JPS634424A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS634424A JPS634424A JP14662986A JP14662986A JPS634424A JP S634424 A JPS634424 A JP S634424A JP 14662986 A JP14662986 A JP 14662986A JP 14662986 A JP14662986 A JP 14662986A JP S634424 A JPS634424 A JP S634424A
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- film
- recording medium
- microprojections
- magnetic recording
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- Pending
Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
本発明は磁気記録媒体の製造方法に係り、特に有機フィ
ルム上に磁性層を蒸着あるいはスパッタにより連続して
形成する磁気記録媒体の製3L7j法に関する。
ルム上に磁性層を蒸着あるいはスパッタにより連続して
形成する磁気記録媒体の製3L7j法に関する。
(従来の技術とその問題点)
近時、磁気記録媒体の高密度化に対する有効な手段とし
て垂直磁化記録方式が開発されている。
て垂直磁化記録方式が開発されている。
この垂直磁化記録方式に用いる磁気記録媒体のうら代表
的なものとして、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレ
ート等の耐熱性の高分子フィルム上にQo−Cr系薄膜
を蒸着あるい1よスパッタリングにより連続的に形成し
て記録磁化層としたものが知られている。
的なものとして、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレ
ート等の耐熱性の高分子フィルム上にQo−Cr系薄膜
を蒸着あるい1よスパッタリングにより連続的に形成し
て記録磁化層としたものが知られている。
このような記録媒磁化層を耐熱性の高分子材お1の表面
に形成する方法としては、第1図に承りような方式が知
られている。
に形成する方法としては、第1図に承りような方式が知
られている。
この方法では、同図に示すように、耐熱性フィルムから
なる基体フィルム1を逆回転する回転ロール2a、2b
の周面に沿わせて通過させ、−方の回転ロール2aを通
過する際、その周面上で片側の表面上にターゲット3a
からGo−Crをスバッタリングし、他方の主回転ロー
ル2bの円面を通過する際、基体フィルム1の反対側の
表面上にターゲット3bから同様にGo−Crをスパッ
タリングして基体フィルムの両面にCo cps膜が
形成される。なお図中4は基体フィルム1の供給ロール
、5は基体フィルム1の巻取ロールでおる。
なる基体フィルム1を逆回転する回転ロール2a、2b
の周面に沿わせて通過させ、−方の回転ロール2aを通
過する際、その周面上で片側の表面上にターゲット3a
からGo−Crをスバッタリングし、他方の主回転ロー
ル2bの円面を通過する際、基体フィルム1の反対側の
表面上にターゲット3bから同様にGo−Crをスパッ
タリングして基体フィルムの両面にCo cps膜が
形成される。なお図中4は基体フィルム1の供給ロール
、5は基体フィルム1の巻取ロールでおる。
しかしながらこのような従来の方法では、基体フィルム
の表面にスリップ傷が発生してこれが磁性層に小ざな傷
を多発さける原因になるうえに、フィルムにしわが発生
して円滑な搬送ができなくなるという問題があった。
の表面にスリップ傷が発生してこれが磁性層に小ざな傷
を多発さける原因になるうえに、フィルムにしわが発生
して円滑な搬送ができなくなるという問題があった。
このようなトラブルを避tプるために基体フィルムの幅
方向の両端部近傍にエンボス加工を施し、この基体フィ
ルムと回転ロール間に空間を作って摩擦力を低下さける
方法が提案されている。
方向の両端部近傍にエンボス加工を施し、この基体フィ
ルムと回転ロール間に空間を作って摩擦力を低下さける
方法が提案されている。
しかしながらこの方法では、エンボス加工の施されたフ
ィルムの両端部がエンボス加工の凹凸により見掛は上厚
くなっているため、フィルムと主回転ロールとの接触具
合がフィルムの中央部とその両端部のかなりの部分て異
なるため、スパッタリングあるいは蒸6によりCo−0
r膜を形成した時、幅方向の1IC1の分4Tが悪くな
るという問題があった。
ィルムの両端部がエンボス加工の凹凸により見掛は上厚
くなっているため、フィルムと主回転ロールとの接触具
合がフィルムの中央部とその両端部のかなりの部分て異
なるため、スパッタリングあるいは蒸6によりCo−0
r膜を形成した時、幅方向の1IC1の分4Tが悪くな
るという問題があった。
(発明が解決しようとする問題点)
このように高密度記録には、垂直磁気記録方式が適して
いるが、基体フィルムの表面を平滑にしていくと、スパ
ッタ装置、おるいは蒸着装置内での円滑な搬送が困難に
なって幅方向の)−I Clの分布が悪くなるという問
題があった。
いるが、基体フィルムの表面を平滑にしていくと、スパ
ッタ装置、おるいは蒸着装置内での円滑な搬送が困難に
なって幅方向の)−I Clの分布が悪くなるという問
題があった。
これは基体フィルムと搬送回転ロールとの摩I寮力が増
大するのが原因と考えられる。
大するのが原因と考えられる。
このような搬送系では、基体フィルムの搬送は基体フィ
ルムと回転ロールとの摩擦を利用して行なっており、−
方、基体フィルムは伸縮性かおるため、伸縮mに幅方向
にむらか生じ、このため基体フィルムは波打らするよう
な状態で搬送され、基体フィルムと回転ロール面との間
で発生する摩擦力にも幅方向にむらが生じ磁化層が不均
一となって幅方向のHClの分イfiか悪くなるのであ
る。
ルムと回転ロールとの摩擦を利用して行なっており、−
方、基体フィルムは伸縮性かおるため、伸縮mに幅方向
にむらか生じ、このため基体フィルムは波打らするよう
な状態で搬送され、基体フィルムと回転ロール面との間
で発生する摩擦力にも幅方向にむらが生じ磁化層が不均
一となって幅方向のHClの分イfiか悪くなるのであ
る。
このような幅方向の摩擦力のむらは負荷が小さい間はほ
とんど問題とならないが負荷が大きくなると、むらの割
合いが各回転ロールで増幅され、ついにはしわになった
り、スリップを発生させるようになる。
とんど問題とならないが負荷が大きくなると、むらの割
合いが各回転ロールで増幅され、ついにはしわになった
り、スリップを発生させるようになる。
本発明は、このような従来の問題を解消すべくなされた
もので、基体フィルムのしわの発生や回転ロールとの間
のスリップを防止し、かつ幅方向のHClの分布の改善
された磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的と
する。
もので、基体フィルムのしわの発生や回転ロールとの間
のスリップを防止し、かつ幅方向のHClの分布の改善
された磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的と
する。
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段)
Vなわら本発明の磁気記録媒体の′!A造方法は、基体
フィルムを回転ロールによって搬送さUながら蒸4ある
いはスパッタによりその表面に磁性層を連続的に形成す
る磁気記録媒体の製造方法において、前記回転ロールの
両端部近傍の周面に微小突起を形成するとともに前記基
体フィルムの幅方向の両端部近傍をこの微小突起上に位
置させて搬送することを特徴としている。
フィルムを回転ロールによって搬送さUながら蒸4ある
いはスパッタによりその表面に磁性層を連続的に形成す
る磁気記録媒体の製造方法において、前記回転ロールの
両端部近傍の周面に微小突起を形成するとともに前記基
体フィルムの幅方向の両端部近傍をこの微小突起上に位
置させて搬送することを特徴としている。
上記の微小突起は、例えば回転ロールの両端部近傍の周
面にホーニング加工等により微小な凹凸を形成し、この
微小凹凸上に平滑な回転ロール面に比べていくらか高く
なるよう金属めっきを施すことにより形成される。
面にホーニング加工等により微小な凹凸を形成し、この
微小凹凸上に平滑な回転ロール面に比べていくらか高く
なるよう金属めっきを施すことにより形成される。
(作 用)
本発明においては、基体フィルムの搬送は、基体フィル
ムと回転ロール聞の1皐vとの外に、微小突起が基体フ
ィルムに食込lυだ状態で回転ロールの張力によっても
行われ、)ユ体フィルムと回転ロールと間のスリップや
基体フィルムの一方のみが引張られ易いトラブルが解消
され、円滑な搬送が可能となって幅方向のHClの分イ
[iが改氾ひhる。
ムと回転ロール聞の1皐vとの外に、微小突起が基体フ
ィルムに食込lυだ状態で回転ロールの張力によっても
行われ、)ユ体フィルムと回転ロールと間のスリップや
基体フィルムの一方のみが引張られ易いトラブルが解消
され、円滑な搬送が可能となって幅方向のHClの分イ
[iが改氾ひhる。
(実施例)
次に本発明の実施例について説明する。
第1図に示したスパッタ装置と同じスパッタ装置の主回
転ロール2a、2bおよび巻取ロール5の両端部の周面
に、第2図および第3図に示1ように、微小突起6を形
成した。
転ロール2a、2bおよび巻取ロール5の両端部の周面
に、第2図および第3図に示1ように、微小突起6を形
成した。
この微小突起6は、各ロール中央部を570z:1残す
ようにマスクしたあと、アルミナおるいはガラスピーズ
等でホーニング加工を施し、しかる後ホーニング加工を
施した部分に1〜2μ■の厚さに(回転ロールの平滑部
分より1〜2μm弱高くなるように)硬質クロムメツキ
を施ずことにより形成した。
ようにマスクしたあと、アルミナおるいはガラスピーズ
等でホーニング加工を施し、しかる後ホーニング加工を
施した部分に1〜2μ■の厚さに(回転ロールの平滑部
分より1〜2μm弱高くなるように)硬質クロムメツキ
を施ずことにより形成した。
次にこのようにして両端部近傍の周面に微小突起6を形
成したロールを使用した、第1図に示したスパッタ装置
を使用して、幅6001m 、厚さ75μm1表面相さ
Ra3OAのポリイミドフィルム上にスパッタリングに
よりCo−Cr膜を形成した。
成したロールを使用した、第1図に示したスパッタ装置
を使用して、幅6001m 、厚さ75μm1表面相さ
Ra3OAのポリイミドフィルム上にスパッタリングに
よりCo−Cr膜を形成した。
なおスパッタリングはポリイミドフィルムに5kBの張
力を与え、主回転ロール2a、2bの温度を130〜1
50’Cに保持しながら行なった。
力を与え、主回転ロール2a、2bの温度を130〜1
50’Cに保持しながら行なった。
この方法で形成された磁気記録フィルムの両端面には微
小突起6によって変形したあとが残っており、微小突起
6かポリイミドフィルムの搬送に寄与していることが認
められた。
小突起6によって変形したあとが残っており、微小突起
6かポリイミドフィルムの搬送に寄与していることが認
められた。
またこの実施例で得た磁気記録媒体の垂直方向の保磁力
HCtも格別変化は生じなかった。
HCtも格別変化は生じなかった。
−方、これとは別に両端部近傍に微小突起を形成しない
点を除いて実施例の各ロールと同一614 Wの各1コ
ールを用いて実施例と同一方法でスパッタリングを行っ
たところ、フィルムの搬送が困f、llで、表面粗さR
a3OAのフィルムではスリップ瘍、しわ等のトラブル
が生じ、磁気特性垂直方向の保磁力1−I Clも低下
した。
点を除いて実施例の各ロールと同一614 Wの各1コ
ールを用いて実施例と同一方法でスパッタリングを行っ
たところ、フィルムの搬送が困f、llで、表面粗さR
a3OAのフィルムではスリップ瘍、しわ等のトラブル
が生じ、磁気特性垂直方向の保磁力1−I Clも低下
した。
[発明の効果]
以上説明したように本発明によれば、搬送する基体フィ
ルムの両端面が、回転ロールの両端部に設けた微小突起
により張力を加えられた状態で1殻送されるので、しわ
の発生や磁気特性の劣化を生ずるようなことなく、磁気
特性の良好な高密度記録媒体を連続的に製造することが
できる。
ルムの両端面が、回転ロールの両端部に設けた微小突起
により張力を加えられた状態で1殻送されるので、しわ
の発生や磁気特性の劣化を生ずるようなことなく、磁気
特性の良好な高密度記録媒体を連続的に製造することが
できる。
第1図は基体フィルム上にスパッタにより磁性層を形成
する状況を承り図、第2図は回転ロールと基体フィルム
の接触状態を示す平面図、第3図はその■−■線に沿う
断面図である。
する状況を承り図、第2図は回転ロールと基体フィルム
の接触状態を示す平面図、第3図はその■−■線に沿う
断面図である。
Claims (2)
- (1)基体フィルムを回転ロールによって搬送させなが
ら蒸着あるいはスパッタによりその表面に磁性層を連続
的に形成する磁気記録媒体の製造方法において、前記回
転ロールの両端部近傍の周面に微小突起を形成するとと
もに前記フィルムの幅方向の両端部近傍をこの微小突起
上に位置させて搬送することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。 - (2)回転ロールの両端部近傍の周面に設けた微小突起
が回転ロールの平滑面よりも高いことを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14662986A JPS634424A (ja) | 1986-06-23 | 1986-06-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14662986A JPS634424A (ja) | 1986-06-23 | 1986-06-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS634424A true JPS634424A (ja) | 1988-01-09 |
Family
ID=15412054
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14662986A Pending JPS634424A (ja) | 1986-06-23 | 1986-06-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS634424A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63213659A (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属薄膜の製造装置 |
JP2016041840A (ja) * | 2014-08-18 | 2016-03-31 | 住友金属鉱山株式会社 | 成膜方法及びそれを用いた金属膜付樹脂フィルムの製造方法 |
-
1986
- 1986-06-23 JP JP14662986A patent/JPS634424A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63213659A (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属薄膜の製造装置 |
JP2016041840A (ja) * | 2014-08-18 | 2016-03-31 | 住友金属鉱山株式会社 | 成膜方法及びそれを用いた金属膜付樹脂フィルムの製造方法 |
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