの付着などをなくすことができレチ
クルの保護としての機能をも有するものである。
（実施例）
つぎにこの発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図において６はレチクルで、これは第３図に示した
ステッパーの構成図の６に示したレチクルと同じ箇所に
設けである。１０はフォトダイオードなどのディテクタ
であり、真空チャック機能を有するレチクルホルダ１１
内に図のように取付られる。１４．１５は排気管である
。なお１２はＣｒ膜パターンであってこのＣｒ膜パター
ンでの散乱光をレチクルのエツジに位置するディテクタ
１０によって散乱光を検知測定し、ディテクタからのパ
ルスエネルギなどの信号を信号ケーブル１３によりコン
ピュータへ伝達して、その信号を積算することによって
露光量を推算し露光のｍ続＋終了を判断してエキシマレ
ーザの出力制御を行うものである。
ステッパーの構成図の６に示したレチクルと同じ箇所に
設けである。１０はフォトダイオードなどのディテクタ
であり、真空チャック機能を有するレチクルホルダ１１
内に図のように取付られる。１４．１５は排気管である
。なお１２はＣｒ膜パターンであってこのＣｒ膜パター
ンでの散乱光をレチクルのエツジに位置するディテクタ
１０によって散乱光を検知測定し、ディテクタからのパ
ルスエネルギなどの信号を信号ケーブル１３によりコン
ピュータへ伝達して、その信号を積算することによって
露光量を推算し露光のｍ続＋終了を判断してエキシマレ
ーザの出力制御を行うものである。
第２図はこの発明の他の実施例を示し、第１図と同様に
真空チャック機能をもっレチクルホルダ１１′に固体１
８を取付け、この国体１８内にビームスプリッタ１９を
設けると共にその底部においてレチクル６のエツジ近く
にディテクタ１０’を取付け、固体１８の内周壁面に砂
面２０を設け。
真空チャック機能をもっレチクルホルダ１１′に固体１
８を取付け、この国体１８内にビームスプリッタ１９を
設けると共にその底部においてレチクル６のエツジ近く
にディテクタ１０’を取付け、固体１８の内周壁面に砂
面２０を設け。
このようにして国体１８内に散乱室２１を形成してビー
ムスプリッタ１９で反射したモニタ光を散乱室２１の砂
面２０で散乱させてそれをディテクタ１０′によって検
知測定する。
ムスプリッタ１９で反射したモニタ光を散乱室２１の砂
面２０で散乱させてそれをディテクタ１０′によって検
知測定する。
この実施例においては上記ビームスプリッタ１９はレチ
クル６′を保護する働きをも有していて、いわゆるペリ
クルとしての作用もするのでゴミ等の付着が防止できる
。なお１２′はＣｒ膜パターン、１３′は信号ケーブル
、１４’、１５’は排気管を示す。
クル６′を保護する働きをも有していて、いわゆるペリ
クルとしての作用もするのでゴミ等の付着が防止できる
。なお１２′はＣｒ膜パターン、１３′は信号ケーブル
、１４’、１５’は排気管を示す。
（発明の効果）
この発明は以上詳述したようにして成るので。
つまりステッパー内のレチクルの近傍にディテクタを設
けてディテクタからのパルスエネルギなどの信号を積算
し露光量を推算して露光の継続、終了を判断し、レーザ
光の透過、遮断２発振９発振停止等を制御することがで
き、特にディテクタをレチクルの近傍に設けたことは投
影光学系からの影響をうけることなしに、ビームの散乱
光を十分にディテクタによって測定し正味の露光量をほ
ぼ正確に推算１把握できると共に、ビームスプリッタを
設けることにより、モニタ光を散乱させる効果のほかに
レチクルにゴミ等が付着するのを防止することができ−
るというような効果をも奏するものである。
けてディテクタからのパルスエネルギなどの信号を積算
し露光量を推算して露光の継続、終了を判断し、レーザ
光の透過、遮断２発振９発振停止等を制御することがで
き、特にディテクタをレチクルの近傍に設けたことは投
影光学系からの影響をうけることなしに、ビームの散乱
光を十分にディテクタによって測定し正味の露光量をほ
ぼ正確に推算１把握できると共に、ビームスプリッタを
設けることにより、モニタ光を散乱させる効果のほかに
レチクルにゴミ等が付着するのを防止することができ−
るというような効果をも奏するものである。
第１図はこの発明の一実施例の要部を示す部分図で、第
２図は同じく別の実施例の部分図。 第３図は縮小投影露光装置の構成を示し、この発明と従
来装置に共通するもの、第４図は従来装置による出力制
御方法を図解的に示したものである。 ６．６′・・・レチクル、 １０．１０’・・・ディテ
クタ。 １１．１１’・・・レチクルホルダ。 １２、１２ ’ −Ｃｒ膜パターン。 １４、１４’、 １５．１５’・・・排気管。 １８・・・［Ｌ １９・・・ビームスプリッタ。 ２０・・・砂面、２１・・・散乱室。 １ 〈
２図は同じく別の実施例の部分図。 第３図は縮小投影露光装置の構成を示し、この発明と従
来装置に共通するもの、第４図は従来装置による出力制
御方法を図解的に示したものである。 ６．６′・・・レチクル、 １０．１０’・・・ディテ
クタ。 １１．１１’・・・レチクルホルダ。 １２、１２ ’ −Ｃｒ膜パターン。 １４、１４’、 １５．１５’・・・排気管。 １８・・・［Ｌ １９・・・ビームスプリッタ。 ２０・・・砂面、２１・・・散乱室。 １ 〈
Claims (3)
- （１）縮小投影露光装置において、レチクルの近傍にデ
ィテクタを設けたことを特徴とする、露光量モニタ。 - （２）真空チャック機能を有するレチクルホルダにディ
テクタを設けた、特許請求の範囲第１項記載の露光量モ
ニタ。 - （３）真空チャック機能を有するレチクルホルダに設け
た匡体内にビームスプリッタを設けて散乱室を形成し、
該散乱室の内周壁面に砂面を設けると共にその底面にデ
ィテクタを設けたことを特徴とする、特許請求の範囲第
１項記載の露光量モニタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61149430A JPS636839A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 縮小投影露光装置の露光量モニタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61149430A JPS636839A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 縮小投影露光装置の露光量モニタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS636839A true JPS636839A (ja) | 1988-01-12 |
Family
ID=15474937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61149430A Pending JPS636839A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 縮小投影露光装置の露光量モニタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS636839A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9446566B2 (en) | 2011-05-13 | 2016-09-20 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Laminate, method for cutting laminate, method for processing laminate, and device and method for cutting brittle plate-like object |
-
1986
- 1986-06-27 JP JP61149430A patent/JPS636839A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9446566B2 (en) | 2011-05-13 | 2016-09-20 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Laminate, method for cutting laminate, method for processing laminate, and device and method for cutting brittle plate-like object |
| US10279568B2 (en) | 2011-05-13 | 2019-05-07 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Laminate, method for cutting laminate, method for processing laminate, and device and method for cutting brittle plate-like object |
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