JPS6351922A - セラミツク膜構造体およびその製造法 - Google Patents
セラミツク膜構造体およびその製造法Info
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- JPS6351922A JPS6351922A JP19787086A JP19787086A JPS6351922A JP S6351922 A JPS6351922 A JP S6351922A JP 19787086 A JP19787086 A JP 19787086A JP 19787086 A JP19787086 A JP 19787086A JP S6351922 A JPS6351922 A JP S6351922A
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Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はセラミック膜構造体、特にクヌーセン拡散、表
面拡散によるガス分離用セラミック膜構造体、液中の微
小固体や溶解分子を濾過分離する液・面分離用セラミッ
ク構造体およびその製造法に関する。
面拡散によるガス分離用セラミック膜構造体、液中の微
小固体や溶解分子を濾過分離する液・面分離用セラミッ
ク構造体およびその製造法に関する。
膜による分離法としては、精密濾過法、限外濾過法、ガ
ス分離法などが知られており、近年種々研究されている
。その−例として、刊行物化学装置第61頁〜第65頁
(1985年11月号:工業調査会発行)に示されてい
るように、セラミック製の多孔質管の外表面に微細孔を
有するシリカゲル薄膜、アルミナゲル薄膜を担持させた
構造体を用いて空気中の水分の分離除去、アルコールの
分離濃縮を行っている例がある。
ス分離法などが知られており、近年種々研究されている
。その−例として、刊行物化学装置第61頁〜第65頁
(1985年11月号:工業調査会発行)に示されてい
るように、セラミック製の多孔質管の外表面に微細孔を
有するシリカゲル薄膜、アルミナゲル薄膜を担持させた
構造体を用いて空気中の水分の分離除去、アルコールの
分離濃縮を行っている例がある。
ところで、上記刊行物にはかかる構造体を工業的規模で
利用する具体的手段が全く示されておらず、その具体的
手段の堤案が望まれる。本発明は従来公知のセラミック
ハニカム構造体に着目し、同構造体にガス成分のクヌー
セン拡散、表面拡散による分離機能、液中の微小固体や
熔解分子の濾過分離機能を付与することにより工業的に
有利なセラミック膜構造体を提供しようとするものであ
る。
利用する具体的手段が全く示されておらず、その具体的
手段の堤案が望まれる。本発明は従来公知のセラミック
ハニカム構造体に着目し、同構造体にガス成分のクヌー
セン拡散、表面拡散による分離機能、液中の微小固体や
熔解分子の濾過分離機能を付与することにより工業的に
有利なセラミック膜構造体を提供しようとするものであ
る。
本発明の第1の発明は、多数の連続細孔を有する多孔質
隔壁にて区画され一端側が開口する多数の第1の孔と同
一端側が閉塞する多数の第2の孔とを互に並列的に備え
たセラミックハニカム構造体であり、当該構造体はいず
れかの孔の閉塞部に流体入出孔を有するとともに、前記
各隔壁のいずれかの孔側内周に平均孔径が100Å〜5
μmである多数の連続微細孔を有するセラミック薄膜を
備え、かつ前記第1の孔と第2の孔とは少くとも部分的
に共通の隔壁にて区隔されていることを特徴とするセラ
ミック膜構造体にある。
隔壁にて区画され一端側が開口する多数の第1の孔と同
一端側が閉塞する多数の第2の孔とを互に並列的に備え
たセラミックハニカム構造体であり、当該構造体はいず
れかの孔の閉塞部に流体入出孔を有するとともに、前記
各隔壁のいずれかの孔側内周に平均孔径が100Å〜5
μmである多数の連続微細孔を有するセラミック薄膜を
備え、かつ前記第1の孔と第2の孔とは少くとも部分的
に共通の隔壁にて区隔されていることを特徴とするセラ
ミック膜構造体にある。
また、本発明の第2の発明はかかるセラミック膜構造体
の製造法であり、当該製造法は多数の連続細孔を有する
多孔質隔壁にて区画された多数の貫通孔を互に並列的に
備えたセラミックハニカム構造体を基礎構造体とし、同
構造体の前記各貫通孔における所定の各貫通孔の少(と
も一端側を閉塞して少くとも部分的に共通の隔壁にて区
画された一端側が開口する多数の第1の孔と同一端側が
閉塞する多数の第2の孔とを形成し、平均孔径が100
Å〜5μmである多数の連続微細孔を有するセラミンク
薄膜の形成用スラリーをいずれかの孔の開口端から内部
に浸入させ、同孔の内壁に前記セラミック薄膜を形成す
ることを特徴とするものである。
の製造法であり、当該製造法は多数の連続細孔を有する
多孔質隔壁にて区画された多数の貫通孔を互に並列的に
備えたセラミックハニカム構造体を基礎構造体とし、同
構造体の前記各貫通孔における所定の各貫通孔の少(と
も一端側を閉塞して少くとも部分的に共通の隔壁にて区
画された一端側が開口する多数の第1の孔と同一端側が
閉塞する多数の第2の孔とを形成し、平均孔径が100
Å〜5μmである多数の連続微細孔を有するセラミンク
薄膜の形成用スラリーをいずれかの孔の開口端から内部
に浸入させ、同孔の内壁に前記セラミック薄膜を形成す
ることを特徴とするものである。
本発明において、基礎構造体はセラミック原料の微粉に
有機バインダー、可塑剤を加えて混練してなる凋合物を
多数のスリットを備えたダイスから押出し、かつこれを
焼成してなるセラミックハニカム構造体であり、セラミ
ック原料としてはアルミナ、シリカ、ムライト、コージ
ェライト等が採用される。かかるセラミックハニカム構
造体は多数の連続細孔を有する多孔質隔壁にて区画され
た多数の貫通孔を互に並列的に備えており、貫通孔の断
面形状は三角形、四角形、その他の多角形、円形、楕円
形等適宜の形状を呈している。なお、多孔質隔壁の細孔
の平均孔径は好ましくは400μm以下である。
有機バインダー、可塑剤を加えて混練してなる凋合物を
多数のスリットを備えたダイスから押出し、かつこれを
焼成してなるセラミックハニカム構造体であり、セラミ
ック原料としてはアルミナ、シリカ、ムライト、コージ
ェライト等が採用される。かかるセラミックハニカム構
造体は多数の連続細孔を有する多孔質隔壁にて区画され
た多数の貫通孔を互に並列的に備えており、貫通孔の断
面形状は三角形、四角形、その他の多角形、円形、楕円
形等適宜の形状を呈している。なお、多孔質隔壁の細孔
の平均孔径は好ましくは400μm以下である。
本発明に係るセラミック膜構造体はかかるセラミックハ
ニカム構造体における各n通孔を第1の孔と第2の孔の
2 、Tffi 類に区分してなるもので、第1の孔は
少くともその一端側が開口されその他端側は開口または
閉塞されている。また、第2の孔は少くともその一端側
が閉塞されその他端側は閉塞または開口されている。第
1の孔と第2の孔とは少くとも部分的に共通の隔壁にて
区画されている。また、かかるセラミック膜構造体はい
ずれかの孔の閉塞部に流体入出孔を有するとともに、各
隔壁のいずれかの孔側内周に多数の連続微細孔を有する
セラミック]l’Aを備えている。セラミック薄膜は混
合ガス中の特定のガス成分を拡散分離しまたは液中の微
小固体や熔解分子を濾過分離する多数の連続微細孔を有
するもので、好ましくはアルミニウムアルコラートまた
はアルミニウムキレートを加水分解して得たアルミナゾ
ルにて形成され、その微細孔の平均孔径が100Å〜5
μmであり、かつ膜厚が5μm〜100μmであること
が好ましい。セラミック薄膜形成材料は、セラミックハ
ニカム構造体のいずれかの孔の開口から侵入されてその
内壁に付着され、適宜の処理例えばケイ酸塩水溶液に浸
漬、次いで高温水蒸気中での水草気処理に付されて薄膜
に形成される。なお、セラミックMH’Aはpvp、c
vp法によって付与してもよく、また、微小粉末を含む
スラリーを公知の方法にて塗布しても良い。
ニカム構造体における各n通孔を第1の孔と第2の孔の
2 、Tffi 類に区分してなるもので、第1の孔は
少くともその一端側が開口されその他端側は開口または
閉塞されている。また、第2の孔は少くともその一端側
が閉塞されその他端側は閉塞または開口されている。第
1の孔と第2の孔とは少くとも部分的に共通の隔壁にて
区画されている。また、かかるセラミック膜構造体はい
ずれかの孔の閉塞部に流体入出孔を有するとともに、各
隔壁のいずれかの孔側内周に多数の連続微細孔を有する
セラミック]l’Aを備えている。セラミック薄膜は混
合ガス中の特定のガス成分を拡散分離しまたは液中の微
小固体や熔解分子を濾過分離する多数の連続微細孔を有
するもので、好ましくはアルミニウムアルコラートまた
はアルミニウムキレートを加水分解して得たアルミナゾ
ルにて形成され、その微細孔の平均孔径が100Å〜5
μmであり、かつ膜厚が5μm〜100μmであること
が好ましい。セラミック薄膜形成材料は、セラミックハ
ニカム構造体のいずれかの孔の開口から侵入されてその
内壁に付着され、適宜の処理例えばケイ酸塩水溶液に浸
漬、次いで高温水蒸気中での水草気処理に付されて薄膜
に形成される。なお、セラミックMH’Aはpvp、c
vp法によって付与してもよく、また、微小粉末を含む
スラリーを公知の方法にて塗布しても良い。
かかる構成のセラミック膜構造体においては、複数のガ
スが混合する被処理ガス例えばH2Naガス、H2−C
Oガス、H,S −H,ガス等を第1または第2の孔の
開口端から例えば加圧下で供給するとともにいずれかの
孔の閉塞部の流体入出孔を例えば大気開放系にしまたは
吸引すれば、同被処理ガスの少くとも一部がセラミック
薄膜および隔壁を通過しようとする。この際、被処理ガ
ス中の各ガスのセラミック薄膜の微細孔内での透過速度
の差に起因して特定ガス例えばH2ガスが優先してセラ
ミック薄膜および隔壁を通過する。このため、第1の孔
と第2の孔からはガス組成が大きく相違する2種類の処
理ガスが流出する。また、各1(微生物を混在する微生
物反応による生成液を処理すればセラミック薄膜により
微生物の透過が規制されるため、同薄膜および隔壁を通
過した生成液は微生物を含まない清浄液となる。
スが混合する被処理ガス例えばH2Naガス、H2−C
Oガス、H,S −H,ガス等を第1または第2の孔の
開口端から例えば加圧下で供給するとともにいずれかの
孔の閉塞部の流体入出孔を例えば大気開放系にしまたは
吸引すれば、同被処理ガスの少くとも一部がセラミック
薄膜および隔壁を通過しようとする。この際、被処理ガ
ス中の各ガスのセラミック薄膜の微細孔内での透過速度
の差に起因して特定ガス例えばH2ガスが優先してセラ
ミック薄膜および隔壁を通過する。このため、第1の孔
と第2の孔からはガス組成が大きく相違する2種類の処
理ガスが流出する。また、各1(微生物を混在する微生
物反応による生成液を処理すればセラミック薄膜により
微生物の透過が規制されるため、同薄膜および隔壁を通
過した生成液は微生物を含まない清浄液となる。
ところで、かかる構成のセラミック膜構造体においては
、セラミックハニカム構造体を基礎構造体として同構造
体の多数の隔壁に各種の分離機能を持たせたものである
から、分離機能を有する隔壁の単位容積当りの有効面積
が極めて高い。また、各隔壁は全て一体的に結合してい
るため、各隔壁を構成する多数の部材を一体化する手段
を要せずかつ強度的にも極めて高い。従って、かかるセ
ラミック膜構造体はガス分離用構造体、液・面濾過分離
用構造体として工業的に極めて有利である。
、セラミックハニカム構造体を基礎構造体として同構造
体の多数の隔壁に各種の分離機能を持たせたものである
から、分離機能を有する隔壁の単位容積当りの有効面積
が極めて高い。また、各隔壁は全て一体的に結合してい
るため、各隔壁を構成する多数の部材を一体化する手段
を要せずかつ強度的にも極めて高い。従って、かかるセ
ラミック膜構造体はガス分離用構造体、液・面濾過分離
用構造体として工業的に極めて有利である。
一方、かかるセラミック膜構造体はセラミックハニカム
構造体の作製、同構造体の貫通孔における所定の開口端
部の閉塞、所定の隔壁内周におけるセミツク薄膜の形成
という手段により製造されるため、特別に難しい手段を
用いることなく容易に製造することができる。
構造体の作製、同構造体の貫通孔における所定の開口端
部の閉塞、所定の隔壁内周におけるセミツク薄膜の形成
という手段により製造されるため、特別に難しい手段を
用いることなく容易に製造することができる。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明するに、第
1図には本発明の第1実施例に係るセラミック膜構造体
を採用した水素ガス分離装面が示されている。当該装置
は本体ケースll内にセラミック膜構造体20を収容し
てなるもので、上下一対の支持部材12.13を介して
ケース11内に支持されている。ケース11は流入口1
1aと2つの流出口11b、11Cを備えていて、未処
理のガスが流入口11aを通して例えば加圧下(約5k
m/cot)で供給され、かつ第1流出口11b側を大
気開放側とすると、後述するごとく隔壁をへだでて生ず
る圧力差によって水素ガスを選択的にセラミック薄膜を
拡散するため同流出口11bから流出するとともに、水
素ガス濃度の低減した残りのガスが第2流出口11cか
ら流出する。
1図には本発明の第1実施例に係るセラミック膜構造体
を採用した水素ガス分離装面が示されている。当該装置
は本体ケースll内にセラミック膜構造体20を収容し
てなるもので、上下一対の支持部材12.13を介して
ケース11内に支持されている。ケース11は流入口1
1aと2つの流出口11b、11Cを備えていて、未処
理のガスが流入口11aを通して例えば加圧下(約5k
m/cot)で供給され、かつ第1流出口11b側を大
気開放側とすると、後述するごとく隔壁をへだでて生ず
る圧力差によって水素ガスを選択的にセラミック薄膜を
拡散するため同流出口11bから流出するとともに、水
素ガス濃度の低減した残りのガスが第2流出口11cか
ら流出する。
しかして、セラミック膜構造体20は第2図および第3
図に示すように、多孔質隔壁にて区画された多数の貫通
孔を互に並列的に備えたセラミックハニカム構造体を基
礎構造体21とするもので、基礎構造体21(以下単に
構造体という)の各貫通孔は断面四角形を呈し、構造体
21の長手方向へ互に並列的に延びている。かかる構造
体21はセラミック原料の微粉例えばアルミナ、シリカ
、ムライト、コージェライト等に有機バインダー、可望
剤を加えて混練してなる調合物を通常のセラミック多孔
質の形成と同様の条件で押出し成形、焼成して得られる
もので、各貫通孔を区画する多数の隔壁21aは多数の
連続細孔を有する多孔質隔壁である。第4図にはかかる
隔壁21aと後述するセラミック薄膜24の断面を超拡
大した局部断面が示されているが、隔壁21aの細孔2
1bの平均孔径は好ましくは400μm以下である。
図に示すように、多孔質隔壁にて区画された多数の貫通
孔を互に並列的に備えたセラミックハニカム構造体を基
礎構造体21とするもので、基礎構造体21(以下単に
構造体という)の各貫通孔は断面四角形を呈し、構造体
21の長手方向へ互に並列的に延びている。かかる構造
体21はセラミック原料の微粉例えばアルミナ、シリカ
、ムライト、コージェライト等に有機バインダー、可望
剤を加えて混練してなる調合物を通常のセラミック多孔
質の形成と同様の条件で押出し成形、焼成して得られる
もので、各貫通孔を区画する多数の隔壁21aは多数の
連続細孔を有する多孔質隔壁である。第4図にはかかる
隔壁21aと後述するセラミック薄膜24の断面を超拡
大した局部断面が示されているが、隔壁21aの細孔2
1bの平均孔径は好ましくは400μm以下である。
平均孔径がこれ以下であればセラミック薄膜の形成持重
膜内でのクランク、ピンホール等の発生が防止され、か
つ均一な膜厚の形成が可能になる。
膜内でのクランク、ピンホール等の発生が防止され、か
つ均一な膜厚の形成が可能になる。
なお、隔壁21aの厚みは任意であるが、強度上および
加工上111程度であることが好ましい。
加工上111程度であることが好ましい。
本実施例のセラミック膜構造体20においては、構造体
21における各貫通孔の両端を千鳥状に閉塞してなるも
ので、各貫通孔を多数の両端開口孔21Cと両端閉塞孔
21dとに区画している。これら両孔21C,21dは
本発明における第1゜第2の孔にそれぞれ相当するもの
で、閉塞孔21dの両端を閉塞している閉塞部材211
. 22bは隔壁21aと同様の材質でその外側に釉薬
を施してなり、気密的に密閉している。かかる閉塞部材
22aには同様の材質からなる流体入出パイプ23が植
設されている。互に隣合う開口孔21cと閉塞孔21d
とはそれらの一辺を共通の隔壁21aにて区画されてい
る。また、各開口孔21Cを構成する隔壁21aの内周
にセラミック薄膜24が形成されている。
21における各貫通孔の両端を千鳥状に閉塞してなるも
ので、各貫通孔を多数の両端開口孔21Cと両端閉塞孔
21dとに区画している。これら両孔21C,21dは
本発明における第1゜第2の孔にそれぞれ相当するもの
で、閉塞孔21dの両端を閉塞している閉塞部材211
. 22bは隔壁21aと同様の材質でその外側に釉薬
を施してなり、気密的に密閉している。かかる閉塞部材
22aには同様の材質からなる流体入出パイプ23が植
設されている。互に隣合う開口孔21cと閉塞孔21d
とはそれらの一辺を共通の隔壁21aにて区画されてい
る。また、各開口孔21Cを構成する隔壁21aの内周
にセラミック薄膜24が形成されている。
セラミック薄膜24はクヌーセン拡散により水素ガスを
拡散分離させる多数の連続微細孔24aを有するもので
、微細孔の平均孔径が100Å〜1000Aであるが、
精密濾過法および限外濾過法に用いる場合は、その処理
対象物質の大きさに対応して、5μmまでの平均孔径で
あれば良い。
拡散分離させる多数の連続微細孔24aを有するもので
、微細孔の平均孔径が100Å〜1000Aであるが、
精密濾過法および限外濾過法に用いる場合は、その処理
対象物質の大きさに対応して、5μmまでの平均孔径で
あれば良い。
セラミック薄膜24の平均孔径を5μm以下としたのは
、5μmを越えるとセラミック3膜24を流体が通過す
る抵抗が小さくなるため、隔壁21が不必要となりむし
ろ単層構造のほうが好ましくなる場合が生ずるからであ
る。また、セラミック薄膜24の膜厚は5μm〜100
μmであり、分離機能をもつ薄膜を薄くすることによっ
て、流体が通過する抵抗を低くし、流体の透過を容易に
する。本実施例においては、硫化水素分解反応、アンモ
ニア合成、メタノール合成等のパージガス中の水素の拡
散透過速度等を考慮して微細孔の平均孔径が100A、
膜厚が10μmに調製されている。かかるセラミック薄
膜24はアルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム
ー2−ブチレート等のアルミニウムアルコラート、アル
ミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、エチルア
セトアセテートアルミニウムジイソプロピレート等のア
ルミニウムキレートを加水分解して得たアルミナゾルを
用いて形成されるもので、同アルミナゾル中に構造体2
1を浸漬してこれを各開口孔21C内に導入し、隔壁2
1aの同開口孔21 C(,1111内周に担持させる
。その後、ケイ酸ナトリウム水溶液で処理しさらに高温
水茎気で処理することによリセラミソク薄膜24が形成
される。本実施例においては、水100gに対し5gの
アルミニウムイソプロポキシドを80〜90℃に保持し
た水中に添加し、アルミニウムイソプロポキシドを加水
分解した。これに、Q、5mj2の濃硝酸を加え、80
〜90℃に24時間保持し、解膠してアルミナゾルを得
た。このアルミナゾルに、構造体21を5分間浸漬した
l& l O0℃で乾燥し、SOO℃で3時間焼成した
。
、5μmを越えるとセラミック3膜24を流体が通過す
る抵抗が小さくなるため、隔壁21が不必要となりむし
ろ単層構造のほうが好ましくなる場合が生ずるからであ
る。また、セラミック薄膜24の膜厚は5μm〜100
μmであり、分離機能をもつ薄膜を薄くすることによっ
て、流体が通過する抵抗を低くし、流体の透過を容易に
する。本実施例においては、硫化水素分解反応、アンモ
ニア合成、メタノール合成等のパージガス中の水素の拡
散透過速度等を考慮して微細孔の平均孔径が100A、
膜厚が10μmに調製されている。かかるセラミック薄
膜24はアルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム
ー2−ブチレート等のアルミニウムアルコラート、アル
ミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、エチルア
セトアセテートアルミニウムジイソプロピレート等のア
ルミニウムキレートを加水分解して得たアルミナゾルを
用いて形成されるもので、同アルミナゾル中に構造体2
1を浸漬してこれを各開口孔21C内に導入し、隔壁2
1aの同開口孔21 C(,1111内周に担持させる
。その後、ケイ酸ナトリウム水溶液で処理しさらに高温
水茎気で処理することによリセラミソク薄膜24が形成
される。本実施例においては、水100gに対し5gの
アルミニウムイソプロポキシドを80〜90℃に保持し
た水中に添加し、アルミニウムイソプロポキシドを加水
分解した。これに、Q、5mj2の濃硝酸を加え、80
〜90℃に24時間保持し、解膠してアルミナゾルを得
た。このアルミナゾルに、構造体21を5分間浸漬した
l& l O0℃で乾燥し、SOO℃で3時間焼成した
。
かかる構成のセラミック膜構造体20を採用した水素ガ
ス分離装置においては、ケース11の流入口112側か
ら前記したパージガスを加圧下にて所定の流速で供給し
、かつ第1流出口11b側を大気開放系とする。これに
より、供給されたパージガスはセラミック膜構造体20
における各開口孔21Cの下端から同開口孔21c内に
流入、その一部が同開口孔21Cの上端を通してケース
11の第2流出口11Cから流出し、高濃度の水素ガス
を含むガス流体が各セラミック薄膜24および隔壁21
aを透過し各流体入出パイプ23を通して第1流出口1
1bから流出する。第4図にはパージガスがセラミック
薄膜24および隔壁21aを透過する際の横型図が示さ
れており、同図に示すようにパージガスがセラミック薄
膜24を透過しようとすると、パージガス中の水素(白
丸)が微細孔24a内を優先して隔壁21a側へ移動し
て隔壁21aの細孔21bに達し、閉塞孔21d内に流
入する。これにより、第2流出口11cからは水素ガス
濃度の低いパージガスが流出しかつ第1流出口11bか
らは水素ガス濃度の高いパージガスが流出する。
ス分離装置においては、ケース11の流入口112側か
ら前記したパージガスを加圧下にて所定の流速で供給し
、かつ第1流出口11b側を大気開放系とする。これに
より、供給されたパージガスはセラミック膜構造体20
における各開口孔21Cの下端から同開口孔21c内に
流入、その一部が同開口孔21Cの上端を通してケース
11の第2流出口11Cから流出し、高濃度の水素ガス
を含むガス流体が各セラミック薄膜24および隔壁21
aを透過し各流体入出パイプ23を通して第1流出口1
1bから流出する。第4図にはパージガスがセラミック
薄膜24および隔壁21aを透過する際の横型図が示さ
れており、同図に示すようにパージガスがセラミック薄
膜24を透過しようとすると、パージガス中の水素(白
丸)が微細孔24a内を優先して隔壁21a側へ移動し
て隔壁21aの細孔21bに達し、閉塞孔21d内に流
入する。これにより、第2流出口11cからは水素ガス
濃度の低いパージガスが流出しかつ第1流出口11bか
らは水素ガス濃度の高いパージガスが流出する。
ところで、本実施例のセラミック膜構造体20は従来公
知のセラミックハニカム構造体21を基礎構造体とする
もので、同構造体21の多数の隔壁21aにガスの拡散
分離機能を持たせたものである。従って、拡散骨m機能
を有する隔壁21aの構造体21単位容積当りの有効面
積が大きく、また各隔壁21aを構成する多数の部材を
一体化する手段を要せずかつ強度的にも極めて高(、工
業的に極めて有利である。
知のセラミックハニカム構造体21を基礎構造体とする
もので、同構造体21の多数の隔壁21aにガスの拡散
分離機能を持たせたものである。従って、拡散骨m機能
を有する隔壁21aの構造体21単位容積当りの有効面
積が大きく、また各隔壁21aを構成する多数の部材を
一体化する手段を要せずかつ強度的にも極めて高(、工
業的に極めて有利である。
また、本実施例のセラミック膜構造体20においては、
セラミックハニカム構造体の通常の作製条件により押出
し成形し、例えば押し出し用の坏土と同一素地にて同構
造体21における各貰通孔の所定の両端開口部を閉塞し
、流体入出孔23を植設しその后焼成して構造体21を
作製する。または、押出し成形、焼成して構造体21を
作製し、次いで同構造体21における所定の両端開口部
を閉塞しても良い。従って、かかる製造法によれば特別
に難しい手段、煩雑な手段を用いることがないため、セ
ラミック膜構造体20を容易に製造することができる。
セラミックハニカム構造体の通常の作製条件により押出
し成形し、例えば押し出し用の坏土と同一素地にて同構
造体21における各貰通孔の所定の両端開口部を閉塞し
、流体入出孔23を植設しその后焼成して構造体21を
作製する。または、押出し成形、焼成して構造体21を
作製し、次いで同構造体21における所定の両端開口部
を閉塞しても良い。従って、かかる製造法によれば特別
に難しい手段、煩雑な手段を用いることがないため、セ
ラミック膜構造体20を容易に製造することができる。
第5図および第6図には本発明の第2実施例に係るセラ
ミックlji tl造体30の一部が示されている。当
該セラミ7り膜構造体30においても、第1実施例の基
礎構造体21と同様のセラミックハニカム構造体を基礎
構造体31とするもので、第1実施例のセラミック膜構
造体20との相違点は下記の点にある。すなわち、当該
セラミック膜構造体30においては、第1実施例のセラ
ミック膜構造体20の閉塞孔21dに対応する第2の孔
31dは一端のみが閉塞部材32aにて閉塞されている
のみで、これに応じて開口孔21Cに対応する第1の孔
31cにおいては一端が開口しかつ他端が閉塞部材32
bにて閉塞されている。なお、かかるセラミック膜構造
体30においては、第1の孔31cを構成する隔壁31
a内周にセラE −/りilj!34を備え、かつ第2
の孔31dの一端を閉塞する閉塞部材32aに流体入出
パイプ33が植設されていて、第2の孔31dの他端側
からパージガスを供給するとともに、第2の流出口11
Cから吸引し、第1の孔31cを真空下に保持する。こ
れにより、パージガス中の水素ガスは隔壁31aおよび
セラミック薄膜34によって選択的に透過して、第1の
孔31Cをとおって流出口11cから流出し、かつ水素
ガス濃度が低下したパージガスが第2の孔31dの他端
側から得られる。
ミックlji tl造体30の一部が示されている。当
該セラミ7り膜構造体30においても、第1実施例の基
礎構造体21と同様のセラミックハニカム構造体を基礎
構造体31とするもので、第1実施例のセラミック膜構
造体20との相違点は下記の点にある。すなわち、当該
セラミック膜構造体30においては、第1実施例のセラ
ミック膜構造体20の閉塞孔21dに対応する第2の孔
31dは一端のみが閉塞部材32aにて閉塞されている
のみで、これに応じて開口孔21Cに対応する第1の孔
31cにおいては一端が開口しかつ他端が閉塞部材32
bにて閉塞されている。なお、かかるセラミック膜構造
体30においては、第1の孔31cを構成する隔壁31
a内周にセラE −/りilj!34を備え、かつ第2
の孔31dの一端を閉塞する閉塞部材32aに流体入出
パイプ33が植設されていて、第2の孔31dの他端側
からパージガスを供給するとともに、第2の流出口11
Cから吸引し、第1の孔31cを真空下に保持する。こ
れにより、パージガス中の水素ガスは隔壁31aおよび
セラミック薄膜34によって選択的に透過して、第1の
孔31Cをとおって流出口11cから流出し、かつ水素
ガス濃度が低下したパージガスが第2の孔31dの他端
側から得られる。
また、第1の孔31cの内側にあるセラミック薄膜34
が第2の孔31dの内側にあっても同様の効果が期待で
きる。さらに、パージガスを第2の流出口11cを利用
し第1の孔31c内に充填させ、セラミック薄膜34と
隔壁31aを選択的に拡散してくる水素ガスを第2の孔
31dより回収してもよい。
が第2の孔31dの内側にあっても同様の効果が期待で
きる。さらに、パージガスを第2の流出口11cを利用
し第1の孔31c内に充填させ、セラミック薄膜34と
隔壁31aを選択的に拡散してくる水素ガスを第2の孔
31dより回収してもよい。
なお、上記した第1実施例のセラミック膜構造体20に
おいては、閉塞孔21dの一端側の閉塞部材22aにの
み流体入出パイプ23を植設しているが、同閉塞孔21
dの他端側の閉塞部材22bにもこれと同様の流体入出
パイプを植設し、開口孔21Cを流通するパージガスを
大気開放系の閉塞孔21dの両端側から流出させるよう
にしてもよい。
おいては、閉塞孔21dの一端側の閉塞部材22aにの
み流体入出パイプ23を植設しているが、同閉塞孔21
dの他端側の閉塞部材22bにもこれと同様の流体入出
パイプを植設し、開口孔21Cを流通するパージガスを
大気開放系の閉塞孔21dの両端側から流出させるよう
にしてもよい。
また、上記した第1.第2実施例のセラミック膜構造体
20.30においては、各閉塞部材22a、22b、3
2a、32bに気密的に閉塞する機能を持たせているが
、各閉塞部材として隔壁21a、31a、または隔壁2
1a、31aおよびセラミック薄膜24.34一体の材
料を採用して通気性を持たせてもよい。これらの場合に
は、各閉塞部材を通して孔内ガスを直接吸引することが
でき、流体入出パイプ23.33の採用を省略すること
ができ、また閉塞部材、流体入出孔における成分Mi能
をも期待できる。
20.30においては、各閉塞部材22a、22b、3
2a、32bに気密的に閉塞する機能を持たせているが
、各閉塞部材として隔壁21a、31a、または隔壁2
1a、31aおよびセラミック薄膜24.34一体の材
料を採用して通気性を持たせてもよい。これらの場合に
は、各閉塞部材を通して孔内ガスを直接吸引することが
でき、流体入出パイプ23.33の採用を省略すること
ができ、また閉塞部材、流体入出孔における成分Mi能
をも期待できる。
さらに、上記した第2実施例のセラミック膜構造体30
においては各隔壁31aの第1の孔31C側内周にセラ
ミック薄膜34を形成しているが、同薄膜34を各隔壁
31aの第2の孔31d側内周に形成してもよい。
においては各隔壁31aの第1の孔31C側内周にセラ
ミック薄膜34を形成しているが、同薄膜34を各隔壁
31aの第2の孔31d側内周に形成してもよい。
さらにまた、上記実施例においてはパージガス中の水素
ガスを拡散分離するためのセラミック膜構造体20.3
0の例について示したが、これら各構造体20.30に
おけるセラミック薄膜24゜34の微細孔の平均孔径を
適切に設定することにより、各種混合ガス中の特定のガ
スをクヌーセン拡散、表面拡散等にて分離する拡散分離
用セラミック膜構造体として、また各種溶液中の微生物
、タンパク質、その他の微小固体を濾過する液・面濾過
分離用セラミック膜構造体とすることができる。
ガスを拡散分離するためのセラミック膜構造体20.3
0の例について示したが、これら各構造体20.30に
おけるセラミック薄膜24゜34の微細孔の平均孔径を
適切に設定することにより、各種混合ガス中の特定のガ
スをクヌーセン拡散、表面拡散等にて分離する拡散分離
用セラミック膜構造体として、また各種溶液中の微生物
、タンパク質、その他の微小固体を濾過する液・面濾過
分離用セラミック膜構造体とすることができる。
第1図は本発明の第1実施例に係るセラミック膜構造体
を採用した水素ガス分離装置の概略構成図、第2図は同
膜構造体の拡大部分斜視図、第3図は第2図の縦断面図
、第4図は同構造体における隔壁部分の超広大断面図、
第5図は本発明の第2実施例に係るセラミック膜構造体
の第2図に対応する斜視図、第6図は同膜構造体の第3
図に対応する断面図である。 符号の説明 20.30・・・セラミック膜構造体、21.31・・
・基礎構造体、21a、31a・・・隔壁、21b・・
・細孔、21c、31c・・・第1の孔、21d、31
d・・・第2の孔、24.34・・・セラミック薄膜、
24a・・・微細孔。
を採用した水素ガス分離装置の概略構成図、第2図は同
膜構造体の拡大部分斜視図、第3図は第2図の縦断面図
、第4図は同構造体における隔壁部分の超広大断面図、
第5図は本発明の第2実施例に係るセラミック膜構造体
の第2図に対応する斜視図、第6図は同膜構造体の第3
図に対応する断面図である。 符号の説明 20.30・・・セラミック膜構造体、21.31・・
・基礎構造体、21a、31a・・・隔壁、21b・・
・細孔、21c、31c・・・第1の孔、21d、31
d・・・第2の孔、24.34・・・セラミック薄膜、
24a・・・微細孔。
Claims (9)
- (1)多数の連続細孔を有する多孔質隔壁にて区画され
一端側が開口する多数の第1の孔と同一端側が閉塞する
多数の第2の孔とを互いに並列的に備えたセラミックハ
ニカム構造体であり、当該構造体はいずれかの孔の閉塞
部に流体入出孔を有するとともに、前記各隔壁のいずれ
かの孔側内周に平均孔径が100Å〜5μmである多数
の連続微細孔を有するセラミック薄膜を備え、かつ前記
第1の孔と第2の孔とは少くとも部分的に共通の隔壁に
て区隔されていることを特徴とするセラミック膜構造体
。 - (2)前記第1の孔の他端側が開口しているとともに、
前記第2の孔の他端側が閉塞している特許請求の範囲第
1項に記載のセラミック膜構造体。 - (3)前記第1の孔の他端側が閉塞しているとともに、
前記第2の孔の他端側が開口している特許請求の範囲第
1項に記載のセラミック膜構造体。 - (4)前記セラミック薄膜の膜厚が5μm〜100μm
である特許請求の範囲第1項、第2項または第3項に記
載のセラミック膜構造体。 - (5)前記隔壁の細孔の平均孔径が400μm以下であ
る特許請求の範囲第1項、第2項、第3項または第4項
に記載のセラミック膜構造体。 - (6)前記閉塞部が前記隔壁またはセラミック薄膜と同
一の多孔質材料にて形成されている特許請求の範囲第1
項、第2項、第3項、第4項または第5項に記載のセラ
ミック膜構造体。 - (7)前記閉塞部が非多孔質の気密性材料にて形成され
かつ同閉塞部に流体入出パイプが植設されている特許請
求の範囲第1項、第2項、第3項、第4項または第5項
に記載のセラミック膜構造体。 - (8)多数の連続細孔を有する多孔質隔壁にて区画され
た多数の貫通孔を互に並列的に備えたセラミックハニカ
ム構造体を基礎構造体とし、同構造体の前記各貫通孔に
おける所定の各貫通孔の少くとも一端側を閉塞して少く
とも部分的に共通の隔壁にて区画された一端側が開口す
る多数の第1の孔と同一端側が閉塞する多数の第2の孔
とを形成し、平均孔径が100Å〜5μmである多数の
連続微細孔を有するセラミック薄膜の形成用スラリーを
いずれかの孔の開口端から内部に侵入させ、同孔の内壁
に前記セラミック薄膜を形成することを特徴とするセラ
ミック膜構造体の製造法。 - (9)前記スラリーがアルミニウムアルコラートまたは
アルミニウムキレートを加水分解して得たアルミナゾル
である特許請求の範囲第8項に記載のセラミック膜構造
体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19787086A JPS6351922A (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | セラミツク膜構造体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19787086A JPS6351922A (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | セラミツク膜構造体およびその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6351922A true JPS6351922A (ja) | 1988-03-05 |
Family
ID=16381696
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19787086A Pending JPS6351922A (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | セラミツク膜構造体およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6351922A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012056668A1 (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-03 | 株式会社日立製作所 | 水処理用逆浸透膜構造体及び逆浸透膜モジュール |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5648213A (en) * | 1979-09-28 | 1981-05-01 | Sumitomo Chem Co Ltd | Ultrafiltration element and its production |
-
1986
- 1986-08-22 JP JP19787086A patent/JPS6351922A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5648213A (en) * | 1979-09-28 | 1981-05-01 | Sumitomo Chem Co Ltd | Ultrafiltration element and its production |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012056668A1 (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-03 | 株式会社日立製作所 | 水処理用逆浸透膜構造体及び逆浸透膜モジュール |
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