JPH0878508A - Wafer holding plate - Google Patents

Wafer holding plate

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JPH0878508A
JPH0878508A JP20990594A JP20990594A JPH0878508A JP H0878508 A JPH0878508 A JP H0878508A JP 20990594 A JP20990594 A JP 20990594A JP 20990594 A JP20990594 A JP 20990594A JP H0878508 A JPH0878508 A JP H0878508A
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JP
Japan
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wafer
holding plate
wafer holding
adhesive
chip
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP20990594A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihisa Hayashida
明久 林田
Takanori Muramoto
孝紀 村本
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Publication date
Application filed by Fujitsu VLSI Ltd, Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu VLSI Ltd
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Abstract

PURPOSE: To protect a large diameter wafer against crack when it is handled or transferred by means of a wafer holding plate comprising a transparent board applied, on the surface thereof, with an adhesive having adhesive strength lowering upon irradiation with UV ray with holes being arranged at a pitch corresponding to that of a chip in the wafer. CONSTITUTION: A wafer holding plate 1 is coated, on the surface thereof, with an organic adhesive 2 having viscosity lowering upon heating and adhesive strength lowering upon irradiation with UV ray one or more small holes 4 are arranged in the wafer holding plate 1 at a pitch corresponding to that of a chip 5 in the wafer 3. The adhesive 2 is irradiated with ultraviolet ray in order to reduce adhesive strength between the back face of a diced chip 5 and the wafer holding plate 1. Furthermore, pressurized air 7 is fed from the back side of the plate 1 through the holes 4 to float the chip 5 slightly and a chip passed the characteristic test is handled by means of a dance bonder.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工程のウェ
ーハダイシング工程以降のウェーハの搬送及び位置合わ
せに用いるウェーハ保持プレートに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer holding plate used for carrying and aligning a wafer after a wafer dicing process in a semiconductor manufacturing process.

【0002】近年、ウェーハの大口径化や厚さの減少に
伴い、ウェーハのハンドリングを現在使用しているハン
ドリングロボットで行った場合、ウェーハの割れ等の問
題が生じる恐れがある。
In recent years, with the increase in diameter of wafers and the reduction in thickness, when handling wafers by a currently used handling robot, problems such as cracking of the wafer may occur.

【0003】そのため、ウェーハの大口径化や厚さの減
少が今後更に進んでも、ウェーハの割れを生じさせない
ハンドリング用のウェーハ保持プレートを提供する。
Therefore, a wafer holding plate for handling which does not cause cracking of the wafer is provided even if the diameter of the wafer and the thickness thereof are further reduced.

【0004】[0004]

【従来の技術】図5は従来例の説明図である。図におい
て、3はウェーハ、14はウェーハキャリア、15はダイシ
ングフレーム、16はテープ、17はダイシングブレードで
ある。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is an explanatory view of a conventional example. In the figure, 3 is a wafer, 14 is a wafer carrier, 15 is a dicing frame, 16 is a tape, and 17 is a dicing blade.

【0005】従来ウェーハのハンドリングには図4
(a)の左に斜視図、右に断面図で示すような多段式の
ウェーハキャリア14や、それぞれの目的に応じたハンド
リングカセットが用いられてきた。
Conventional wafer handling is shown in FIG.
A multi-stage wafer carrier 14 as shown in the perspective view on the left side of (a) and a cross-sectional view on the right side, and a handling cassette according to each purpose have been used.

【0006】今後、ウェーハの大口径化にともなってウ
ェーハを収納するキャリアが更に大きくなると、現在の
数十枚を収納するキャリアはますます大型化し、重量化
する。
[0006] In the future, as the diameter of wafers increases, the carrier for storing wafers will become larger, and the carrier for storing several tens of wafers at present will become larger and heavier.

【0007】また、ウェーハをチップに切り出すダイシ
ング工程においても、図5(b)に示すように、ウェー
ハマウンタ、ダイサー、紫外線照射、ダイスボンディン
グに通して用いられているダイシングフレーム15は、図
5(c)に示すように、ダイシングフレーム15に装填し
たテープ16上のウェーハ3をダイシングする際に、ダイ
シングブレード17がダイシングフレーム15に接触しない
ように、ウェーハ3とダイシングフレーム15の間に間隔
Zを設けるため、その内径の大きさがウェーハ3の直径
よりも数cm程大きくなる。
Also, in the dicing process of cutting the wafer into chips, as shown in FIG. 5B, the dicing frame 15 used in the wafer mounter, the dicer, the ultraviolet irradiation, and the dice bonding is shown in FIG. As shown in c), when dicing the wafer 3 on the tape 16 loaded in the dicing frame 15, a distance Z is provided between the wafer 3 and the dicing frame 15 so that the dicing blade 17 does not contact the dicing frame 15. Since it is provided, the inner diameter thereof is larger than the diameter of the wafer 3 by several cm.

【0008】また、ダイシングフレーム15に装填したウ
ェーハ3のダイシング時の位置合わせに高精度のセンサ
や数ステップの処理が必要となっていた。
Further, a highly accurate sensor and several steps of processing are required for the alignment of the wafer 3 loaded on the dicing frame 15 during dicing.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従って、ウェーハのハ
ンドリングにおいて、、ウェーハが大口径化し、且つ薄
くなるにつれてウェーハがたわみ、ハンドリングミスや
ウェーハの割れを生じる。
Therefore, in wafer handling, as the diameter of the wafer becomes larger and the wafer becomes thinner, the wafer bends, resulting in handling errors and wafer cracking.

【0010】また、ダイシングフレームが大型化し、上
記装置の小型化の大きな障害となっており、ウェーハの
ダイシング時の位置合わせにも高精度のセンサや数ステ
ップの処理が必要となっていた。
Further, the size of the dicing frame becomes large, which is a major obstacle to downsizing of the above-mentioned apparatus, and a highly accurate sensor and processing of several steps are required for alignment during wafer dicing.

【0011】更に,ウェーハキャリアも現在の方式のま
まではウェーハの収納や運搬が困難となる。本発明は、
上記問題点を解決する手段を得ることを目的として提供
される。
Further, it is difficult to store and carry the wafer if the wafer carrier is the same as the current system. The present invention
It is provided for the purpose of obtaining means for solving the above problems.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。図において、1はウェーハ保持プレート、2
は接着剤、3はウェーハ、4は孔である。
FIG. 1 is a diagram for explaining the principle of the present invention. In the figure, 1 is a wafer holding plate, 2
Is an adhesive, 3 is a wafer, and 4 is a hole.

【0013】上記の問題点を解決するためには、ウェー
ハのダイシング工程、それ以降のダイス付け工程に共通
にハンドリングや位置合わせが可能な、ウェーハ3の一
枚毎にウェーハ保持プレート1を用意する。
In order to solve the above problems, the wafer holding plate 1 is prepared for each wafer 3 which can be handled and aligned in common in the wafer dicing process and the subsequent dicing process. .

【0014】このウェーハ保持プレート1はダイシング
工程における接着剤2の粘着力低下のための紫外線線照
射や、ダイシングされたチップのピックアップ、その後
のハンドリングにも適用するため、その表面に接着剤を
有する、チップのピッチに対応して配列されている孔を
多数開口した透明な石英板かプラスラック板を用い、か
つウェーハ保持プレートの重合わせが容易に出来る形状
とする。
The wafer holding plate 1 has an adhesive on the surface thereof so as to be applied to ultraviolet ray irradiation for reducing the adhesive strength of the adhesive 2 in the dicing process, picking up dicing chips, and subsequent handling. , A transparent quartz plate or a plus rack plate having a large number of holes arranged corresponding to the pitch of the chips is used, and the shape is such that the wafer holding plates can be easily stacked.

【0015】すなわち、本発明の目的は、図1に示すよ
うに、紫外線照射により粘着力の低下する接着剤2を表
面に有し、且つ、ウェーハ3内のチップのピッチに対応
して配列されている孔4が開口された透明基板からなる
ウェーハ保持プレート1を用いることにより、また、前
記透明基板の外周に、複数の該透明基板を重合わせ可能
な嵌め込み機構を有することにより、更に、前記透明基
板の外周面に光学的に読み取り可能なコード番号が付さ
れていることにより達成される。
That is, as shown in FIG. 1, an object of the present invention is to have an adhesive 2 whose adhesive strength is reduced by irradiation of ultraviolet rays on the surface thereof, and to arrange the adhesive 2 corresponding to the pitch of chips in the wafer 3. By using the wafer holding plate 1 made of a transparent substrate having holes 4 formed therein, and by having a fitting mechanism capable of superimposing a plurality of the transparent substrates on the outer periphery of the transparent substrate, This is achieved by providing an optically readable code number on the outer peripheral surface of the transparent substrate.

【0016】[0016]

【作用】本発明のように、ダイシング工程において、本
発明のウェーハ保持プレートを利用すると、実質的にウ
ェーハの強度が増したこととなり、また、ウェーハ保持
プレートの外周に重合わせ機構を具備したり、更に、外
周面にコード番号を付すことにより自動ハンドリングが
一貫して容易に行われ、従来の大型で且つ重いハンドリ
ング用のウェーハキャリアが不要となり、工程も短縮さ
れる。
When the wafer holding plate of the present invention is used in the dicing process as in the present invention, the strength of the wafer is substantially increased, and the wafer holding plate is provided with a stacking mechanism on the outer periphery thereof. Furthermore, by attaching a code number to the outer peripheral surface, automatic handling is consistently and easily performed, the conventional large-sized and heavy-handling wafer carrier is not required, and the process is shortened.

【0017】[0017]

【実施例】図2〜図4は本発明の幾つかの実施例の説明
図である。図において、1はウェーハ保持プレート、2
は接着剤、3はウェーハ、4は孔、5はチップ、6はダ
イシングプレート、7はエア(圧縮空気)、8はコレッ
ト、9はアライメントステージ、10は円筒ガイド、11は
整理番号、12は搬送台、13は移送ロボットである。
2 to 4 are explanatory views of some embodiments of the present invention. In the figure, 1 is a wafer holding plate, 2
Is an adhesive, 3 is a wafer, 4 is a hole, 5 is a chip, 6 is a dicing plate, 7 is air (compressed air), 8 is a collet, 9 is an alignment stage, 10 is a cylindrical guide, 11 is a reference number, and 12 is A carrier table 13 is a transfer robot.

【0018】図2は本発明の第1の実施例の説明図であ
る。本発明のウェーハ保持プレート1は図2に示すよう
に、使用する8インチのウェーハ3より僅かに大きい2
1cm径で厚さ5mmの透明な石英板、或いはプラスチ
ック板からできている。ウェーハ保持プレート1の表面
には接着剤2があらかじめスピナーを用いて塗布されて
おり、この接着剤2は加熱して粘度が低下し、また、紫
外線照射で粘着力が減少する有機物質からなり、熱湯或
いは有機溶剤で洗い流すことが出来る。
FIG. 2 is an explanatory view of the first embodiment of the present invention. The wafer holding plate 1 of the present invention, as shown in FIG. 2, is slightly larger than the 8-inch wafer 3 used.
It is made of a transparent quartz plate having a diameter of 1 cm and a thickness of 5 mm or a plastic plate. An adhesive 2 is applied to the surface of the wafer holding plate 1 in advance by using a spinner, and the adhesive 2 is made of an organic substance whose viscosity is reduced by heating and whose adhesive strength is reduced by ultraviolet irradiation. It can be washed off with boiling water or an organic solvent.

【0019】また、ウェーハ保持プレート1はウェーハ
3内のチップ5のピッチに対応して配列されている1
個、或いはそれ以上の数の小さな孔4が開口されてい
る。このウェーハ保持プレート1上にダイシングするウ
ェーハ3を載置する。そして、ダイサーのダイシングプ
レート6上にそのままウェーハ保持プレート1をセット
し、ダイシングブレードで所定のピッチでチップを切り
出す。
The wafer holding plate 1 is arranged corresponding to the pitch of the chips 5 in the wafer 3.
Individual or more small holes 4 are opened. The wafer 3 to be diced is placed on the wafer holding plate 1. Then, the wafer holding plate 1 is set as it is on the dicing plate 6 of the dicer, and chips are cut out at a predetermined pitch with a dicing blade.

【0020】続いて、ウェーハ保持プレート1を紫外線
照射装置にセットし、背面から透明なウェーハ保持プレ
ート1を照射して、その上の接着剤2に紫外線を照射
し、切り出されたチップ5背面のウェーハ保持プレート
1との接着力を減退させる。
Then, the wafer holding plate 1 is set in an ultraviolet irradiator, and the transparent wafer holding plate 1 is irradiated from the back side, and the adhesive 2 on the transparent wafer holding plate 1 is irradiated with ultraviolet rays. The adhesive force with the wafer holding plate 1 is reduced.

【0021】そして、ウェーハ保持プレート1の背面か
ら孔4を通して加圧されたエア7を送って、チップ5を
少し浮かせ、コレット8を用いて任意の特性試験でパス
した良品チップ5を1個ずつ真空吸着し、ダイスボンダ
にハンドリングする。このようにして良品のチップ5の
みを順次吸着し、ダイスボンダに移送する。
Then, pressurized air 7 is sent from the back surface of the wafer holding plate 1 through the holes 4 to float the chips 5 a little, and one good chip 5 which has passed the arbitrary characteristic test by using the collet 8 is obtained one by one. Vacuum suction and handle to die bonder. In this way, only good chips 5 are sequentially adsorbed and transferred to the die bonder.

【0022】図3は本発明の第2の実施例の説明図であ
る。上下方向にウェーハ保持プレート1を積み重ねられ
るように、位置合わせ用の機構を付加したものである。
図3(a)に示すように、嵌め合わせ部としてウェーハ
保持プレート1のウェーハ3をマウントする側には凹状
の段差、裏面には凸状の段差がつけられ、この凹凸状の
嵌め合わせ部を組み合わせてウェーハ保持プレート1を
幾重にも積み重ねる。
FIG. 3 is an explanatory diagram of the second embodiment of the present invention. A position adjusting mechanism is added so that the wafer holding plates 1 can be stacked vertically.
As shown in FIG. 3 (a), a concave step is formed on the side of the wafer holding plate 1 on which the wafer 3 is mounted and a convex step is formed on the back surface as a fitting part. The wafer holding plates 1 are stacked in multiple layers in combination.

【0023】図3(b)はウェーハ3の位置合わせを行
うアライメント機構で、アライメントステージ9に円筒
ガイド10に沿って自動的にチャッキングすれば、相対的
にウェーハ3がアライメントステージ9に位置合わせな
しにセットされる。
FIG. 3B shows an alignment mechanism for aligning the wafer 3. When the alignment stage 9 is automatically chucked along the cylindrical guide 10, the wafer 3 is relatively aligned with the alignment stage 9. Set to none.

【0024】そのため、図3(c)に平面図で示すよう
な円筒ガイド10を用いる。図4はウェーハ3の自動識別
のためのウェーハ保持プレート1である。ウェーハ保持
プレート1にマウントされたウェーハ3の工程管理に使
用し、ウェーハ3を自動搬送しながら、このウェーハ3
のコード番号・を光学式読み取り装置で識別し、ダイサ
ーの番号識別機に入力し、一次試験の良品チップ試験マ
ップに基づいて、前述のように、良品チップのみをピッ
クアップし、ダイボンダに供給する。
Therefore, a cylindrical guide 10 as shown in a plan view of FIG. 3 (c) is used. FIG. 4 shows a wafer holding plate 1 for automatic identification of the wafer 3. Used for process control of the wafer 3 mounted on the wafer holding plate 1 and automatically transferring the wafer 3
The code number of is identified by an optical reader and input to the dicer number identification machine, and based on the non-defective chip test map of the primary test, only non-defective chips are picked up and supplied to the die bonder as described above.

【0025】更に、図4(b)に平面図、図4(c)に
断面図で概要を示すように、移送ロボット13を用いコー
ド番号11を認識して、ウェーハ保持プレート1を任意の
順序に搬送や積み換えを行うこともできる。
Further, as shown in the plan view of FIG. 4B and the sectional view of FIG. 4C, the transfer robot 13 is used to recognize the code number 11, and the wafer holding plate 1 is arranged in any order. It can also be transported and transshipped.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
大口径のウェーハをハンドリングや搬送する際に、ハン
ドリングミスやウェーハ割れ等の発生を抑え、確実にハ
ンドリングするといった効果を奏し、係る半導体製造装
置の性能向上に寄与するところが大きい。
As described above, according to the present invention,
When handling or transporting a large-diameter wafer, it is possible to suppress the occurrence of handling mistakes, wafer cracks, and the like, and to reliably handle the wafer, which greatly contributes to the performance improvement of the semiconductor manufacturing apparatus.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の原理説明図FIG. 1 is an explanatory view of the principle of the present invention.

【図2】 本発明の第1の実施例の説明図FIG. 2 is an explanatory diagram of a first embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の第2の実施例の説明図FIG. 3 is an explanatory diagram of a second embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の第3の実施例の説明図FIG. 4 is an explanatory diagram of a third embodiment of the present invention.

【図5】 従来例の説明図FIG. 5 is an explanatory diagram of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

図において 1 ウェーハ保持プレート 2 接着剤 3 ウェーハ 4 孔 5 チップ 6 ダイシングプレート 7 エア 8 コレット 9 アライメントステージ 10 円筒ガイド 11 コード番号 12 搬送台 13 移送ロボット In the figure 1 wafer holding plate 2 adhesive 3 wafer 4 hole 5 chip 6 dicing plate 7 air 8 collet 9 alignment stage 10 cylindrical guide 11 code number 12 carrier table 13 transfer robot

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 紫外線照射により粘着力の低下する接着
剤を表面に有し、且つ、ウェーハ内のチップに対応して
配列されている孔が開口された透明基板からなることを
特徴とするウェーハ保持プレート。
1. A wafer comprising a transparent substrate having an adhesive whose adhesive strength is reduced by irradiation of ultraviolet rays on its surface and having holes arranged corresponding to chips in the wafer. Holding plate.
【請求項2】 前記透明基板の外周に、複数の該透明基
板を重合わせ可能な嵌め込み機構を有することを特徴と
する請求項1記載のウェーハ保持プレート。
2. The wafer holding plate according to claim 1, further comprising a fitting mechanism capable of superposing a plurality of the transparent substrates on an outer periphery of the transparent substrate.
【請求項3】 前記透明基板の外周面に光学的に読み取
り可能なコード番号が付されていることを特徴とする請
求項1または2記載のウェーハ保持プレート。
3. The wafer holding plate according to claim 1, wherein an optically readable code number is attached to the outer peripheral surface of the transparent substrate.
JP20990594A 1994-09-02 1994-09-02 Wafer holding plate Withdrawn JPH0878508A (en)

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