JPS6345310A - モリブデン粉末及びその製造方法 - Google Patents
モリブデン粉末及びその製造方法Info
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- JPS6345310A JPS6345310A JP18790386A JP18790386A JPS6345310A JP S6345310 A JPS6345310 A JP S6345310A JP 18790386 A JP18790386 A JP 18790386A JP 18790386 A JP18790386 A JP 18790386A JP S6345310 A JPS6345310 A JP S6345310A
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- powder
- molybdenum
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- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- QXYJCZRRLLQGCR-UHFFFAOYSA-N dioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo]=O QXYJCZRRLLQGCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
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Landscapes
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、モリブデン粉末及びその製造方法に関し、特
に、その平均粒度及び粒度分布を向上させたモリブデン
粉末及びその製造方法に関する。
に、その平均粒度及び粒度分布を向上させたモリブデン
粉末及びその製造方法に関する。
平均粒径が０．５〜３．０μｍの微粒粉末であるモリブ
デン粉末は、特にメタライズ用等に多量に用いられるも
のであり、二酸化モリブデン（ＭＯＯ２）を還元して得
ることができる。
デン粉末は、特にメタライズ用等に多量に用いられるも
のであり、二酸化モリブデン（ＭＯＯ２）を還元して得
ることができる。
第５図に示すとおり、従来のモリブデン粉末の製造方法
では、まず、 ＭｏＯ２１の粉末を還元容器（以下デー
ト２と言う）内に充填する。次に加熱部３内にデート２
が連続的に送り込まれると、加熱部３内に水素ガスを水
素ガス注入口４より注入し、水素ガス排出口５から排出
し、同時に５００〜１０００℃の温度に加熱部３内を維
持して、水素雰囲気中での連続還元によりモリブデン金
属を得るものである。
では、まず、 ＭｏＯ２１の粉末を還元容器（以下デー
ト２と言う）内に充填する。次に加熱部３内にデート２
が連続的に送り込まれると、加熱部３内に水素ガスを水
素ガス注入口４より注入し、水素ガス排出口５から排出
し、同時に５００〜１０００℃の温度に加熱部３内を維
持して、水素雰囲気中での連続還元によりモリブデン金
属を得るものである。
しかしながら、従来の製造方法においては、デート内へ
のＭｏ０２粉末の充填量、還元温度、水素流量等を正確
に制御しなければ、微粒で、且つ２粒度分布幅の狭い粉
末を得ることができない問題がある。
のＭｏ０２粉末の充填量、還元温度、水素流量等を正確
に制御しなければ、微粒で、且つ２粒度分布幅の狭い粉
末を得ることができない問題がある。
一
例えば、還元温度が低い場合、還元の際のモリブデン粉
末の凝集塊は比較的少なくなるが、逆に。
末の凝集塊は比較的少なくなるが、逆に。
加熱時間を長くする必要があるためモリブデン粉末中の
酸素含有量が増加してしまい、モリブデン粉末の特性が
却って劣化する欠点がある。
酸素含有量が増加してしまい、モリブデン粉末の特性が
却って劣化する欠点がある。
また、注入する水素流量を多くした場合も、モリブデン
粉末の凝集塊が生じ易くなってしまい。
粉末の凝集塊が生じ易くなってしまい。
その調整が複雑で困難である。
しかも、ボート内にＭｏＯ２粉末を充填して還元するだ
め、水素との接触条件に差違が生じてしまい。
め、水素との接触条件に差違が生じてしまい。
不可避的に充填した層の上層部と下層部とに２粒度２粒
度分布幅及び酸素含有量に品質のパラつきが生じてしま
う欠点がある。
度分布幅及び酸素含有量に品質のパラつきが生じてしま
う欠点がある。
そこで２本発明の目的は上記欠点に鑑み２粒度が均一で
、その粒度分布幅も狭い分散性の良好なモリブデン粉末
及びその製造方法を提供するものである。
、その粒度分布幅も狭い分散性の良好なモリブデン粉末
及びその製造方法を提供するものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明によれば、二酸化モリブデン粉末を、還元して得
られるモリブデン粉末であって、該モリブデン粉末の平
均粒度が０．５〜２．０μｍの微粒粉末であることを特
徴とするモリブデン粉末が得られる。
られるモリブデン粉末であって、該モリブデン粉末の平
均粒度が０．５〜２．０μｍの微粒粉末であることを特
徴とするモリブデン粉末が得られる。
同様に１本発明によれば二酸化モリブデン粉末からなる
原料を落下させる落下工程と、前記原料を落下中に水素
還元させる還元工程とを有することを特徴とするモリブ
デン粉末の製造方法が得られる。
原料を落下させる落下工程と、前記原料を落下中に水素
還元させる還元工程とを有することを特徴とするモリブ
デン粉末の製造方法が得られる。
以下２本発明の実施例について２図面を参照して説明す
る。
る。
第１図に示すとおり、まず落下工程において。
予め用意した二酸化モリブデンＭｏＯ２粉末１をスクリ
ューフィーダ６を介し、傾斜して設置された回転チュー
ブ７内に送り込み２回転チーープ７内で回転落下させる
。同時に還元工程として、加熱器８により回転チューブ
７内を８００〜１０００℃の温度に一定時間維持しつつ
９回転チー−ブ７の先端に設けた水素ガス注入口４より
水素ガスを注入し。
ューフィーダ６を介し、傾斜して設置された回転チュー
ブ７内に送り込み２回転チーープ７内で回転落下させる
。同時に還元工程として、加熱器８により回転チューブ
７内を８００〜１０００℃の温度に一定時間維持しつつ
９回転チー−ブ７の先端に設けた水素ガス注入口４より
水素ガスを注入し。
その後端に設けた水素ガス排出口５から水素ガスを排出
する。このとき、二酸化モリブデンは。
する。このとき、二酸化モリブデンは。
ＭｏＯ２＋２Ｈ２−一→Ｍｏ＋２Ｈ２゜の反応により、
水素雰囲気中で還元され、モリブデンと成る。
水素雰囲気中で還元され、モリブデンと成る。
このため、二酸化モリブデンの個々の粉末粒子は、互い
に充積することなく、各々水素雰囲気中を回転落下して
十分に水素に接触することにより。
に充積することなく、各々水素雰囲気中を回転落下して
十分に水素に接触することにより。
均一に還元されることになる。
従って、還元されたモリブデン粉末は、均一な粒度で、
且つ９粒度分布幅の狭い分散性の良好なものと成る。
且つ９粒度分布幅の狭い分散性の良好なものと成る。
次に、製造条件のうち、還元温度、水素流量。
ＭｏＯ□のチャージ量及び還元時間を変えて２本発明の
製造方法により得られたモリブデン粉末と、従来の方法
により得られたものとの粒度分布の比較を、平均粒度毎
に、第２〜第４図に示す。尚、各図中の（ａ）は従来例
、（ｂ）は本発明による結果を示すグラフである。
製造方法により得られたモリブデン粉末と、従来の方法
により得られたものとの粒度分布の比較を、平均粒度毎
に、第２〜第４図に示す。尚、各図中の（ａ）は従来例
、（ｂ）は本発明による結果を示すグラフである。
第２図に示すとおり、還元温度８３０℃、水素流量８．
０ ｍ３／ Ｈｒ 、 ＭｏＯ２のチャージ量１−０Ｋ
ｇ／Ｈｒ 、還元時間４５分の製造条件によって得られ
た平均粒径０．５μｍのモリブデン粉末の粒度分布を比
較すると。
０ ｍ３／ Ｈｒ 、 ＭｏＯ２のチャージ量１−０Ｋ
ｇ／Ｈｒ 、還元時間４５分の製造条件によって得られ
た平均粒径０．５μｍのモリブデン粉末の粒度分布を比
較すると。
本発明においては、２μｍ以上は殆ど分布せず、一方、
従来例においては、８μｍまで分布が広がっている。
従来例においては、８μｍまで分布が広がっている。
第３図は、平均粒径１．０３ｍのモリブデン粉末の場合
であって９本発明の製造条件は、還元温度９００℃、水
素流量５．０ ｍ３／ Ｈｒ 、 ＭｏＯ２のチャージ
量２．０〜／Ｈｒ、還元時間２４０分とした。本発明に
おいては４μｍ以上は殆ど分布せず、従来例では１２μ
ｍまで分布が広がっている。
であって９本発明の製造条件は、還元温度９００℃、水
素流量５．０ ｍ３／ Ｈｒ 、 ＭｏＯ２のチャージ
量２．０〜／Ｈｒ、還元時間２４０分とした。本発明に
おいては４μｍ以上は殆ど分布せず、従来例では１２μ
ｍまで分布が広がっている。
第４図は平均粒径１．８μｍのモリブデン粉末の場合で
あって２本発明の製造条件は、還元温度１０００℃、水
素流量４．０ ｎｘ３／ Ｈｒ ９Ｍｏ０２のチャージ
量３．０に９／Ｈｒ、還元時間２４０分とした。本発明
においては７μｍ以上は殆ど分布せず、従来例では、１
２μｍまで分布が広がっている。
あって２本発明の製造条件は、還元温度１０００℃、水
素流量４．０ ｎｘ３／ Ｈｒ ９Ｍｏ０２のチャージ
量３．０に９／Ｈｒ、還元時間２４０分とした。本発明
においては７μｍ以上は殆ど分布せず、従来例では、１
２μｍまで分布が広がっている。
以上説明したとおり、不発明によりば、凝集塊のほとん
どない均一な粒度で、且°り、その粒度分布も狭く分散
性の良好なモリブデン粉末が得られる。
どない均一な粒度で、且°り、その粒度分布も狭く分散
性の良好なモリブデン粉末が得られる。
従って、高品質のモリブデン粉末を提供することができ
る。
る。
第１図は本発明に係る製造方法に用いる還元装置の概略
図、第一、第Ｊヤ第４図は本発明方法と従来方法とによ
り得られたモリブデン粉末の粒度分布の比較図、第５図
は、従来方法に用いる還元装置の概略図である。 １・・・原料ＭＯＯ２，２・・・ｙｔｒ−ト、３・・・
加熱部、４・・・水素ガス注入口、５・・・水素ガス排
出口、６・・・スクリューフィーダ、７・・・回転チュ
ーブ、８・・・加熱器。 第１図 第２図 （Ｑ） ＭＯ−ＰＯＷＤＥＲ ＧＲＡＤＥ ＭＯ リュクケイ データ ＷＴ％ ルイセキ２０４−
０ ３１ １９ Ｌう（ａ） ＭＯ−ＰＯＶＩ／ＤＥ日 ０．２−０ ４ ０．４ 代４ （ｂ） ＭＯ−ＰＯＷＯＥＲ （ｂ） ＭＯ−ＰＯＷＤＥＲ ＧＲＡＤＥ ＭＯ
図、第一、第Ｊヤ第４図は本発明方法と従来方法とによ
り得られたモリブデン粉末の粒度分布の比較図、第５図
は、従来方法に用いる還元装置の概略図である。 １・・・原料ＭＯＯ２，２・・・ｙｔｒ−ト、３・・・
加熱部、４・・・水素ガス注入口、５・・・水素ガス排
出口、６・・・スクリューフィーダ、７・・・回転チュ
ーブ、８・・・加熱器。 第１図 第２図 （Ｑ） ＭＯ−ＰＯＷＤＥＲ ＧＲＡＤＥ ＭＯ リュクケイ データ ＷＴ％ ルイセキ２０４−
０ ３１ １９ Ｌう（ａ） ＭＯ−ＰＯＶＩ／ＤＥ日 ０．２−０ ４ ０．４ 代４ （ｂ） ＭＯ−ＰＯＷＯＥＲ （ｂ） ＭＯ−ＰＯＷＤＥＲ ＧＲＡＤＥ ＭＯ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、二酸化モリブデン粉末を、還元して得られるモリブ
デン粉末であって、該モリブデン粉末の平均粒度が０．
５〜２．０μｍの微粒粉末であることを特徴とするモリ
ブデン粉末。 ２、二酸化モリブデン粉末からなる原料を落下させる落
下工程と、前記原料を落下中に水素還元させる還元工程
とを有することを特徴とするモリブデン粉末の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18790386A JPS6345310A (ja) | 1986-08-12 | 1986-08-12 | モリブデン粉末及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18790386A JPS6345310A (ja) | 1986-08-12 | 1986-08-12 | モリブデン粉末及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6345310A true JPS6345310A (ja) | 1988-02-26 |
Family
ID=16214215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18790386A Pending JPS6345310A (ja) | 1986-08-12 | 1986-08-12 | モリブデン粉末及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6345310A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5976217A (en) * | 1995-10-31 | 1999-11-02 | Schwarzkopf Technologies, Corporation | Method for the reduction of metallic compounds |
| US6113668A (en) * | 1996-11-04 | 2000-09-05 | Schwarzkopf Technologies Corp. | Process for manufacture of powder compact feed materials for fine grained hardmetal |
| JP2008285759A (ja) * | 1995-11-27 | 2008-11-27 | Hc Starck Gmbh | 金属粉末造粒物製造方法 |
| CN100464902C (zh) * | 2007-03-19 | 2009-03-04 | 江苏峰峰钨钼制品股份有限公司 | 钼粉钾杂质的除去方法 |
| CN101966593A (zh) * | 2010-11-01 | 2011-02-09 | 金堆城钼业股份有限公司 | 一种亚微米级钼粉生产方法 |
-
1986
- 1986-08-12 JP JP18790386A patent/JPS6345310A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5976217A (en) * | 1995-10-31 | 1999-11-02 | Schwarzkopf Technologies, Corporation | Method for the reduction of metallic compounds |
| JP2008285759A (ja) * | 1995-11-27 | 2008-11-27 | Hc Starck Gmbh | 金属粉末造粒物製造方法 |
| US6113668A (en) * | 1996-11-04 | 2000-09-05 | Schwarzkopf Technologies Corp. | Process for manufacture of powder compact feed materials for fine grained hardmetal |
| CN100464902C (zh) * | 2007-03-19 | 2009-03-04 | 江苏峰峰钨钼制品股份有限公司 | 钼粉钾杂质的除去方法 |
| CN101966593A (zh) * | 2010-11-01 | 2011-02-09 | 金堆城钼业股份有限公司 | 一种亚微米级钼粉生产方法 |
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