JPS634650B2 - - Google Patents
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- JPS634650B2 JPS634650B2 JP18553380A JP18553380A JPS634650B2 JP S634650 B2 JPS634650 B2 JP S634650B2 JP 18553380 A JP18553380 A JP 18553380A JP 18553380 A JP18553380 A JP 18553380A JP S634650 B2 JPS634650 B2 JP S634650B2
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- slits
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- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 21
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 17
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 18
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 238000003491 array Methods 0.000 description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 2
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005375 photometry Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
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- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/0229—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using masks, aperture plates, spatial light modulators or spatial filters, e.g. reflective filters
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- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/0232—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using shutters
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
- G01J3/18—Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/30—Measuring the intensity of spectral lines directly on the spectrum itself
- G01J3/32—Investigating bands of a spectrum in sequence by a single detector
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスペクトル測定装置、特に一次元的撮
像素子を用いたスペクトル測定装置に関する。
像素子を用いたスペクトル測定装置に関する。
フオトダイオードアレーのような一次元的撮像
素子はフオトダイオードの配列方向の幅の小さい
ものしか得られず、その幅の中に分光装置により
形成されるスペクトル像の希望波長範囲を収容す
るにはかなりの困難を伴う。例えばフオトダイオ
ードアレーの場合512素子のもので幅は12.8mmで
あり、この幅で波長範囲200nｍ〜800nｍをカバ
ーしようとすると、波長差1nｍ当りの分散幅は
0.024mmとなり、これはきわめて小さい分散で、
もちろんそのような分光素子を作ることはきわめ
て容易であるが、分散を小さくしても入出射スリ
ツト幅を小さくはできないので、分光器の装置幅
を0.05mmとすると、波長分解能は2nｍ程度になつ
てしまう。従つてもつと大きな分散でスペクトル
測定をするためには複数のフオトダイオードアレ
ーを用い、スペクトル像面の所望波長範囲内にそ
れらのフオトダイオードアレーを並べる他ない
が、この方法では高価なフオトダイオードアレー
を多数必要とするし、隣接フオトダイオードアレ
ーの境の所にスペクトルの測定できない幅ができ
る。その上スペクトル測定ではいつも測定可能な
最大波長範囲で測定を行うとは限らず測定可能範
囲のどこか一部の範囲で測定を行う場合が多いの
であり、このような場合高価なフオトダイオード
アレーを多数用意したのに実際使つているのはそ
のうちのどれか一つであると云う不経済なことに
なる。そこでフオトダイオードアレーを一個にし
分散素子を回動可能にしてスペクトルの所要波長
範囲のスペクトル像がフオトダイオードアレー上
に形成されるようにしてもよいが、分散素子とし
て回折格子を用いる場合、スペクトルには色々な
次数の光が混つており測定に当つては不要次数の
光をカツトしなければならない。このためにフイ
ルタを用いるが、測定波長範囲を変える毎にフイ
ルタを交換しなければならないから回折格子を回
動させる機構とフイルタを交換する機構が必要と
なつてスペクトル測定装置が高価になる。さらに
格子の回転やフイルタの挿入を機能的に行うこと
は、機構的にも複雑で高速な測光を行う場合に適
さないし故障の要因となり易い。
素子はフオトダイオードの配列方向の幅の小さい
ものしか得られず、その幅の中に分光装置により
形成されるスペクトル像の希望波長範囲を収容す
るにはかなりの困難を伴う。例えばフオトダイオ
ードアレーの場合512素子のもので幅は12.8mmで
あり、この幅で波長範囲200nｍ〜800nｍをカバ
ーしようとすると、波長差1nｍ当りの分散幅は
0.024mmとなり、これはきわめて小さい分散で、
もちろんそのような分光素子を作ることはきわめ
て容易であるが、分散を小さくしても入出射スリ
ツト幅を小さくはできないので、分光器の装置幅
を0.05mmとすると、波長分解能は2nｍ程度になつ
てしまう。従つてもつと大きな分散でスペクトル
測定をするためには複数のフオトダイオードアレ
ーを用い、スペクトル像面の所望波長範囲内にそ
れらのフオトダイオードアレーを並べる他ない
が、この方法では高価なフオトダイオードアレー
を多数必要とするし、隣接フオトダイオードアレ
ーの境の所にスペクトルの測定できない幅ができ
る。その上スペクトル測定ではいつも測定可能な
最大波長範囲で測定を行うとは限らず測定可能範
囲のどこか一部の範囲で測定を行う場合が多いの
であり、このような場合高価なフオトダイオード
アレーを多数用意したのに実際使つているのはそ
のうちのどれか一つであると云う不経済なことに
なる。そこでフオトダイオードアレーを一個にし
分散素子を回動可能にしてスペクトルの所要波長
範囲のスペクトル像がフオトダイオードアレー上
に形成されるようにしてもよいが、分散素子とし
て回折格子を用いる場合、スペクトルには色々な
次数の光が混つており測定に当つては不要次数の
光をカツトしなければならない。このためにフイ
ルタを用いるが、測定波長範囲を変える毎にフイ
ルタを交換しなければならないから回折格子を回
動させる機構とフイルタを交換する機構が必要と
なつてスペクトル測定装置が高価になる。さらに
格子の回転やフイルタの挿入を機能的に行うこと
は、機構的にも複雑で高速な測光を行う場合に適
さないし故障の要因となり易い。
本発明は一次元的撮像素子を用いたスペクトル
測定装置における上述した問題点を解決して、安
価で分解能の高いスペクトル測定装置を提供しよ
うとするものである。
測定装置における上述した問題点を解決して、安
価で分解能の高いスペクトル測定装置を提供しよ
うとするものである。
本発明は回折格子に対し互に異る入射角になる
位置に複数の入射スリツトを設け、これら複数の
入射スリツトから上記回折格子に入射した光の回
折光に対して共通の一次元的撮像素子を配置し、
光源から上記各入射スリツトを経て上記回折格子
に至る光路中に各入射スリツトに対応させて互に
干渉しないように所定次数以外の次数の回折光に
相当する波長の光をカツトするフイルタを介在さ
せたスペクトル測定装置を提供する。以下実施例
によつて本発明を説明する。
位置に複数の入射スリツトを設け、これら複数の
入射スリツトから上記回折格子に入射した光の回
折光に対して共通の一次元的撮像素子を配置し、
光源から上記各入射スリツトを経て上記回折格子
に至る光路中に各入射スリツトに対応させて互に
干渉しないように所定次数以外の次数の回折光に
相当する波長の光をカツトするフイルタを介在さ
せたスペクトル測定装置を提供する。以下実施例
によつて本発明を説明する。
第１図は本発明の一実施例装置を示す。Ｗ，Ｄ
は光源でＷはタングステン電球、Ｄは重水素ラン
プである。光源を二つ用いるのは夫々の発光波長
領域が異りかつ互に連接しているので、両者併用
により広い波長範囲の光を得ることができるから
である。Ｈは半透明鏡、Ｌは集光レンズ、２は試
料セル、Ｍ１〜Ｍ４は光源Ｗ又はＤから出て試料
セル２を透過した光束Ｆを横切るように一直線上
に並んだ凹面鏡で上記光束Ｆを略直角方向に反射
する。Ｍ１からＭ３までの鏡は半透明鏡で入射光
の一部を上記した方向に反射させ、残りの光を次
の鏡に向けて透過させる。４はスリツト基板で複
数のスリツトＳ１〜Ｓ４が設けられている。スリ
ツトＳ１〜Ｓ４は実施例では光束Ｆと平行の方向
に配列されている。６は凹面回折格子である。上
記スリツトＳ１〜Ｓ４は夫々スリツトから出射さ
れた光がこの凹面回折格子によつてダイオードア
レー上に結像されるように配置される。Ｓ１〜Ｓ
４と格子６の中心を結ぶ線と格子中心に立てた垂
線とのなす角即ち入射角はＳ１からＳ４にかけて
段々に大きくなつており、異なる波長域を夫々の
スリツトが測光することに対応している。上記し
た鏡Ｍ１〜Ｍ４は光束ＦをスリツトＳ１〜Ｓ４の
方へ反射し、各スリツト上に集光させる。以上の
構成で試料セル２を透過した光束Ｆは鏡Ｍ１〜Ｍ
４によつて４つの光束に分割されて互に異る入射
角で回折格子６に入射する。７はフオトダイオー
ドアレーで上記４つの光束は何れも格子６で回折
されてフオトダイオードアレー７上にスペクトル
像を形成する。各光束は格子６への入射角が異る
からアレー７上におけるスペクトル像の波長領域
が異つている。具体的にはスリツトＳ１から入射
した光束はアレー上に200〜360nｍの範囲のスペ
クトル像を作つており、Ｓ２から入射した光は
360〜520nｍの範囲、Ｓ３から入射した光は520
〜680nｍの範囲、そしてＳ４から入射した光は
680〜840nｍの範囲のスペクトル像を形成するよ
うにスリツトＳ１〜Ｓ４の相互位置関係が選定し
てある。スリツトＳ１〜Ｓ４の前面にシヤツター
５を設け何れかのスリツトのみを通して格子６に
光が入射せしめられる。スリツトＳ１〜Ｓ４の
夫々の前側即ち鏡Ｍ１〜Ｍ４の側にフイルタｆ１
〜ｆ４が配置してある。上述したように例えばス
リツトＳ１から格子６に入射した光はフオトダイ
オードアレー７上に波長200〜360nｍの範囲のス
ペクトル像を形成するが、これは或る次数の回折
光によるスペクトルであつて、他の次数のスペク
トルも同じ場所に重なつて形成されているので、
フイルタｆ１はそのような目的外の次数の回折光
を除去するために設けられている。他のフイルタ
ｆ２〜ｆ４も同じである。本実施例では１次回折
光を用いスリツトＳ１に対し200−360nｍ、スリ
ツトＳ２に対し360−520nｍ、スリツトＳ３に対
し520−680nｍ、Ｓ４に対し680−840nｍの波長
範囲がフオトダイオードアレー７上にスペクトル
像を作るように設計されている。
は光源でＷはタングステン電球、Ｄは重水素ラン
プである。光源を二つ用いるのは夫々の発光波長
領域が異りかつ互に連接しているので、両者併用
により広い波長範囲の光を得ることができるから
である。Ｈは半透明鏡、Ｌは集光レンズ、２は試
料セル、Ｍ１〜Ｍ４は光源Ｗ又はＤから出て試料
セル２を透過した光束Ｆを横切るように一直線上
に並んだ凹面鏡で上記光束Ｆを略直角方向に反射
する。Ｍ１からＭ３までの鏡は半透明鏡で入射光
の一部を上記した方向に反射させ、残りの光を次
の鏡に向けて透過させる。４はスリツト基板で複
数のスリツトＳ１〜Ｓ４が設けられている。スリ
ツトＳ１〜Ｓ４は実施例では光束Ｆと平行の方向
に配列されている。６は凹面回折格子である。上
記スリツトＳ１〜Ｓ４は夫々スリツトから出射さ
れた光がこの凹面回折格子によつてダイオードア
レー上に結像されるように配置される。Ｓ１〜Ｓ
４と格子６の中心を結ぶ線と格子中心に立てた垂
線とのなす角即ち入射角はＳ１からＳ４にかけて
段々に大きくなつており、異なる波長域を夫々の
スリツトが測光することに対応している。上記し
た鏡Ｍ１〜Ｍ４は光束ＦをスリツトＳ１〜Ｓ４の
方へ反射し、各スリツト上に集光させる。以上の
構成で試料セル２を透過した光束Ｆは鏡Ｍ１〜Ｍ
４によつて４つの光束に分割されて互に異る入射
角で回折格子６に入射する。７はフオトダイオー
ドアレーで上記４つの光束は何れも格子６で回折
されてフオトダイオードアレー７上にスペクトル
像を形成する。各光束は格子６への入射角が異る
からアレー７上におけるスペクトル像の波長領域
が異つている。具体的にはスリツトＳ１から入射
した光束はアレー上に200〜360nｍの範囲のスペ
クトル像を作つており、Ｓ２から入射した光は
360〜520nｍの範囲、Ｓ３から入射した光は520
〜680nｍの範囲、そしてＳ４から入射した光は
680〜840nｍの範囲のスペクトル像を形成するよ
うにスリツトＳ１〜Ｓ４の相互位置関係が選定し
てある。スリツトＳ１〜Ｓ４の前面にシヤツター
５を設け何れかのスリツトのみを通して格子６に
光が入射せしめられる。スリツトＳ１〜Ｓ４の
夫々の前側即ち鏡Ｍ１〜Ｍ４の側にフイルタｆ１
〜ｆ４が配置してある。上述したように例えばス
リツトＳ１から格子６に入射した光はフオトダイ
オードアレー７上に波長200〜360nｍの範囲のス
ペクトル像を形成するが、これは或る次数の回折
光によるスペクトルであつて、他の次数のスペク
トルも同じ場所に重なつて形成されているので、
フイルタｆ１はそのような目的外の次数の回折光
を除去するために設けられている。他のフイルタ
ｆ２〜ｆ４も同じである。本実施例では１次回折
光を用いスリツトＳ１に対し200−360nｍ、スリ
ツトＳ２に対し360−520nｍ、スリツトＳ３に対
し520−680nｍ、Ｓ４に対し680−840nｍの波長
範囲がフオトダイオードアレー７上にスペクトル
像を作るように設計されている。
この場合２次、３次など高次の回折光が重なつ
て検出されるのを防ぐためＳ１〜Ｓ４の前にそれ
ぞれの高次光除去用のフイルタを取りつけてあ
る。例えばスリツトＳ４に対しては２次光として
340〜420nｍ、３次光として227〜280nｍ、４次
光として167〜210nｍの光が重なつて入射するか
ら、600nｍ以下をカツトするフイルターを配置
する。スリツトＳ３に対しては２次光260〜340n
ｍ、３次光177〜227nｍなどを除去するため480n
ｍ以下をカツトするフイルタを用いる。Ｓ２に対
しても同様で例えば320nｍ以下をカツトするフ
イルターを用いればよい。
て検出されるのを防ぐためＳ１〜Ｓ４の前にそれ
ぞれの高次光除去用のフイルタを取りつけてあ
る。例えばスリツトＳ４に対しては２次光として
340〜420nｍ、３次光として227〜280nｍ、４次
光として167〜210nｍの光が重なつて入射するか
ら、600nｍ以下をカツトするフイルターを配置
する。スリツトＳ３に対しては２次光260〜340n
ｍ、３次光177〜227nｍなどを除去するため480n
ｍ以下をカツトするフイルタを用いる。Ｓ２に対
しても同様で例えば320nｍ以下をカツトするフ
イルターを用いればよい。
たゞ最後のＳ１に対しては、２次光が100〜
180nｍとなるが、この領域では、空気自身がフ
イルタの働きをして180nｍ以下の光を通さない
ので、実際上はフイルターを用いずオープンにし
てある。シヤツター５は光を通す切込みＮを設け
た円板で切込みＮをスリツトＳ１〜Ｓ４の何れか
の前面に位置させることで、そのスリツトが選択
される。分析目的によつて測定波長範囲が異るの
で、例えば400〜500nｍの範囲のスペクトル測定
で充分であればシヤツターの切込みＮをスリツト
Ｓ２の前側に位置させる。測定スペクトル範囲が
300〜500nｍ等であるときはシヤツターの切込み
Ｎを当初Ｓ１の位置にして200〜360nｍ範囲でス
ペクトル測定を行い、次にＮをスリツトＳ２の位
置に合せて360〜520nｍの範囲でスペクトル測定
を行う。同様に200〜840nｍの全域での測定が必
要なときはシヤツター５の切込みＮの位置をＳ１
からＳ４まで順に移しながら夫々の位置でスペク
トル測定を行う。
180nｍとなるが、この領域では、空気自身がフ
イルタの働きをして180nｍ以下の光を通さない
ので、実際上はフイルターを用いずオープンにし
てある。シヤツター５は光を通す切込みＮを設け
た円板で切込みＮをスリツトＳ１〜Ｓ４の何れか
の前面に位置させることで、そのスリツトが選択
される。分析目的によつて測定波長範囲が異るの
で、例えば400〜500nｍの範囲のスペクトル測定
で充分であればシヤツターの切込みＮをスリツト
Ｓ２の前側に位置させる。測定スペクトル範囲が
300〜500nｍ等であるときはシヤツターの切込み
Ｎを当初Ｓ１の位置にして200〜360nｍ範囲でス
ペクトル測定を行い、次にＮをスリツトＳ２の位
置に合せて360〜520nｍの範囲でスペクトル測定
を行う。同様に200〜840nｍの全域での測定が必
要なときはシヤツター５の切込みＮの位置をＳ１
からＳ４まで順に移しながら夫々の位置でスペク
トル測定を行う。
こゝで半透明鏡Ｍ１〜Ｍ４の光の分割比につい
て説明する。実施例では波長200〜840nｍの範囲
をカバーできる装置であるがアレー素子７による
分光感度を第２図に示す。これでみると分光感度
分布は長波長側で甚だ大である。従つて第１番目
の鏡Ｍ１では透過率より反射率の方を大きくして
おくのがよい。とりわけＭ１として360nｍ以下
の波長域で反射率80％透過率数％、360nｍ以上
の波長域では逆に透過率80％、反射率数％程度の
ダイクロイツクミラーを用いると光エネルギーの
損失を少くすることができる。このようなダイク
ロイツクミラーをＭ１に用い、Ｍ２，Ｍ３の反射
率を50％の単なる半透鏡、Ｍ４は完全な反射鏡
（100％反射率）とすれば、スリツトＳ１〜Ｓ４へ
の分配率は0.8：0.4：0.2：0.2となり第２図の分
光エネルギー分布と掛け合せれば略平担な感度分
配が得られる。半透明鏡Ｍ１〜Ｍ４を完全鏡にし
て出入自在とし、Ｍ１〜Ｍ４の出入によつてスリ
ツトＳ１〜Ｓ４の一つを選択するようにしてもよ
いが機構的には稍複雑になる。
て説明する。実施例では波長200〜840nｍの範囲
をカバーできる装置であるがアレー素子７による
分光感度を第２図に示す。これでみると分光感度
分布は長波長側で甚だ大である。従つて第１番目
の鏡Ｍ１では透過率より反射率の方を大きくして
おくのがよい。とりわけＭ１として360nｍ以下
の波長域で反射率80％透過率数％、360nｍ以上
の波長域では逆に透過率80％、反射率数％程度の
ダイクロイツクミラーを用いると光エネルギーの
損失を少くすることができる。このようなダイク
ロイツクミラーをＭ１に用い、Ｍ２，Ｍ３の反射
率を50％の単なる半透鏡、Ｍ４は完全な反射鏡
（100％反射率）とすれば、スリツトＳ１〜Ｓ４へ
の分配率は0.8：0.4：0.2：0.2となり第２図の分
光エネルギー分布と掛け合せれば略平担な感度分
配が得られる。半透明鏡Ｍ１〜Ｍ４を完全鏡にし
て出入自在とし、Ｍ１〜Ｍ４の出入によつてスリ
ツトＳ１〜Ｓ４の一つを選択するようにしてもよ
いが機構的には稍複雑になる。
本発明は上述したような構成で、高価な一次元
的撮像素子は一個でよく、高精度を要する回折格
子の駆動機構が不要であり、スペクトルの波長範
囲毎に回折格子への入射光束が異つているので、
各波長範囲毎に他の波長範囲の測定に干渉するこ
となく、目的とする次数以外の次数の回折光を除
去するフイルタを挿入でき、広い波長範囲をカバ
ーするスペクトル測定装置を安価に提供できる特
徴を有する。一つの一次元的撮像素子上に１次、
２次の回折スペクトルを形成しフイルタによつて
１次、２次の回折光の選択を行う方式では測定可
能な波長範囲は短波長端波長の２倍弱である。こ
れはフイルタ特性として完全なハイパスフイル
タ、ローパスフイルタが得られず必ず漸移領域が
あるので例えば１次光が400〜800nｍで２次光が
200〜400nｍであるとき、１次光を取出すのに
400nｍ以下をカツトするローパスフイルタを用
いると、390nｍ位の所ではなお透過率が若干あ
るから、２次光の390〜400nｍが800nｍ付近の測
定を妨害することになるからである。本発明では
このような干渉なしに複数の波長範囲を連続させ
て測定ができるのである。
的撮像素子は一個でよく、高精度を要する回折格
子の駆動機構が不要であり、スペクトルの波長範
囲毎に回折格子への入射光束が異つているので、
各波長範囲毎に他の波長範囲の測定に干渉するこ
となく、目的とする次数以外の次数の回折光を除
去するフイルタを挿入でき、広い波長範囲をカバ
ーするスペクトル測定装置を安価に提供できる特
徴を有する。一つの一次元的撮像素子上に１次、
２次の回折スペクトルを形成しフイルタによつて
１次、２次の回折光の選択を行う方式では測定可
能な波長範囲は短波長端波長の２倍弱である。こ
れはフイルタ特性として完全なハイパスフイル
タ、ローパスフイルタが得られず必ず漸移領域が
あるので例えば１次光が400〜800nｍで２次光が
200〜400nｍであるとき、１次光を取出すのに
400nｍ以下をカツトするローパスフイルタを用
いると、390nｍ位の所ではなお透過率が若干あ
るから、２次光の390〜400nｍが800nｍ付近の測
定を妨害することになるからである。本発明では
このような干渉なしに複数の波長範囲を連続させ
て測定ができるのである。
第１図は本発明の一実施例装置の斜視図、第２
図は測光素子の一例の分光感度特性を示すグラフ
である。 Ｄ……重水素ランプ、Ｗ……タングステンラン
プ、２……試料セル、Ｍ１〜Ｍ４……半透明鏡、
Ｓ１〜Ｓ４……スリツト、６……凹面回折格子、
７……一次元的撮像素子。
図は測光素子の一例の分光感度特性を示すグラフ
である。 Ｄ……重水素ランプ、Ｗ……タングステンラン
プ、２……試料セル、Ｍ１〜Ｍ４……半透明鏡、
Ｓ１〜Ｓ４……スリツト、６……凹面回折格子、
７……一次元的撮像素子。
Claims (1)
- １ 一つの回折格子と、この回折格子により形成
されるスペクトル像が形成される一つの一次元的
撮像素子と、同格子への光入射角が互に異るよう
に配置された複数の入射スリツトと、一つの光束
をこれら複数の入射スリツトを通して上記回折格
子に向う光束に分割する手段とよりなり、上記各
入射スリツトは夫々を通して上記回折格子に入射
した光の上記撮像素子上のスペクトル像の波長範
囲が互に連続するようにその相互位置が設定され
ていることを特徴とするスペクトル測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18553380A JPS57111422A (en) | 1980-12-29 | 1980-12-29 | Spectrum measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18553380A JPS57111422A (en) | 1980-12-29 | 1980-12-29 | Spectrum measuring device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57111422A JPS57111422A (en) | 1982-07-10 |
| JPS634650B2 true JPS634650B2 (ja) | 1988-01-29 |
Family
ID=16172458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18553380A Granted JPS57111422A (en) | 1980-12-29 | 1980-12-29 | Spectrum measuring device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57111422A (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59135332A (ja) * | 1983-01-21 | 1984-08-03 | Union Gijutsu:Kk | 分光測光装置 |
| US4798464A (en) * | 1985-02-21 | 1989-01-17 | The Perkin-Elmer Corporation | Scanning array spectrophotometer |
| GB8715949D0 (en) * | 1987-07-07 | 1987-08-12 | Beckman Riic Ltd | Spectrophotometers |
| US4875773A (en) * | 1988-05-06 | 1989-10-24 | Milton Roy Company | Optical system for a multidetector array spectrograph |
| US4966458A (en) * | 1988-05-06 | 1990-10-30 | Milton Roy Company | Optical system for a multidetector array spectrograph |
| US5283624A (en) * | 1989-10-18 | 1994-02-01 | Hitachi, Ltd. | Multi-element simultaneous analysis atomic absorption spectroscopy photometer and multi-element simultaneous analytic method |
| GB9410395D0 (en) * | 1994-05-24 | 1994-07-13 | Renishaw Plc | Spectroscopic apparatus |
| JPH09145477A (ja) * | 1995-11-20 | 1997-06-06 | Tokyo Instr:Kk | 分光器 |
| US5903346A (en) * | 1996-03-15 | 1999-05-11 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Analysis system |
| DE29702220U1 (de) * | 1996-03-15 | 1997-11-13 | Forschungszentrum Karlsruhe GmbH, 76133 Karlsruhe | Optische Anordnung |
| JP2000283960A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Shimadzu Corp | マイクロチップ電気泳動装置 |
| KR20020045432A (ko) * | 2000-12-11 | 2002-06-19 | 박성근 | Ｃｃｄ 소자를 이용한 스펙트럼 장치 |
| JP5371295B2 (ja) * | 2007-08-31 | 2013-12-18 | キヤノン株式会社 | 電磁波の分析装置 |
| US8334975B1 (en) * | 2011-09-26 | 2012-12-18 | Raytheon Company | Integrated 3-channel gas detection and measurement spectrometer |
| DE112014007080B4 (de) * | 2014-12-22 | 2021-09-09 | Spectro Analytical Instruments Gmbh | Gitterspektrometer mit umschaltbarem Lichtweg |
-
1980
- 1980-12-29 JP JP18553380A patent/JPS57111422A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57111422A (en) | 1982-07-10 |
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