JPS6347194A - 光学的有機記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は有機記録層を有する光ディスク、光カード等の
光学的有機記録媒体の製造方法に関する。

［従来の技術］ 従来、光ディスク、光カード技術て用いる光学的有機記
録媒体は、ガラス、プラスチックスなどの透明な基板上
に有機色素を主成分とする記録層を設けて形成され、該
記録層の表面に集束したレーザー光を走査し、このレー
ザー光が照射された表面のみがピットを形成し、高密度
に情報を記録する記録媒体として利用されている。この
記録された情報は弱いレーザー光を走査して、ピットが
形成された部分とピットが形成されていない部分の反射
率、透過率等の光学的変化を検出することにより読み出
される。

上記の光学的有機記録媒体に記録層を形成する方法とし
ては、例えばスパッタ法、真空蒸着法或いは塗布方法等
があるが、これ等の中て塗布方法が生産性、コスト、歩
留りなどの点て有利である。

塗布方法にはスピンコード、浸漬法、ロールコート、バ
ーコード、ブレードコート、スプレーコート、凸版印刷
、オフセット印刷、グラビア印刷、凹版印刷、スクリー
ン印刷、タンポ印刷等の方法がある。

特に浸漬塗布方法により基板を塗工液に浸漬し、次いで
一定の速度で引き上げて塗布する場合には浸漬された部
分は全て塗工液で塗布される。

しかしながらｊ光学的有機記録媒体の記録再生は、一般
にレーザー光は透明な基板を通して記録層に照射される
為、基板の記録層面の裏面側にレーザー光に対して吸収
性を有する記録層か付着するのは、記録時における記録
層の光の吸収効率の低下及び再生時にも再生反射光の強
度ムラあるいは再生信号強度の減少が起こり好ましくな
い。

さらに光学的有機記録媒体が、特に光ディスクである場
合には、通常基板上にはレーザー光走査の案内溝として
０．５〜２ｇｍ程度の幅を持つ溝からせん状に設けられ
ている。このらせん状の溝とディスクの中心穴は偏心精
度のよい状態にある必要がある為、中心大端面に記録層
か塗布されるのは好ましくない。

又、記録層の記録感度を損なわずに記録層を保護する為
に、ディスクの周辺部である内周及び外周部にスペーサ
ーを介して２枚のディスクを貼り合わせるエアーサンド
イッチタイプの光学的記録媒体ては、内外周部の記録層
上に接着剤層を設けることになる為に接着性の低下や長
期保存によっては接着不良による剥離が発生する恐れが
ある。

他方、光学的有機記録媒体の記録層以外の部分の基板を
露出させるには、その部分を塗布工程において、塗工液
に浸漬させないか、あるいは塗工液を接触させないよう
にすればよいが、前記のどの塗布方法を用いてもそれは
容易てはない。

［発明が解決しようとする問題点］ 本発明の目的は上述した従来の技術の欠点を除去し、基
板に塗工液を塗布して記録層を形成する工程に次いて、
払拭する工程を連続して行うことにより、記録層の不要
部分を容易に除去てきる極めて簡略な工程て光学的有機
記録媒体を製造することが可能な方法を提供することに
ある。

［問題点を解決するための手段］及び［作用］即ち、本
発明は有機記録層を有する光学的記録媒体の製造方法に
おいて、基板の少なくとも一面に塗工液を塗布して記録
層を形成する工程、次いて該記録層の不要部分を払拭す
る工程を連続して行うことを特徴とする光学的有機記録
媒体の製造方法である。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明に係わる有機記録層を有する光学的記録媒体の製
造方法は、基板の少なくとも一面、即ち基板の両面又は
片面に塗工液を塗布して基板上に有機記録層を溶剤塗布
する工程、次いて該有機記録層の不要部分を柔軟性を有
する部材を摺擦させて払拭除去する工程を連続して行う
ことを特徴とするものである。

本発明において、光学的有機記録媒体の記録層を形成す
るために基板に塗布される塗工液は、記録レーザー光の
波長近辺に吸収極大を示す色素化合物と溶剤、その他必
要に応じてバインダー、分散剤等から構成される。

前記色素化合物としては、使用するレーザー光の波長に
よって適宜選択する必要があるが、例えば、シアニン、
メロシアニン、トリフェニルメタン、ナフトキノン、キ
サンチン、スクアリウム。

アズレン、メチンおよびビリリウムなどを含めて、アゾ
、スチルベン、フタロシアニン系の直接染料、アゾ、ア
ントラキノン、トリフェニルメタン、キサンチン、アジ
ン系の酸性染料、シアニン、アゾ、アジン、トリフェニ
ルメタン、アズレン、メチン、ビリリウム系の塩基性染
料、アゾ。

アントラキノン、キサンチン、トリフェニルメタン系の
媒染、酸性媒染染料、アントラキノン、インジゴイド系
の建染染料、アゾ、アントラキノン、フタロシアニン、
トリフェニルメタン系の油溶染料、硫化染料、およびジ
チオール系の金属錯体などが単独あるいは複数、適宜混
合して使用される。

次に、本発明において使用される溶剤は有機溶剤が好ま
しく、前述の色素化合物を分散状態とするか、あるいは
溶解状態とするかによって異なるか、一般にはメタノー
ル、エタノール、イソプロパツール、ジアセトンアルコ
ール、メチルセロソルブ等のアルコール類、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類
、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、　Ｎ、Ｎ−ジメチル
アセトアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドな
どのスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテ
ル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエス
テル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエタン
、ジクロルエチレン、四塩化炭素、トリクロルエチレン
などの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、あるいはベンゼン
、トルエン。

キシレン、リグロイン、モノクロルベンゼン、ジクロル
ベンゼンなどの芳香族類などを用いることがてきる。

また、本発明においては、必要に応じて成膜性および塗
膜安定性を考慮してバインダーを混合することもてきる
。

好適なバインダーとしては、広範な樹脂から選択するこ
とがてきる。具体的にはニトロセルロース、リン酸セル
ロース、硫酸セルロース、酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、ミリスチン酸セルロー
ス、バルミチン酸セルロース、酢酸・プロピオン酸セル
ロース、酢酸・酪酸セルロースなどのセルロースエステ
ル類、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピル
セルロース、ブチルセルロースなどのセルロースエーテ
ル類、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリ
ビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどのビニル
樹脂類、スチレン−ブタジェンコポリマー、スチレン−
アクリロニトリルコポリマー、スチレン−ブタジェン−
アクリロニトリルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニル
コポリマーなどの共重合樹脂類、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリレー
ト、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル
アミド、ポリアクリロニトリルなどのアクリル樹脂類、
ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル類、ポ
リ（４，４’−イソプロピリデンジフェニレンーコ−１
，４−０シクロヘキシレンジメチレンカーボネート）、
ポリ（エチレンジオキシ−３，３′−フェニレンチオカ
ーボネート）、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフ
エニレンカーボネートーコーテレフタレート）、ポリ（
４，４’−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート
）、ポリ（４，４’−５ｅｃ−ブチリデンジフェニレン
カーボネート）、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジ
フェニレンカーボネート−ブロック−オキシエチレン）
などのポリアリ−レート樹脂類、あるいはポリアミド類
、ポリイミド類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類、フ
ェノール樹脂類、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素
化ポリエチレン、ポリブテン、ポリイソブチレンなとの
ポリオレフィン類、天然ゴム、イソプレンゴム、クロロ
プレンゴム等のエラストマー類などを用いることがてき
る。

また、その他、場合により樹脂以外の鯨ロウ。

ミツロウ、ラノリン、カルナバワックス、キャンデリラ
ワックス、モンタンワックス、セレシンワックス等の天
然ワックス、パラフィンワックス。

マイクロクリスタリンワックス等の石油ワックス、酸化
ワックス、エステルワックス、フィッシャートロプシュ
ワックス等の合成ワックス、ラウリン酸、ミリスチン酸
、バルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸等の高級脂
肪酸、ス°テアリルアルコール、ベヘニルアルコール等
の高級アルコール、ショ糖の脂肪酸エステル、ソルビタ
ンの脂肪酸エステル等のエステル類、オレイルアミド等
のアミド類を適宜混合させることがてきる。

以上のバインダーにジオクチルフタレート、ジブチルフ
タレート、トリクレジルフォスフェート等の可塑剤、鉱
油、植物油等の油剤、更にアルキルベンゼンスルホン酸
ソーダ、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
等の分散剤及びその他の添加剤を適宜混合させて記録層
の成膜性、塗膜安定性を高めることができる。さらに、
塗膜の安定性及び／又は密着性を高める為に、色素化合
物を含む層の上下に保護層、下引層を記録層として設け
てもよい。

本発明において用いられる基板としては、従来より公知
のフィルムや板状の基板を使用することかでき、例えば
ガラス、金属、セラミック、紙及びポリメチルメタクリ
レート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレー
ト等の合成樹脂などが好適に使用できる。また、従来、
基板としては用いることがなかった支持体材料等も用い
ることもできる。

本発明において、基板に塗工液を塗布する方法としては
、特に限定することなく通常の方法を用いることができ
るか、その具体例を示すと、浸漬法、スピンコード、ロ
ールコート、バーコード、プレートコート、スプレーコ
ート、凸版印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、凹版
印刷、スクリーン印刷、タンポ印刷等の塗工法が挙げら
れる。

次に、本発明においては基板上の少なくとも一面に形成
された記録層の不要部分を払拭して除去するが、払拭方
法としては柔軟性を有する払拭部材を記録層の不要部分
に所定の圧力て接触せしめて、基板又は払拭部材を回転
又は移動せしめて摺擦することにより行うことがてきる
。この場合、払拭部材には溶剤を含浸させておくと、溶
剤が記録層を溶解、洗浄するために除去効果を上げるこ
とができる。

なお柔軟性を有する払拭部材としては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン等のポリ
オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系
樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアク
リル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹
脂、フェノール系樹脂、天然ゴム、スチレンブタジェン
ゴム、イソプレンゴム、クロロブレンゴム、シリコーン
ゴム等のエラストマー類等か挙げられる。

本発明においては、基板の少なくとも一面に記鎧層な形
成する工程と、該記録層の不要部分を払拭する工程は連
続して行うことか好ましい。連続して行うことにより基
板上に形成された記録層の不要部分は乾燥又は硬化する
前に払拭されるため容易に除去される。

［実施例］ 以下、図面に示す実施例に基づき本発明をさらに具体的
に説明する。

第１図は本発明の一実施例を示し、８１図（ａ）〜（Ｃ
）は各々塗布工程を示す説明図、第１図（ｄ）〜（ｇ）
は各々払拭工程を示す説明図および第２図（ａ）　、　
（ｂ）は各々本発明の製造方法により得られた光学的有
機記録媒体の斜視図である。

本発明の光学的有機記録媒体の製造方法は、先ず塗布方
法としては、第１図（ａ）に示す様に基板２を塗工液ｌ
中に浸漬し、引き上げることにより記録層を形成する浸
漬法、第１図（ｂ）に示す様に基板２を回転させながら
塗工液ｌをノズルから流出させ中央付近に塗布し、次い
て基板２を高速回転させて基板２に塗布された塗工液１
の過剰分を遠心力て飛散させて膜厚を均一化するスピン
コード、および第１図（ｃ）に示す様に塗工液１をファ
ンチンローラとトランスファーローラの間に供給し、塗
布量を調整してコンポジションローラに移し、コンポジ
ションローラとその下部に位置し押圧の役目をするイン
プレッションローラの間に基板２を通し、塗膜を形成す
るロールコート等により記録層を形成する。

次いで、形成された記録層の不要部分を払拭して除去す
る。払拭工程を第１図（ｄ）〜（ｇ）に示す。

図中、５は柔軟性を有する払拭部材で、保持部により一
定の圧力で記録層の不要部分４に接触させて、基板を回
転あるいは移動させるか、払拭部材を回転あるいは移動
させれば基板の全面にわたり、記録層の不要部分４を除
去することがてきる。

第１図（ｄ）は記録層の不要部分４か基板記録層面側の
裏面の例、第１図（ｅ）は記録層の不要部分４か基板記
録層面側の周辺部（内周及び外周）の例、第１図（ｆ）
は記録層の不要部分４が基板の周辺部（内周及び外周）
の端面の例を示す。

この方法は特に塗膜の端部な除去するには非常に容易て
あり、その装置も構造を単純なものにすることができる
。

また、払拭部材５を摺擦させる際にその塗膜を溶解させ
る溶剤と共に摺擦すれば、溶剤が塗膜を洗う効果も得ら
れるので、記録層の不要部分をきれいに除去することが
できる。溶剤と共に摺擦させる方法としては摺擦部に溶
剤を滴下させる方法あるいは溶剤の中で摺擦させる方法
がある。

第１図（ｇ）にその−例を示す。７は皿であり、この中
に除去すべき高さまで溶剤を入れておき、ここに基板の
外周部を浸し、払拭部材５を接触させた状態で基板を回
転させれば良い。

この様に払拭工程において、記録層の不要部分を払拭除
去することにより第２図（ａ）　、　（ｂ）に示す様に
記録層３と記録層の不要部分４を有する光学的有機記録
媒体を得ることがてきる。尚、第２図（ａ）は光ディス
ク、第２図（ｂ）は光カードの一例を示す。

［発明の効果］ 以上説明したように５本発明によれば記録層を塗布する
工程に次いで、払拭する工程を連続して行うことにより
、記録層の不要部分を容易に除去可能な光学的有機記録
媒体の製造方法を提供することができる。

また、本発明の様に柔軟性を有する部材を摺擦させて塗
膜を除去する方法は、ブラシやはけで塗膜をこすり取る
方法に比べて飛散もなくきれいに除去することができる
。

さらに、本発明はその製造装置の自動化にも適した製造
方法である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示し、第１図（ａ）〜（ｃ
）は各々塗布工程を示す説明図、第１図（ｄ）〜（ｇ）
は各々払拭工程を示す説明図および第２図ＣＢ＞　、　
（ｂ）は各々本発明の製造方法により得られた光学的有
機記録媒体の斜視図である。 ｌ・・・塗工液　　　　　２・・・基板３・・・記録層
　　　　　４・・・記録層の不要部分５・・・払拭部材
　　　　６・・・溶剤７・・・皿

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）有機記録層を有する光学的記録媒体の製造方法に
   おいて、基板の少なくとも一面に塗工液を塗布して記録
   層を形成する工程、次いで該記録層の不要部分を払拭す
   る工程を連続して行うことを特徴とする光学的有機記録
   媒体の製造方法。
2. （２）記録層を溶解する溶剤と共に記録層の不要部分を
   払拭する特許請求の範囲第１項記載の製造方法。
3. （３）記録層の不要部分が基板の両面に形成された記録
   層の裏面である特許請求の範囲第１項記載の製造方法。
4. （４）記録層の不要部分が基板の両面に形成された記録
   層の周辺部である特許請求の範囲第１項記載の製造方法
   。
5. （５）記録層の不要部分が基板の周辺部の端面である特
   許請求の範囲第１項記載の製造方法。