JPS6360239A - 活性金属の製造方法 - Google Patents
活性金属の製造方法Info
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- JPS6360239A JPS6360239A JP20530186A JP20530186A JPS6360239A JP S6360239 A JPS6360239 A JP S6360239A JP 20530186 A JP20530186 A JP 20530186A JP 20530186 A JP20530186 A JP 20530186A JP S6360239 A JPS6360239 A JP S6360239A
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Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、チタン、シリコン、ニオブ、タンタル等の活
性金属の装造方法の改良に関する。
性金属の装造方法の改良に関する。
(従来技術)
純チタンは、その酸化物を塩化水素で還元し、更にチタ
ンの塩化物をマグネシウムで置換しててスポンジチタン
を得、これを再溶解してチタンインゴットを製造してい
る。
ンの塩化物をマグネシウムで置換しててスポンジチタン
を得、これを再溶解してチタンインゴットを製造してい
る。
また純シリコンは、その酸化物を塩化水素と水素とで還
元して多結晶シリコンを得、これを再結晶させてインゴ
ットを製造している。これらの反応式を以下に示す。
元して多結晶シリコンを得、これを再結晶させてインゴ
ットを製造している。これらの反応式を以下に示す。
(チタンの場合)
Ti02 +4HC1−TiC1t +2H20T i
02 +C+2C12→TiC1t+C02TiC1a
+4Mg→Ti+4MgCI(シリコンの場合) S io2+3HCl+H2→ S i HC13+2H20 S i HC13+H2→S i +3HC1しかしこ
のような製造方法では、反応工程が複雑であり、しかも
有害な塩化水素等を使用するため副産物の処理にコスト
がかかるなどの問題がある。
02 +C+2C12→TiC1t+C02TiC1a
+4Mg→Ti+4MgCI(シリコンの場合) S io2+3HCl+H2→ S i HC13+2H20 S i HC13+H2→S i +3HC1しかしこ
のような製造方法では、反応工程が複雑であり、しかも
有害な塩化水素等を使用するため副産物の処理にコスト
がかかるなどの問題がある。
(発明が解決しようとする技術的課′XJ)本発明は、
高純度の活性金属を簡単な反応式でしかも9害なガス等
を使用することなく製造しうる方法を提供することを目
的とする。
高純度の活性金属を簡単な反応式でしかも9害なガス等
を使用することなく製造しうる方法を提供することを目
的とする。
(技術的課題を解決する手段)
本発明は、高純度の活性金属の酸化物と、この活性金属
と分子量的に等しい重量の高純度炭素をそれぞれ微粉末
として混合する工程と、この混合物又はこの混合物を圧
縮成形してブリケット状とした塊状原料にプラズマを当
てて活性金属の酸化物を溶融しかつ炭素で還元して純金
属の活性金属を得る方法、あるいは、上記混合物又は上
記塊状原料を、予め用意した活性金属の浴中に添加し、
プラズマビームにより浴中で還元反応を生じせしめると
ともに溶解して純金属の活性金属を得る方法である。
と分子量的に等しい重量の高純度炭素をそれぞれ微粉末
として混合する工程と、この混合物又はこの混合物を圧
縮成形してブリケット状とした塊状原料にプラズマを当
てて活性金属の酸化物を溶融しかつ炭素で還元して純金
属の活性金属を得る方法、あるいは、上記混合物又は上
記塊状原料を、予め用意した活性金属の浴中に添加し、
プラズマビームにより浴中で還元反応を生じせしめると
ともに溶解して純金属の活性金属を得る方法である。
(発明の詳細な説明)
以下高純度チタンを製造する例について説明する。
先ず高純度の酸化チタン(T i 02 )と、これと
分子量論的に等しい重量の高純度炭素を用意する。これ
ら原料を粉砕して微粉末とし、これらを均等に混合する
。混合物を結合剤を使用せずに圧縮成形して、ブリケッ
ト状とすることも可能である。なお結合剤を使用するこ
とも可能であるが、この場合結合剤としてハイドロカー
ボン系のものを使用し、結合剤の炭素量に応じて高純度
炭素量を若干すくなくして、結合剤と高純度炭素との和
が高純度TiO2と分子量論的に等しくなるようにする
のが好ましい。
分子量論的に等しい重量の高純度炭素を用意する。これ
ら原料を粉砕して微粉末とし、これらを均等に混合する
。混合物を結合剤を使用せずに圧縮成形して、ブリケッ
ト状とすることも可能である。なお結合剤を使用するこ
とも可能であるが、この場合結合剤としてハイドロカー
ボン系のものを使用し、結合剤の炭素量に応じて高純度
炭素量を若干すくなくして、結合剤と高純度炭素との和
が高純度TiO2と分子量論的に等しくなるようにする
のが好ましい。
第1図に示すように、このようにして作られたブリケッ
ト11を例えば10−2 torr真空度の真空チャン
バー(図示せず)内の水冷鋼るつぼ12の中に入れて、
プラズマガン13からプラズマビームを当てて加熱(例
えば1800℃)する。加熱により溶解し、T i 0
2が以下の式のごとく炭素で還元され、純チタンが得ら
れる。
ト11を例えば10−2 torr真空度の真空チャン
バー(図示せず)内の水冷鋼るつぼ12の中に入れて、
プラズマガン13からプラズマビームを当てて加熱(例
えば1800℃)する。加熱により溶解し、T i 0
2が以下の式のごとく炭素で還元され、純チタンが得ら
れる。
TiO2+2C−4Ti+2CO
結合剤を入れた場合
T i 02 +0m Hn +C→Ti+
xCO+yH20 次に高純度シリコンの製法について説明する。
xCO+yH20 次に高純度シリコンの製法について説明する。
高純度チタンの場合と同様に、高純度5i02酸化物と
高純度炭素との微粉末でブリケット11を作製し、この
ブリケットを真空雰囲気で5i02るつぼ内にてプラズ
マビームにより加熱し、以下の式の如く還元、溶融して
純Stを得る。
高純度炭素との微粉末でブリケット11を作製し、この
ブリケットを真空雰囲気で5i02るつぼ内にてプラズ
マビームにより加熱し、以下の式の如く還元、溶融して
純Stを得る。
SiO2+2C−4Si+2CO
結合剤を入れた場合
S i 02 +C+n Hn →S i +xCO+
yH20となる。
yH20となる。
なおニオブ、タンタル等についても同様に製造できる。
また製造される純金属中に含まれる若干の010は、金
属の強度増加作用を有するので、製造時にこの成分の含
有量も調整する。
属の強度増加作用を有するので、製造時にこの成分の含
有量も調整する。
(実施例)
純度99%の酸化チタンと純度99.9%の炭素とをそ
れぞれ0.11以下に粉砕した後分子砥論的等量混合し
てブリケット(20g)を作製した。このブリケットを
10−2 torrの真空中で、水冷銅るつぼ12内の
チタン浴に添加して、プラズマビームを順次当てて、約
1800°Cに加熱溶融し酸化チタンを還元した。得ら
れたチタンの純度を測定したところ99゜9%であった
。
れぞれ0.11以下に粉砕した後分子砥論的等量混合し
てブリケット(20g)を作製した。このブリケットを
10−2 torrの真空中で、水冷銅るつぼ12内の
チタン浴に添加して、プラズマビームを順次当てて、約
1800°Cに加熱溶融し酸化チタンを還元した。得ら
れたチタンの純度を測定したところ99゜9%であった
。
なお本発明では、第2図に示すようにTiO2とCとの
混合物をるつぼ12内に連続的に供給1゜て、溶融還元
された純チタンをるつぼ12から溢流させて、ド方の鋳
型14に鋳込むことも可能である。
混合物をるつぼ12内に連続的に供給1゜て、溶融還元
された純チタンをるつぼ12から溢流させて、ド方の鋳
型14に鋳込むことも可能である。
(発明の効果)
本発明によれば、プラズマビームを利用して酸化物を還
元するので、製造工程が簡略化され、多量の純金属を低
いコストで製造できる。また有害ガスなどを使用しない
ので作業上の問題を解消できる。とくにシリコンの場合
、太陽電池用シリコン基材として極めて有用である。
元するので、製造工程が簡略化され、多量の純金属を低
いコストで製造できる。また有害ガスなどを使用しない
ので作業上の問題を解消できる。とくにシリコンの場合
、太陽電池用シリコン基材として極めて有用である。
第1図は本発明にかかる活性金属の製造方法の1例を示
す説明図、第2図は他の例を示す説明図である。 11・・・ブリケット、12・・・るつぼ、13・・・
プラズマガン、14・・・鋳型。
す説明図、第2図は他の例を示す説明図である。 11・・・ブリケット、12・・・るつぼ、13・・・
プラズマガン、14・・・鋳型。
Claims (7)
- (1)高純度の活性金属の酸化物と、この活性金属と分
子量的に等しい重量の高純度炭素をそれぞれ微粉末とし
て混合し、この混合物又はこの混合物を圧縮成形してブ
リケット状とした塊状原料にプラズマビームを当てて活
性金属の酸化物を溶解し、かつ炭素で還元して活性金属
の純金属を得る活性金属の製造方法。 - (2)ブリケット状とする工程を結合剤を使用せずにお
こなう特許請求の範囲第1項記載の活性金属の製造方法
。 - (3)ブリケット状とする工程をハイドロカーボン系結
合剤を使用して行ない、この結合剤中の炭素の分だけ高
純度炭素の量を少なくした特許請求の範囲第1項記載の
活性金属の製造方法。 - (4)高純度の活性金属の酸化物と、この活性金属と分
子量的に等しい重量の高純度炭素をそれぞれ微粉末とし
て混合し、次いで上記混合物又は混合物を圧縮成形した
ブリケット状の塊状原料をあらかじめ用意した活性金属
の浴中に添加し、プラズマビームにより浴中で還元反応
を生じせしめるとともに溶融せしめて純金属を得る活性
金属の製造方法。 - (5)ブリケット状とする工程を結合剤を使用せずにお
こなう特許請求の範囲第4項記載の活性金属の製造方法
。 - (6)ブリケット状とする工程をハイドロカーボン系結
合剤を使用して行ない、この結合剤中の炭素の分だけ高
純度炭素の量を少なくした特許請求の範囲第4項記載の
活性金属の製造方法。 - (7)得られた活性金属を金属浴中から連続的に溢流さ
せて下方の鋳型に鋳込む特許請求の範囲第4項記載の活
性金属の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20530186A JPS6360239A (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 活性金属の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20530186A JPS6360239A (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 活性金属の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6360239A true JPS6360239A (ja) | 1988-03-16 |
Family
ID=16504692
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20530186A Pending JPS6360239A (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 活性金属の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6360239A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1989004379A1 (en) * | 1987-11-13 | 1989-05-18 | Wollongong Uniadvice Limited | Microwave irradiation of mineral ores and concentrates |
US10781823B2 (en) | 2015-10-02 | 2020-09-22 | Ihi Corporation | Impeller and supercharger |
-
1986
- 1986-09-01 JP JP20530186A patent/JPS6360239A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1989004379A1 (en) * | 1987-11-13 | 1989-05-18 | Wollongong Uniadvice Limited | Microwave irradiation of mineral ores and concentrates |
US10781823B2 (en) | 2015-10-02 | 2020-09-22 | Ihi Corporation | Impeller and supercharger |
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