JPS634642A - Method for dividing wafer - Google Patents

Method for dividing wafer

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Publication number
JPS634642A
JPS634642A JP61146886A JP14688686A JPS634642A JP S634642 A JPS634642 A JP S634642A JP 61146886 A JP61146886 A JP 61146886A JP 14688686 A JP14688686 A JP 14688686A JP S634642 A JPS634642 A JP S634642A
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JP
Japan
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wafer
tape
irradiation
adhesive
photosensitive
Prior art date
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Pending
Application number
JP61146886A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Kabashima
樺島 章
Yoshiyuki Abe
由之 阿部
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS634642A publication Critical patent/JPS634642A/en
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Abstract

PURPOSE:To prevent a mistake on work by forming a photosensitive section, in which reflected beams are varied visually by the irradiation of beams, to an adhesive tape, cladding a wafer to the adhesive tape, conducting the irradiation of predetermined beams and picking up a pellet at a prescribed position. CONSTITUTION:A discriminating seal 4 is stuck to a section except the coating region of a wafer 1 on a surface on the side reverse to an adhesive surface, on which the wafer 1 is cladded, the rear side of a UV tape 3. With the discriminating seal 4, a substance such as a photosensitive material is applied onto the surface of the seal, and the rear of the seal has adhesive structure. A material having the large degree of visual alteration such as a material, a color of which changes to blue from red by the irradiation of ultraviolet rays, is preferable as the photosensitive material cladded to the discriminating seal 4 at that time. Since the color of a photosensitive surface in the discriminating seal 4 varies after the irradiation of ultraviolet-rays, a frame 2 is discriminated extremely easily after the irradiation of ultraviolet-rays 9.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置の製造における半導体ウェハの分
割に利用して有効な技術に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a technique that is effective when used for dividing semiconductor wafers in the manufacture of semiconductor devices.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体ウェハの分割方法については、たとえば株式会社
工業調査会、1980年1月15日発行rrc化実装技
術J、P100〜P101に記載されている。ここでは
、フレームに所定のテンシロンをもって貼り付けられた
プラスチック製の粘着テープ上にウェハを被着して、こ
の状態でウェハを分割(ダイシング)した後に、突き上
げツールによって該テープの裏面側からペレット部分を
突き上げて、ピックアップする技術が紹介されている。
A method for dividing a semiconductor wafer is described, for example, in RRC Mounting Techniques J, published by Kogyo Kenkyukai Co., Ltd., January 15, 1980, pages 100 to 101. Here, the wafer is adhered to a plastic adhesive tape attached to a frame with a predetermined tensile strength, the wafer is divided (diced) in this state, and then the pellets are separated from the back side of the tape using a push-up tool. A technique for pushing up and picking up is introduced.

本発明者は、ウェハの分割技術について検討した。以下
は、本発明者によって検討された技術であり、その概要
は以下の通りである。
The present inventor studied wafer dividing technology. The following are the techniques studied by the present inventor, and the outline thereof is as follows.

上記のウェハ分割工程において、ウェハの被着されるテ
ープとしては、ウェハのダイシング時には強い粘着力を
有していることが必要である。すなわち、ダイシン身時
にテープの粘着力が低下していると、ダイシングブレー
ドの作動によりウェハに外力がかかるため、テープがフ
レームから剥離してしまい、フレーム上でウェハの位置
ずれを生じてしまうためである。−方、これに対してダ
イシング終了後、すなわちベレット(チップ、グイ)の
ピックアンプ時にはテープのウェハとの粘着力は低い方
がよい、その理由は、ピックアップビンの押圧によりペ
レットをテープから容易に分離させてコレットによる吸
着を円滑に行うためである。
In the above-mentioned wafer dividing step, the tape to which the wafer is attached needs to have strong adhesive strength during dicing of the wafer. In other words, if the adhesive strength of the tape decreases during dicing, external force is applied to the wafer due to the operation of the dicing blade, causing the tape to separate from the frame and cause the wafer to become misaligned on the frame. be. On the other hand, after dicing, that is, when picking pellets (chips, gui), the adhesive strength of the tape to the wafer should be low.The reason is that the pellets can be easily removed from the tape by pressing the pick-up bin. This is to allow separation and smooth adsorption by the collet.

そのため、粘着テープの粘着力をダイシングの前後で変
化させる技術が必要となってくる。このような技術とし
ては、テープベースに紫外線の照射により粘着力の低下
する粘着材を被着させた構造の粘着シートを用いること
が考えられる。すなわち、ダイシング時には強い粘着力
を保持させてブレードによるダイシングを行い、ダイシ
ングの終了直後に該テープの所定部分に対して紫外線を
所定時間照射することによりテープの粘着力を低下させ
、これによりベレットのピックアップを容易に行うもの
である。
Therefore, a technology is needed to change the adhesive strength of the adhesive tape before and after dicing. As such a technique, it is conceivable to use an adhesive sheet having a structure in which a tape base is covered with an adhesive material whose adhesive strength decreases when irradiated with ultraviolet rays. That is, during dicing, dicing is performed with a blade while maintaining strong adhesive strength, and immediately after dicing, a predetermined portion of the tape is irradiated with ultraviolet rays for a predetermined period of time to reduce the adhesive strength of the tape, thereby reducing the adhesive strength of the tape. This makes it easy to pick up.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

ところが、上記のような技術を実現した場合、紫外線の
照射が既に終了したフレームであるか否かの判断は、ウ
ェハの取付けられたフレームの外観のみからでは判別し
にくく、そのために紫外線の照射が行われていないにも
かかわらず、紫外線の照射済のフレームであると勘違い
してフレームをピックアンプ工程に移送してしまい、ペ
レットのピックアップが困難となるような単純な作業ミ
スの生じる可能性が多い。
However, when the above technology is realized, it is difficult to judge whether or not the frame has already been irradiated with ultraviolet rays based only on the appearance of the frame to which the wafer is attached. Even though this has not been done, there is a possibility that a frame may be mistakenly transferred to the pick amplifier process because it has been irradiated with ultraviolet rays, making it difficult to pick up the pellets. many.

本発明は、上記問題点に着目してなされたものであり、
その目的は作業ミスを防止して信頼性の高いウェハ分割
技術を提供することにある。
The present invention has been made focusing on the above problems,
The purpose is to prevent operational errors and provide highly reliable wafer dividing technology.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、粘着テープに、光の照射により反射光が視覚
的に変化する感光部を設け、ウニ/%を粘着テープに被
着して所定光の照射を行い、所定部位のベレットをピッ
クアップするものである。
In other words, the adhesive tape is equipped with a photosensitive part where the reflected light visually changes when irradiated with light, the adhesive tape is coated with sea urchin/%, and a predetermined light is irradiated to pick up pellets at a predetermined location. be.

〔作用〕[Effect]

上記した手段によれば、粘着テープの感光部の視覚的変
化により所定光の照射の有無を極めて容易に判別するこ
とが可能となり、作業ミスを防止して信頼性の高いウェ
ハ分割工程を実現することができる。
According to the above-mentioned means, it is possible to very easily determine whether or not a predetermined light is irradiated based on a visual change in the photosensitive area of the adhesive tape, thereby preventing operational errors and realizing a highly reliable wafer dividing process. be able to.

〔実施例〕〔Example〕

第1図fal〜+c+は本発明の一実施例であるウエノ
\分割方法を順次示す概略説明図、第2図はウニ/%の
貼り付けられた状態を示すフレームの平面図である。
FIGS. 1 fal to +c+ are schematic explanatory diagrams sequentially showing a Ueno\ dividing method according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view of a frame showing a state in which UNO/% is pasted.

本実施例のウェハ分割工程は、ウェハのダイシングを行
うダイシング工程と、紫外線の照射を行う照射工程と、
ペレットを取り出すピックアップ工程とからなり、これ
らの各工程はそれぞれダイシング機構A、照射機構B、
およびピックアップ機構Cにより行われる。
The wafer dividing process of this embodiment includes a dicing process in which the wafer is diced, an irradiation process in which ultraviolet rays are irradiated,
It consists of a pick-up process to take out the pellets, and each of these processes is performed by a dicing mechanism A, an irradiation mechanism B,
and a pickup mechanism C.

ウェハ1は、第2図に示すようにフレーム2の状態で提
供され、このフレーム2は略円形のステンレス合金から
なるフレーム部材2aにUVテープ3 (Ultra 
Violet Tape)、すなわち紫外線の照射によ
り粘着力の低下する粘着面を一面に設けた透明のプラス
チックテープを所定形状に切断加工して張設したもので
あり、該UVテープ3の粘着面に素子の形成面を上面に
した状態で前記ウェハ1が被着されている。
The wafer 1 is provided in a frame 2 as shown in FIG.
Violet Tape), that is, a transparent plastic tape with an adhesive surface whose adhesive strength decreases when irradiated with ultraviolet rays is cut into a predetermined shape and stretched. The wafer 1 is attached with the formation surface facing upward.

本実施例のウェハlはシリコン基板上に所定の回路が形
成されたベレット1aの領域が縦横方向に複数個形成さ
れてものであり、各ベレット1aはたとえば1メガビツ
トのメモリ容量を有する素子として構成されている。
The wafer l of this embodiment has a plurality of regions of pellets 1a formed with a predetermined circuit formed on a silicon substrate in the vertical and horizontal directions, and each pellet 1a is configured as an element having a memory capacity of, for example, 1 megabit. has been done.

また、本実施例ではウェハ1の被着された粘着面とは反
対側の面すなわちUVテープ3の裏面側でウェハlの被
着領域外の部分には、第2図に示すような判別シール4
が貼付されている。この判別シール4はたとえばシール
表面に感光材料が被着されており、シール裏面は粘着構
造となっている。ここで、この判別シール4に被着され
る感光材料は所定の紫外線波長に反応して視覚的に変化
するものであり、具体的には紫外線の照射により赤色か
ら青色に色彩変化するもの等、視覚的変化の度合の大き
いものの方が望ましい。
In addition, in this embodiment, an identification sticker as shown in FIG. 4
is attached. This discrimination seal 4 has, for example, a photosensitive material adhered to the surface of the seal, and the back surface of the seal has an adhesive structure. Here, the photosensitive material adhered to this identification sticker 4 is one that visually changes in response to a predetermined wavelength of ultraviolet rays, and specifically, a material that changes color from red to blue when irradiated with ultraviolet rays. It is preferable that the degree of visual change is large.

また反応する紫外線波長としては、後述のUVテープ3
の粘着力を変化させるために用いる紫外線波長と同一か
あるいは近似したものが望ましい。
In addition, as for the UV wavelength that reacts with UV tape 3 described below,
It is desirable that the UV wavelength be the same as or similar to the wavelength of the ultraviolet light used to change the adhesive strength of the UV light.

具体的には、たとえばUVテープ3の粘着力を変化させ
る紫外線波長が365 nm程度である場合には、これ
に近領した紫外線波長の照射により色彩変化する感光材
料を塗布した判別シール4を用いることができる。
Specifically, for example, when the ultraviolet wavelength that changes the adhesive strength of the UV tape 3 is about 365 nm, the discrimination sticker 4 coated with a photosensitive material that changes color when irradiated with ultraviolet wavelengths close to this is used. be able to.

前記フレーム2が、図示しない移送手段によってダイシ
ング機構Aのダイシングステージ5上の所定位置に載置
されると、円板状のダイシングブレード6が高速回転状
態でウェハ1の所定位置に下降し、さらに水平方向に移
動してウェハlのダイシング作業が行われる(第1図(
at)。
When the frame 2 is placed at a predetermined position on the dicing stage 5 of the dicing mechanism A by a transfer means (not shown), the disc-shaped dicing blade 6 is lowered to a predetermined position on the wafer 1 while rotating at high speed. The dicing operation of the wafer l is performed by moving in the horizontal direction (Fig. 1 (
at).

ここで、本実施例のダイシングは、ウェハ1の表面から
裏面までを完全に分離するいわゆるフルダイシングでは
なく、ウェハ1の裏面近傍で例えば20μm程度の厚さ
を残して各ペレフト1aが各々ブロック状に連結された
状態となるように切込みを形成する、いわゆるセミダイ
シングである。
Here, the dicing of this embodiment is not so-called full dicing in which the front surface of the wafer 1 is completely separated from the back surface of the wafer 1. Instead, each pellet 1a is formed into a block shape by leaving a thickness of, for example, about 20 μm near the back surface of the wafer 1. This is so-called semi-dicing, in which cuts are formed so that the parts are connected to each other.

また、上記ダイシングは各ペレット1aの境界に沿って
行われるが、TEG (Testing Elemen
tにroup )部等の余領域が形成されたウェハ(図
示せず)では、この720部に沿ってダイシングが行わ
れる。
Furthermore, although the above dicing is performed along the boundaries of each pellet 1a, TEG (Testing Element
On a wafer (not shown) in which an extra region such as a loop (roup) section is formed at t, dicing is performed along this 720 section.

前記ダイシングが完了した後、フレーム2は照射機構B
に送られる。
After the dicing is completed, the frame 2 is moved to the irradiation mechanism B.
sent to.

照射機構Bは、ウェハ1の素子形成面を上面にした状態
でフレーム2を保持する照射ステージ7を有しており、
この照射ステージ7にフレーム2が載置された状態で、
該照射ステージ7に設けられた照射窓7aを経て下方よ
り照射ランプ8により紫外線9が照射される構造となっ
ている。
The irradiation mechanism B has an irradiation stage 7 that holds the frame 2 with the element forming surface of the wafer 1 facing upward.
With the frame 2 placed on this irradiation stage 7,
The structure is such that ultraviolet light 9 is irradiated from below by an irradiation lamp 8 through an irradiation window 7a provided on the irradiation stage 7.

ここで照射窓7aにより、UVテープ3の裏面側でウェ
ハ1の被着部分よりもわずかに広い範囲が照射ランプ8
に対して露出されるようになっており、前記の判別シー
ル4の感光面も同様に照射ランプ8に対して露出される
ようになっている(第1図(bl)。
Here, the irradiation window 7a allows the irradiation lamp 8 to cover a slightly wider area than the adhered portion of the wafer 1 on the back side of the UV tape 3.
Similarly, the photosensitive surface of the discrimination sticker 4 is also exposed to the irradiation lamp 8 (FIG. 1(bl)).

したがって、この状態で照射ランプ8によって紫外線9
の照射が行われると、UVテープ3のうちウェハ1より
もわずかに広い範囲にわたって粘着面の粘着力が低下す
るとともに、判別シール4の感光面も紫外線9の照射の
影響により色彩が変化する。−方、UVテープ3のフレ
ーム2との粘着部分は照射ステージ7に遮られて紫外線
9の照射を直接受けていないため、強い粘着力が維持さ
れている。
Therefore, in this state, the ultraviolet light 9 is
When irradiation is performed, the adhesive force of the adhesive surface of the UV tape 3 is reduced over a slightly wider area than the wafer 1, and the color of the photosensitive surface of the discrimination sticker 4 also changes due to the influence of the irradiation with the ultraviolet rays 9. - On the other hand, the adhesive portion of the UV tape 3 with the frame 2 is blocked by the irradiation stage 7 and is not directly irradiated with the ultraviolet rays 9, so that a strong adhesive force is maintained.

ここで、照射ステージ7上から取り出されたフレーム2
は外観上は紫外線9の照射前のものと変化はない、その
ため、照射前のフレーム2と照射後のフレーム2との識
別が困難となり、これらを混同して次の工程に移送して
しまうことも考えられるが、本実施例によれば上記のよ
うに紫外線9の照射後は判別シール4の感光面の色彩が
変化しているため、紫外線9の照射後のフレーム2の識
別が極めて容易である。
Here, the frame 2 taken out from above the irradiation stage 7
There is no difference in appearance from the one before irradiation with ultraviolet rays 9. Therefore, it becomes difficult to distinguish between frame 2 before irradiation and frame 2 after irradiation, and they may be confused and transferred to the next process. However, according to this embodiment, the color of the photosensitive surface of the identification sticker 4 changes after irradiation with the ultraviolet rays 9 as described above, so it is extremely easy to identify the frame 2 after the irradiation with the ultraviolet rays 9. be.

このようにして、紫外線9の照射済みであることの確認
が行われたフレーム2はピックアップ機構Cに移送され
る。
In this way, the frame 2 that has been confirmed to have been irradiated with the ultraviolet rays 9 is transferred to the pickup mechanism C.

ピックアンプ機構Cには、固定手段10により固定され
たフレーム2の下方に、真空吸着孔11aの設けられた
突き上げ治具11が位置しており、この突き上げ治具1
1が所定部位に位置すると、真空吸着孔11aより真空
吸引が行われ、所定のベレット1aがUVテープ3の裏
面側より吸着される。この真空吸着は、突き上げ治具1
1とペレフト1aとの位置ずれを生じないようにするた
めに行われるものであり、この真空吸着状態を維持した
まま真空吸着孔11a内を突き上げピン12が上昇して
、所定のベレフ)laの裏面を突き上げる。
In the pick amplifier mechanism C, a push-up jig 11 provided with a vacuum suction hole 11a is located below the frame 2 fixed by the fixing means 10.
1 is located at a predetermined position, vacuum suction is performed from the vacuum suction hole 11a, and a predetermined pellet 1a is suctioned from the back side of the UV tape 3. This vacuum suction is performed using the push-up jig 1.
This is done in order to prevent positional deviation between 1 and 1a, and the pin 12 is pushed up inside the vacuum suction hole 11a while maintaining this vacuum suction state, and the pin 12 is raised to a predetermined position of 1a. Push up the back.

このような突き上げピン12の動作にともなって、UV
テープ3の粘着面から突き上げられたペレット1aを、
フレーム2の上方に位置するコレット13が下降してき
て真空吸着保持するようになっている。このとき、本実
施例では、このペレッ)laとUVテープ3との粘着面
は、紫外線9の照射によりその粘着力が、ペレット1a
の離脱に好適な程度にまで低下した状態となっている。
With this operation of the push-up pin 12, UV
The pellet 1a pushed up from the adhesive surface of the tape 3 is
A collet 13 located above the frame 2 is lowered and held by vacuum suction. At this time, in this embodiment, the adhesive surface of the pellet 1a and the UV tape 3 is irradiated with ultraviolet rays 9, so that the adhesive force of the pellet 1a is increased.
The condition has fallen to a level suitable for withdrawal.

そのため、突き上げビン12とコレット13の作動によ
り、ペレットlaは容易にUVテープ3の粘着面から離
脱される。
Therefore, the pellets la are easily separated from the adhesive surface of the UV tape 3 by the operation of the push-up bottle 12 and collet 13.

そのため、強粘着によるペレットlaのピックアップミ
スを防止できる。
Therefore, it is possible to prevent mistakes in picking up the pellets la due to strong adhesion.

以上のようにしてピックアップされたペレット1aは口
承しない収容治具あるいはペレットボンダのボンディン
グ位置等に送られてウェハ分割工程を完了する。
The pellets 1a picked up as described above are sent to a non-oral storage jig or a bonding position of a pellet bonder to complete the wafer dividing process.

このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。
As described above, according to this embodiment, the following effects can be obtained.

(1)、所定光の照射により粘着力の変化するテープに
、ウェハとともに所定光の照射によって反射光が視覚的
に変化する感光部を設けることによって、所定光の照射
の有無を容易に判断可能となり、作業ミスを防止できる
(1) By installing a photosensitive part on the tape whose adhesive strength changes when irradiated with a predetermined light, along with the wafer, whose reflected light changes visually when the predetermined light is irradiated, it is possible to easily determine whether or not the predetermined light has been irradiated. This prevents work errors.

(2)、所定光を紫外線9とし、感光部として該紫外線
9に反応する感光材料を表面に被着した判別シール4を
用いることにより、UVテープ3を用いた既存のウェハ
分割工程をほとんど変更することなく紫外線照射の認識
ミスによる作業ミスを防止できる。
(2) The existing wafer dividing process using UV tape 3 is almost changed by using ultraviolet 9 as the predetermined light and using identification sticker 4 whose surface is coated with a photosensitive material that reacts to ultraviolet 9 as a photosensitive part. It is possible to prevent work errors due to misrecognition of ultraviolet irradiation without having to do so.

(3)、前記(11および(2)により偉績性の高いウ
ェハ分割を実現することができる。
(3) Highly efficient wafer division can be realized by the above (11 and (2)).

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない、たとえば、判別シール4
についてはUVテープ3の粘着面の裏面側に貼付した場
合について説明したが、粘着面側に貼付してもよい、こ
のようにした場合には、UVテープ3の粘着面と判別シ
ール4の感光面とを当接するようにして判別シール4を
貼付することになる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. No, for example, identification sticker 4
The description has been made for the case where the UV tape is attached to the back side of the adhesive side of the UV tape 3, but it may also be attached to the adhesive side. In this case, the adhesive side of the UV tape 3 and the photosensitive identification sticker 4 The discrimination sticker 4 is pasted so that the surface is in contact with the surface.

また感光部としては、感光材料を被着した判別シール4
を用いた場合について説明したが、UVテープの表面あ
るいは裏面側に直接感光材料を被着させ光ものであって
もよい。また粘着材料に感光材料を混入したものもしく
はテープベース自体に感光材料を混入させたものであっ
てもよ°い。
In addition, as a photosensitive part, an identification sticker 4 coated with a photosensitive material is used.
Although a case has been described in which a UV tape is used, a photosensitive material may be applied directly to the front or back side of the UV tape. Alternatively, the adhesive material may be mixed with a photosensitive material, or the tape base itself may be mixed with a photosensitive material.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、いわゆる半導体装置の製造に用
いられるウェハに適用した場合について説明したが、こ
れに限定されるものではなく、たとえばトランジスタ、
ダイオード等の他の電子部品の製造に用いられるウェハ
にも適用できる。
In the above description, the invention made by the present inventor was mainly applied to wafers used in the field of application, that is, manufacturing so-called semiconductor devices, but the invention is not limited to this, for example, transistors, etc.
It can also be applied to wafers used for manufacturing other electronic components such as diodes.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、所定光の照射により粘着力の低下する透光性
のあるテープの粘着面にウェハを被着するとともに前記
テープの粘着面あるいはその裏面側に所定光の照射方向
に対して該所定光の照射により反射光が視覚的に変化す
る感光部を設け、前記テープの粘着面の裏面側より該テ
ープに対して所定光の照射を行った後、所定部位のペレ
ットをピックアップすることにより、感光部の視覚的変
化により所定光の照射の有無を極めて容易に判別するこ
とが可能となり、作業ミスを防止して信頌性の高いウェ
ハ分割工程を実現することができる。
That is, a wafer is adhered to the adhesive surface of a translucent tape whose adhesive strength decreases when irradiated with a predetermined light, and the predetermined light is applied to the adhesive surface of the tape or its back side in the direction of irradiation of the predetermined light. A photosensitive area is provided in which the reflected light visually changes when irradiated, and after irradiating the tape with a predetermined light from the back side of the adhesive surface of the tape, the pellet at a predetermined area is picked up. It becomes possible to very easily determine whether or not the predetermined light is irradiated by a visual change in the wafer, thereby preventing operational errors and realizing a highly reliable wafer dividing process.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(al〜(C1は本発明の一実施例であるウェハ
分割方法を順次示す′概略説明図、 第2図はウェハの貼り付けられた状態を示すフレームの
平面図である。 1・・・ウェハ、2・・・フレーム、2a・・・フレー
ム部材、3・・・UVテープ、4・・・判別シール、5
・・・ダイシングステージ、6・・・ダイシングブレー
ド、7・・・照射ステージ、7a・・・照射窓、8・・
・照射ランプ、9・・・紫外線、10・・・固定手段、
11・・・突き上げ治具、lla・・・真空吸着孔、1
2・・・突き上げピン、13・・・コレット、A・・・
ダイシング機構、B・・・照射機構、C・・・ピックア
ンプ機構。 第  1  図 (c) クー 1ダ目蔗
Fig. 1 (al~(C1 is a schematic explanatory diagram sequentially showing a wafer dividing method according to an embodiment of the present invention, and Fig. 2 is a plan view of a frame showing a state in which wafers are attached. 1. ... Wafer, 2... Frame, 2a... Frame member, 3... UV tape, 4... Identification sticker, 5
... Dicing stage, 6... Dicing blade, 7... Irradiation stage, 7a... Irradiation window, 8...
・Irradiation lamp, 9...ultraviolet light, 10...fixing means,
11... Push-up jig, lla... Vacuum suction hole, 1
2... Push-up pin, 13... Collet, A...
Dicing mechanism, B...irradiation mechanism, C...pick amplifier mechanism. Figure 1 (c) Ku 1st potato

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、所定光の照射により粘着力の低下する透光性のある
テープの粘着面にウェハを被着するとともに前記テープ
の粘着面あるいはその裏面側に所定光の照射方向に対し
て該所定光の照射により反射光が視覚的に変化する感光
部を設け、前記テープの粘着面の裏面側より該テープお
よび前記感光部に対して所定光の照射を行った後、所定
部位のペレットをピックアップするウェハ分割方法。 2、感光部が感光材料を被着したシールの貼付により設
けられていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載のウェハ分割方法。 3、照射される光が紫外線であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のウェハ分割方法。
[Claims] 1. A wafer is adhered to the adhesive surface of a translucent tape whose adhesive strength decreases when irradiated with a predetermined light, and a wafer is attached to the adhesive surface of the tape or its back side in the direction of irradiation of the predetermined light. A photosensitive part is provided in which reflected light visually changes when irradiated with the predetermined light, and after irradiating the tape and the photosensitive part with the predetermined light from the back side of the adhesive surface of the tape, the predetermined part is Wafer splitting method to pick up pellets. 2. The wafer dividing method according to claim 1, wherein the photosensitive portion is provided by pasting a sticker coated with a photosensitive material. 3. The wafer dividing method according to claim 1, wherein the irradiated light is ultraviolet light.
JP61146886A 1986-06-25 1986-06-25 Method for dividing wafer Pending JPS634642A (en)

Priority Applications (1)

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