JPS6347481B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6347481B2
JPS6347481B2 JP55093380A JP9338080A JPS6347481B2 JP S6347481 B2 JPS6347481 B2 JP S6347481B2 JP 55093380 A JP55093380 A JP 55093380A JP 9338080 A JP9338080 A JP 9338080A JP S6347481 B2 JPS6347481 B2 JP S6347481B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
steam
processing
processing chamber
zone
steam extraction
Prior art date
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Expired
Application number
JP55093380A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5615802A (en
Inventor
Burukuharuto Roorentsu
Fuesu Hansu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Luwa Ltd
Original Assignee
Luwa Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Luwa Ltd filed Critical Luwa Ltd
Publication of JPS5615802A publication Critical patent/JPS5615802A/ja
Publication of JPS6347481B2 publication Critical patent/JPS6347481B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D1/00Evaporating
    • B01D1/22Evaporating by bringing a thin layer of the liquid into contact with a heated surface
    • B01D1/222In rotating vessels; vessels with movable parts
    • B01D1/223In rotating vessels; vessels with movable parts containing a rotor
    • B01D1/225In rotating vessels; vessels with movable parts containing a rotor with blades or scrapers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は流動性材料を処理壁へ供給し、機械的
手段によつてこの処理壁面上に拡げ、材料供給位
置に続く処理ゾーン第1部分に於いて順流で蒸気
を材料へ供給する前記流動性材料の熱処理方法
と、この方法を実施するための被処理材料の入口
及び処理ずみ材料の出口を有する閉ざされた処理
チエンバの内部に、材料を処理チエンバ壁面に薄
層状に拡げる少くとも1つの材料展開機素を具備
した処理チエンバの長手方向に延びる処理手段を
設け、材料の移動方向に処理チエンバ内へ延び、
その内部が蒸気を排出するため処理チエンバと連
通し、処理チエンバの外部へ開口し、導入域から
処理ゾーンの一部に亘る蒸気を透過しない壁を有
する部分を含む蒸気取出管を設けた流動性材料を
熱処理する装置に関する。 材料を薄層で処理する装置、すなわち薄層材料
処理装置に於いて被処理材料にむかつて順流また
は向流で蒸気を供給することはすでに公知であ
る。蒸気を順流供給すれば何よりも先ず迅速かつ
強力な蒸発が可能となり、向流供給すれば処理生
成物の最終濃度を高めることができる。どちらの
方式にもなんらかの短所がある。即ち、向流方式
装置では装置の上端部から排出される蒸気流に、
熱処理されなかつた液滴状の粒子が同伴するおそ
れがあり、この場合、これを後続の分離器によつ
て回収しなければならない。順流方式を採用する
装置では蒸気の大部分は装置の下方端部にある材
料放出域に設けた半径方向蒸気排出管から排出さ
れる。前記放出域では処理手段の材料展開機素が
処理チエンバの壁を完全に共働できないから、材
料に対して送り作用が働かない。このことは特に
生成物がこの位置で材料が自力で移動することが
できないくらい高い粘度を具える場合不都合であ
る。 蒸気が装置の上端部から排出させる間、入口に
続くゾーンに於いて蒸気を順流で供給することに
より導入域で未処理材料粒子が混入するのを防止
する頭書のような解決は公知である(ドイツ特許
明細書第401444号、米国特許明細書第2927634
号)。この解決のためには処理チエンバ内にその
全長に亘る蒸気取出管を設け、蒸気溜めチエンバ
へ開口させる。この蒸気取出管は材料導入域に壁
に穴のない、一定長さを有する第1部分を有し、
従つてこの部分では蒸気が管内へ流入できない。
この第1部分と境を接する第2部分では管壁に穴
を設け、この穴から管内へ蒸気が流入できるよう
にする。しかし、蒸気取出管の第2部分の領域で
は管壁に多数の穴があるから不明確な且つ制御不
能な流動状態が発生し、材料処理に悪影響を及ぼ
す。 本発明の課題は上記の欠点を避けながら、でき
るだけ少ない経費で、劣化を招かずに材料を処理
し、大きい蒸発率と同時に高い最終濃度を得るこ
とのできる頭書のような方法及び装置を提供する
ことにある。 本発明の前述の課題は概ね材料の移動方向と交
差、好ましくはほぼ直交する平面内で処理ゾーン
の第1部分に境を接して第2部分を設け、該第2
部分に於いて向流蒸気を放出部へ移動する材料に
供給し、両部分の境界域に於いて蒸気を処理チエ
ンバから取出すことを特徴とする流動性材料の熱
処理方法によつて達成される。 従つて本発明は順流及び向流ゾーンを概ね材料
の移動方向と直交する平面内で明確に分離するこ
とにより順流及び向流原理の長所を共に活用でき
るとの知見に基づく。即ち、このように順流ゾー
ンから向流ゾーンへの移行を明確にすることで両
ゾーンのそれぞれに於ける流動状態が明確に区別
されるようになる。順流ゾーンに於いて流動の鎮
静化が起り、順流ゾーンで発生する蒸気が順流ゾ
ーンと向流ゾーンとの境界部に位置する吸気域で
向きを変えることで、排出蒸気に未処理材料粒子
が同伴するのを防ぐことができる。 順流ゾーンと向流ゾーンとを上記のように明確
に分離することにより、ストリツピング剤使用に
よつて物質交換に不可欠な両ゾーンの分圧に差を
生じさせることも可能になる。 この方法を実施するための本発明の装置は少く
とも1つの蒸気取出機素の蒸気不透過部分の端部
に概ねこの機素の軸線と交差、好ましくはほぼ直
交する平面内に位置する開口部を設けたことを特
徴とする。 蒸気取出素子は材料放出側にむかつて開口して
いるから、場合によつては蒸気取出管の内側に付
着する材料粒子がこの開口部から処理チエンバへ
戻ることができる。 蒸気流を相対的に撹乱しないためには、順流ゾ
ーンすなわち蒸気取出機素の蒸気の洩れない部分
の長さは処理ゾーンの長さの少くとも1/5である
こと、すなわち順流ゾーンの長さが向流ゾーンの
長さの少くとも1/4であること、が望ましい。処
理チエンバへ僅かだけ突出し、材料導入域に相当
する長さを具えるだけの例えばドイツ公告第
1363224号から公知の蒸気通路を含む材料分配装
置では不充分である。 以下添付図面に従つて本発明の実施例を詳述す
る。 第1及び2図に示す材料を薄層で処理する装置
すなわち薄層材料処理装置1は円筒状直立容器2
を含む。この容器の内部には処理チエンバ3及び
その上方に蒸気溜めチエンバ4がある。蒸気溜め
チエンバ4には放出管5が接続している。処理チ
エンバ3の上端に於いてこのチエンバへ被処理物
導入管6が開口する。処理チエンバ3は下方で円
錐形放出管7に移行する。この放出管7には高粘
性最終生成物の放出を行う公知の放出装置8が接
続している。 処理チエンバ3はその外側を加熱または冷却剤
の入口10及び出口11を有する加熱または冷却
ジヤケツト9で囲まれている。このような単一の
加熱または冷却ジヤケツト9の代りに、容器2の
軸線方向に温度の異なる加熱または冷却剤を供給
できる複数の加熱または冷却ジヤケツトを配置し
てもよい。蒸気溜めチエンバ4をも加熱または冷
却ジヤケツトで囲むことも可能である。 容器2の内部には容器2の軸線方向に延び、駆
動装置14と連動するシヤフト13を有する処理
手段12を設ける。処理手段12はシヤフト13
に固定された材料展開機素15を有し、該機素1
5は公知の態様で処理チエンバ3の内壁16と共
働して壁上に材料の薄層を形成する。特に第2図
から明らかなように、半径方向に延びかつその外
側端部で曲がつている4個の羽根状の展開機素1
5が設けてある。粘性を増した材料が出口域にむ
かつて移動できるようにするため、処理ゾーンの
最終域内の展開機素15′は軸線に傾斜した羽根
形状をしており、さらにこの処開機素15′が処
理手段12を案内する機能をも果すようにする。
処理手段12はその下端に放出円錐体17を具備
し、該円錐体上にスクリユー押出効果を与える機
素が設けられる。低粘性材料を処理する際には放
出円錐体17、展開機素15′及び/または放出
装置8がなくてもよい。上記の代りに加熱及び/
または撹拌される貯蔵容器または脱気装置を設け
てもよい。 シヤフト13と同心関係に且つブリツジ18を
介して前記シヤフト13に、容器2の軸線方向に
導入管6の口部域に亘る長さの中空円筒状に形成
された分配機素19を固定する。容器2の内壁と
分配機素19との間に、ラビリンスシール21に
よつて上方の蒸気溜めチエンバ4にむかつて密閉
された環状路20が形成される。 以上に述べた範囲では薄層材料処理装置は公知
構成とほぼ同じである。しかし本発明の装置はシ
ヤフト13と同軸関係にあつて、ブリツジ23を
介してこれに固定されている中空円筒状の蒸気取
出管22が公知構成と異なつている。この蒸気取
出管22は分配機素19と接続し、分配機素より
も小さい直径を具える。壁面に穴のないこの蒸気
取出管22は導入管6の丁度下である処理ゾーン
の起点から処理ゾーンの全長の一部に亘る長さを
有し、下端に容器軸線に対してほぼ直交関係の、
即ち、シヤフト13とほぼ直交関係の平面内に位
置する開口部24を持つ。分配機素19の内部を
介して蒸気取出管22は蒸気溜めチエンバ4と連
通している。被処理材料を処理壁16へ供給する
供給点を起点とする処理ゾーンは蒸気取出管22
により順流ゾーン25とこれに続く向流ゾーン2
6に分けられる。この2つのゾーン25及び26
は導入口24が位置する平面に沿つて互いに境を
接する。 第1図では処理ゾーンの長さをl1で、順流ゾー
ン25の長さをl2でそれぞれ示している。処理チ
エンバ3及び蒸気取出管22の内容はそれぞれd1
及びd2で示してある。以下に本装置の作用態様を
説明する。被処理材料は導入管6から処理チエン
バ3へ導入され、分配機素19により処理壁16
の全周に均等に分配される。回転駆動される材料
展開機素15により材料は公知の態様で処理壁1
6上に薄層状に拡げられる。材料は処理壁16に
沿つて放出口7にむかつて移動する。処理ゾーン
を移動中の材料から発生する蒸気は開口部24か
ら蒸気取出管22の内部へ流入し、蒸気溜めチエ
ンバ4に達し、放出管5から運び去られる。順流
ゾーン25で発生する蒸気は矢印aのように材料
の移動方向に流れる。蒸気取出管22の壁を貫通
して流入できないからである。導入口24の領域
に於いてこの順流蒸気は急転向する。即ち、ほぼ
180゜だけ向きを変える。そして場合によつては未
だ蒸気流中に含まれている材料粒子は分離されて
処理チエンバにとどまる。場合によつて蒸気取出
管22の外側に付着する材料粒子はこれに作用す
る遠心力により再び処理壁16にむかつて飛ばさ
れる。向流ゾーン26に於いて発生する蒸気は材
料の移動方向とは逆に矢印bのように導入口24
へ流入する。処理を了えた材料は公知の態様で放
出円錐体17及び放出装置8によつて放出され
る。 順流ゾーン25と向流ゾーン26との間で、導
入口24が位置する平面に沿つて強力な分離が行
われる。従つて両ゾーン25,26の流動状態が
はつきりしない混合ゾーンは発生しない。順流原
理及び向流原理の利点を利用することにより、最
終濃度及び最終粘度が共に高い場合でも大きい蒸
発率が得られる。滞溜時間が短かいから、おだや
かな処理をすることができる。同一の処理チエン
バ3内で材料が順流法及び向流法で処理され、し
かもこの2つの方法が明確に分離されている。 上記のように順流ゾーン25と向流ゾーン26
がはつきり分離されるから、向流ゾーン26内の
分圧を順流ゾーン25の圧力よりも低くすること
ができる。これは図示しないが処理チエンバ3へ
開口する導管を介して向流ゾーン26へストリツ
ピング剤を導入することで達成される。 処理チエンバ3へ流入する際に材料にフラツシ
ユ蒸溜法を適用することが出来る。該方法は溶媒
分の大きい材料を処理する場合または蒸発率を高
めるために利用される。導入域に続く順流ゾーン
に於いて処理手段12の遠心力により蒸気流から
材料粒子が分離される。上記のように導入口24
の領域で順流蒸気が急激に向きを変えることがフ
ラツシユ蒸溜時に蒸気流に混入した材料粒子の分
離を助ける。 本発明の装置の特に好ましい実施例では寸法設
定に際して下記関係式が満たされるようにした
(第1図)。 1 順流ゾーン25と向流ゾーン26の長さの
比: φ=l2/l1−l2=0.25〜4 2 直径に対する全長比: λ=l1/d1=2〜8 3 順流ゾーンに於ける直径に対する全長比: λz=l2/dhydr.=l2/d1−d2=2〜40 4 順流ゾーンに於ける断面積比: φz=d21/d22=0.5〜3 下記の例1―3に従つて第1及び2図図示薄層
材料処理装置のいくつもある利用法のいくつかを
説明する。 例 1及び2 シクロヘキサンに溶かしたイソプレンをベース
とする粘性ポリマー溶液の濃縮。 例 3 ヘキサンに溶かしたプロピレン/エチレン重合
から得られる副生物の濃縮。 これらの方法を実施するため下記寸法関係を有
する薄層材料処理装置を使用した。 処理壁16の面積(熱交換面積): 合計1m2 順流ゾーン25と向流ゾーン26の比: φ=l2/l1−l2=0.8 直径に対する全長比:λ=5.2 順流ゾーンに於ける断面積比: φz=1.5 3例における方法のパラメータは表1に示した
通りである。
【表】 第6図は処理ゾーンに沿つた各種パラメータの
動向を示すグラフである。横軸方向に順次導入ゾ
ーンA、順流ゾーンB25及び向流ゾーンC26
を示す。Dは蒸気取出管22の導入口24が位置
し、順流ゾーンと向流ゾーンとが互いに境を接す
る平面である。実線は温度動向を示し、破線
は濃度動向を示す。例1及び3に於ける圧力動向
を破線で、例2に於ける圧力動向を鎖線でそ
れぞれ示す。3例とも導入ゾーンAに於いてフラ
ツシユ蒸溜が行われる。 曲線―の動向から明らかなように、順流ゾ
ーンBと向流ゾーンCとの間に明確が分離が行わ
れ、これら2つのゾーンの間には流動状態の不明
確な混合ゾーンは存在しない。 表から明白なように、例2では向流ゾーンへ
ストリツピング蒸気を導入することによつて第6
図の曲線が示すように向流ゾーンC内の分圧を
低下させるという点で例1及び2は互いに異な
る。向流ゾーン内の分圧を低下させることにより
最終濃度を著しく高めることができる。 次に第3―5図に従つて、薄層材料処理装置の
他の実施例を説明する。尚対応の部分には第1及
び2図と同じ参照番号を使用する。 第3図図示の実施例では処理手段12のシヤフ
ト13と平行な複数の蒸気取出管27を設ける。
この蒸気取出管27は分配機素19と、場合によ
つてはシヤフト13とも連結されている。互いに
隣接する各1対の材料展開機素15間に第4図に
示すような蒸気取出管27が配置されている。す
べての蒸気取出管27の導入口28はシヤフト1
3と直交する破線図示の平面29内に位置する。
この平面29は第1図図示実施例と同様に処理ゾ
ーンを順流ゾーン25と向流ゾーン26に分け
る。 すでに述べたように第1図図示実施例でも設け
ることのできる導管30がストリツピング剤また
は遮断剤を供給する機能を果す。第3図示装置1
の処理手段12はその下端に放出円錐体を具備し
ない。しかし、必要に応じてこのような放出円錐
体17及び放出装置8を設けてもよいことはいう
までもない。 容器2の蓋2aは閉鎖蓋32で閉鎖された開口
部31を具備する。装置全体を分解しなくてもこ
の開口部31から容器2内部へ保守のため接近可
能である。このように構成すれば順流ゾーン対向
流ゾーン比を変えるために蒸気取出管27を他の
長さのものと交換することも可能である。 蒸気取出管27は例えば第4図のように任意の
形状を具えることができる。蒸気取出管27′の
ようにシヤフト13に固定し、このシヤフト13
が管27′の壁部分を兼ねるようにすることも可
能である。 また、蒸気取出管27″のように、これを隣接
する2枚の材料展開羽根15及びこれに接続する
壁部分33で構成することもできる。 複数の蒸気取出管27を設ける場合には各1対
の取出管がシヤフト13を挾んで対向するように
配置するのが好ましい。 第3及び4図図示装置の作用態様は第1及び2
図図示の実施例とほとんど同じである。 第5図図示の実施例では第1―4図図示実施例
と異なり固設されかつ処理手段12と共に回転し
ない蒸気取出管34が設けられる。但しこの実施
例に於いても蒸気取出管34の導入口35はシヤ
フト13とほぼ直交する平面内に位置する。蒸気
取出管34には管34の内側及び/または外側を
加熱できるように加熱ジヤケツト36を設けるこ
とができる。加熱ジヤケツト36には熱伝導剤の
供給管37及び排出管38を設ける。 蒸気取出管34を加熱することにより管34の
内側及び外側に材料粒子が付着するのを防止でき
る。 第5図から明白なように、蒸気取出管34の内
部でシヤフト13に送り機素39を設けてあり、
場合により管34の内側に付着する材料をこの送
り機素により再び処理チエンバ3へ戻すことがで
きる。このような送り機素39が必要なければ省
いてもよいことはいうまでもない。 第5図図示実施例では材料展開機素15が処理
壁16と蒸気取出管34の外壁との間の環状路、
即ち、順流ゾーン25には達していない。供給さ
れる材料が処理壁16に薄層となつて付着できる
ように、導入管6が接線方向に突出している。第
1及び3図のように向流ゾーン26にも、導入管
6の口近くまで達するような材料展開機素を設け
ることが可能であり、多くの場合そのように構成
することが必要であることはいうまでもない。 図示の実施例ではいずれも容器2を直立型とし
て図示したが容器軸線がこれとは異なる空間姿勢
を取ることも可能である。 本発明の薄層材料処理装置は各種原料の処理に
応用できるが特に高粘度及び/または発泡性物質
の熱処理に好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図は比較的粘度の高い物質を処理するため
の本発明の薄層材料処理装置の縦断面図であり、
第2図は第1図中―線に於ける断面図であ
り、第3図は薄層材料処理装置の第2実施例の縦
断面図であり、第4図は第3図図示装置の第2図
と同様の断面図であり、第5図は薄層材料処理装
置の第3実施例の部分縦断面図であり、第6図は
処理ゾーンに沿つて現われる各種パラメータによ
る挙動変化を示すグラフである。 1…薄層材料処理装置、2…円筒状直立容器、
2a…蓋、3…処理チエンバ、4…蒸気溜めチエ
ンバ、5…放出管、6…被処理物導入管、7…円
錐形放出管、8…放出装置、9…冷却ジヤケツ
ト、10…入口、11…出口、12…処理手段、
13…シヤフト、14…駆動装置、15…材料展
開機素、15′…材料展開機素、16…処理壁、
17…放出円錐体、18…ブリツジ、19…分配
機素、20…環状路、21…ラビリンスシール、
22…蒸気取出管、23…ブリツジ、24…導入
口(開口部)、25…順流ゾーン、26…向流ゾ
ーン、27,27′,27″…蒸気取出管、28…
導入口、29…平面、30…導管、31…開口
部、32…閉鎖蓋、33…壁部分、34…蒸気取
出管、35…導入口、36…加熱マントル、37
…供給管、38…排出管、39…送り機素。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 流動性材料を処理壁へ供給し、機械的手段に
    よつてこの処理壁面上に拡げ、材料供給位置に続
    く処理ゾーン第1部分に於いて順流で蒸気を材料
    へ供給する前記流動性材料の熱処理方法であつ
    て、概ね材料の移動方向と交差、好ましくはほぼ
    直交する平面内で処理ゾーン25,26の第1部
    分25と第2部分26とが境を接し、該第2部分
    26に於いて向流蒸気を放出部7へ移動する材料
    に供給し、両部分25,26の境界域に於いて蒸
    気を処理チエンバ3から取出すことを特徴とする
    流動性材料の熱処理方法。 2 処理チエンバ3へ流入する際に材料にフラツ
    シユ蒸留法を施すことを特徴とする特許請求の範
    囲第1項に記載の方法。 3 処理ゾーン第2部分26にストリツピング剤
    を導入することを特徴とする特許請求の範囲第1
    項または第2項に記載の方法。 4 第1部分25の長さが第2部分26の長さの
    少くとも1/4であることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項から第3項までの何れか1項に記載の
    方法。 5 被処理材料の入口及び処理ずみ材料の出口を
    有する閉ざされた処理チエンバの内部に、材料を
    処理チエンバ壁面に薄層状に拡げる少くとも1つ
    の材料展開機素を具備した処理チエンバの長手方
    向に延びる処理手段を設け、材料の移動方向に処
    理チエンバ内へ延び、その内部が蒸気を排出する
    ため処理チエンバと連通し、処理チエンバの外部
    へ開口し、導入域から処理ゾーンの一部に亘る蒸
    気を透過しない壁を有する部分を含む蒸気取出管
    をも設けた流動性材料を熱処理する装置であつ
    て、少くとも1つの蒸気取出機素22,27,3
    4の蒸気不透過部分の端部に概ねこの機素の軸線
    と交差、好ましくはほぼ直交する平面内に位置す
    る開口部24,28,35を設けたことを特徴と
    する流動性材料を熱処理する装置。 6 蒸気取出機素22,27,34が処理チエン
    バ3の入口側でこれに続く蒸気溜めチエンバ4へ
    開口する特許請求の範囲第5項に記載の装置。 7 蒸気取出機素22,27,34の開口部2
    4,28,35と出口7との間に処理チエンバ3
    へ開口するストリツピング剤供給管30を有する
    特許請求の範囲第5項または第6項に記載の装
    置。 8 蒸気取出機素22,27が処理手段12と一
    体に回転する特許請求の範囲第5項、第6項また
    は第7項の何れか1項に記載の装置。 9 蒸気取出機素22が処理手段12の回転軸1
    3と同軸である特許請求の範囲第8項に記載の装
    置。 10 処理チエンバ3内に位置する端部に開口部
    28を設け、すべての蒸気取出機素27の前記開
    口部28が処理手段12の回転軸13と交差、好
    ましくは直交する平面29内に位置するようにし
    た2つ以上の蒸気取出機素27を有する特許請求
    の範囲第8項に記載の装置。 11 各1対の蒸気取出機素27が処理手段12
    の回転軸13を挾んで互いに対向する特許請求の
    範囲第10項に記載の装置。 12 蒸気取出機素34を固設したことを特徴と
    する特許請求の範囲第5項から第7項までのいず
    れか1項に記載の装置。 13 蒸気取出機素34の外側及び/または内側
    が加熱される特許請求の範囲第12項に記載の装
    置。 14 処理チエンバ3内に延びている蒸気取出機
    素22,27,34の部分の長さl2が処理ゾーン
    25,26の長さl1の少くとも1/5である特許請
    求の範囲第5項から第13項までのいずれか1項
    に記載の装置。
JP9338080A 1979-07-10 1980-07-10 Method and device for thermally treating fluid material Granted JPS5615802A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH640579A CH643149A5 (de) 1979-07-10 1979-07-10 Verfahren und vorrichtung zum kontinuierlichen thermischen behandeln von pumpfaehigen stoffen in duenner schicht.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5615802A JPS5615802A (en) 1981-02-16
JPS6347481B2 true JPS6347481B2 (ja) 1988-09-22

Family

ID=4309058

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