JPS6361411A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS6361411A JPS6361411A JP20541686A JP20541686A JPS6361411A JP S6361411 A JPS6361411 A JP S6361411A JP 20541686 A JP20541686 A JP 20541686A JP 20541686 A JP20541686 A JP 20541686A JP S6361411 A JPS6361411 A JP S6361411A
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- Japan
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- layer
- magnetic
- recording medium
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- alloy
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Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、音声や映像などのアナログ信号、或は情報機
器などのデジタル信号を不揮発性記録するための磁気記
録装置に用いられる磁気記録媒体に関するものである。
器などのデジタル信号を不揮発性記録するための磁気記
録装置に用いられる磁気記録媒体に関するものである。
従来の技術
近年、磁気記録の分野では、記録装置の大容量化、小型
化、アクセス時間の短縮化などのため、磁気記録媒体の
高記録密度化が行れている。高記録密度化のためには、
磁性膜を薄くする、保磁力を大きくする、磁気ヒステリ
シスの角型比を大きくする必要があり、これは記録密度
が高くなると、面内磁気記録の場合、媒体上に記録され
たＮ−３の磁極の間に働く自己減磁作用が大きくなり、
自己減磁損失が増えるからである。一方、再生出力を高
く取るために、或は記録信号のダイナミックＩ／ンジを
広く取るためには、記録媒体の残留磁化が大きいことが
必要である。さらに、耐候性や耐蝕性がよいことなども
求められる。
化、アクセス時間の短縮化などのため、磁気記録媒体の
高記録密度化が行れている。高記録密度化のためには、
磁性膜を薄くする、保磁力を大きくする、磁気ヒステリ
シスの角型比を大きくする必要があり、これは記録密度
が高くなると、面内磁気記録の場合、媒体上に記録され
たＮ−３の磁極の間に働く自己減磁作用が大きくなり、
自己減磁損失が増えるからである。一方、再生出力を高
く取るために、或は記録信号のダイナミックＩ／ンジを
広く取るためには、記録媒体の残留磁化が大きいことが
必要である。さらに、耐候性や耐蝕性がよいことなども
求められる。
以下図面を参照しながら、従来の磁気記録媒体の一例に
ついて説明する。第２図は一般的なハードディスク型磁
気記録媒体の断面図の一例である。
ついて説明する。第２図は一般的なハードディスク型磁
気記録媒体の断面図の一例である。
従来例の場合、アルミニウム合金製の基板１の上にＮ１
−Ｐなどのメッキ膜を硬化層２として備え、その上に、
Ｃｒ膜などよりなる中間層３ ａ 、、Ｃｃ−Ｎｉ合金
などよりなる磁性層４ ａ 、耐久性向上のための保護
層５、磁気ヘッドと媒体間の摩擦を少な（するための潤
滑層６を備えた構成になっている。
−Ｐなどのメッキ膜を硬化層２として備え、その上に、
Ｃｒ膜などよりなる中間層３ ａ 、、Ｃｃ−Ｎｉ合金
などよりなる磁性層４ ａ 、耐久性向上のための保護
層５、磁気ヘッドと媒体間の摩擦を少な（するための潤
滑層６を備えた構成になっている。
中間層３は、磁性層４ａの結晶性、磁気特性等に影響を
及ぼすため、その点を考慮して、中間層３の材質、およ
びその作成条件が決められる。従来Ｃｏ−Ｎｉ合金を磁
性層４ａとする場合、中間層３ａとしては、Ｃｒ膜が用
いられることが多く、その理由としてはＣｒ膜の膜厚を
０．１〜０．５μｍまで変化させることにより、ＣＯ合
金の保磁力を、およそ２５０〜８００［Ｏｅｌに調整す
ることができるという利点があるからである。これは大
方品のＣｏ（１１０）面が体心立方のＣｒ（２００）面
に格子整合するためであり、Ｃ。
及ぼすため、その点を考慮して、中間層３の材質、およ
びその作成条件が決められる。従来Ｃｏ−Ｎｉ合金を磁
性層４ａとする場合、中間層３ａとしては、Ｃｒ膜が用
いられることが多く、その理由としてはＣｒ膜の膜厚を
０．１〜０．５μｍまで変化させることにより、ＣＯ合
金の保磁力を、およそ２５０〜８００［Ｏｅｌに調整す
ることができるという利点があるからである。これは大
方品のＣｏ（１１０）面が体心立方のＣｒ（２００）面
に格子整合するためであり、Ｃ。
［００２１Ｃ軸を面内に配向する効果があると考えられ
ている。例えば、ジェー、ブイニーシー。
ている。例えば、ジェー、ブイニーシー。
ニスシーアイ、ティーイーシーエイチェヌオーエル、ニ
ー、 第４Ｌ 第１号、ジェーエーエヌ／エフイービー
１９８６．１〜１３ページ（Ｊ、 Ｖａｃ。
ー、 第４Ｌ 第１号、ジェーエーエヌ／エフイービー
１９８６．１〜１３ページ（Ｊ、 Ｖａｃ。
Ｓｃｉ、 Ｔｅｃｈｎｏｌ、 Ａ、 Ｖｏｌ、 ４
． Ｎｏ、１． Ｊａｎ／Ｆｅｂ １９８６、Ｐａ
ｇｅ１〜１３）。
． Ｎｏ、１． Ｊａｎ／Ｆｅｂ １９８６、Ｐａ
ｇｅ１〜１３）。
発明が解決しようとする間通点
しかしながら上記のような構成では、中間層と磁性層の
格子整合を利用して磁気特性を制御できる反面、逆にば
らつきが多くなるという問題点を有していた。例えば、
中間層形成後、磁性層形成までの間のサンプルの保持状
態なども磁気特性に影響する事が知られている。
格子整合を利用して磁気特性を制御できる反面、逆にば
らつきが多くなるという問題点を有していた。例えば、
中間層形成後、磁性層形成までの間のサンプルの保持状
態なども磁気特性に影響する事が知られている。
本発明は上記問題点に鑑み、各種磁性層の下地膜として
有効な材料を見いだし、優れた特性の磁気記録媒体を提
供するものである。
有効な材料を見いだし、優れた特性の磁気記録媒体を提
供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の磁気記録媒体は、
チタニウムとタングステンの合金よりなる薄膜の上に、
磁性層を備えるという構成をとっている。
チタニウムとタングステンの合金よりなる薄膜の上に、
磁性層を備えるという構成をとっている。
作用
本発明は上記した構成によって、磁性層とその下地にな
る層の格子整合ではなく、主として下地層の表面形態が
磁性層の磁気特性に与える効果により、磁気特性の改善
が行われる。従って、磁性層と下地層の特定な組み合わ
せにのみ有効な格子整合型の場合とちがい、適応範囲が
広いという特徴を有している。これは、チタンとタング
ステンの合金（以後、Ｔ ｉ Ｗ合金と略称する）の表
面形態が磁性膜の膜構造に効果的な影響を与えるからで
あると考えられる。
る層の格子整合ではなく、主として下地層の表面形態が
磁性層の磁気特性に与える効果により、磁気特性の改善
が行われる。従って、磁性層と下地層の特定な組み合わ
せにのみ有効な格子整合型の場合とちがい、適応範囲が
広いという特徴を有している。これは、チタンとタング
ステンの合金（以後、Ｔ ｉ Ｗ合金と略称する）の表
面形態が磁性膜の膜構造に効果的な影響を与えるからで
あると考えられる。
実施例
以下本発明の一実施例の磁気記録媒体について、図面を
参照しながら説明する。第１図は本発明の実施例を示す
磁気媒体である。同図において、１゜２．５．６は第２
図と同様のものを用いた。中間層３として、スパッタリ
ングにより成膜したＴｉＷ合金薄膜（膜厚はＯ，１〜０
．５μｍ）を用い、磁性層４として、反応性スパッタリ
ングにより成膜した窒化鉄薄膜（膜厚は０．１〜０．５
μｍ）を用いている。比較のため、中間層３が二酸化シ
リコン薄膜、チタン薄膜、またはクロム薄膜である媒体
も作成した。
参照しながら説明する。第１図は本発明の実施例を示す
磁気媒体である。同図において、１゜２．５．６は第２
図と同様のものを用いた。中間層３として、スパッタリ
ングにより成膜したＴｉＷ合金薄膜（膜厚はＯ，１〜０
．５μｍ）を用い、磁性層４として、反応性スパッタリ
ングにより成膜した窒化鉄薄膜（膜厚は０．１〜０．５
μｍ）を用いている。比較のため、中間層３が二酸化シ
リコン薄膜、チタン薄膜、またはクロム薄膜である媒体
も作成した。
第１表は、作成した各種媒体の保磁力と磁気ヒステリシ
スの角型比をしめす表である。
スの角型比をしめす表である。
（以 下 余 白）
保磁力は、ＴｉＷ、チタン、二酸化シリコン、クロムの
順で大きな値を示した。各サンプルについて、Ｘ線回折
図形を調べた結果、下地膜がＴｉＷの場合、（００２）
面の反射強度が他のクロム（１１０）面、チタン（ＯＯ
２）面の場合に比べて非常に大きいことが判った。これ
より、ＴｉＷの結晶粒は大型化して膜表面の起伏が大き
くなり、その上の磁性膜も下地膜の表面構造の影響を受
けて膜が成長し保磁力が大きくなったものと考えられる
。なお、窒化鉄の結晶型は六方晶のε−Ｆｅ２〜３Ｎで
ある。
順で大きな値を示した。各サンプルについて、Ｘ線回折
図形を調べた結果、下地膜がＴｉＷの場合、（００２）
面の反射強度が他のクロム（１１０）面、チタン（ＯＯ
２）面の場合に比べて非常に大きいことが判った。これ
より、ＴｉＷの結晶粒は大型化して膜表面の起伏が大き
くなり、その上の磁性膜も下地膜の表面構造の影響を受
けて膜が成長し保磁力が大きくなったものと考えられる
。なお、窒化鉄の結晶型は六方晶のε−Ｆｅ２〜３Ｎで
ある。
以上のように本実施例によれば、ＴｉＷ合金を下地膜と
して、その上に窒化鉄膜の磁性層を設けることにより、
保磁力の大きい磁気記録媒体を実現できる。
して、その上に窒化鉄膜の磁性層を設けることにより、
保磁力の大きい磁気記録媒体を実現できる。
なお、上記実施例において、ＴｉＷ合金薄膜は、チタン
のターゲットの上に、タングステンの小片を面積比がタ
ングステン２５％になるよう配置してスパッタを行った
が、チタンとタングステンの成分比はこれに限らず、広
い範囲から選んで良い。
のターゲットの上に、タングステンの小片を面積比がタ
ングステン２５％になるよう配置してスパッタを行った
が、チタンとタングステンの成分比はこれに限らず、広
い範囲から選んで良い。
また、上記実施例では磁性層４は窒化鉄としたが、これ
に限らず、他の磁性膜であってもよい。
に限らず、他の磁性膜であってもよい。
発明の効果
以上のように本発明では、チタニウムとタングステンの
合金よりなる薄膜の上に、磁性層を備えることにより、
優れた特性の磁気記録媒体を実現することができる。
合金よりなる薄膜の上に、磁性層を備えることにより、
優れた特性の磁気記録媒体を実現することができる。
第１図は本発明の一実施例を示す磁気記録媒体の断面図
、第２図は、従来例の磁気記録媒体を示す断面図である
。 １・・・・・・基板、２・・・・・・硬化層、３・・・
・・・中間層、４・・・・・・磁性層、５・・・・・・
保護層、６・・・・・・潤滑層。
、第２図は、従来例の磁気記録媒体を示す断面図である
。 １・・・・・・基板、２・・・・・・硬化層、３・・・
・・・中間層、４・・・・・・磁性層、５・・・・・・
保護層、６・・・・・・潤滑層。
Claims (2)
- （１）チタニウムとタングステンの合金よりなる薄膜の
上に、磁性層を備えたことを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）窒化鉄薄膜を磁性層とする特許請求の範囲第（１
）項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61205416A JPH07105028B2 (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61205416A JPH07105028B2 (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6361411A true JPS6361411A (ja) | 1988-03-17 |
| JPH07105028B2 JPH07105028B2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=16506486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61205416A Expired - Fee Related JPH07105028B2 (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07105028B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01277320A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JP2007284900A (ja) * | 2006-04-13 | 2007-11-01 | Seiken Diamond Kogyo Kk | ライン溝切削走行機 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60247821A (ja) * | 1984-05-23 | 1985-12-07 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-09-01 JP JP61205416A patent/JPH07105028B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60247821A (ja) * | 1984-05-23 | 1985-12-07 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01277320A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JP2007284900A (ja) * | 2006-04-13 | 2007-11-01 | Seiken Diamond Kogyo Kk | ライン溝切削走行機 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07105028B2 (ja) | 1995-11-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |