JPS6350476A - 薄膜形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基板上に薄膜を形成する薄膜形成装置に関す
るものである。

〔従来の技術〕

第３図は従来装置の構成を示す模式図である。

この装置は、たとえば特開昭６０−１６７３１７号公報
に記載されている。第３図において、１は反応性気体を
光化学反応により分離する光源、２は反応室３と光源１
とを分離する仕切ガラス板、４はくもり防止用の保護膜
である。保護膜４は、仕切ガラス板２に反応性気体の分
解生成物が付着して光源２からの光をしゃ断することの
ないように、仕切ガラス板２の表面を走行するもので、
それ自身は光を透過する。５は保護膜４を駆動する駆動
機構、６．７はそれぞれ反応性気体の供給あるいは排気
を行なうガスヘッダ、８は基板、９は基板８を光源１に
対向して保持する基板保持材、１０は基板８を成膜温度
に加熱するヒータ、１１は各構成１〜１０を内蔵する真
空容器、１２は真空容器１１に設けられた基板８の人出
口のための開閉板、１３は真空排気路に設けた弁、１４
は真空ポンプ、１５は真空容器１１内を真空から大気圧
にするり−ク弁である。

次に第３図の装置の動作について説明する。まず、開閉
板１２を開いて基板８を保持材９上に載せてから開閉板
１２を閉じる０次にリーク弁１５を閉じて弁１３を開き
、真空ポンプ１４により真空容器１１内を成膜圧力（例
えばＩ　Ｔｏｒｒ）に真空排気する。その後、ヒータ１
０により基板８を成膜温度（例えば２８０℃）に加熱す
るとともに、光源１を点灯して反応性気体（例えばＳｉ
ｇＨｉとＮＨ。

の混合ガス）をガスヘッダ６から供給し、そしてこの気
体が反応室３に流れてガスヘッダ７より排気される。そ
の結果、基板８の光源１に対応する面に薄膜（例えばシ
リコン窒化膜）が光化学反応により形成される。このと
き、保護膜４の基板８面に到達する光を遮ることになる
ので、保護膜４を矢印Ａの方向に走行させて新しい保護
膜を供給し、もって基ｖｉＳ面に到達する光の強度が低
下しないようにする。

〔発明が解決しようとする問題点〕 従来の薄膜形成装置は以上のように構成されているので
、仕切ガラス板２と保護膜４を近づけると、両者が吸引
、密着して保護膜４の走行が困難になる。また、成膜時
間の経過と共に反応生成物が保護膜４に付着して光をし
ゃ断することとなり、そのため薄膜の形成性能が低下す
るという問題があった。これに対して保護膜４を仕切ガ
ラス板２に吸引、密着しない程度に離すと、反応生成物
が仕切ガラス板２面にまわりこんで付着する。そのため
前述と同じような問題があった。

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、そ
の目的とするところは、保護膜が仕切ガラス板へ密着す
るために起こる走行不能や、仕切ガラス板面への反応生
成物のまわりこみ付着といった原因による成膜不能を防
止するとともに、長時間安定した成膜を可能にする薄膜
形成装置を得ることにある。

〔問題点を解決するための手段〕

このような目的を達成するために本発明は、反応室にお
ける反応性気体を光化学反応で分解する光源と、反応室
と光源を分離する仕切部と、反応性気体を供給し又排気
するガスヘッダと、基板を保持する基板保持材と、基板
を成膜温度に加熱するヒータと、上記各構成を内蔵する
真空容器とから成る薄膜形成装置において、仕切部を、
光を透過できる網目状の板材と、この網目状の板材の表
面を摺動走行し光を透過し反応室と光源を分離する仕切
フィルムと、この仕切フィルムを走行させる駆動機構と
から構成するようにしたものである。

〔作用〕

本発明においては、光源よりの光の損失が少なく、また
、保護膜としての仕切フィルムの走行抵抗が小さい。

〔実施例〕

本発明に係わる薄膜形成装置の一実施例を第１図に示す
。第１図において、１６は光源１と反応室３を分離し光
を透過する薄い膜である仕切フィルム、１７は第２図に
示すような開口率の大きい（この開口率はエツチング法
で約９５％のものが実現できる）形状を有し仕切フィル
ム１６が表面を摺動走行するのを保持する網目状の板材
、１８は仕切フィルム１６を駆動する駆動機構である。

このように本装置は、光源ｌと反応室３とを分離し光を
導入する仕切ガラス板２　（第３図参照）をなくし、仕
切ガラス板２のくもり防止をしていた保護膜すなわち仕
切フィルム１６に仕切の働きをさせ、仕切フィルム１６
を、真空中で走行が容易で光を通しやすいように、網目
状の板材１７で保持したものである。

網目状の板材１７はその開口率が大きいので、光源１よ
りの光の損失が少なく、効率よく反応性気体を分解でき
る。また、仕切フィルム１６と網目状の板材１７との接
触面積が小さいので、仕切フィルム１６の走行抵抗が小
さくなり、その走行を容易なものとする。さらに本装置
においては、仕切ガラス＋ｆｆＥ　２がな（なるので、
仕切ガラス板２が成膜中にくもり、光を遮るということ
もなくなる。

なお、本装置において成膜を行なう動作は従来装置にお
ける動作と同様であるので、その説明を省略する。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は、網目状の板材で仕切フィ
ルムを保持することにより、仕切フィルムの走行抵抗を
少なくすることができるので、仕切フィルムの滑らかな
走行が可能になり、また、従来必要であった仕切ガラス
板をなくしたので、反応生成物の仕切ガラス板への付着
により基板上に到達する光量が減少するということがな
くなり、長時間の安定した成膜が可能な薄膜形成装置を
得ることができる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係わる薄膜形成装置の一実施例を示す
模式図、第２図は第１図の装置を構成する網目状の板材
を示す斜視図、第３図は従来の薄膜形成装置を示す模式
図である。 １・・・光源、３・・・反応室、８・・・基板、９・・
・保持材、１０・・・ヒータ、１１・・・真空容器、１
２・・・開閉板、１３・・・弁、１４・・・真空ポンプ
、１５・・・リーク弁、１６・・・仕切フィルム、１７
・・・網目状の板材、１８・・・駆動機構。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 反応室における反応性気体を光化学反応で分解する光源
   と、前記反応室と光源を分離する仕切部と、前記反応性
   気体を供給し又排気するガスヘッダと、基板を保持する
   基板保持材と、前記基板を成膜温度に加熱するヒータと
   、前記各構成を内蔵する真空容器とから成る薄膜形成装
   置において、前記仕切部は、光を透過できる網目状の板
   材と、この網目状の板材の表面を摺動走行し光を透過し
   前記反応室と前記光源を分離する仕切フィルムと、この
   仕切フィルムを走行させる駆動機構とから成ることを特
   徴とする薄膜形成装置。