JPS6357498B2 - - Google Patents
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- JPS6357498B2 JPS6357498B2 JP22587884A JP22587884A JPS6357498B2 JP S6357498 B2 JPS6357498 B2 JP S6357498B2 JP 22587884 A JP22587884 A JP 22587884A JP 22587884 A JP22587884 A JP 22587884A JP S6357498 B2 JPS6357498 B2 JP S6357498B2
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- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 40
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/04—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the coating material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/34—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the shape of the material to be treated
- C23C2/36—Elongated material
- C23C2/38—Wires; Tubes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、線材へのガリウムめつき装置に係
り、特に外部拡散法によるV3Ga超電導線材の製
造に好適なガリウムめつき装置に関するものであ
る。
り、特に外部拡散法によるV3Ga超電導線材の製
造に好適なガリウムめつき装置に関するものであ
る。
外部拡散法によりV3Ga超電導線材を製造する
方法として、インサイチユ（in situ）法が公知
である。この方法は、銅とバナジウムを一緒に溶
解鋳造して銅の中にバナジウムが微細に分散した
共晶状態の複合材をつくり、この複合材を圧延・
線引して細い線材（インサイチユ線材）とし、こ
の線材にガリウムをめつきした後、熱処理により
ガリウムを内部に拡散させてバナジウムと反応さ
せ、内部に無数のV3Gaフイラメトを形成するも
のである。
方法として、インサイチユ（in situ）法が公知
である。この方法は、銅とバナジウムを一緒に溶
解鋳造して銅の中にバナジウムが微細に分散した
共晶状態の複合材をつくり、この複合材を圧延・
線引して細い線材（インサイチユ線材）とし、こ
の線材にガリウムをめつきした後、熱処理により
ガリウムを内部に拡散させてバナジウムと反応さ
せ、内部に無数のV3Gaフイラメトを形成するも
のである。
この方法において、インサイチユ線材へのガリ
ウムめつきは、溶融したガリウムに線材を通過さ
せることにより行われるが、この際ガリウム浴表
面に酸化膜Ga2O3があると、それが線材表面に付
着して超電導特性に悪影響を及ぼすことから、従
来のガリウムめつき装置は、ガリウム浴表面の酸
化を防止するため真空中でめつきを行うようにし
ている。
ウムめつきは、溶融したガリウムに線材を通過さ
せることにより行われるが、この際ガリウム浴表
面に酸化膜Ga2O3があると、それが線材表面に付
着して超電導特性に悪影響を及ぼすことから、従
来のガリウムめつき装置は、ガリウム浴表面の酸
化を防止するため真空中でめつきを行うようにし
ている。
しかしこのような従来のめつき装置は、線材の
供給・めつき・巻取りを真空中で行うため、装置
全体が大型化するだけでなく、作業性も悪いとい
う問題がある。
供給・めつき・巻取りを真空中で行うため、装置
全体が大型化するだけでなく、作業性も悪いとい
う問題がある。
本発明は、上記のような従来技術の問題点を解
決するためになされたもので、その装置は、上部
で入口側筒部と出口側筒部とに分かれ、下部で連
通している、溶融ガリウムの入つためつき槽と、
上記入口側筒部の溶融ガリウム内に配置された冷
却手段と、上記出口側筒部の溶融ガリウム内に配
置された加熱手段とを備え、めつきすべき線材を
上記入口側筒部から導入し、下部で方向転換して
出口側筒部を通して引き出すようにしたことを特
徴とするものである。
決するためになされたもので、その装置は、上部
で入口側筒部と出口側筒部とに分かれ、下部で連
通している、溶融ガリウムの入つためつき槽と、
上記入口側筒部の溶融ガリウム内に配置された冷
却手段と、上記出口側筒部の溶融ガリウム内に配
置された加熱手段とを備え、めつきすべき線材を
上記入口側筒部から導入し、下部で方向転換して
出口側筒部を通して引き出すようにしたことを特
徴とするものである。
ガリウムの融点は30℃であるから、ガリウム浴
の温度を低く保つと、ガリウム浴表面の酸化はほ
とんど進行しない。この性質を利用するため本発
明は、めつき槽の上部を入口側筒部と出口側筒部
とに分け、線材が導入される部分である入口側筒
部内のガリウム浴の温度を冷却手段により冷却し
て、ガリウム浴表面の酸化を抑制したものであ
る。一方出口側筒部内のガリウム浴の温度は加熱
手段によりめつきに適する温度に保たれる。
の温度を低く保つと、ガリウム浴表面の酸化はほ
とんど進行しない。この性質を利用するため本発
明は、めつき槽の上部を入口側筒部と出口側筒部
とに分け、線材が導入される部分である入口側筒
部内のガリウム浴の温度を冷却手段により冷却し
て、ガリウム浴表面の酸化を抑制したものであ
る。一方出口側筒部内のガリウム浴の温度は加熱
手段によりめつきに適する温度に保たれる。
第１図は本発明のめつき装置の一実施例を示
す。図において、１１は上部が入口側筒部１２と
出口側筒部１３とに分かれ、下部が連通部１４に
より連通しているほぼＶ字形のめつき槽、１５は
そのめつき槽１１に入れられた溶融ガリウム、１
６は入口側筒部１２内の溶融ガリウム中に配置さ
れた冷却用の通水パイプ、１７は出口側筒部１３
内の溶融ガリウム中に配置された加熱用のヒータ
ー、１８は連通部１４内に配置されたターンシー
ブ、１９は溶融ガリウム１５の湯面より上の出口
側筒部１３内に配置されためつき層含浸用のヒー
ター、２０は溶融ガリウム１５の湯面より上の出
口側筒部１３内に不活性ガスを供給するボンベ、
２１はめつきすべき線材、２２は線材２１を供給
する送り出しリール、２３はめつきされた線材２
１を巻き取る巻取りリールである。
す。図において、１１は上部が入口側筒部１２と
出口側筒部１３とに分かれ、下部が連通部１４に
より連通しているほぼＶ字形のめつき槽、１５は
そのめつき槽１１に入れられた溶融ガリウム、１
６は入口側筒部１２内の溶融ガリウム中に配置さ
れた冷却用の通水パイプ、１７は出口側筒部１３
内の溶融ガリウム中に配置された加熱用のヒータ
ー、１８は連通部１４内に配置されたターンシー
ブ、１９は溶融ガリウム１５の湯面より上の出口
側筒部１３内に配置されためつき層含浸用のヒー
ター、２０は溶融ガリウム１５の湯面より上の出
口側筒部１３内に不活性ガスを供給するボンベ、
２１はめつきすべき線材、２２は線材２１を供給
する送り出しリール、２３はめつきされた線材２
１を巻き取る巻取りリールである。
送り出しリール２２から供給された線材２１
は、まず上方から入口側筒部１２の溶融ガリウム
１５中に導入される。このゾーンの溶融ガリウム
１５は冷却パイプ１６により表面の酸化が進行し
ない程度（例えば70℃以下）に冷却されているた
め、線材２１は表面にガリウム酸化皮膜の付着の
ない清浄な状態で溶融ガリウム１５中に入る。そ
の後線材２１はターンシーブ１８で方向転換して
出口側筒部１３内の溶融ガリウム１５中に入る。
このゾーンの溶融ガリウム１５はヒーター１７に
よつて加熱され、めつきに適する温度（400〜600
℃）に調節されている。この温度調節を容易にす
るためヒーター１７は線材２１の走行方向に複数
段（この例では２段）に分けて設置することが望
ましい。このゾーンでガリウムめつきされた線材
２１は次に、出口側筒部１３の不活性ガスが満た
されたゾーンに入り、そこでヒーター１９により
加熱される。この加熱は表面のガリウムを線材２
１の中に拡散含浸させ、表面を乾燥させるために
行う。その後線材２１は、適当な温度にまで冷却
されたところで出口側筒部１３を出て、巻取りリ
ール２３に巻き取られる。
は、まず上方から入口側筒部１２の溶融ガリウム
１５中に導入される。このゾーンの溶融ガリウム
１５は冷却パイプ１６により表面の酸化が進行し
ない程度（例えば70℃以下）に冷却されているた
め、線材２１は表面にガリウム酸化皮膜の付着の
ない清浄な状態で溶融ガリウム１５中に入る。そ
の後線材２１はターンシーブ１８で方向転換して
出口側筒部１３内の溶融ガリウム１５中に入る。
このゾーンの溶融ガリウム１５はヒーター１７に
よつて加熱され、めつきに適する温度（400〜600
℃）に調節されている。この温度調節を容易にす
るためヒーター１７は線材２１の走行方向に複数
段（この例では２段）に分けて設置することが望
ましい。このゾーンでガリウムめつきされた線材
２１は次に、出口側筒部１３の不活性ガスが満た
されたゾーンに入り、そこでヒーター１９により
加熱される。この加熱は表面のガリウムを線材２
１の中に拡散含浸させ、表面を乾燥させるために
行う。その後線材２１は、適当な温度にまで冷却
されたところで出口側筒部１３を出て、巻取りリ
ール２３に巻き取られる。
なお上述の装置では、めつきに役立たないゾー
ンでの線材２１の溶融ガリウムへの浸漬長をでき
るだけ短くするため、入口側筒部１２は垂直にし
てあり、また出口側筒部１３は線材２１の溶融ガ
リウムへの浸漬長を長くするため、ゆるい角度で
傾斜させてある。
ンでの線材２１の溶融ガリウムへの浸漬長をでき
るだけ短くするため、入口側筒部１２は垂直にし
てあり、また出口側筒部１３は線材２１の溶融ガ
リウムへの浸漬長を長くするため、ゆるい角度で
傾斜させてある。
第２図は本発明の他の実施例を示す。この装置
は、入口側筒部１２内の湯面上にフラツクス等の
還元剤２４を浮かべ、これを線材２１に塗布して
線材２１の表面を清浄にし、より良好なめつきを
行うようにしたものである。この他の構成は第１
図の実施例と同様である。
は、入口側筒部１２内の湯面上にフラツクス等の
還元剤２４を浮かべ、これを線材２１に塗布して
線材２１の表面を清浄にし、より良好なめつきを
行うようにしたものである。この他の構成は第１
図の実施例と同様である。
第３図は本発明のさらに他の実施例を示す。こ
の装置は、出口側筒部１３の下部のターンシーブ
１８に近い位置にもう一つの通水パイプ２５を配
置して、この部分の溶融ガリウム１５を冷却する
ことにより、入口側筒部１２内の溶融ガリウムの
昇温をより確実に防止するようにしたものであ
る。その他の構成は第１図の実施例と同様であ
る。
の装置は、出口側筒部１３の下部のターンシーブ
１８に近い位置にもう一つの通水パイプ２５を配
置して、この部分の溶融ガリウム１５を冷却する
ことにより、入口側筒部１２内の溶融ガリウムの
昇温をより確実に防止するようにしたものであ
る。その他の構成は第１図の実施例と同様であ
る。
なお上記実施例では、めつき槽の形をほぼＶ字
形にしたが、めつき槽の形はこのほかＵ字形、凹
字形などにすることも可能である。
形にしたが、めつき槽の形はこのほかＵ字形、凹
字形などにすることも可能である。
まためつきすべき線材は、インサイチユ線材に
限らず、銅内部にバナジウムフイラメントが埋め
込まれている線材であればよい。また超電導線材
を製造する場合以外でも、線材にガリウムめつき
を施す必要のある場合には本発明の装置を使用で
きる。さらに線材の形は、通常の断面円形のもの
に限らず、例えばテープ状であつてもよい。
限らず、銅内部にバナジウムフイラメントが埋め
込まれている線材であればよい。また超電導線材
を製造する場合以外でも、線材にガリウムめつき
を施す必要のある場合には本発明の装置を使用で
きる。さらに線材の形は、通常の断面円形のもの
に限らず、例えばテープ状であつてもよい。
以上説明したように本発明によれば、線材を導
入する部分の溶融ガリウムの温度を低く保つこと
がでるので、線材表面にガリウム酸化皮膜が付着
するおそれがなく、真空中でなくとも良好なガリ
ウムめつきを得ることが可能となる。したがつて
装置全体が小型化できると共に、作業性も良くな
る利点がある。
入する部分の溶融ガリウムの温度を低く保つこと
がでるので、線材表面にガリウム酸化皮膜が付着
するおそれがなく、真空中でなくとも良好なガリ
ウムめつきを得ることが可能となる。したがつて
装置全体が小型化できると共に、作業性も良くな
る利点がある。
第１図ないし第３図はそれぞれ本発明のめつき
装置の実施例を示す断面図である。 １１……めつき槽、１２……入口側筒部、１３
……出口側筒部、１４……連通部、１５……溶融
ガリウム、１６……通水パイプ、１７……ヒータ
ー、２１……線材、２５……通水パイプ。
装置の実施例を示す断面図である。 １１……めつき槽、１２……入口側筒部、１３
……出口側筒部、１４……連通部、１５……溶融
ガリウム、１６……通水パイプ、１７……ヒータ
ー、２１……線材、２５……通水パイプ。
Claims (1)
- １ 上部で入口側筒部と出口側筒部とに分かれ、
下部で連通している、溶融ガリウムの入つためつ
き槽と、上記入口側筒部の溶融ガリウム内に配置
された冷却手段と、上記出口側筒部の溶融ガリウ
ム内に配置された加熱手段とを備え、めつきすべ
き線材を上記入口側筒部から導入し、下部で方向
転換して出口側筒部を通して引き出すようにした
線材へのガリウムめつき装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22587884A JPS61106762A (ja) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | 線材へのガリウムめつき装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22587884A JPS61106762A (ja) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | 線材へのガリウムめつき装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61106762A JPS61106762A (ja) | 1986-05-24 |
| JPS6357498B2 true JPS6357498B2 (ja) | 1988-11-11 |
Family
ID=16836276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22587884A Granted JPS61106762A (ja) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | 線材へのガリウムめつき装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61106762A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014026847A (ja) * | 2012-07-27 | 2014-02-06 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 超電導線の製造方法および製造装置 |
| JP7172316B2 (ja) * | 2018-09-11 | 2022-11-16 | 日本製鉄株式会社 | 磁歪合金の製造方法および磁歪合金 |
-
1984
- 1984-10-29 JP JP22587884A patent/JPS61106762A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61106762A (ja) | 1986-05-24 |
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