JPS6339891A - 5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンb誘導体とその製造法 - Google Patents
5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンb誘導体とその製造法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H15/00—Compounds containing hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H15/20—Carbocyclic rings
- C07H15/22—Cyclohexane rings, substituted by nitrogen atoms
- C07H15/222—Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms
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- C07H15/234—Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms with at least two saccharide radicals directly attached to the cyclohexane rings attached to non-adjacent ring carbon atoms of the cyclohexane rings, e.g. kanamycins, tobramycin, nebramycin, gentamicin A2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は新規な半合成アミノ配糖体抗生物質である5−
デオキシ−5−フルオロカナマイシンB及びこれの各種
誘導体並びにこれらの新規化合物の製造法に関する。こ
れらの新規化合物は種々なカナマイシン感受菌およびカ
ナマイシン耐性菌に対して高い抗菌活性を示し、抗菌剤
として有用である。
デオキシ−5−フルオロカナマイシンB及びこれの各種
誘導体並びにこれらの新規化合物の製造法に関する。こ
れらの新規化合物は種々なカナマイシン感受菌およびカ
ナマイシン耐性菌に対して高い抗菌活性を示し、抗菌剤
として有用である。
(従来の技術と発明が解決しようとする問題点)カナマ
イシンA、B及びCから誘導された種々なデオキシ誘導
体が知られている。従来既知の、これらのデオキシカナ
マイシン誘導体は有用な抗菌活性を有するが、抗菌スペ
クトルはさまざまな範囲であり、また新しい耐性菌が出
現してこれに無効になることもあるから、より優れた新
しい抗菌性化合物を創製することは常に要望されている
。
イシンA、B及びCから誘導された種々なデオキシ誘導
体が知られている。従来既知の、これらのデオキシカナ
マイシン誘導体は有用な抗菌活性を有するが、抗菌スペ
クトルはさまざまな範囲であり、また新しい耐性菌が出
現してこれに無効になることもあるから、より優れた新
しい抗菌性化合物を創製することは常に要望されている
。
本発明者は、カナマイシンAの3′位ヒドロキシル基を
フルオロ基で置き換えた誘導体、すなわち3′−デオキ
シ−3′−フルオロカナマイシンAを創製できるならば
、これはカナマイシン耐性菌にも有効である化合物であ
ろうと期待し、これを合成することに成功した(特願昭
59−1.61615号、出願口:昭和59年8月2日
)。
フルオロ基で置き換えた誘導体、すなわち3′−デオキ
シ−3′−フルオロカナマイシンAを創製できるならば
、これはカナマイシン耐性菌にも有効である化合物であ
ろうと期待し、これを合成することに成功した(特願昭
59−1.61615号、出願口:昭和59年8月2日
)。
更に、本発明者は、3′−デオキシ−3′−フルオロカ
ナマイシンBを合成することに成功し、しかもこの新規
化合物が耐性菌を含めて種々なダラム陽性菌、ダラム陰
性菌に対して抗菌活性を有することを認めた(特願昭5
9−262700号明細書参照)。
ナマイシンBを合成することに成功し、しかもこの新規
化合物が耐性菌を含めて種々なダラム陽性菌、ダラム陰
性菌に対して抗菌活性を有することを認めた(特願昭5
9−262700号明細書参照)。
更に、3′−デオキシ−37−フルオロカナマイシンB
の4′−ヒドロキシル基を燐酸化する酵素及び(又は)
アデニル化する酵素を産生ずる耐性菌、例えばスタフィ
ロコカス・アウレウスAp 01及びスタフィロコカス
・エビデルミジス109に対しても有効である3’、4
’−ジデオキシ−3′−フルオロカナマイシンBを合成
することに成功した(特願昭60−188525号)。
の4′−ヒドロキシル基を燐酸化する酵素及び(又は)
アデニル化する酵素を産生ずる耐性菌、例えばスタフィ
ロコカス・アウレウスAp 01及びスタフィロコカス
・エビデルミジス109に対しても有効である3’、4
’−ジデオキシ−3′−フルオロカナマイシンBを合成
することに成功した(特願昭60−188525号)。
また、本発明者らは、これら3′−デオキシ−3′−フ
ルオロカナマイシンA又はBの1位アミノ基を(R5)
−又は(S)−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオン
酸又は(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシ醋酸でアシ
ル化することによって、1−N−(R3)−又は(S)
−3−アミノ−2−ヒドロキシプロオニル)−又は1−
N−((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)
−3′−デオキシ−37−フルオロカナマイシンA又は
Bを新規化合物として製造することに成功し、しかもこ
れら新規化合物が耐性菌を含めて種々なダラム陽性菌、
ダラム陰性菌に対して秀れた抗菌活性を有することを認
めたく特願昭60−76706号明細書参照)。
ルオロカナマイシンA又はBの1位アミノ基を(R5)
−又は(S)−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオン
酸又は(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシ醋酸でアシ
ル化することによって、1−N−(R3)−又は(S)
−3−アミノ−2−ヒドロキシプロオニル)−又は1−
N−((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)
−3′−デオキシ−37−フルオロカナマイシンA又は
Bを新規化合物として製造することに成功し、しかもこ
れら新規化合物が耐性菌を含めて種々なダラム陽性菌、
ダラム陰性菌に対して秀れた抗菌活性を有することを認
めたく特願昭60−76706号明細書参照)。
更に研究の結果、本発明者は、2’、3’−ジデオキシ
−27−フルオロカナマイシンAを初めて合成すること
に成功し、しかもこの新規化合物が耐性菌を含めて種々
なダラム陽性菌、ダラム陰性菌に対して抗菌活性を有す
ることを認めた(特願昭59−263759号明細書参
照)。しかも、本発明者らは、この2’、3’−ジデオ
キシ−27−フルオロカナマイシンAの1位アミノ基を
(R3)−又は(S)−3−アミノ−2−ヒドロキシプ
ロピオン酸又は(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシ酪
酸でアシル化することによって、1−N−(R3)−又
は(S)−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)
−又は1−N−((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシ
ブチリル)−2’、 3’−ジデオキシ−2′−フルオ
ロカナマイシンAを新規化合物として製造することに成
功し、しかもこれら新規化合物が耐性菌を含めて種々な
ダラム陽性菌、ダラム陰性菌に対して秀れた抗菌活性を
有することを認めた(特願昭60−231027号)。
−27−フルオロカナマイシンAを初めて合成すること
に成功し、しかもこの新規化合物が耐性菌を含めて種々
なダラム陽性菌、ダラム陰性菌に対して抗菌活性を有す
ることを認めた(特願昭59−263759号明細書参
照)。しかも、本発明者らは、この2’、3’−ジデオ
キシ−27−フルオロカナマイシンAの1位アミノ基を
(R3)−又は(S)−3−アミノ−2−ヒドロキシプ
ロピオン酸又は(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシ酪
酸でアシル化することによって、1−N−(R3)−又
は(S)−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)
−又は1−N−((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシ
ブチリル)−2’、 3’−ジデオキシ−2′−フルオ
ロカナマイシンAを新規化合物として製造することに成
功し、しかもこれら新規化合物が耐性菌を含めて種々な
ダラム陽性菌、ダラム陰性菌に対して秀れた抗菌活性を
有することを認めた(特願昭60−231027号)。
他方、シソミシン分子中に存在する5位水酸基以外の水
酸基のすべて及びアミノ基のすべてを保護されたシソミ
シン保護誘導体を、ジエチルアミノサルファー・トリフ
ルオライド(以下、DASTと略称する)と反応させて
5位水酸基を弗素で置換し且つ立体配置の反転(inv
ersion)を行わせることにより5−デオキシ−5
−フルオロ−5−エビシソミシン保護誘導体を生成し、
次いでこれから保護基を脱離する方法によって5−デオ
キシ−5−フルオロ−5−エピ−シソミシンを製造する
ことかに、L、Rir+ehart及びT、Suami
W集によるrAminocyclitol Anti
−bioticsJ 、 371−392頁(アメリカ
ン・ケミカル・ソサイエテイ発行、1980年)に記載
されている。
酸基のすべて及びアミノ基のすべてを保護されたシソミ
シン保護誘導体を、ジエチルアミノサルファー・トリフ
ルオライド(以下、DASTと略称する)と反応させて
5位水酸基を弗素で置換し且つ立体配置の反転(inv
ersion)を行わせることにより5−デオキシ−5
−フルオロ−5−エビシソミシン保護誘導体を生成し、
次いでこれから保護基を脱離する方法によって5−デオ
キシ−5−フルオロ−5−エピ−シソミシンを製造する
ことかに、L、Rir+ehart及びT、Suami
W集によるrAminocyclitol Anti
−bioticsJ 、 371−392頁(アメリカ
ン・ケミカル・ソサイエテイ発行、1980年)に記載
されている。
この文献には5−デオキシ−5−フルオロシソミシンも
、その具体的な製造法の(JH示がないけれども。
、その具体的な製造法の(JH示がないけれども。
記載されである。この文献には、各種のシソミシン感受
性細菌及びシソミシン耐性細菌に対する5−エピシソミ
シン、5−デオキシ−5−フルオロ−5−二ピーシソミ
シン及び5−デオキシ−5−フルオロシソミシンの最低
生育阻止濃度の比較が記載されであるが、5−デオキシ
−5−フルオロ−5−エピ−シソミシン及び5−デオキ
シ−5−フルオロ−シソミシンは5−エピシソミシンに
比へてエスシエリシア・コリ(大腸菌)耐性株、クレブ
シェラ・ニューモニア耐性株、シュードモナス・エアロ
ギノサ(緑膿菌)に対して抗菌活性が劣ることが示され
ている。またこの文献には5−デオキシ−5−フルオロ
−5−エピシソミシンはシソミシンに比べて抗菌活性が
ほぼ同等又はそれ以下である旨の記載がある。従って、
この文献の記載からは、シソミシンの5位水酸基を弗素
で置換することによって、シソミシンの抗菌活性を増強
できるとの教示は得られない。
性細菌及びシソミシン耐性細菌に対する5−エピシソミ
シン、5−デオキシ−5−フルオロ−5−二ピーシソミ
シン及び5−デオキシ−5−フルオロシソミシンの最低
生育阻止濃度の比較が記載されであるが、5−デオキシ
−5−フルオロ−5−エピ−シソミシン及び5−デオキ
シ−5−フルオロ−シソミシンは5−エピシソミシンに
比へてエスシエリシア・コリ(大腸菌)耐性株、クレブ
シェラ・ニューモニア耐性株、シュードモナス・エアロ
ギノサ(緑膿菌)に対して抗菌活性が劣ることが示され
ている。またこの文献には5−デオキシ−5−フルオロ
−5−エピシソミシンはシソミシンに比べて抗菌活性が
ほぼ同等又はそれ以下である旨の記載がある。従って、
この文献の記載からは、シソミシンの5位水酸基を弗素
で置換することによって、シソミシンの抗菌活性を増強
できるとの教示は得られない。
また、カナマイシンAから出発して4′−デオキシ−4
1−フルオロ−4″−エピ−カナマイシンAを製造する
ことがrJournal of Carbohydra
teChemistryJ、 1巻289頁(198
2)に記載されているが、この文献にはカナマイシンA
に比べて4“−デオキシ−4′−フルオロ−4′−二ピ
ーカナマイシンAの抗菌活性が弱いことが示されである
。更に。
1−フルオロ−4″−エピ−カナマイシンAを製造する
ことがrJournal of Carbohydra
teChemistryJ、 1巻289頁(198
2)に記載されているが、この文献にはカナマイシンA
に比べて4“−デオキシ−4′−フルオロ−4′−二ピ
ーカナマイシンAの抗菌活性が弱いことが示されである
。更に。
rTetrahedron LettersJ 24巻
、17号、1763−1766頁(1,983)には、
2’、3’、4’、2’、4ζペンタ−0−アセチル−
テトラ−N−第3級ブトキシカルボニルカナマイシンA
をテトラブチルアンモニウム・フルオライドと反応させ
て2’、3’、4’、2’、4ζペンタ−0−アセチル
−テトラ−N−第3級ブトキシカルボニル−6′−デオ
キシ−6ζフルオロカナマイシンAを生成し1次いでこ
れから常法の脱保護法でO−アセチル基及びN−第3級
ブトキシカルボニル基を除去することによって6ζデオ
キシ−6ζフルオロカナマイシンΔを製造すること;前
記の2’、3’、4’、2’、4″′−ペンタ−〇−ア
セチルーテトラーN−第3級ブトキシカルボニル−カナ
マイシンAをDASTと反応させて2/、3L、4/、
2Z4”−ペンタ−0−アセチル−テトラ−N−第3級
ブトキシカルボニル−5,6ζジデオキシ−5,6ζジ
フルオロ−5−エピ−カナマイシンAを生成し、さらに
これから常法で、保護基を除去することによって5,6
′−ジデオキシ−5,6′−ジフルオロ−5−エピ−カ
ナマイシンAを製造すること、また2’、3’、4’、
2“、6′−ペンタ−0−アセチル−テトラ−N−第3
級ブトキシカルボニルカナマイシンAをDASTと反応
させて2’、3’、4’、2′。
、17号、1763−1766頁(1,983)には、
2’、3’、4’、2’、4ζペンタ−0−アセチル−
テトラ−N−第3級ブトキシカルボニルカナマイシンA
をテトラブチルアンモニウム・フルオライドと反応させ
て2’、3’、4’、2’、4ζペンタ−0−アセチル
−テトラ−N−第3級ブトキシカルボニル−6′−デオ
キシ−6ζフルオロカナマイシンAを生成し1次いでこ
れから常法の脱保護法でO−アセチル基及びN−第3級
ブトキシカルボニル基を除去することによって6ζデオ
キシ−6ζフルオロカナマイシンΔを製造すること;前
記の2’、3’、4’、2’、4″′−ペンタ−〇−ア
セチルーテトラーN−第3級ブトキシカルボニル−カナ
マイシンAをDASTと反応させて2/、3L、4/、
2Z4”−ペンタ−0−アセチル−テトラ−N−第3級
ブトキシカルボニル−5,6ζジデオキシ−5,6ζジ
フルオロ−5−エピ−カナマイシンAを生成し、さらに
これから常法で、保護基を除去することによって5,6
′−ジデオキシ−5,6′−ジフルオロ−5−エピ−カ
ナマイシンAを製造すること、また2’、3’、4’、
2“、6′−ペンタ−0−アセチル−テトラ−N−第3
級ブトキシカルボニルカナマイシンAをDASTと反応
させて2’、3’、4’、2′。
6ζペンタ−0−アセチル−1,3,6’−トリーN−
第3級ブトキシカルボニル−3’−N、4ζ0−カルボ
ニル−5−デオキシ−5−フルオロ−5,4′−ジ−エ
ピ−カナマイシンAと共に2’ 、3’ 、4’ 、2
’、6’−ペンタ−0−アセチル−テトラ−第3級ブト
キシカルボニル−5−デオキシ−5−フルオロ−5,4
′−ジ−エピ−カナマイシンAを生成し、次いで後者か
ら保護基を除去することによって5−デオキシ−5−フ
ルオロ−5,4ζジ−エピ−カナマイシンAを製造する
ことが記載される。この文献(rTetrahedro
n LettersJ 24巻17号、 1763−1
766頁(1983))には、前記の61−デオキシ−
6ξフルオロ−カナマイシンA、5.6ξジデオキシ−
5,6′−ジフルオロ−5−エピ−カナマイシンA及び
5〜デオキシ−5−フルオロ−5,4′−ジ−エピ−カ
ナマイシンAはカナマイシンAに比べて抗菌活性がほぼ
同等であることが記載されている。従って、この文献の
記載からは、カナマイシンAの6′位水酸基及び/又は
5位水酸基を弗素で置換することによって、カナマイシ
ンAの抗菌活性を増強できるとの教示は得られない。
第3級ブトキシカルボニル−3’−N、4ζ0−カルボ
ニル−5−デオキシ−5−フルオロ−5,4′−ジ−エ
ピ−カナマイシンAと共に2’ 、3’ 、4’ 、2
’、6’−ペンタ−0−アセチル−テトラ−第3級ブト
キシカルボニル−5−デオキシ−5−フルオロ−5,4
′−ジ−エピ−カナマイシンAを生成し、次いで後者か
ら保護基を除去することによって5−デオキシ−5−フ
ルオロ−5,4ζジ−エピ−カナマイシンAを製造する
ことが記載される。この文献(rTetrahedro
n LettersJ 24巻17号、 1763−1
766頁(1983))には、前記の61−デオキシ−
6ξフルオロ−カナマイシンA、5.6ξジデオキシ−
5,6′−ジフルオロ−5−エピ−カナマイシンA及び
5〜デオキシ−5−フルオロ−5,4′−ジ−エピ−カ
ナマイシンAはカナマイシンAに比べて抗菌活性がほぼ
同等であることが記載されている。従って、この文献の
記載からは、カナマイシンAの6′位水酸基及び/又は
5位水酸基を弗素で置換することによって、カナマイシ
ンAの抗菌活性を増強できるとの教示は得られない。
また、「ケミカル・アブストラクツJ 90.104゜
301(1979)にはカナマイシンAの5位水酸基以
外のアミノ基、水酸基を通常の保護基で保護した誘導体
に対しDASTを反応させることによって5−エピ−5
−フルオロ誘導体を合成し、その保護基を脱離すること
によって、5−デオキシ−5−フルオロ−5−エピ−カ
ナマイシンAを製造する方法が記載されである。しかし
ながら、この文献にはカナマイシンAに比べて5−デオ
キシ−5−フルオロ−5−エピ−カナマイシンAはその
抗菌活性が増強されることが示されてない。
301(1979)にはカナマイシンAの5位水酸基以
外のアミノ基、水酸基を通常の保護基で保護した誘導体
に対しDASTを反応させることによって5−エピ−5
−フルオロ誘導体を合成し、その保護基を脱離すること
によって、5−デオキシ−5−フルオロ−5−エピ−カ
ナマイシンAを製造する方法が記載されである。しかし
ながら、この文献にはカナマイシンAに比べて5−デオ
キシ−5−フルオロ−5−エピ−カナマイシンAはその
抗菌活性が増強されることが示されてない。
前述したように、従来では、シソミシンの5位水酸基を
DASTで処理することにより、立体配置の反転を伴な
い又は伴わずに5位水酸店の弗素で置換を行って得た5
−デオキシ−5−フルオロ−5−エビシソミシン又は5
−デオキシ−5−フルオロシソミシンの場合には、シソ
ミシンの、抗菌活性は有利に増強できないことが認めら
れており、また更に、カナマイシンAの5位水酸基をD
ASTで処理することにより5位の置換基の立体配置の
反転を伴って弗素で置換を行って得た5−デオキシ−5
−フルオロ−5−エピカナマイシンAの場合にも、カナ
マイシンAの抗菌活性は有利に増強できないことが認め
られていた。
DASTで処理することにより、立体配置の反転を伴な
い又は伴わずに5位水酸店の弗素で置換を行って得た5
−デオキシ−5−フルオロ−5−エビシソミシン又は5
−デオキシ−5−フルオロシソミシンの場合には、シソ
ミシンの、抗菌活性は有利に増強できないことが認めら
れており、また更に、カナマイシンAの5位水酸基をD
ASTで処理することにより5位の置換基の立体配置の
反転を伴って弗素で置換を行って得た5−デオキシ−5
−フルオロ−5−エピカナマイシンAの場合にも、カナ
マイシンAの抗菌活性は有利に増強できないことが認め
られていた。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、本発明者らが先に合成した3′−デオキ
シ−3′−フルオロカナマイシンA又はB、3′。
シ−3′−フルオロカナマイシンA又はB、3′。
4′−ジデオキシ−3′−フルオロカナマイシンB及び
2’、3’−ジデオキシ−27−フルオロカナマイシン
Aが夫々に、対応の弗素置換されてない母体化合物に比
べて改善された抗菌活性を示すことをすでに発見した6
シソミシン及びカナマイシンAの場合には、5位水酸基
を弗素で置換しても、抗菌活性の有利な増強が得られな
かった事実を認識しながらも、本発明者らは、カナマイ
シンBから新規化i′!勺として5−デオキシ−5−フ
ルオロカナマイシンBを創製できるならば、5−デオキ
シ−5−フルオロカナマイシンBはカナマイシンBに比
へて有利に増強又は改善された抗菌活性をもつであろう
と期待し、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB
の合成の研究を行った。
2’、3’−ジデオキシ−27−フルオロカナマイシン
Aが夫々に、対応の弗素置換されてない母体化合物に比
べて改善された抗菌活性を示すことをすでに発見した6
シソミシン及びカナマイシンAの場合には、5位水酸基
を弗素で置換しても、抗菌活性の有利な増強が得られな
かった事実を認識しながらも、本発明者らは、カナマイ
シンBから新規化i′!勺として5−デオキシ−5−フ
ルオロカナマイシンBを創製できるならば、5−デオキ
シ−5−フルオロカナマイシンBはカナマイシンBに比
へて有利に増強又は改善された抗菌活性をもつであろう
と期待し、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB
の合成の研究を行った。
上記の5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBは改
善された抗菌活性を示すことができるとの本発明者の期
待は、本発明者が次の着想を得たことに由る。すなわち
、本発明者らは、カナマイシンBの分子が次式(A)で
示される立体構造凸 を取り、デオキシス1へレブタミン部分のエカトリアル
な配置の5位水酸基と2,6−ジアミノ糖部分のエカト
リアルな配置の2′位アミノ基との間には、何らかの相
互作用(水素結合にる吸引作用か又はN。
善された抗菌活性を示すことができるとの本発明者の期
待は、本発明者が次の着想を得たことに由る。すなわち
、本発明者らは、カナマイシンBの分子が次式(A)で
示される立体構造凸 を取り、デオキシス1へレブタミン部分のエカトリアル
な配置の5位水酸基と2,6−ジアミノ糖部分のエカト
リアルな配置の2′位アミノ基との間には、何らかの相
互作用(水素結合にる吸引作用か又はN。
0原子による反′Q)が働いていると考えており、この
相互作用がデオキシストレブタミン部分とこれの4位水
酸基に結合した2、6−ジアミノ糖部分との間の化学結
合の角度、ならびにデオキシストレプタミン部分及び2
,6−ジアミノ糖部分の夫々の回転の自由度等を制約し
てカナ74228分子中の三つの環部分の相対的な立体
位置を大きく決定していると考えている。本発明者らは
5位水酸基をそのエカトリアルな配置を保ったままに、
より電気陰性度の高い弗素原子で置き代えた形の5−デ
オキシ−5−フルオロカナマイシンBを作ったならば。
相互作用がデオキシストレブタミン部分とこれの4位水
酸基に結合した2、6−ジアミノ糖部分との間の化学結
合の角度、ならびにデオキシストレプタミン部分及び2
,6−ジアミノ糖部分の夫々の回転の自由度等を制約し
てカナ74228分子中の三つの環部分の相対的な立体
位置を大きく決定していると考えている。本発明者らは
5位水酸基をそのエカトリアルな配置を保ったままに、
より電気陰性度の高い弗素原子で置き代えた形の5−デ
オキシ−5−フルオロカナマイシンBを作ったならば。
エカトリアルな5位フルオロ基とエカトリアルな2′位
アミノ基との間の相互作用は、カナ74928分子の時
の5位水酸基と2′位アミノ基との間の相互作用と相違
し、これに伴って、カナ74228分子中の3つの環状
部分の相対的な立体位置が変化し、それによって抗菌活
性も影響を受けるから、5−デオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンBはカナマイシンBの抗菌活性に比べて相当
に変化するであろうと着想したのである。そして、今回
、研究の結果、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンBの合成に成功してこの新規化合物の抗菌活性を測定
してカナマイシンBの抗菌活性を比較したところ、5−
デオキシ−5−フルオロカナマイシンBの抗菌活性は実
際に増強されていることを発見したのである。すなわち
5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBはカナマイ
シンBが有効でない大腸菌に−12LA290 R55
(2’−位水酸基をアデニリル化する酵素をもつ耐性菌
)や大腸菌JR225(3位アミノ基をアセチル化する
酵素をもつ耐性)、さらにプロビデンシアPv 16(
2’位のアミノ基をアセチル化する酵素をもつ耐性菌)
に対して有効であった。
アミノ基との間の相互作用は、カナ74928分子の時
の5位水酸基と2′位アミノ基との間の相互作用と相違
し、これに伴って、カナ74228分子中の3つの環状
部分の相対的な立体位置が変化し、それによって抗菌活
性も影響を受けるから、5−デオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンBはカナマイシンBの抗菌活性に比べて相当
に変化するであろうと着想したのである。そして、今回
、研究の結果、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンBの合成に成功してこの新規化合物の抗菌活性を測定
してカナマイシンBの抗菌活性を比較したところ、5−
デオキシ−5−フルオロカナマイシンBの抗菌活性は実
際に増強されていることを発見したのである。すなわち
5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBはカナマイ
シンBが有効でない大腸菌に−12LA290 R55
(2’−位水酸基をアデニリル化する酵素をもつ耐性菌
)や大腸菌JR225(3位アミノ基をアセチル化する
酵素をもつ耐性)、さらにプロビデンシアPv 16(
2’位のアミノ基をアセチル化する酵素をもつ耐性菌)
に対して有効であった。
本発明者らは、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンBを創製する合成方法を研究している過程において、
研究の結果、5位での弗素置換を行うべき中間原料とし
て、カナ74928分子の5位の水酸基以外のすへての
水酸基と、すへてのアミノ基とが保護基で閉塞されであ
るという特別の型式のカナマイシンBのN、O−保護誘
導体が先づ必要であることを認めた。そして、そのよう
な特別の型式のカナマイシンBのN、O−保護体を調製
する方法p研究を続けた。その結果、後述するように各
種の知られたアミノ保護基のうちから、スルホニル型の
アミノ保護基を選び出し、これをカナマイシンBのすべ
てのアミノ基に4人して、アミノ基を保護し、次に、無
水ピリジン中でアシルクロライド、好ましくはアセチル
クロライドを0℃又はそれ以下の低温で反応させて5位
以外の水酸基のすべてをアシル化して保護し;若しくは
先づ2価のヒドロキシ保護基で41−及び6′−位の水
酸基2個を同時に閉塞した後5位以外の水酸基を保護す
るためにヒドロキシル保護基導入剤としてアシルクロラ
イド、アシルアンヒドリド、N−アシル−イミダゾール
を選定された反応条件下に作用させることによって、5
位水酸基のアシル化を伴わずに選択的に3′位、4′位
及び2′位の水酸基のみをアシル化させ、こうして得ら
れた遊離の5位水酸へをもっ3’、4’、2″′、4″
、6#−ペンタ−〇−保護−1.3.2’ 、Ei’
、3ζペンタ−N−保護(スルホニル化)−カナマイシ
ンF3 ?、−収率よく合成することに成功した。
ンBを創製する合成方法を研究している過程において、
研究の結果、5位での弗素置換を行うべき中間原料とし
て、カナ74928分子の5位の水酸基以外のすへての
水酸基と、すへてのアミノ基とが保護基で閉塞されであ
るという特別の型式のカナマイシンBのN、O−保護誘
導体が先づ必要であることを認めた。そして、そのよう
な特別の型式のカナマイシンBのN、O−保護体を調製
する方法p研究を続けた。その結果、後述するように各
種の知られたアミノ保護基のうちから、スルホニル型の
アミノ保護基を選び出し、これをカナマイシンBのすべ
てのアミノ基に4人して、アミノ基を保護し、次に、無
水ピリジン中でアシルクロライド、好ましくはアセチル
クロライドを0℃又はそれ以下の低温で反応させて5位
以外の水酸基のすべてをアシル化して保護し;若しくは
先づ2価のヒドロキシ保護基で41−及び6′−位の水
酸基2個を同時に閉塞した後5位以外の水酸基を保護す
るためにヒドロキシル保護基導入剤としてアシルクロラ
イド、アシルアンヒドリド、N−アシル−イミダゾール
を選定された反応条件下に作用させることによって、5
位水酸基のアシル化を伴わずに選択的に3′位、4′位
及び2′位の水酸基のみをアシル化させ、こうして得ら
れた遊離の5位水酸へをもっ3’、4’、2″′、4″
、6#−ペンタ−〇−保護−1.3.2’ 、Ei’
、3ζペンタ−N−保護(スルホニル化)−カナマイシ
ンF3 ?、−収率よく合成することに成功した。
更に、本発明者らは、上記のカナマイシン■3のN、0
−保護体の5位水酸基の弗素置換には、温和な反応条件
で弗素化効率のよいDAST又はその他のジアルキルア
ミノサルファー・トリフルオロライ1(あるいはビス(
ジアルキルアミノ)サルファー・ジフルオライド(rJ
、 Org、 Chem、J 40. N(15157
4〜578頁(1975))が適当であると知見したけ
れども、これらジアルキルアミノサルファー・トリフル
オライド又はビス(ジアルキルアミノ)サルファー・ジ
フルオライドを前記の3’、4’、2’、47′、6ζ
ペンタ−〇−保護−1.3.2’、6’、3’−ペンタ
−N−保護(スルホニル化)−カナマイシンBと反応さ
せる場合には、弗素置換と同時に5位酸基の立体配置の
反転が避けられずに5−デオキシ−5−フルオロ−5−
二ピーカナマイシンB誘導体を生成して終う欠陥がある
ことに留意した。研究に続けた結果、DASTの如き前
記の弗素化剤でカナマイシンBの保護体の5位の弗素置
換を行うに先立ち、先づ、5位水酸基の立体配置の反転
のみを行って5−エピカナマイシンBの適当なN、O−
保護体を調製し1次いで後者にIIASTの如き前記の
弗素化剤で作用させて5位の弗素置換と5位の2回目の
反転を行い、これによって、エピ体でない所期の5−デ
オキシ−5−フルオロカナマイシンBのN、0−保護誘
導体を調製するという工夫を施せば、目的の達成に成功
することを着想した。研究を続けた結果、前記の3’、
4’、2’、4′、6ζペンタ−〇−保護−1.3.2
’、6’、3“−ペンタ−N−保護(スルホニル化)−
カナマイシンBの5位水酸基の反転を行うには、トリフ
ェニルホスフィンCP(CsHsh)と、ジエチル・ア
ゾジカルボキシレート (C2Hs−02C−N=N−CO□−C2O5)と安
息香酸とを同時に反応させるミツノブ(Mitsuno
bu)反応(0,Mitsunobu、 M、 Yam
ada、 rBull、 Chem、 Soc。
−保護体の5位水酸基の弗素置換には、温和な反応条件
で弗素化効率のよいDAST又はその他のジアルキルア
ミノサルファー・トリフルオロライ1(あるいはビス(
ジアルキルアミノ)サルファー・ジフルオライド(rJ
、 Org、 Chem、J 40. N(15157
4〜578頁(1975))が適当であると知見したけ
れども、これらジアルキルアミノサルファー・トリフル
オライド又はビス(ジアルキルアミノ)サルファー・ジ
フルオライドを前記の3’、4’、2’、47′、6ζ
ペンタ−〇−保護−1.3.2’、6’、3’−ペンタ
−N−保護(スルホニル化)−カナマイシンBと反応さ
せる場合には、弗素置換と同時に5位酸基の立体配置の
反転が避けられずに5−デオキシ−5−フルオロ−5−
二ピーカナマイシンB誘導体を生成して終う欠陥がある
ことに留意した。研究に続けた結果、DASTの如き前
記の弗素化剤でカナマイシンBの保護体の5位の弗素置
換を行うに先立ち、先づ、5位水酸基の立体配置の反転
のみを行って5−エピカナマイシンBの適当なN、O−
保護体を調製し1次いで後者にIIASTの如き前記の
弗素化剤で作用させて5位の弗素置換と5位の2回目の
反転を行い、これによって、エピ体でない所期の5−デ
オキシ−5−フルオロカナマイシンBのN、0−保護誘
導体を調製するという工夫を施せば、目的の達成に成功
することを着想した。研究を続けた結果、前記の3’、
4’、2’、4′、6ζペンタ−〇−保護−1.3.2
’、6’、3“−ペンタ−N−保護(スルホニル化)−
カナマイシンBの5位水酸基の反転を行うには、トリフ
ェニルホスフィンCP(CsHsh)と、ジエチル・ア
ゾジカルボキシレート (C2Hs−02C−N=N−CO□−C2O5)と安
息香酸とを同時に反応させるミツノブ(Mitsuno
bu)反応(0,Mitsunobu、 M、 Yam
ada、 rBull、 Chem、 Soc。
Jpn、J 40巻、 2380頁(1967)参照)
を利用すると効率がよいことを発見した。このミツノブ
反応を利用して、前出のカナマイシンBのN、O−保護
体から5−0−ベンゾイル−5−エピ−3’、4’、2
’、4’、6ζペンタ−〇−保護−1.3.2’、6’
、3’−ペンタ−N−保護(スルホニル化)−力ナマイ
シンBを生成し、次いでこれをすI〜リウム・メチラー
トのメタノール溶液で処理して、5位のエピ−水酸基か
らベンゾイル基を、また3′。
を利用すると効率がよいことを発見した。このミツノブ
反応を利用して、前出のカナマイシンBのN、O−保護
体から5−0−ベンゾイル−5−エピ−3’、4’、2
’、4’、6ζペンタ−〇−保護−1.3.2’、6’
、3’−ペンタ−N−保護(スルホニル化)−力ナマイ
シンBを生成し、次いでこれをすI〜リウム・メチラー
トのメタノール溶液で処理して、5位のエピ−水酸基か
らベンゾイル基を、また3′。
4’、2’、4’、6’位の水酸基上のアシル基を脱離
し。
し。
若しくは3’ 、4’ 、2’位の水酸基上のアシル基
を脱離しく4’、6″′位の水酸基が2価のヒドロキシ
ル暴で保護されである場合)こうして1.3.2’、6
’、3ζペンタ−N−保護−5−エピ−カナマイシンB
、若しくは4″。
を脱離しく4’、6″′位の水酸基が2価のヒドロキシ
ル暴で保護されである場合)こうして1.3.2’、6
’、3ζペンタ−N−保護−5−エピ−カナマイシンB
、若しくは4″。
6′−〇−保護−1.3.2’、6’、3ζペンタ−N
−保護−5−エピ−カナマイシンBを生成し、次いでこ
の5−エピーカナマイシンB保護誘導体を再び前述の要
領でN−アシル−イミダゾール又はその他のアシル化剤
で処理して、5位水酸基のアシル化を伴わずに選択的に
遊離の水酸基のみをアシル化して3’、4’、2“。
−保護−5−エピ−カナマイシンBを生成し、次いでこ
の5−エピーカナマイシンB保護誘導体を再び前述の要
領でN−アシル−イミダゾール又はその他のアシル化剤
で処理して、5位水酸基のアシル化を伴わずに選択的に
遊離の水酸基のみをアシル化して3’、4’、2“。
4“、6ζペンタ−〇−保護−1.3.2’ 、6’
、3”−ペンタ−N−保護(スルホニル化)−5−エピ
−カナマイシンBを調製することに成功した。更に、後
者の化合物をDAST又はその他のジアルキルアミノサ
ルファー・I〜すフルオライドあるいはビス(ジアルキ
ルアミノ)サルファー・ジフルオライト又はこれらと均
等な弗素化剤と反応させて3’、4’、2’、4’、6
’−ペンタ−〇−保護−1.3.2’、6’、3ζペン
タ−N−保護(スルホニル化)−5−デオキシ−5−フ
ルオロ−カナマイシンBを生成し、次いでこれからすへ
てのアミノ保護基及びヒドロキシル保護基を常法で脱離
することによって、カナマイシンBから目的の5−デオ
キシ−5−フルオロ−カナマイシンBを収得することに
成功した。また、ここで合成された5−デオキシ−5−
フルオロカナマイシンBはカナマイシンBに比べて増強
された抗菌活性を有することを知見した。
、3”−ペンタ−N−保護(スルホニル化)−5−エピ
−カナマイシンBを調製することに成功した。更に、後
者の化合物をDAST又はその他のジアルキルアミノサ
ルファー・I〜すフルオライドあるいはビス(ジアルキ
ルアミノ)サルファー・ジフルオライト又はこれらと均
等な弗素化剤と反応させて3’、4’、2’、4’、6
’−ペンタ−〇−保護−1.3.2’、6’、3ζペン
タ−N−保護(スルホニル化)−5−デオキシ−5−フ
ルオロ−カナマイシンBを生成し、次いでこれからすへ
てのアミノ保護基及びヒドロキシル保護基を常法で脱離
することによって、カナマイシンBから目的の5−デオ
キシ−5−フルオロ−カナマイシンBを収得することに
成功した。また、ここで合成された5−デオキシ−5−
フルオロカナマイシンBはカナマイシンBに比べて増強
された抗菌活性を有することを知見した。
更に、カナマイシンBから前述の方法によって5−デオ
キシ−5−フルオロカナマイシンBを合成するに当って
は、前記の5位水酸基の反転を行うミツノブ反応を受け
る3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ−〇−保護−
1.3.2’、6’、3’−ペンタ−N−保護(スルホ
ニル化)−カナマイシンBにおいては、アミノ保護基は
メシル基の如きアルキルスルホニル基、ベンジルスルホ
ニル基の如きアラルキルスルホニル基、トシル基の如き
アリールスルホニル、鳩でないと、ミツノブ反応が円滑
に起らないこと、この際のアミン保護基はトシル基であ
るのが最も好ましいことを知見した。しかしながら、D
ASTの如き前記の弗素化剤との反応でエピ配置の5位
水酸基を弗素置換及び反転させるに当っては、アミノ保
護基はスルホニル型のものでなくとも、反応が十分に進
行することが認められた。従って、前記の324222
4g。
キシ−5−フルオロカナマイシンBを合成するに当って
は、前記の5位水酸基の反転を行うミツノブ反応を受け
る3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ−〇−保護−
1.3.2’、6’、3’−ペンタ−N−保護(スルホ
ニル化)−カナマイシンBにおいては、アミノ保護基は
メシル基の如きアルキルスルホニル基、ベンジルスルホ
ニル基の如きアラルキルスルホニル基、トシル基の如き
アリールスルホニル、鳩でないと、ミツノブ反応が円滑
に起らないこと、この際のアミン保護基はトシル基であ
るのが最も好ましいことを知見した。しかしながら、D
ASTの如き前記の弗素化剤との反応でエピ配置の5位
水酸基を弗素置換及び反転させるに当っては、アミノ保
護基はスルホニル型のものでなくとも、反応が十分に進
行することが認められた。従って、前記の324222
4g。
6ζペンタ−〇−保護−1.3.2’ 、6’ 、3’
−ペンタ−N−保護(スルホニル化)−5−エピ−カナ
マイシンBを液体アンモニア中でアルカリ金属で処理し
、こうしてスルホニル型のアミノ保護基のすべてを除去
して3’、4’、2’、4’、6“−ペンタ−〇−保護
−N−非保護−5−エピーカナマイシンBを調製し、次
いでこの化合物のアミノ基のすべてに任意の公知のアミ
ノ保護基、例えばアシル基、例えばアセチル基の如きア
ルカノイル基、ベンゾイル基の如きアロイル基1、エト
キシカルボニル基又は第3級ブトキシカルボニル基の如
きアルコキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル
基の如きアラルキルオキシカルボニル基、フェノキシカ
ルボニル基の如きアリールオキシカルボニル基、あるい
はシッフ塩基型のアミノ保護基、例えばベンジリデン基
、パラニトロベンジリデン基を常法で導入し、こうして
3/ 、4/。
−ペンタ−N−保護(スルホニル化)−5−エピ−カナ
マイシンBを液体アンモニア中でアルカリ金属で処理し
、こうしてスルホニル型のアミノ保護基のすべてを除去
して3’、4’、2’、4’、6“−ペンタ−〇−保護
−N−非保護−5−エピーカナマイシンBを調製し、次
いでこの化合物のアミノ基のすべてに任意の公知のアミ
ノ保護基、例えばアシル基、例えばアセチル基の如きア
ルカノイル基、ベンゾイル基の如きアロイル基1、エト
キシカルボニル基又は第3級ブトキシカルボニル基の如
きアルコキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル
基の如きアラルキルオキシカルボニル基、フェノキシカ
ルボニル基の如きアリールオキシカルボニル基、あるい
はシッフ塩基型のアミノ保護基、例えばベンジリデン基
、パラニトロベンジリデン基を常法で導入し、こうして
3/ 、4/。
2#、4’、6ζペンタ−〇−保護−1.3.2’、6
’、3’−ペンタ−N−保S<スルホニル化以外の保護
)−5−エピ−カナマイシンBを生成し、この化合物の
5位の水酸基をDASTの如き前記の弗素化剤と反応さ
せ、こうして対応のN、O−保護−5−デオキシ−5−
フルオロカナマイシンBを生成し、後者の化合物から脱
保護することから成る方法によっても、5−デオキシ−
5−フルオロカナマイシンBを合成できることを知見し
た。
’、3’−ペンタ−N−保S<スルホニル化以外の保護
)−5−エピ−カナマイシンBを生成し、この化合物の
5位の水酸基をDASTの如き前記の弗素化剤と反応さ
せ、こうして対応のN、O−保護−5−デオキシ−5−
フルオロカナマイシンBを生成し、後者の化合物から脱
保護することから成る方法によっても、5−デオキシ−
5−フルオロカナマイシンBを合成できることを知見し
た。
従って、例えば、5−エピカナマイシンBの合成を行う
須網らの方法(rBulletin of the C
hemicalSociety of JapanJ5
2巻3号、 955〜956頁(1979) )で中間
体として用いた3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ
−〇−ベンゾイルー1.3.2’、6’、3’−ペンタ
キス−N−(エトキシカルボニル)−5−エピ−カナマ
イシンBも、本発明の方法でDASTの如き前記の弗素
化剤と反応することにより対応のN、O−保3−5−デ
オキシー5−フルオロカナマイシンBに転化できる。
須網らの方法(rBulletin of the C
hemicalSociety of JapanJ5
2巻3号、 955〜956頁(1979) )で中間
体として用いた3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ
−〇−ベンゾイルー1.3.2’、6’、3’−ペンタ
キス−N−(エトキシカルボニル)−5−エピ−カナマ
イシンBも、本発明の方法でDASTの如き前記の弗素
化剤と反応することにより対応のN、O−保3−5−デ
オキシー5−フルオロカナマイシンBに転化できる。
なおまた、前述のようにカナマイシンBに適用した5位
水酸基以外のすべての水酸基の保護方法とアミノ基の保
護方法、及び5位水酸基の反転を行うミツノブ反応、な
らびにDASTの如きジアルキルアミノアルファー・ト
リフルオライド又はビス(ジアルキルアミノ)サルファ
ー・ジフルオライド又はその均等的な弗素化剤でエビ配
置の5位水酸基を弗素化及び反転させる方法を、カナマ
イシンBのデオキシ誘導体である3′−デオキシカナマ
イシンB、4′−デオキシカナマイシンB、3’、4’
−デオキシカナマイシンBに応用できることも知見し、
こうして、3′−デオキシカナマイシンB(すなわちト
ブラマイシン)から5,3′−ジデオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンBを、また4′−デオキシカナマイシン
B (rBull、 Chew、 Soc、 Jpn、
J 50.2362頁(1977)から5,4′−ジデ
オキシ−5−フルオロカナマイシンBを、さらに3’、
4’−ジデオキシカナマイシンB(すなわち、ジベカシ
ン)から5.3’、4’−トリデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンBを創製することに成功し、またこれら三
つの新規化合物が増強された抗菌活性を有することを知
見した。
水酸基以外のすべての水酸基の保護方法とアミノ基の保
護方法、及び5位水酸基の反転を行うミツノブ反応、な
らびにDASTの如きジアルキルアミノアルファー・ト
リフルオライド又はビス(ジアルキルアミノ)サルファ
ー・ジフルオライド又はその均等的な弗素化剤でエビ配
置の5位水酸基を弗素化及び反転させる方法を、カナマ
イシンBのデオキシ誘導体である3′−デオキシカナマ
イシンB、4′−デオキシカナマイシンB、3’、4’
−デオキシカナマイシンBに応用できることも知見し、
こうして、3′−デオキシカナマイシンB(すなわちト
ブラマイシン)から5,3′−ジデオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンBを、また4′−デオキシカナマイシン
B (rBull、 Chew、 Soc、 Jpn、
J 50.2362頁(1977)から5,4′−ジデ
オキシ−5−フルオロカナマイシンBを、さらに3’、
4’−ジデオキシカナマイシンB(すなわち、ジベカシ
ン)から5.3’、4’−トリデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンBを創製することに成功し、またこれら三
つの新規化合物が増強された抗菌活性を有することを知
見した。
しかも、本発明者らは、今回創製された5−デオキシ−
5−フルオロカナマイシンB、5,3′−ジデオキシ−
5−フルオロカナマイシンB、5,47−シデオキシー
5−フルオロカナマイシンB、及び5.3’、4’−ト
リデオキシ−5−フルオロカナマイシンBを夫々、1−
N−(3−アミノ−2−(R5)−又は(S)−ヒドロ
キシプロピオニル)化又は1−N−(4−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシブチリル)化することによって、対
応の1−N−(α−アミノ−ω−アミノアルカノイル)
化誘導体を新規化合物として製造し、しかも後者の1−
N−アシル化誘1体が更に改善された抗菌活性を有する
ことも知見した。上記の本発明者の知見に基づいて、本
発明は完成されたものである。
5−フルオロカナマイシンB、5,3′−ジデオキシ−
5−フルオロカナマイシンB、5,47−シデオキシー
5−フルオロカナマイシンB、及び5.3’、4’−ト
リデオキシ−5−フルオロカナマイシンBを夫々、1−
N−(3−アミノ−2−(R5)−又は(S)−ヒドロ
キシプロピオニル)化又は1−N−(4−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシブチリル)化することによって、対
応の1−N−(α−アミノ−ω−アミノアルカノイル)
化誘導体を新規化合物として製造し、しかも後者の1−
N−アシル化誘1体が更に改善された抗菌活性を有する
ことも知見した。上記の本発明者の知見に基づいて、本
発明は完成されたものである。
従って、第1の本発明によると、次の一般式〔式中、R
は水素原子又は次式 COCH(CR2)n−N R2 H (但し、nは1又は2の整数である)のα−ヒドロキシ
−ω−アミノアルカノイル基であり、A1及びA2は夫
々に、水酸基又は水素原子である〕で示される5−デオ
キシ−5−フルオロカナマイシンB誘導体、及びその酸
付加塩が提供される。
は水素原子又は次式 COCH(CR2)n−N R2 H (但し、nは1又は2の整数である)のα−ヒドロキシ
−ω−アミノアルカノイル基であり、A1及びA2は夫
々に、水酸基又は水素原子である〕で示される5−デオ
キシ−5−フルオロカナマイシンB誘導体、及びその酸
付加塩が提供される。
第一の本発明による一般式(I)の5−デオキシ−5−
フルオロカナマイシンB誘導体の例には、下記の13の
化合物があり、これらの化合物はすべて明確な融点を示
さない塩基性の無色粉末状物質である。以下に、それら
の化合物名を挙げて且つそれら化合物の比旋光度の値を
付す。
フルオロカナマイシンB誘導体の例には、下記の13の
化合物があり、これらの化合物はすべて明確な融点を示
さない塩基性の無色粉末状物質である。以下に、それら
の化合物名を挙げて且つそれら化合物の比旋光度の値を
付す。
(1)5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB(一
般式(I)でRが水素原子でA1及びA2が夫々に水M
基である場合)、(本発明化合物Nα1という)。
般式(I)でRが水素原子でA1及びA2が夫々に水M
基である場合)、(本発明化合物Nα1という)。
(α13’ + 117’ (c O−6,水)。
(2) 5.3’−ジデオキシ−5−フルオロカナマイ
シンBすなわち5−デオキシ−5−フルオロトブラマイ
シン(一般式(1)でR及びA”が水素原子でA2が水
酸基である場合)、(本発明化合物Nα2)。
シンBすなわち5−デオキシ−5−フルオロトブラマイ
シン(一般式(1)でR及びA”が水素原子でA2が水
酸基である場合)、(本発明化合物Nα2)。
〔α〕ら’+124°(c 1.0.水)。
C3) 5.4’−ジデオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB(一般式(1)でR及びA2が水素原子でA1が
水酸基である場合)、(本発明化合物NQ3)。
シンB(一般式(1)でR及びA2が水素原子でA1が
水酸基である場合)、(本発明化合物NQ3)。
〔α〕も’+120°(c 1.0.水)。
(4) 5.3’、4’−トリデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(一般式(I)でR,A1及びA2がす
べて水素原子である場合)、(本発明化合物Nα4)。
カナマイシンB(一般式(I)でR,A1及びA2がす
べて水素原子である場合)、(本発明化合物Nα4)。
[α]5’ + 122°(cl、水)。
(5) 1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロキ
シプロピオニル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマ
イシンB(一般式(T)でRが3−アミノ−2−(S)
−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1及びA2が夫
々に水素基である場合)、(本発明化合物Nn5)。
シプロピオニル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマ
イシンB(一般式(T)でRが3−アミノ−2−(S)
−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1及びA2が夫
々に水素基である場合)、(本発明化合物Nn5)。
〔α〕♂1+83°(cl、水)。
(6) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロキ
シブチリル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンB(一般式(1)でRが4−アミノ−2−(S)−ヒ
ドロキシブチリル基であり、A1及びA2が夫々に水酸
基である場合)、(本発明化合物Nα6)。
シブチリル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンB(一般式(1)でRが4−アミノ−2−(S)−ヒ
ドロキシブチリル基であり、A1及びA2が夫々に水酸
基である場合)、(本発明化合物Nα6)。
〔α〕も5十85°(cl、水)。
(7) 1−N−(3−アミノ−2−(R3)−ヒドロ
キシプロピオニル)−5,3’−ジデオキシ−5−フル
オロカナマイシンB(一般式(I)でRが3−アミノ−
2−(R5)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1
が水素原子でA2が水酸基である場合)、(本発明化合
物N(17)。
キシプロピオニル)−5,3’−ジデオキシ−5−フル
オロカナマイシンB(一般式(I)でRが3−アミノ−
2−(R5)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1
が水素原子でA2が水酸基である場合)、(本発明化合
物N(17)。
〔α〕♂3+75°(cl、水)。
(8) 1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロキ
シプロピオニル)−5,3’−ジデオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンB(一般式(+)でRが3−アミノ−2
−(S)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1が水
素原子でA2が水酸基である場合)、(本発明化合物N
α8)。
シプロピオニル)−5,3’−ジデオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンB(一般式(+)でRが3−アミノ−2
−(S)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1が水
素原子でA2が水酸基である場合)、(本発明化合物N
α8)。
〔α)、 +79°(c 1.0.水)。
(9) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロキ
シブチリル)=5.3′−ジデオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンB (一般式(1)でRが4−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシブチリル八であり、A1が水酸基で
A2が水素原子である場合)、(本発明化合物Nα9)
。
シブチリル)=5.3′−ジデオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンB (一般式(1)でRが4−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシブチリル八であり、A1が水酸基で
A2が水素原子である場合)、(本発明化合物Nα9)
。
〔α)o + 77’(c 3−0.水)。
(10) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシブチリル)−5,4’−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(一般式(1)でRが4−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシブチリル基であり、A1が水酸基で
A2が水素原子である場合)、(本発明化合物Nα10
)。
キシブチリル)−5,4’−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(一般式(1)でRが4−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシブチリル基であり、A1が水酸基で
A2が水素原子である場合)、(本発明化合物Nα10
)。
〔α〕♂5+82°(C1,水)。
(11) 1−N−(3−アミノ−2−(R3)−ヒド
ロキシプロピオニル)−5,3’ 、4’−)−リゾオ
キシ−5−フルオロカナマイシンB(一般式(1)でR
が3−アミノ−2−(RS)−ヒドロキシプロピオニル
基であり、A1及びA2が夫々に水素原子である場合)
、(本発明化合物k 11 )。
ロキシプロピオニル)−5,3’ 、4’−)−リゾオ
キシ−5−フルオロカナマイシンB(一般式(1)でR
が3−アミノ−2−(RS)−ヒドロキシプロピオニル
基であり、A1及びA2が夫々に水素原子である場合)
、(本発明化合物k 11 )。
〔α〕ら5+82°(cl、水)。
(12) 1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒド
ロキシプロピオニル)−5,3’、4’−トリデオキシ
−5−フルオロカナマイシンB(一般式(1)でRが3
−アミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル基であ
り、A1及びA2が水素原子である場合)、(本発明化
合物Nα12)。
ロキシプロピオニル)−5,3’、4’−トリデオキシ
−5−フルオロカナマイシンB(一般式(1)でRが3
−アミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル基であ
り、A1及びA2が水素原子である場合)、(本発明化
合物Nα12)。
〔α〕も5+82°(cl、水)。
(13) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシブチリル)−5,3’ 、4’−トリデオキシ−5
−フルオロカナマイシンB(一般式(I)でRが4−ア
ミノ−2−(S)−ヒドロキシブチリル基であり、A1
及びA2が夫々に水素原子である場合)、(本発明化合
物Nα13)。
キシブチリル)−5,3’ 、4’−トリデオキシ−5
−フルオロカナマイシンB(一般式(I)でRが4−ア
ミノ−2−(S)−ヒドロキシブチリル基であり、A1
及びA2が夫々に水素原子である場合)、(本発明化合
物Nα13)。
〔α〕も’+83’(c 1.水)。
本発明による一般式(1)の化合物の抗菌活性は、各種
の細菌に対する最低生育阻止濃度(MIC,mc4/+
J)を倍数希釈法で測定することによって調べた。
の細菌に対する最低生育阻止濃度(MIC,mc4/+
J)を倍数希釈法で測定することによって調べた。
測定された本発明の化合物Nα1〜化合物Nα13の抗
菌スペクトルは第1表に示す通りである。比較のため、
カナマイシンB (KMBと略記)、3′−デオキシカ
ナマイシンBすなわちトブラマイシン(TMBと略記)
、3’、4’−ジデオキシカナマイシンBすなわちジベ
カシン(DKBと略記)、及び1−N−(4−アミノ−
2−(S)−ヒドロキシブチリル)−カナマイシンAす
なわちアミカシン(AMKと略記)の抗菌スペクトルを
同様に測定して第1表に示す。
菌スペクトルは第1表に示す通りである。比較のため、
カナマイシンB (KMBと略記)、3′−デオキシカ
ナマイシンBすなわちトブラマイシン(TMBと略記)
、3’、4’−ジデオキシカナマイシンBすなわちジベ
カシン(DKBと略記)、及び1−N−(4−アミノ−
2−(S)−ヒドロキシブチリル)−カナマイシンAす
なわちアミカシン(AMKと略記)の抗菌スペクトルを
同様に測定して第1表に示す。
本発明による一般式(r)の化合物は、透射の塩基また
は水和物または炭酸塩の形で得られるが、通常の方法に
より薬学的にeF容できる酸付加塩とすることができる
。酸付加塩としては、例えば塩酸、硫酸、燐酸、硝酸な
どの薬学的に許容できる無機酸あるいは酢酸、リンゴ酸
、クエン酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸などの
薬学的に許容できる有機酸との塩がある。
は水和物または炭酸塩の形で得られるが、通常の方法に
より薬学的にeF容できる酸付加塩とすることができる
。酸付加塩としては、例えば塩酸、硫酸、燐酸、硝酸な
どの薬学的に許容できる無機酸あるいは酢酸、リンゴ酸
、クエン酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸などの
薬学的に許容できる有機酸との塩がある。
本発明による一般式(1)の化合物又はこれの酸付加塩
は、薬学的に許容できる液体又は固体担体と配合して抗
菌剤組成物に調合できる。
は、薬学的に許容できる液体又は固体担体と配合して抗
菌剤組成物に調合できる。
第1表の抗菌データから判るように、本発明による一般
式(1)の化合物は高い抗菌活性を及ぼす細菌が多種に
わたっており1幅広い抗菌スペクトルを有する。しかも
、マウスに対して極めて低い急性毒性を示すことが認め
られ、例えば本発明化合物Na 1、Ha 2、Nc1
3の夫々の150+I1g/kgを経口投与してもマウ
ス金側が生存した。
式(1)の化合物は高い抗菌活性を及ぼす細菌が多種に
わたっており1幅広い抗菌スペクトルを有する。しかも
、マウスに対して極めて低い急性毒性を示すことが認め
られ、例えば本発明化合物Na 1、Ha 2、Nc1
3の夫々の150+I1g/kgを経口投与してもマウ
ス金側が生存した。
本発明による一般式(1)の化合物のうち、式中のRが
水素原子である場合の化合物の製造について、第2の本
発明によると、次の一般式〔式中、A3及びA4は夫々
に保護された水酸基−〇G(但しGはヒドロキシル保護
基としてのアシル基である)又は水素原子であり、Bは
アミン保護基であり、E及びElは夫々にヒドロキシル
保護基としての前記の6と同じアシル基であるか、若し
くはE及びE′は共同して1個の2価のヒドロキシル保
護基を形成するものであり、2′位水酸基上の基Gはヒ
ドロキシル保護基として前記のGと同じアシル基である
〕で示されるN、O−保護された5−エピカナマイシン
B誘導体を非極性有機溶媒中で次式〔式中、R1は炭素
数1〜4のアルキル基である〕のジアルキルアミノサル
ファー・トリフルオライド又は次式 %式%) 〔式中、R”は前記と同し意味をもつ〕のビス(ジアル
キルアミノ)サルファー・ジフルオライト又はこれらと
均等な弗素化剤と反応させて、式(II)の化合物の5
位にあるエピ−ヒドロキシル基の立体配置の反転と弗素
置換反応とを起させ、これによりりb (式中、A3. A’、 B、 E、 El及びGは前
記と同じ意味をもつ)で示されるN、O−保護された5
−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB誘導体を生成
させ、次いでこの式(IV)の化合物から残留のアミノ
保護基(B)及びヒドロキシル保護基(E、 El及び
G)を常法で脱離させることを特徴とする、次の一般式
(式中、A1及びA2は夫々に、水酸基又は水素原子で
ある)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB誘導体の製造法が提供される。
水素原子である場合の化合物の製造について、第2の本
発明によると、次の一般式〔式中、A3及びA4は夫々
に保護された水酸基−〇G(但しGはヒドロキシル保護
基としてのアシル基である)又は水素原子であり、Bは
アミン保護基であり、E及びElは夫々にヒドロキシル
保護基としての前記の6と同じアシル基であるか、若し
くはE及びE′は共同して1個の2価のヒドロキシル保
護基を形成するものであり、2′位水酸基上の基Gはヒ
ドロキシル保護基として前記のGと同じアシル基である
〕で示されるN、O−保護された5−エピカナマイシン
B誘導体を非極性有機溶媒中で次式〔式中、R1は炭素
数1〜4のアルキル基である〕のジアルキルアミノサル
ファー・トリフルオライド又は次式 %式%) 〔式中、R”は前記と同し意味をもつ〕のビス(ジアル
キルアミノ)サルファー・ジフルオライト又はこれらと
均等な弗素化剤と反応させて、式(II)の化合物の5
位にあるエピ−ヒドロキシル基の立体配置の反転と弗素
置換反応とを起させ、これによりりb (式中、A3. A’、 B、 E、 El及びGは前
記と同じ意味をもつ)で示されるN、O−保護された5
−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB誘導体を生成
させ、次いでこの式(IV)の化合物から残留のアミノ
保護基(B)及びヒドロキシル保護基(E、 El及び
G)を常法で脱離させることを特徴とする、次の一般式
(式中、A1及びA2は夫々に、水酸基又は水素原子で
ある)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB誘導体の製造法が提供される。
この第2の本発明の方法に出発化合物として用いる式(
n)のN、O−保護された5−エピカナマイシン■3誘
導体の調製法は、本明3111書では後に詳しく説明す
る。
n)のN、O−保護された5−エピカナマイシン■3誘
導体の調製法は、本明3111書では後に詳しく説明す
る。
式(II)の出発化合物において、1位、3位、2′位
、6′位及び3”位の5個のアミノ基は反応に関与しな
い何れか既知のアミノ保護基、例えばアセチル基、トリ
フルオロアセチル井の如きアルカノイル基。
、6′位及び3”位の5個のアミノ基は反応に関与しな
い何れか既知のアミノ保護基、例えばアセチル基、トリ
フルオロアセチル井の如きアルカノイル基。
ベンゾイル基の如きアロイル基などのアシル基、さらに
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブ1−
キシカルボニル基の如きアルコキシカルボニル基;ベン
ジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル
基の如きアラルキルオキシカルボニル基、又はフェノキ
シカルボニル基又はメトキシフェノキシカルボニル基の
如きアリールオキシカルボニル基、若しくはスルホニル
基の形の保3基例えばアルキルスルホニル基、ベンジル
スルホニル基の如きアラルキルスルホニル基、トシル基
の如きアリールスルホニル基であることができる。
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブ1−
キシカルボニル基の如きアルコキシカルボニル基;ベン
ジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル
基の如きアラルキルオキシカルボニル基、又はフェノキ
シカルボニル基又はメトキシフェノキシカルボニル基の
如きアリールオキシカルボニル基、若しくはスルホニル
基の形の保3基例えばアルキルスルホニル基、ベンジル
スルホニル基の如きアラルキルスルホニル基、トシル基
の如きアリールスルホニル基であることができる。
式(II)の出発化合物の3′位及び/又は4′位に水
酸基(A’及び/又はA’)がある場合には、3′−水
酸基及び/又は4′−水酸基並びに2′位水酸基はアシ
ル基、好ましくはアルカノイル基又は70イル基から選
ばれる公知のヒドロキシル保護基(G)で保護されてい
ることが必要である。また、4′位及び6′位の水酸基
も同様にアシル基、好ましくはアルカノイル基又はアロ
イル基から選ばれる公知のヒドロキシル保護基(E、E
”)で保護されていることが必要である。このヒドロキ
シル保護用のアシル基はアルカノイル基であることがで
き、例えば炭素数2〜5個のアルカノイル基、例えばア
セチル基、プロピオニル基、ブチリル基、等が適当に用
いられる。前記のアシル基はアロイル基であることもで
き、このアロイル基としては、フェニル核上にアルキル
置換基をもち得るフェニルカルボニル基。
酸基(A’及び/又はA’)がある場合には、3′−水
酸基及び/又は4′−水酸基並びに2′位水酸基はアシ
ル基、好ましくはアルカノイル基又は70イル基から選
ばれる公知のヒドロキシル保護基(G)で保護されてい
ることが必要である。また、4′位及び6′位の水酸基
も同様にアシル基、好ましくはアルカノイル基又はアロ
イル基から選ばれる公知のヒドロキシル保護基(E、E
”)で保護されていることが必要である。このヒドロキ
シル保護用のアシル基はアルカノイル基であることがで
き、例えば炭素数2〜5個のアルカノイル基、例えばア
セチル基、プロピオニル基、ブチリル基、等が適当に用
いられる。前記のアシル基はアロイル基であることもで
き、このアロイル基としては、フェニル核上にアルキル
置換基をもち得るフェニルカルボニル基。
好ましくはベンゾイル基を用い得る。4″位水酸基を保
護する保護基(El)と6′位水酸基を保護する保護基
(E)とは、両者が共同して公知の2価のヒドロキシル
保護基の1個であることができ、例えば炭素数2〜8個
のアルキリデン基、例えばエチリデン基及びイソプロピ
リデン基、若しくはシクロアルキリデン基例えばシクロ
へキシリデン基、若しくはテトラヒドロビラニリデン基
であることができる。保護基E1及びEは共同して1個
のインプロピリデン基又はシクロへキシリデン基である
のが便利である。
護する保護基(El)と6′位水酸基を保護する保護基
(E)とは、両者が共同して公知の2価のヒドロキシル
保護基の1個であることができ、例えば炭素数2〜8個
のアルキリデン基、例えばエチリデン基及びイソプロピ
リデン基、若しくはシクロアルキリデン基例えばシクロ
へキシリデン基、若しくはテトラヒドロビラニリデン基
であることができる。保護基E1及びEは共同して1個
のインプロピリデン基又はシクロへキシリデン基である
のが便利である。
弗素化剤として用いられる式(m)のジアルキルサルフ
ァー・1〜リフリオライドの例には、ジメチルサルファ
ー・トリフルオライド、ジエチルサルファー・トリフル
オライド、及びジプロピルサルファー・トリフルオライ
ド等がある。また、式(m′)のビス(ジアルキルアミ
ノ)サルファー・ジフルオライドの例には、ビス(ジメ
チルアミノ)サルファー・ジフルオライド又はビス(ジ
エチルアミノ)サルファー・ジフルオライドがある。こ
れらは公知の弗素化剤である(rJ、 Org、 Ch
em、J 40゜Nα5.574〜578頁(1975
)参照)。
ァー・1〜リフリオライドの例には、ジメチルサルファ
ー・トリフルオライド、ジエチルサルファー・トリフル
オライド、及びジプロピルサルファー・トリフルオライ
ド等がある。また、式(m′)のビス(ジアルキルアミ
ノ)サルファー・ジフルオライドの例には、ビス(ジメ
チルアミノ)サルファー・ジフルオライド又はビス(ジ
エチルアミノ)サルファー・ジフルオライドがある。こ
れらは公知の弗素化剤である(rJ、 Org、 Ch
em、J 40゜Nα5.574〜578頁(1975
)参照)。
式(II)の出発化合物と式(III)又は(■′)の
弗素化剤との反応は、非極性の有機溶媒、例えばベンゼ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、あるいはグロロメタ
ン、ジクロロメタン、クロロホルムの如き塩素化炭化水
素中で一70℃〜+50℃の範囲の温度で、好ましくは
室温で無水の条件下で実施できる。式(■)の出発化合
物の1モル当りに式(m)のの弗素化剤は1〜10モル
の量で用いるのがよい6酸結合剤としてアミン類、例え
ば第3級アルキルアミン又はピリジンを反応混合物中に
存在させるのがよい。
弗素化剤との反応は、非極性の有機溶媒、例えばベンゼ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、あるいはグロロメタ
ン、ジクロロメタン、クロロホルムの如き塩素化炭化水
素中で一70℃〜+50℃の範囲の温度で、好ましくは
室温で無水の条件下で実施できる。式(■)の出発化合
物の1モル当りに式(m)のの弗素化剤は1〜10モル
の量で用いるのがよい6酸結合剤としてアミン類、例え
ば第3級アルキルアミン又はピリジンを反応混合物中に
存在させるのがよい。
なお、式(n)の化合物の5位水酸基の反転を伴う弗素
化には、上述のDASTで代表される方法の外に、まづ
5位水酸基をスルホニル化1例えばメシル化又はトリフ
ルオロメチルスルホニル化の如きアルキルスルホニル化
、ベンジルスルホニル化の如きアラルキルスルホニル化
(トシル化の如きアリールスルホニル化は困難である)
を行なって後、通常の弗素化試薬、たとえばテトラブチ
ルアンモニウム・フルオライドの如きテトラアルキルア
ンモニウム・フルオライド、弗化カリウム、弗化セシウ
ム等を作用せしめて5位のスルホニルオキシ基を脱離せ
しめると同時に弗素化を行なうこともできる。この際ス
ルホニル化反応はピリジンの如き溶媒に化合物(II)
を溶解せしめ、これに上述のアルキルスルホニル、アラ
ルキルスルホニル、ハロゲニドたとえばメチルスルホニ
ルク・ロリド、ベンジルスルホニルクロリド又は相当す
る無水物を1〜10モル相当址加え、−20’〜100
℃の範囲の温度で、好ましくは室温で、無水の条件で行
いうる。
化には、上述のDASTで代表される方法の外に、まづ
5位水酸基をスルホニル化1例えばメシル化又はトリフ
ルオロメチルスルホニル化の如きアルキルスルホニル化
、ベンジルスルホニル化の如きアラルキルスルホニル化
(トシル化の如きアリールスルホニル化は困難である)
を行なって後、通常の弗素化試薬、たとえばテトラブチ
ルアンモニウム・フルオライドの如きテトラアルキルア
ンモニウム・フルオライド、弗化カリウム、弗化セシウ
ム等を作用せしめて5位のスルホニルオキシ基を脱離せ
しめると同時に弗素化を行なうこともできる。この際ス
ルホニル化反応はピリジンの如き溶媒に化合物(II)
を溶解せしめ、これに上述のアルキルスルホニル、アラ
ルキルスルホニル、ハロゲニドたとえばメチルスルホニ
ルク・ロリド、ベンジルスルホニルクロリド又は相当す
る無水物を1〜10モル相当址加え、−20’〜100
℃の範囲の温度で、好ましくは室温で、無水の条件で行
いうる。
さらにこの5−0−スルホニル化合物の弗素化はエーテ
ル、テ1−ラヒドロフラン、アセ1−二トリル、ジメチ
ルホルムアミド、スルホラン、ヘキサメチルホスホリッ
ク1−リアミドの如き溶媒も、テトラエチル−又はテト
ラブチルアンモニウム・フルオライド、セシウムフルオ
ライド、各種のクラウンエーテルを含めたカリウムフル
オライド等の如き弗素化試薬を過剰に加え、0°〜15
0℃の範囲の温度で行いうる。
ル、テ1−ラヒドロフラン、アセ1−二トリル、ジメチ
ルホルムアミド、スルホラン、ヘキサメチルホスホリッ
ク1−リアミドの如き溶媒も、テトラエチル−又はテト
ラブチルアンモニウム・フルオライド、セシウムフルオ
ライド、各種のクラウンエーテルを含めたカリウムフル
オライド等の如き弗素化試薬を過剰に加え、0°〜15
0℃の範囲の温度で行いうる。
前記の5位水酸基を弗素化する反応の終了後は、反応液
を炭酸アルカリ金属又は炭酸水素アルキリ金かの水溶液
、好ましくは炭酸水素す1〜リウムの水溶液に加えて、
酸性の成分を中和し、その混合物をクロロホルムで抽出
し、その抽出液を水洗及び乾燥し、更に抽出液からクロ
ロホルムを減圧下に留去すると、前記の式(TV)で示
されるN、叶保護された5−デオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンB誘導体が固体として得られる。
を炭酸アルカリ金属又は炭酸水素アルキリ金かの水溶液
、好ましくは炭酸水素す1〜リウムの水溶液に加えて、
酸性の成分を中和し、その混合物をクロロホルムで抽出
し、その抽出液を水洗及び乾燥し、更に抽出液からクロ
ロホルムを減圧下に留去すると、前記の式(TV)で示
されるN、叶保護された5−デオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンB誘導体が固体として得られる。
式(TV)の化合物に残留するアミノ保護基(B)、な
らびにヒドロキシル保護基(E、 E’及びG)は、公
知の脱保護法で脱離できる。アルコキシカルボニル基又
はアリールオキシカルボニル基型のアミノ保護基はアル
カリ加水分解により、またアラルキルオキシカルボニル
基型のアミノ保護基はアルカリ加水分解又は還元により
脱離できる。スルホニル基型のアミノ保護基は1式(r
V)の化合物を液体アンモニア中で金属ナトリウムで処
理することによって公知の方法で脱離できる(例えば英
国特許第1555661号、特公昭60−29720号
明細書参照)。せた、アシル型のヒドロキシル保護基(
E、El、G)は水酸化アルカリ金属、例えば水酸化ナ
トリウムの水溶液中で加水分解することによって脱離で
きる。
らびにヒドロキシル保護基(E、 E’及びG)は、公
知の脱保護法で脱離できる。アルコキシカルボニル基又
はアリールオキシカルボニル基型のアミノ保護基はアル
カリ加水分解により、またアラルキルオキシカルボニル
基型のアミノ保護基はアルカリ加水分解又は還元により
脱離できる。スルホニル基型のアミノ保護基は1式(r
V)の化合物を液体アンモニア中で金属ナトリウムで処
理することによって公知の方法で脱離できる(例えば英
国特許第1555661号、特公昭60−29720号
明細書参照)。せた、アシル型のヒドロキシル保護基(
E、El、G)は水酸化アルカリ金属、例えば水酸化ナ
トリウムの水溶液中で加水分解することによって脱離で
きる。
ヒドロキシ保護基E1及びEがアルキリデン基、シクロ
アルキリデン基又はテトラヒドロピラニリデン基の形で
ある場合には、無機酸、有機酸又は強酸性のカチオン交
換樹脂、例えばスルホン酸基含有のカチオン交換樹脂の
存在下に加水分解することによって脱離できる(例えば
英国特許第2043634B号明細書参照)。
アルキリデン基又はテトラヒドロピラニリデン基の形で
ある場合には、無機酸、有機酸又は強酸性のカチオン交
換樹脂、例えばスルホン酸基含有のカチオン交換樹脂の
存在下に加水分解することによって脱離できる(例えば
英国特許第2043634B号明細書参照)。
こうして式(TV)の化合物から残留の保護基のすべて
を除去すると、目的とする前記の(Ia)の化合物が生
成される。式(Ia)の目的化合物を単離、精製するに
は、CM−セファデックスC−25の如き分子篩剤を用
いてアンモニア水で勾配溶出するクロマトグラフィ法が
適する。
を除去すると、目的とする前記の(Ia)の化合物が生
成される。式(Ia)の目的化合物を単離、精製するに
は、CM−セファデックスC−25の如き分子篩剤を用
いてアンモニア水で勾配溶出するクロマトグラフィ法が
適する。
更に、本発明による一般式(I)の化合物のうち、人中
のRがα−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノイル基であ
る場合の化合物の製造について、第3の本発明によると
、次の一般式 (式中、A1及びA2は夫々に、水酸基又は水素原子で
ある)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB誘導体、あるいはこの式(Ia)の化合物の1位
アミノ基以外のアミノ基の一部又は全部をアミノ保護基
で保護された保護誘導体の1位アミノ基を、次の一般式 〔式中、nは1又は2の整数である〕で示されるα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこのアミノアルカ
ン酸のアミノ基をアミノ保護基で保護された保護誘導体
、あるいはこれらの反応性誘導体と反応させ、こうして
得られた1−N−アシル化反応生成物から、残留したア
ミノ保護基がある場合には、アミノ保護基を次いで脱離
させることから成る、次の一般式 C式中、A1、A2及びnは前記の意味を有する〕でで
示される1−N−(α−ヒドロキシキーω−アミノアル
カノイル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシン
B誘導体の製造法が提供される。
のRがα−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノイル基であ
る場合の化合物の製造について、第3の本発明によると
、次の一般式 (式中、A1及びA2は夫々に、水酸基又は水素原子で
ある)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB誘導体、あるいはこの式(Ia)の化合物の1位
アミノ基以外のアミノ基の一部又は全部をアミノ保護基
で保護された保護誘導体の1位アミノ基を、次の一般式 〔式中、nは1又は2の整数である〕で示されるα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこのアミノアルカ
ン酸のアミノ基をアミノ保護基で保護された保護誘導体
、あるいはこれらの反応性誘導体と反応させ、こうして
得られた1−N−アシル化反応生成物から、残留したア
ミノ保護基がある場合には、アミノ保護基を次いで脱離
させることから成る、次の一般式 C式中、A1、A2及びnは前記の意味を有する〕でで
示される1−N−(α−ヒドロキシキーω−アミノアル
カノイル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシン
B誘導体の製造法が提供される。
第3の本発明の方法において、一般式には、式(Ia)
の出発化合物の1位アミノ基以外のアミノ基のすべで又
は一部を保護するアミノ保護、1□(としては、通常の
アミノ保護基が使用される。例えば。
の出発化合物の1位アミノ基以外のアミノ基のすべで又
は一部を保護するアミノ保護、1□(としては、通常の
アミノ保護基が使用される。例えば。
第三ブトキシカルボニル基、第三アミロキシカルボニル
基などのアルコキシカルボニル栽、シクロへキシルオキ
シカルボニル基などのシクロアルキルオキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル基などのアラルキルオキ
シカルボニル基、トリフルオロアセチル基、オルト−ニ
トロフェノキシアセチル基などの、加水分解で脱離し品
い置換された低級アルカノイル基、ジフェニルホスフィ
ノチオイル基、ジメチルホスフィノチオイル基などのホ
スフィノチオイル基、ジフェニルホスフィニル基などの
ホスフィニル基の如き一価のアミノ保護基が用いられる
。また二価のアミノ保護基としてはフタロイル基を用い
ることができ、また式([r)の出発化合物の1位アミ
ノ基以外のアミノ基は、これをシッフ塩基の形にして保
護することもできる。これらのアミノ保護基の導入はペ
プチド合成等で公知の方法により、例えば酸ハライド、
酸アジド、活性エステル、酸無水物などのアシル化剤の
形で公知のアミノ保護基導入剤を用いることができる。
基などのアルコキシカルボニル栽、シクロへキシルオキ
シカルボニル基などのシクロアルキルオキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル基などのアラルキルオキ
シカルボニル基、トリフルオロアセチル基、オルト−ニ
トロフェノキシアセチル基などの、加水分解で脱離し品
い置換された低級アルカノイル基、ジフェニルホスフィ
ノチオイル基、ジメチルホスフィノチオイル基などのホ
スフィノチオイル基、ジフェニルホスフィニル基などの
ホスフィニル基の如き一価のアミノ保護基が用いられる
。また二価のアミノ保護基としてはフタロイル基を用い
ることができ、また式([r)の出発化合物の1位アミ
ノ基以外のアミノ基は、これをシッフ塩基の形にして保
護することもできる。これらのアミノ保護基の導入はペ
プチド合成等で公知の方法により、例えば酸ハライド、
酸アジド、活性エステル、酸無水物などのアシル化剤の
形で公知のアミノ保護基導入剤を用いることができる。
これらのアミノ保護基導入剤を0.5〜6モル当量比の
範囲で用いることにより、出発化合物(II)の各アミ
ノ基の反応性の差異により種々の部分アミノ保護誘導体
を任意の比率で製造することができる。
範囲で用いることにより、出発化合物(II)の各アミ
ノ基の反応性の差異により種々の部分アミノ保護誘導体
を任意の比率で製造することができる。
第3の本発明による式(Ib)の化合物の製造方法にお
いては、1位アミノ基以外のアミノ基のすべて又は一部
分が保護されたアミノ保護誘導体、例えば3.2’、6
’、3’−テトラ−N−保護体、3.2’、6’−トリ
ーN−保護体、6′、3ζジーN−保護体、又は6′−
モノ−N−保護体が使用できる。さらに、これらの部分
アミノ保護体の混合体も第3の本発明の方法で1位アミ
ノ基のアシル化のために用いられる。
いては、1位アミノ基以外のアミノ基のすべて又は一部
分が保護されたアミノ保護誘導体、例えば3.2’、6
’、3’−テトラ−N−保護体、3.2’、6’−トリ
ーN−保護体、6′、3ζジーN−保護体、又は6′−
モノ−N−保護体が使用できる。さらに、これらの部分
アミノ保護体の混合体も第3の本発明の方法で1位アミ
ノ基のアシル化のために用いられる。
第3のや発明の方法において一般式(Ib)の目的化合
物を高い収率で製造するためには、一般式(Ia)の出
発化合物の1位アミノ基を選択的に式(V)の α−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸でアシル化すれば良い
のである。従って、1位アミノ基以外のすべてのアミノ
基がアミノ保護基で閉塞されている出発化合物(Ia)
の保護誘導体、すなわち3.2’、6’、3’−テトラ
−N−保護−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシン
B誘導体を本性の出発物質として用いるのが最も好まし
いことは明らかであろう。
物を高い収率で製造するためには、一般式(Ia)の出
発化合物の1位アミノ基を選択的に式(V)の α−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸でアシル化すれば良い
のである。従って、1位アミノ基以外のすべてのアミノ
基がアミノ保護基で閉塞されている出発化合物(Ia)
の保護誘導体、すなわち3.2’、6’、3’−テトラ
−N−保護−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシン
B誘導体を本性の出発物質として用いるのが最も好まし
いことは明らかであろう。
一般式(Ia)の化合物の1位アミノ基以外のすべての
アミノ基が保護された保護誘導体を調製するには、例え
ば次の方法を利用できる。すなわち、式(Ia)の化合
物を二価遷移全屈1例えば銅(■)、ニッケル(II)
、コバルト(II)、あるいは亜鉛のカチオンと反応さ
せて全屈錯体を形成させ、この錯体にアミノ保護基導入
剤を作用させて錯体のカナマイシン8部分の1位と3′
位の2個のアミノ基(これらは二価金属イオンと錯結合
して閉塞されている)以外のすべてのアミノ基をアミノ
保護基で保護し、その後に、上記錯体から二価金属カチ
オンを例えばカチオン交換樹脂による処理、硫化水素処
理又はアンモニア水処理で脱除することによる特開昭5
2−153944号(米国特許第4,136,254号
)又は特開昭55−64598号(又は米国特許第4,
297,485号のクレーム1)によるN−保護方法を
応用することによって、先づ5−デオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンB化合物の3.2’、6’−1−ジーN
−保護誘導体を高収率で生成する。次いで、本発明イら
が開発した特開昭55−16469(i号(又は米国特
許第4,297,485号のクレーム15)による1−
位以外のアミノ基が選択的に保護された保護誘導体の製
造法の応用によって、化合物(Ia)の1位アミノ以外
のすべてのアミノ基が保護されたテトラ−N−保護誘導
体を高収率で調製できるのである。この特開昭55−1
64696号の方法においては、1位及び3″位アミノ
基以外のアミノ基を保護されであるアミノグリコシド抗
生物質に対して3′位アミノ基の選択的アシル化剤とし
て、例えばギ酸エステル、ジハロゲン化またはトリハロ
ゲン化アルカン酸エステル、あるいはホルミルイミダゾ
ールを用いて作用せしめるものであり、これによって該
アミノグリコシドの1位アミノ基をアシル化することな
く、3″′位アミノ基をホルミル基、ジー又はトリーハ
ロアルカノイル基で選択的に保護できる。
アミノ基が保護された保護誘導体を調製するには、例え
ば次の方法を利用できる。すなわち、式(Ia)の化合
物を二価遷移全屈1例えば銅(■)、ニッケル(II)
、コバルト(II)、あるいは亜鉛のカチオンと反応さ
せて全屈錯体を形成させ、この錯体にアミノ保護基導入
剤を作用させて錯体のカナマイシン8部分の1位と3′
位の2個のアミノ基(これらは二価金属イオンと錯結合
して閉塞されている)以外のすべてのアミノ基をアミノ
保護基で保護し、その後に、上記錯体から二価金属カチ
オンを例えばカチオン交換樹脂による処理、硫化水素処
理又はアンモニア水処理で脱除することによる特開昭5
2−153944号(米国特許第4,136,254号
)又は特開昭55−64598号(又は米国特許第4,
297,485号のクレーム1)によるN−保護方法を
応用することによって、先づ5−デオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンB化合物の3.2’、6’−1−ジーN
−保護誘導体を高収率で生成する。次いで、本発明イら
が開発した特開昭55−16469(i号(又は米国特
許第4,297,485号のクレーム15)による1−
位以外のアミノ基が選択的に保護された保護誘導体の製
造法の応用によって、化合物(Ia)の1位アミノ以外
のすべてのアミノ基が保護されたテトラ−N−保護誘導
体を高収率で調製できるのである。この特開昭55−1
64696号の方法においては、1位及び3″位アミノ
基以外のアミノ基を保護されであるアミノグリコシド抗
生物質に対して3′位アミノ基の選択的アシル化剤とし
て、例えばギ酸エステル、ジハロゲン化またはトリハロ
ゲン化アルカン酸エステル、あるいはホルミルイミダゾ
ールを用いて作用せしめるものであり、これによって該
アミノグリコシドの1位アミノ基をアシル化することな
く、3″′位アミノ基をホルミル基、ジー又はトリーハ
ロアルカノイル基で選択的に保護できる。
第3の本発明による方法においては、式(V)のα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸としては、アミノ基を
保護した又はしていないα−ヒドロキシ−ω−アミノア
ルカン酸が用いられ、これで上記の出発化合物(Ia)
又はそれの部分アミノ保lx導体の1位アミツルをアシ
ル化する。この1−N−アシル化反応は、式(V)のα
−ヒドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこれの反応誘
導体(官能的均等物)をジシクロへキシルカルボジイミ
ド法、混合酸無水物法、アジド法、活性エステル法など
で、作用させて実施で、きる。反応温度は0℃〜30°
Cの範囲が適当である。式(m)のα−ヒドロキシ−ω
−アミノアルカン酸のアミノ基を保護するアミノ保護基
は、出発化合物(Ia)の保護誘導体のアミノ保護基に
用いられたと同じ異なるものでよい。トリフロロ酢酸、
酢酸などの水溶液または塩酸などの希薄溶液中で処理し
て容易に脱保護できる第三ブトキシカルボニル基やパラ
メトキシベンジルオキシカルボニル基は、好ましくは用
いられるアミノ保護基である。また、パラジウム、酸化
白金などの白金族触媒の存在下に通常の接触還元で脱保
護できるベンジルオキシカルボニル基も便利なアミノ保
護基である。
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸としては、アミノ基を
保護した又はしていないα−ヒドロキシ−ω−アミノア
ルカン酸が用いられ、これで上記の出発化合物(Ia)
又はそれの部分アミノ保lx導体の1位アミツルをアシ
ル化する。この1−N−アシル化反応は、式(V)のα
−ヒドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこれの反応誘
導体(官能的均等物)をジシクロへキシルカルボジイミ
ド法、混合酸無水物法、アジド法、活性エステル法など
で、作用させて実施で、きる。反応温度は0℃〜30°
Cの範囲が適当である。式(m)のα−ヒドロキシ−ω
−アミノアルカン酸のアミノ基を保護するアミノ保護基
は、出発化合物(Ia)の保護誘導体のアミノ保護基に
用いられたと同じ異なるものでよい。トリフロロ酢酸、
酢酸などの水溶液または塩酸などの希薄溶液中で処理し
て容易に脱保護できる第三ブトキシカルボニル基やパラ
メトキシベンジルオキシカルボニル基は、好ましくは用
いられるアミノ保護基である。また、パラジウム、酸化
白金などの白金族触媒の存在下に通常の接触還元で脱保
護できるベンジルオキシカルボニル基も便利なアミノ保
護基である。
第3の発明の方法での1−N−アシル化反応は含水溶媒
中で活性エステル法で行われることが好ましい。例えば
、通常の方法で得られる活性エステルとして(S)−4
−第三ブトキシ力ルポニルアミノ−2−ヒドロキシ酪酸
のN−ヒドロキシコハク酸イミドを1〜3モル当量、好
ましくは1〜1.5モル当量の範囲で使用して式(Ia
)の化合物に反応させる。使用される溶媒としては、好
ましくはジオキサン、ジメトキシエタン、ジメチルホル
ムアミド、テトラヒドロフラン、トリエチルアミンなど
の水混和性の有機溶剤が使用される。
中で活性エステル法で行われることが好ましい。例えば
、通常の方法で得られる活性エステルとして(S)−4
−第三ブトキシ力ルポニルアミノ−2−ヒドロキシ酪酸
のN−ヒドロキシコハク酸イミドを1〜3モル当量、好
ましくは1〜1.5モル当量の範囲で使用して式(Ia
)の化合物に反応させる。使用される溶媒としては、好
ましくはジオキサン、ジメトキシエタン、ジメチルホル
ムアミド、テトラヒドロフラン、トリエチルアミンなど
の水混和性の有機溶剤が使用される。
こうして生成された1−N−アシル化反応生成物にアミ
ン保護基が残存する場合、アミノ保護基を脱離せしめる
が、この脱離は常法で行なわれる。すなわち、上記のフ
ルキルオキシカルボニル乱型のアミノ保護法はトリフロ
ロ酢酸、酢酸などの水溶液、または塩酸などの希薄溶液
中で加水分解により処理して脱離される。またアミノ保
護基がベンジルオキシカルボニル基などのアラルキルオ
キシカルボニル基の場合には通常の接触還元(水添分解
)によって容易に脱離できる。またアミノ保護基にフタ
ロイル基を有する場合は抱水ヒドラジンのアルコール溶
液中で加熱により除去できる。
ン保護基が残存する場合、アミノ保護基を脱離せしめる
が、この脱離は常法で行なわれる。すなわち、上記のフ
ルキルオキシカルボニル乱型のアミノ保護法はトリフロ
ロ酢酸、酢酸などの水溶液、または塩酸などの希薄溶液
中で加水分解により処理して脱離される。またアミノ保
護基がベンジルオキシカルボニル基などのアラルキルオ
キシカルボニル基の場合には通常の接触還元(水添分解
)によって容易に脱離できる。またアミノ保護基にフタ
ロイル基を有する場合は抱水ヒドラジンのアルコール溶
液中で加熱により除去できる。
式(Ib)による本発明化合物の合成は、未保護の式(
IIa)の化合物、例えば5−デオキシ−5−フルオロ
カナマイシンBから出発して特開昭55−64598号
の亜鉛錯体法ならびに特開昭55−164696号の選
択的3ζアミノ保護法を利用してアミノ保護誘導体を先
づ調製し、次いで本発明の方法を行う合成ルーh、例え
ば具体的には次の工程から成る合成ルートで行うのが便
利である。
IIa)の化合物、例えば5−デオキシ−5−フルオロ
カナマイシンBから出発して特開昭55−64598号
の亜鉛錯体法ならびに特開昭55−164696号の選
択的3ζアミノ保護法を利用してアミノ保護誘導体を先
づ調製し、次いで本発明の方法を行う合成ルーh、例え
ば具体的には次の工程から成る合成ルートで行うのが便
利である。
先づ、式(Ia)の化合物と酢酸亜鉛とをジメチルスル
ホキシド(DMSO)に懸濁し、又は水とジメチルホル
ムアミド(DMF)の混液に溶解し、生成した化合物(
Ia)と亜鉛との錯体の溶液に対して、N−(ベンジル
オキシカルボニルオキシ)サクシンイミド(アミノ保護
基としてのベンジルオキシカルボニル基の導入試薬)を
作用させてカナマイシB部分の3位、2′位及び6′位
のアミノ基をベンジルオキシカルボニル基で保護し更に
亜3イ)カチオンをイオン交換樹脂(例えばアンバーラ
イトCG−50)処理により;脱離させて3.2’、6
’−トリス−N−(ベンジルオキシカルボニル)化され
た化合物(Ia)(化合物a)を生成させる(工程1)
。さらに化合物(a)にDMSO又はDMF中でトリフ
ルオロ酢酸エチルを作用させて、3“位アミノ基をトリ
フルオロアセチル基で保護(特開昭55−164696
号の保護法による)して3.2’、6’−1−リス−N
−(ベンジルオキシカルボニル)−361〜リフルオロ
アセチル化された化合物(Ia)(化合物b)を生成さ
せる(工程2)。さらに化合物(b)に含水テトラヒド
ロフラン中で炭酸ナトリウムの存在下にN−(ベンジル
オキシカルボニル)−(S)−4−アミノ−2−ヒトロ
キシブチリルオキシサクシンイミドまたはN−(ベンジ
ルオキシカルボニル’)−(S)又は(R3)−3−ア
ミノ−2−ヒドロキシプロピオニルオキシサクシンイミ
ドを作用させ、化合物(b)の1位アミノ基を選択的に
(S)−4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒ
ドロキシブチリル化、または、(S)又は(R8)−3
−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシプ
ロピオニル化する(工程3)。これによって、1−N−
C(S)−4−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−
2−ヒドロキシブチリル〕−又は1−N−((S)又は
(R3)−3−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−
2−ヒドロキシ、プロピオニル)−3,2’、6’−ト
リス−N−(ベンジルオキシカルボニル)−3’−N−
トリフルオロアセチル化された化合物(Ia)(化合物
C)を1−N−アシル化反応生成物として形成させる。
ホキシド(DMSO)に懸濁し、又は水とジメチルホル
ムアミド(DMF)の混液に溶解し、生成した化合物(
Ia)と亜鉛との錯体の溶液に対して、N−(ベンジル
オキシカルボニルオキシ)サクシンイミド(アミノ保護
基としてのベンジルオキシカルボニル基の導入試薬)を
作用させてカナマイシB部分の3位、2′位及び6′位
のアミノ基をベンジルオキシカルボニル基で保護し更に
亜3イ)カチオンをイオン交換樹脂(例えばアンバーラ
イトCG−50)処理により;脱離させて3.2’、6
’−トリス−N−(ベンジルオキシカルボニル)化され
た化合物(Ia)(化合物a)を生成させる(工程1)
。さらに化合物(a)にDMSO又はDMF中でトリフ
ルオロ酢酸エチルを作用させて、3“位アミノ基をトリ
フルオロアセチル基で保護(特開昭55−164696
号の保護法による)して3.2’、6’−1−リス−N
−(ベンジルオキシカルボニル)−361〜リフルオロ
アセチル化された化合物(Ia)(化合物b)を生成さ
せる(工程2)。さらに化合物(b)に含水テトラヒド
ロフラン中で炭酸ナトリウムの存在下にN−(ベンジル
オキシカルボニル)−(S)−4−アミノ−2−ヒトロ
キシブチリルオキシサクシンイミドまたはN−(ベンジ
ルオキシカルボニル’)−(S)又は(R3)−3−ア
ミノ−2−ヒドロキシプロピオニルオキシサクシンイミ
ドを作用させ、化合物(b)の1位アミノ基を選択的に
(S)−4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒ
ドロキシブチリル化、または、(S)又は(R8)−3
−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシプ
ロピオニル化する(工程3)。これによって、1−N−
C(S)−4−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−
2−ヒドロキシブチリル〕−又は1−N−((S)又は
(R3)−3−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−
2−ヒドロキシ、プロピオニル)−3,2’、6’−ト
リス−N−(ベンジルオキシカルボニル)−3’−N−
トリフルオロアセチル化された化合物(Ia)(化合物
C)を1−N−アシル化反応生成物として形成させる。
次に化合物(C)からアミノ保護基としてのトリフルオ
ロアセチル基を酸又は塩基による加水分解により、また
ベンジルオキシカルボニル基を白金族金属触媒たとえば
パラジウム又はラネーニッケルによる接触還元により脱
離する(工程4)。これらの工程により、目的の式(I
b)の化合物が得られるのである。
ロアセチル基を酸又は塩基による加水分解により、また
ベンジルオキシカルボニル基を白金族金属触媒たとえば
パラジウム又はラネーニッケルによる接触還元により脱
離する(工程4)。これらの工程により、目的の式(I
b)の化合物が得られるのである。
前述した第2の本発明の方法で出発化合物として用いら
れる式(Il)のN、O−保護された5−エピカナマイ
シンB誘導体を調製する方法を次に説明する。
れる式(Il)のN、O−保護された5−エピカナマイ
シンB誘導体を調製する方法を次に説明する。
この方法は下記の一連の段階から成る。すなわち、先づ
、カナマイシンB、3′−デオキシカナマイシンB、4
′−デオキシカナマイシンB又は3’、4’−ジデオキ
シカナマイシンBにアミノ保護基(B′)としてアルキ
ルスルホニル基、アラルキルスルホニル基又はアリール
スルホニル基を導入する第1段階を行う。この第1段階
は次式 %式%() 〔式中、R3は低級アルキル基、アラルキル基、特にベ
ンジル基又はアリール基、特にフェニル基であり、又は
塩素又は臭素である〕のスルホン酸ハライド、好ましく
は1〜ジルクロライドを含水ジオキサン中で0〜50°
Cの温度で炭酸す1−リウムの存在下にカナマイシンB
、3′−デオキシカサ”マイシンB、4′−デオキシカ
ナマイシンB、又は3’、4’−ジデオキシカナマイシ
ン已に反応させることによって公知の要領(例えば英特
許第1555661号、特公昭60−29720号公報
参照)で行われる。この第1段階によって次式 〔式中、A1及びA2は夫々に水酸基又は水素原子であ
り、B′は式R’ So□−(但しR3は前記の意味で
ある〕で示されるスルホニル型のアミノ保護基である〕
で示される1、3.2’、6’、3ζペンタ−N−保護
(スルホニル化)−カナマイシンB誘導体が生成される
。
、カナマイシンB、3′−デオキシカナマイシンB、4
′−デオキシカナマイシンB又は3’、4’−ジデオキ
シカナマイシンBにアミノ保護基(B′)としてアルキ
ルスルホニル基、アラルキルスルホニル基又はアリール
スルホニル基を導入する第1段階を行う。この第1段階
は次式 %式%() 〔式中、R3は低級アルキル基、アラルキル基、特にベ
ンジル基又はアリール基、特にフェニル基であり、又は
塩素又は臭素である〕のスルホン酸ハライド、好ましく
は1〜ジルクロライドを含水ジオキサン中で0〜50°
Cの温度で炭酸す1−リウムの存在下にカナマイシンB
、3′−デオキシカサ”マイシンB、4′−デオキシカ
ナマイシンB、又は3’、4’−ジデオキシカナマイシ
ン已に反応させることによって公知の要領(例えば英特
許第1555661号、特公昭60−29720号公報
参照)で行われる。この第1段階によって次式 〔式中、A1及びA2は夫々に水酸基又は水素原子であ
り、B′は式R’ So□−(但しR3は前記の意味で
ある〕で示されるスルホニル型のアミノ保護基である〕
で示される1、3.2’、6’、3ζペンタ−N−保護
(スルホニル化)−カナマイシンB誘導体が生成される
。
次に、式(■)の化合物の5位水酸基以外の残余の水酸
基すべてを保護する第2段階を行なう。
基すべてを保護する第2段階を行なう。
このためには、第1方法として、式(■)の化合物に対
して無水ピリジン中で50℃又はそれ以下の温度、例え
ば0℃でアセチルクロライドを化合物(■)の1モル当
りに5モルの割合又はそれよりやや過刺量を反応させる
と、化合物(■)の5位水酸基以外のすへての水酸基、
すなわち3Z4’、:2’、4’16″位(但し3′位
及び/又は4′位に−OHが在る場合)がアセチル化さ
れて保護される。一般に、アセチルクロライドの代りに
、他の低級アルカノイル・クロライ1−あるいはベンゾ
イル・クロライドの如きアロイル・クロライドを含めて
、アシルクロライドを用いた場合にも、同様に、5位水
酸基がアシル化されずに、その他の水酸基のすべてはア
シル化されて保護される。こうして次式 〔式中、A3及びA4は夫々に水素原子又は基−0G(
但しGは後記の意味をもつ)であり、B′は前記のスル
ホニル基型のアミノ保護基であり、Gは用いたアシル・
クロライドから来るアシル基である〕で示される1、3
.2’、6’、3ζペンタ−N−保護(スルホニル化)
−3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ−〇−保護
(アシル化)−又は4’、2’、4’、6’−テトラ−
〇−保護(アシル化)−又は3’、2’、4’、6’−
テトラ−〇−保護(アシル化)−又は2′。
して無水ピリジン中で50℃又はそれ以下の温度、例え
ば0℃でアセチルクロライドを化合物(■)の1モル当
りに5モルの割合又はそれよりやや過刺量を反応させる
と、化合物(■)の5位水酸基以外のすへての水酸基、
すなわち3Z4’、:2’、4’16″位(但し3′位
及び/又は4′位に−OHが在る場合)がアセチル化さ
れて保護される。一般に、アセチルクロライドの代りに
、他の低級アルカノイル・クロライ1−あるいはベンゾ
イル・クロライドの如きアロイル・クロライドを含めて
、アシルクロライドを用いた場合にも、同様に、5位水
酸基がアシル化されずに、その他の水酸基のすべてはア
シル化されて保護される。こうして次式 〔式中、A3及びA4は夫々に水素原子又は基−0G(
但しGは後記の意味をもつ)であり、B′は前記のスル
ホニル基型のアミノ保護基であり、Gは用いたアシル・
クロライドから来るアシル基である〕で示される1、3
.2’、6’、3ζペンタ−N−保護(スルホニル化)
−3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ−〇−保護
(アシル化)−又は4’、2’、4’、6’−テトラ−
〇−保護(アシル化)−又は3’、2’、4’、6’−
テトラ−〇−保護(アシル化)−又は2′。
4’、6’−トリー〇−保護(アシル化)−カナマイシ
ンB誘導体が生成される。
ンB誘導体が生成される。
或いは別法の第2方法として、先づ式(■)の化合物の
4′位及び6′位の水酸基を同時に2価のヒドロキシル
保護基で保護する反応を行う。この反応は、式(■)の
化合物を無水ジメチルホルムアミド中でジメトキシアル
カン、例えば2,2−ジメトキシプロパン又はベンズア
ルデヒド、あるいはジメトキシシクロアルカン、例えば
1,1−ジメトキシシクロヘキサン(シクロヘキサノン
・ジメチルアセタール)、あるいは5,6−シヒドロー
4−メトキシ−2H−ピランで触媒量のp−トルエンス
ルホン酸の存在下に処理することによって公知の要領(
例えば英国特許第2043G34B号)で行われる。こ
の処理によって、次式 〔式中、Ai、A2及びB′は前記の意味であり、−E
2−はアルキリデン基、ベンジリデン基の如きアラルキ
リデン栽、シクロアルキリデン基又はテl−ラヒドロビ
ラニリデン基である2価のヒドロキシル保護基である〕
で示される4′、6ζ〇−保護−1,3,2’、6’。
4′位及び6′位の水酸基を同時に2価のヒドロキシル
保護基で保護する反応を行う。この反応は、式(■)の
化合物を無水ジメチルホルムアミド中でジメトキシアル
カン、例えば2,2−ジメトキシプロパン又はベンズア
ルデヒド、あるいはジメトキシシクロアルカン、例えば
1,1−ジメトキシシクロヘキサン(シクロヘキサノン
・ジメチルアセタール)、あるいは5,6−シヒドロー
4−メトキシ−2H−ピランで触媒量のp−トルエンス
ルホン酸の存在下に処理することによって公知の要領(
例えば英国特許第2043G34B号)で行われる。こ
の処理によって、次式 〔式中、Ai、A2及びB′は前記の意味であり、−E
2−はアルキリデン基、ベンジリデン基の如きアラルキ
リデン栽、シクロアルキリデン基又はテl−ラヒドロビ
ラニリデン基である2価のヒドロキシル保護基である〕
で示される4′、6ζ〇−保護−1,3,2’、6’。
3ζペンタ−N−保護(スルホニル化)−カナマイシン
B誘導体が生成される。
B誘導体が生成される。
更に、式(■′)の化合物の残余の遊離の水酸基(5位
水酸基を除く)、すなわち2′位の水酸基、ならびに存
在すれば3′位の水酸基及び/又は4′位の水酸基を公
知のヒドロキシル保護基としてのアシル基、特にアルカ
ノイル基、好ましくはアセチル基、あるいはアコイル基
、好ましくはベンゾイル基で保護するアシル反応を行う
。このアシル化反応は、式(■′)の化合物に対して無
水ジメチルスルホキシド中でピリジンの存在下に前出の
アシル・クロライド、あるいはN−アルカツルイミダゾ
ール例えばN−アセチル・イミダゾール又はN−アロイ
ル−イミダゾール例えばN−ベンゾイル・イミダゾール
の如きN−アシル・イミダゾールを0〜50℃の温度で
反応させることによって行う。この際、2″位の水酸基
、ならびに存在すれば3′位の水酸基及び(又は)4′
位の水酸基がアシル化されて保護されるが、5位の水酸
基はアシル化されずに遊離のままである。
水酸基を除く)、すなわち2′位の水酸基、ならびに存
在すれば3′位の水酸基及び/又は4′位の水酸基を公
知のヒドロキシル保護基としてのアシル基、特にアルカ
ノイル基、好ましくはアセチル基、あるいはアコイル基
、好ましくはベンゾイル基で保護するアシル反応を行う
。このアシル化反応は、式(■′)の化合物に対して無
水ジメチルスルホキシド中でピリジンの存在下に前出の
アシル・クロライド、あるいはN−アルカツルイミダゾ
ール例えばN−アセチル・イミダゾール又はN−アロイ
ル−イミダゾール例えばN−ベンゾイル・イミダゾール
の如きN−アシル・イミダゾールを0〜50℃の温度で
反応させることによって行う。この際、2″位の水酸基
、ならびに存在すれば3′位の水酸基及び(又は)4′
位の水酸基がアシル化されて保護されるが、5位の水酸
基はアシル化されずに遊離のままである。
従って、この選択アシル化反応によって、次式〔式中、
B′及びC2は前記の通りであり、A3及びA4は水素
原子又は基−OGであり、Gはアシル基である〕で示さ
れる3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ−〇−保護
一又は3’、2’、4”、6ζテトラ−〇−保護一又は
4’、2’、4’、6’−テ[〜ラー〇−保護一又は2
″′、4″、6″′−トリー〇−保護−1,3,2’。
B′及びC2は前記の通りであり、A3及びA4は水素
原子又は基−OGであり、Gはアシル基である〕で示さ
れる3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ−〇−保護
一又は3’、2’、4”、6ζテトラ−〇−保護一又は
4’、2’、4’、6’−テ[〜ラー〇−保護一又は2
″′、4″、6″′−トリー〇−保護−1,3,2’。
6’、3’−ペンタ−N−保護(スルホニル化)−カナ
マイシンB誘導体が生成される。
マイシンB誘導体が生成される。
更に、式(■)又は式(■′)の化合物の5位水酸基を
反転して5−エビ体に転化する第3段階を行う。
反転して5−エビ体に転化する第3段階を行う。
この第3段階はミツノブ反応を利用して行われ、式(■
)又は(■″)の化合物を無水テトラヒドロフラン中等
で室温で1−リフェニルホスフィン、ジェチルアゾジ力
ルポ千シレー1〜 (C21150C−N=N−Co−C2+15)及び安
息香酸で処理することによって、公知の要領で行われる
。この第3段階によって、次式 〔式中、A3、A4、B′及びGは前記の意味をもち、
E及びElは夫々に前記のG(アシル基)と同じである
か、あるいはE及びElは共同して1個の前記−C2−
基をなし、Bzはベンゾイル基を示す〕で示される5−
0−ベンゾイル−5−二ピーカナマイシンB誘導体が生
成される。なお、この5位水m基の反転は式(■′)の
5−〇−スルホニル化合物にソジウムアセテートやソジ
ウムベンゾエートを作用せしめて(IX)又は相当する
5−0−アセチル化合物に導〈従来の方法によっても製
造することができる。
)又は(■″)の化合物を無水テトラヒドロフラン中等
で室温で1−リフェニルホスフィン、ジェチルアゾジ力
ルポ千シレー1〜 (C21150C−N=N−Co−C2+15)及び安
息香酸で処理することによって、公知の要領で行われる
。この第3段階によって、次式 〔式中、A3、A4、B′及びGは前記の意味をもち、
E及びElは夫々に前記のG(アシル基)と同じである
か、あるいはE及びElは共同して1個の前記−C2−
基をなし、Bzはベンゾイル基を示す〕で示される5−
0−ベンゾイル−5−二ピーカナマイシンB誘導体が生
成される。なお、この5位水m基の反転は式(■′)の
5−〇−スルホニル化合物にソジウムアセテートやソジ
ウムベンゾエートを作用せしめて(IX)又は相当する
5−0−アセチル化合物に導〈従来の方法によっても製
造することができる。
更に1式(IX)の化合物から5−0−ベンゾイル基を
脱離する第4段階を行う。この第4段階は、式(W)の
化合物をナトリウム・メチラートのメタノール溶液で室
温乃至メタノールの還流温度の温度で処理することによ
って行われ、この際、5−0−ベンゾイル基が脱mされ
ると同時に、他の水酸基上のアシル型のヒドロキシル保
護基も脱離される。
脱離する第4段階を行う。この第4段階は、式(W)の
化合物をナトリウム・メチラートのメタノール溶液で室
温乃至メタノールの還流温度の温度で処理することによ
って行われ、この際、5−0−ベンゾイル基が脱mされ
ると同時に、他の水酸基上のアシル型のヒドロキシル保
護基も脱離される。
従って、この第4段階によると1次式
〔式中、A1、A2.8′は前記の意味をもち、C3及
びC4は夫々に水素であるか、あるいはC3及びC4が
共同して1個の前記2価のヒドロキシル保護基−C2−
をなす〕で示される5−エピカナマイシンB誘導体が生
成される。また、必要ならば、式(X)の化合物CE”
及びC4が共同して保護基−C2−をなす場合の)を、
次いで無機酸、例えばメタンスルホン酸又は強酸性のカ
チオン交換樹脂の存在下に加水分解することによって、
式(X)の化合物から4″位水酸基及び6′位水酸基を
保護する2価の基(−C2−)を脱離すると、次式 〔式中、 A1. A”、8′は前記の意味をもつ〕で
示されるペンタ−N−保、獲(スルホニル化)−5−エ
ピカナマイシンB誘導体が生成される。
びC4は夫々に水素であるか、あるいはC3及びC4が
共同して1個の前記2価のヒドロキシル保護基−C2−
をなす〕で示される5−エピカナマイシンB誘導体が生
成される。また、必要ならば、式(X)の化合物CE”
及びC4が共同して保護基−C2−をなす場合の)を、
次いで無機酸、例えばメタンスルホン酸又は強酸性のカ
チオン交換樹脂の存在下に加水分解することによって、
式(X)の化合物から4″位水酸基及び6′位水酸基を
保護する2価の基(−C2−)を脱離すると、次式 〔式中、 A1. A”、8′は前記の意味をもつ〕で
示されるペンタ−N−保、獲(スルホニル化)−5−エ
ピカナマイシンB誘導体が生成される。
次いで第5段階として、式(X)の化合物又は式(X′
)の化合物中の5位水酸基以外の水酸基を保護する反応
を行う。このためには、化合物(X)又は(X′)を、
前述の第2段階と同じ要領で無水ジメチルスルホキシド
又はピリジン中でO′C〜50℃の温度で無水の条件下
にアシル・クロライドあるいはN−アシル・イミダゾー
ル、例えばN−アルカノイル・イミダゾール又はN−ア
ロイル−イミダゾールと反応させる。この際、5位水酸
基のみがアシル化されない。こうして、この第5段階に
より次式〔式中、B′は前記の意味のスルホニル型のア
ミノ保護基であり、A3及びA4は夫々に水素原子又は
保護された水酸基−〇G(但しGは上記に用いたアシル
・クロライド又はN−アシル・イミダゾールに由来する
アシル基であるヒドロキシル保護基である)であり、ま
た2′位の基−OGにおけるGも前記と同じアシル基で
あり、さらにE及びE′は夫々にアシル基Gであるか、
あるいは両者が共同して2価ヒドロキシル保護基(式中
(X)の化合物における一E”−と同じである)を表わ
す〕で示されるN、0−保護−5−エビカナマイシンB
誘導体が生成される。
)の化合物中の5位水酸基以外の水酸基を保護する反応
を行う。このためには、化合物(X)又は(X′)を、
前述の第2段階と同じ要領で無水ジメチルスルホキシド
又はピリジン中でO′C〜50℃の温度で無水の条件下
にアシル・クロライドあるいはN−アシル・イミダゾー
ル、例えばN−アルカノイル・イミダゾール又はN−ア
ロイル−イミダゾールと反応させる。この際、5位水酸
基のみがアシル化されない。こうして、この第5段階に
より次式〔式中、B′は前記の意味のスルホニル型のア
ミノ保護基であり、A3及びA4は夫々に水素原子又は
保護された水酸基−〇G(但しGは上記に用いたアシル
・クロライド又はN−アシル・イミダゾールに由来する
アシル基であるヒドロキシル保護基である)であり、ま
た2′位の基−OGにおけるGも前記と同じアシル基で
あり、さらにE及びE′は夫々にアシル基Gであるか、
あるいは両者が共同して2価ヒドロキシル保護基(式中
(X)の化合物における一E”−と同じである)を表わ
す〕で示されるN、0−保護−5−エビカナマイシンB
誘導体が生成される。
さらに所望ならば、第6段階として、式(X[)の化合
物のスルホニル基型のアミノ保護基(B′)を。
物のスルホニル基型のアミノ保護基(B′)を。
他の型のアミノ保護基と取代える処理を行うことができ
る。このためには、式(X[)の化合物を液体アンモニ
ア中で金属ナトリウムで処理する既知の脱保護法を行な
う。これによって1次式〔式中、A3、A4、E、 E
l及びGは前記と同じ意味をもつ〕で示される〇−保護
−5−エピカナマイシンB誘導体が生成される。この式
(Xn)の化合物の5個のアミノ4!に、次いで、所望
の型のアミノ保護基(B)、例えばアシル基型のアミノ
保護基、即ちアセチルの如きアルカノイル基、ベンゾイ
ルの如きアロイル基、エトキシカルボニル又は第3級ブ
トキシカルボニルの如きアルコキシカルボニル基、又は
ベンジルオキシカルボニルの如きアラルコキシカルボニ
ル基、あるいは再び所望の種類のスルホニル基型のアミ
ノ保護基を導入するN−保護反応を常法で行うと、次式 〔式中、 A3. A’、 E、 E’、 Gは前記の
意味をもち、Bはこの第6段階で導入されたアミノ保護
基である。〕で示されるN、O−保護された5−エピカ
ナマイシンB誘導体が生成されるのである。前記の第1
〜第5段階又は第1〜第6段階よりなる方法で生成され
た式(XI)の化合物あるいは式(II)の化合物は、
次いで、第2の本発明による方法で5位のエピ−ヒドロ
キシル基の弗素置換に使用される。
る。このためには、式(X[)の化合物を液体アンモニ
ア中で金属ナトリウムで処理する既知の脱保護法を行な
う。これによって1次式〔式中、A3、A4、E、 E
l及びGは前記と同じ意味をもつ〕で示される〇−保護
−5−エピカナマイシンB誘導体が生成される。この式
(Xn)の化合物の5個のアミノ4!に、次いで、所望
の型のアミノ保護基(B)、例えばアシル基型のアミノ
保護基、即ちアセチルの如きアルカノイル基、ベンゾイ
ルの如きアロイル基、エトキシカルボニル又は第3級ブ
トキシカルボニルの如きアルコキシカルボニル基、又は
ベンジルオキシカルボニルの如きアラルコキシカルボニ
ル基、あるいは再び所望の種類のスルホニル基型のアミ
ノ保護基を導入するN−保護反応を常法で行うと、次式 〔式中、 A3. A’、 E、 E’、 Gは前記の
意味をもち、Bはこの第6段階で導入されたアミノ保護
基である。〕で示されるN、O−保護された5−エピカ
ナマイシンB誘導体が生成されるのである。前記の第1
〜第5段階又は第1〜第6段階よりなる方法で生成され
た式(XI)の化合物あるいは式(II)の化合物は、
次いで、第2の本発明による方法で5位のエピ−ヒドロ
キシル基の弗素置換に使用される。
次に1本発明を、本発明の方法に用いる出発化合物の調
製を示す参考例について、また第2の本発明の方法を例
示する実施例1〜4及び14〜16について5さらに第
3の本発明の方法を例示する実施例5〜13について具
体的に説明する。
製を示す参考例について、また第2の本発明の方法を例
示する実施例1〜4及び14〜16について5さらに第
3の本発明の方法を例示する実施例5〜13について具
体的に説明する。
なお、実施例1〜16の最終化合物は第1の本発明によ
る一般式(1)の化合物に属するものである。
る一般式(1)の化合物に属するものである。
参考例1
(イ) 3’、4’、2’、4″、6ξペンタ−0−
アセチル−1,3゜2’、6’、3’−ペンタ−N−ト
シルカナマイシンB(化合物1)の製造 1、3.2’、6’、3’−ペンタ−N−トシルカナマ
イシンBの110mgを無水ピリジン2.2mQに溶解
し、0°Cにてアセチルクロライド0.062dを加え
、0℃にて反応させた。2時間後アセチルクロライド0
.029mQをさらに加え、3時間反応させた(アセチ
ル化)。その後、反応液に水0.12m12を加えた。
アセチル−1,3゜2’、6’、3’−ペンタ−N−ト
シルカナマイシンB(化合物1)の製造 1、3.2’、6’、3’−ペンタ−N−トシルカナマ
イシンBの110mgを無水ピリジン2.2mQに溶解
し、0°Cにてアセチルクロライド0.062dを加え
、0℃にて反応させた。2時間後アセチルクロライド0
.029mQをさらに加え、3時間反応させた(アセチ
ル化)。その後、反応液に水0.12m12を加えた。
これを濃縮し、残渣をクロロホルムにて抽出し、この溶
液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄し、水洗後
。
液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄し、水洗後
。
無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この溶液を減圧濃縮
し乾固して表題の化合物(1)の147mgを得た。
し乾固して表題の化合物(1)の147mgを得た。
比旋光Jti:(α〕♂3+25°(c 1.0.クロ
ロホルム)(ロ) qtAt、2s、4tt、6tr
−ペンタ−0−アセチル−5−〇−ヘンシイルー1.3
.2’、6’、3ξペンタ−N−トシル−5−エピ−カ
ナマイシンB(化合物2)の製造前項(ロ)で得られた
化合物(1)の4.23gを無水テトラヒドロフラン6
4mQに溶解しトリフェニルホスフィン2.27g、ジ
エチルアゾジカルボキシレート1 、34mu、安息香
酸1.06 gを順次加え、室温にて反応させた。2時
間後、トリフェニルホスフィン2.27g、ジエチルア
ゾジカルボキシレート1 、34mQ、安息香fi1.
06gを再び順次加え、室温にて1晩反応させた(ミツ
ノブ反応)。反応液を濃縮乾固し、残渣をクロロホルム
に溶解し、溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で
順次洗浄を行ない、無水硫酸ナトリウムで脱水した。こ
の溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル325g、展開系:クロロホ
ルムで展開したのちクロロホルム:エタノール20:0
→20:1)にて精製し表題の化合物(2)の2.38
gを得た。
ロホルム)(ロ) qtAt、2s、4tt、6tr
−ペンタ−0−アセチル−5−〇−ヘンシイルー1.3
.2’、6’、3ξペンタ−N−トシル−5−エピ−カ
ナマイシンB(化合物2)の製造前項(ロ)で得られた
化合物(1)の4.23gを無水テトラヒドロフラン6
4mQに溶解しトリフェニルホスフィン2.27g、ジ
エチルアゾジカルボキシレート1 、34mu、安息香
酸1.06 gを順次加え、室温にて反応させた。2時
間後、トリフェニルホスフィン2.27g、ジエチルア
ゾジカルボキシレート1 、34mQ、安息香fi1.
06gを再び順次加え、室温にて1晩反応させた(ミツ
ノブ反応)。反応液を濃縮乾固し、残渣をクロロホルム
に溶解し、溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で
順次洗浄を行ない、無水硫酸ナトリウムで脱水した。こ
の溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル325g、展開系:クロロホ
ルムで展開したのちクロロホルム:エタノール20:0
→20:1)にて精製し表題の化合物(2)の2.38
gを得た。
比旋光度:〔α〕♂3+20°(cl、o、クロロホル
ム)1)INMRスペクトル(重クロロホルム重水中)
:61.48(1,8q H−2ax) δ1.5
4(3Hs Ac)δ1,64(3Hs Ac)
δ1.84(3)1 s Ac)δ1.94(3t
l s Ac) δ1.97(3Hs Ac)
δ2.17(ill dt lt−2eq) δ2.
34(3Hs TsのCH3)δ2,38(3tl s
TsのC113)δ2.40(311s TsのCH
,)δ2.47(311s TsのC113)δ2.5
1(311s TsのCO,)δ3.78(1)1 d
d 1l−6) 66.01(IHbt H−5)
(ハ) 5−エビ−1,3,2’、6’、3’−ペンタ
−N−トシルカナマイシンB(化合物3)の製造 前項(ロ)で得られた化合物(2) 1.20gを0.
2モル濃度のナトリウム・メチラート24mQに溶解し
、58°Cにて37時間反応させた(アセチル基、ベン
ゾイル基の脱離)、反応液に希釈酸を加えて中和したの
ち濃縮乾固し、残渣を大量の水で洗浄し乾燥して表題の
化合物(3)の0.930gを得た。
ム)1)INMRスペクトル(重クロロホルム重水中)
:61.48(1,8q H−2ax) δ1.5
4(3Hs Ac)δ1,64(3Hs Ac)
δ1.84(3)1 s Ac)δ1.94(3t
l s Ac) δ1.97(3Hs Ac)
δ2.17(ill dt lt−2eq) δ2.
34(3Hs TsのCH3)δ2,38(3tl s
TsのC113)δ2.40(311s TsのCH
,)δ2.47(311s TsのC113)δ2.5
1(311s TsのCO,)δ3.78(1)1 d
d 1l−6) 66.01(IHbt H−5)
(ハ) 5−エビ−1,3,2’、6’、3’−ペンタ
−N−トシルカナマイシンB(化合物3)の製造 前項(ロ)で得られた化合物(2) 1.20gを0.
2モル濃度のナトリウム・メチラート24mQに溶解し
、58°Cにて37時間反応させた(アセチル基、ベン
ゾイル基の脱離)、反応液に希釈酸を加えて中和したの
ち濃縮乾固し、残渣を大量の水で洗浄し乾燥して表題の
化合物(3)の0.930gを得た。
(ニ) 3’、4’、2’、4“、6′−ペンタ−0
−アセチル−1,3゜2’ 、6’ 、3ζペンタ−N
−トシル−5−エピ−カナマイシンB(化合物4)の製
造 (Acはアセチル基、 Tsはトシル基を示す。以下同
様) 前項(ハ)で得られた化合物(3)の898mgを無水
ピリジン18n+Qに溶解し、0℃にてアセチルクロラ
イド0.77+oQ加え、0℃にて1時間反応させた(
アセチル化による水酸基保護)。反応液に水0.97m
Qを加えたのち濃縮乾固した。残渣をクロロホルムに溶
解し、溶液を10%硫酸水素カリウム水溶液、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで脱水した。溶液を濃縮乾固し、無色固体として
表題の化合物(4)の1086Bを得た。
−アセチル−1,3゜2’ 、6’ 、3ζペンタ−N
−トシル−5−エピ−カナマイシンB(化合物4)の製
造 (Acはアセチル基、 Tsはトシル基を示す。以下同
様) 前項(ハ)で得られた化合物(3)の898mgを無水
ピリジン18n+Qに溶解し、0℃にてアセチルクロラ
イド0.77+oQ加え、0℃にて1時間反応させた(
アセチル化による水酸基保護)。反応液に水0.97m
Qを加えたのち濃縮乾固した。残渣をクロロホルムに溶
解し、溶液を10%硫酸水素カリウム水溶液、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで脱水した。溶液を濃縮乾固し、無色固体として
表題の化合物(4)の1086Bを得た。
比旋光度:〔α〕も0+23°(c 1.0.クロロホ
ルム)’IINMRスペクトル(重クロロホルム中):
δ1.60(311s Ac) δ1.71(3
Hs Ac)61.93(311s Ac) δ
1.97(3Hs Ac)62.02(311s A
c) δ 2.38(6Hs TsのC
I、X 2)62.40(31(s TsのC11d
62.4g(3Hs TsのCl43)δ2.49(
3Hs TsのC113)尖議員上 (イ) 3’、4’、2′、4”、6′−ペンタ−O
−アセチル−1,3゜2’、6’、3’−ペンタ−N−
トシル−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB(
化合物5)の製造 ジエチルアミノサルファートリフルオライド(DAST
)の0.452+mQを無水ジグロロメタン17.4+
nQ、無水ピリジン0 、9+aQにて希釈し、これに
参考例1、(ニ)で得られた化合物(4)の1085m
gを無水ジクロロメタン26mflに溶解した溶液を0
℃にて加え、室温にて1.5時間反応させた(5位OH
の弗素化と反転)。
ルム)’IINMRスペクトル(重クロロホルム中):
δ1.60(311s Ac) δ1.71(3
Hs Ac)61.93(311s Ac) δ
1.97(3Hs Ac)62.02(311s A
c) δ 2.38(6Hs TsのC
I、X 2)62.40(31(s TsのC11d
62.4g(3Hs TsのCl43)δ2.49(
3Hs TsのC113)尖議員上 (イ) 3’、4’、2′、4”、6′−ペンタ−O
−アセチル−1,3゜2’、6’、3’−ペンタ−N−
トシル−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB(
化合物5)の製造 ジエチルアミノサルファートリフルオライド(DAST
)の0.452+mQを無水ジグロロメタン17.4+
nQ、無水ピリジン0 、9+aQにて希釈し、これに
参考例1、(ニ)で得られた化合物(4)の1085m
gを無水ジクロロメタン26mflに溶解した溶液を0
℃にて加え、室温にて1.5時間反応させた(5位OH
の弗素化と反転)。
反応液を氷冷した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液45m
Qに投入し、よく攪拌したのちジクロロメタン層をとり
出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水にて順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムに脱水した。この溶液を濃縮乾
固し、固体として表題の化合物(5)の1.1Hgを得
た。
Qに投入し、よく攪拌したのちジクロロメタン層をとり
出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水にて順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムに脱水した。この溶液を濃縮乾
固し、固体として表題の化合物(5)の1.1Hgを得
た。
” ’ FNMRスペクトル(重クロロホルム重水中
トリクロロフルオロメタン内部標準): −188,8
7ppm(dt)(ロ)5−デオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンB(本発明化合物Nα1)の製造 前項(イ)で得た化合物(5)の1.1gを一60℃に
て液体アンモニア300mρに溶解し金冠ナトリウム約
1.1gを加え一50℃にて5分間反応させた(1−シ
ル基の脱離)。反応液にメタノール30社を加え、室温
にてアンモニアを蒸発させ、さらに減圧濃縮後、残渣を
水110mQに溶解し50℃で30分加熱した(アセチ
ル基の脱離)。反応液を室温まで冷却し、ダウエックス
(Dowex ) 50W X 2樹脂80+nQを加
えこれに吸着せしめた。生成した脱保護生成物を樹脂ご
と同一の樹脂40mQのカラムの上部に加え、水洗後、
1規定アンモニア水にて溶出し、ニンヒドリン陽性部分
を集めた。得られた生成物をさらに、CM−セファデッ
クスC−25のカラム(85+++Q)でアンモニア水
(0→0.15規定)にて展開し、目的化合物を含む部
分を集め濃縮した。無色固体として表題の化合物の98
mgを得た。
トリクロロフルオロメタン内部標準): −188,8
7ppm(dt)(ロ)5−デオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンB(本発明化合物Nα1)の製造 前項(イ)で得た化合物(5)の1.1gを一60℃に
て液体アンモニア300mρに溶解し金冠ナトリウム約
1.1gを加え一50℃にて5分間反応させた(1−シ
ル基の脱離)。反応液にメタノール30社を加え、室温
にてアンモニアを蒸発させ、さらに減圧濃縮後、残渣を
水110mQに溶解し50℃で30分加熱した(アセチ
ル基の脱離)。反応液を室温まで冷却し、ダウエックス
(Dowex ) 50W X 2樹脂80+nQを加
えこれに吸着せしめた。生成した脱保護生成物を樹脂ご
と同一の樹脂40mQのカラムの上部に加え、水洗後、
1規定アンモニア水にて溶出し、ニンヒドリン陽性部分
を集めた。得られた生成物をさらに、CM−セファデッ
クスC−25のカラム(85+++Q)でアンモニア水
(0→0.15規定)にて展開し、目的化合物を含む部
分を集め濃縮した。無色固体として表題の化合物の98
mgを得た。
比旋光度:〔α〕ら’+117°(c O,6,水)1
8NMRスペクトル(亜塩酸水中、3−(トリメチルシ
リル)プロピオン酸ナトリウム塩−d4内部標準):δ
2.08(IHq H−2ax) δ2.60(IH
bdt H−2eq)δ3.31(IHdd H−6’
a) δ4.24(IHq H−6又はH−4)δ4
.49(IHq H−4又はH−6) δ4.99(
IHdt H−5)δ5.16(IHd H−1’)
65.78(IHa ++−t′>省すL信」2 (イ) 1.3.2’、6’、3’−ペンタ−N−ト
シルトブラマイシン(化合物6)の製造 トブラマイシンすなわち3′−デオキシカナマイシンB
の600mgを水40n+nに溶解し、炭酸ナトリウム
900mgを加え溶解した。さらにジオキサン40mQ
を加え水冷中、攪拌しながらトシルクロライド1469
mgを加えた。1.5時間後反応液にさらに炭酸す1−
リウム450mg、トシルクロライド735Bを加え、
さらに3時間後、炭酸ナトリウム450II1g、トシ
ルクロライド735mgを加え、室温にて1晩反応させ
た(N−1〜シル化)。反応液を濃縮乾固し、残渣を大
量の水で水洗し乾燥したのちクロロホルム−エタノール
に溶解し、エチルエーテルにて再沈殿させ、沈殿をエチ
ルエーテルにて洗浄し、表題の化合物(6)の1721
mgを得た。
8NMRスペクトル(亜塩酸水中、3−(トリメチルシ
リル)プロピオン酸ナトリウム塩−d4内部標準):δ
2.08(IHq H−2ax) δ2.60(IH
bdt H−2eq)δ3.31(IHdd H−6’
a) δ4.24(IHq H−6又はH−4)δ4
.49(IHq H−4又はH−6) δ4.99(
IHdt H−5)δ5.16(IHd H−1’)
65.78(IHa ++−t′>省すL信」2 (イ) 1.3.2’、6’、3’−ペンタ−N−ト
シルトブラマイシン(化合物6)の製造 トブラマイシンすなわち3′−デオキシカナマイシンB
の600mgを水40n+nに溶解し、炭酸ナトリウム
900mgを加え溶解した。さらにジオキサン40mQ
を加え水冷中、攪拌しながらトシルクロライド1469
mgを加えた。1.5時間後反応液にさらに炭酸す1−
リウム450mg、トシルクロライド735Bを加え、
さらに3時間後、炭酸ナトリウム450II1g、トシ
ルクロライド735mgを加え、室温にて1晩反応させ
た(N−1〜シル化)。反応液を濃縮乾固し、残渣を大
量の水で水洗し乾燥したのちクロロホルム−エタノール
に溶解し、エチルエーテルにて再沈殿させ、沈殿をエチ
ルエーテルにて洗浄し、表題の化合物(6)の1721
mgを得た。
比旋光度:〔α〕ら3+24°(c 1.0.ピリジン
)(ロ) 4’、6’−0−シクロへキシリデン−1
,3,2’、6’。
)(ロ) 4’、6’−0−シクロへキシリデン−1
,3,2’、6’。
3ζペンタ−N−トシルトブラマイシン(化合物7)の
製造 前項(イ)で得られた化合物(6)の1. 、72gを
無水ジメチルホルムアミド35mQに溶解し、P−トル
エンスルホン酸60mg、1,1−ジメトキシシクロヘ
キサン1.25−を加え、30mmHg減圧下、50℃
にて2時間攪拌反応せしめて4“、6′−〇−シクロへ
キシリデン化した。反応液を冷却し、飽和炭酸水素す1
−リウム水溶液25mρにあけ、濃縮乾固した。残渣を
大量の水で水洗し乾燥したのち、エチルエーテルにて洗
浄し表題の化合物(7)の1.76gを得た。
製造 前項(イ)で得られた化合物(6)の1. 、72gを
無水ジメチルホルムアミド35mQに溶解し、P−トル
エンスルホン酸60mg、1,1−ジメトキシシクロヘ
キサン1.25−を加え、30mmHg減圧下、50℃
にて2時間攪拌反応せしめて4“、6′−〇−シクロへ
キシリデン化した。反応液を冷却し、飽和炭酸水素す1
−リウム水溶液25mρにあけ、濃縮乾固した。残渣を
大量の水で水洗し乾燥したのち、エチルエーテルにて洗
浄し表題の化合物(7)の1.76gを得た。
比旋光度:[α]33+3°(C1,ピリジン)(ハ)
4’、2ζジー0−アセチル−4′、6ζシクロへ
キシリデン−1,3,2’、6’、3’−ペンタ−N−
トシルトブラマイシン(化合物8)の製造 前項(ロ)で得られた化合物(7)の1059mgを無
水ジメチルスルホキシド4 、8mQに溶解し、無水ピ
リジン0.53mQを加え、N−アセチル・イミダゾー
ル356mgを加え37℃にて反応させた。12時間後
、24時間後、36時間後、48時間後、60時間後、
72時間後に各々N−アセチル・イミダゾール360m
gを加えた(アセチル化による水酸基の保護)。84時
間後、反応液に水2IIIQを加えたのち、これを飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液106mQに投入し、析出し
た沈殿をd取、水洗後、乾燥したのちエチルエーテルに
て洗浄し、表題化合物(8)の108411gを得た。
4’、2ζジー0−アセチル−4′、6ζシクロへ
キシリデン−1,3,2’、6’、3’−ペンタ−N−
トシルトブラマイシン(化合物8)の製造 前項(ロ)で得られた化合物(7)の1059mgを無
水ジメチルスルホキシド4 、8mQに溶解し、無水ピ
リジン0.53mQを加え、N−アセチル・イミダゾー
ル356mgを加え37℃にて反応させた。12時間後
、24時間後、36時間後、48時間後、60時間後、
72時間後に各々N−アセチル・イミダゾール360m
gを加えた(アセチル化による水酸基の保護)。84時
間後、反応液に水2IIIQを加えたのち、これを飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液106mQに投入し、析出し
た沈殿をd取、水洗後、乾燥したのちエチルエーテルに
て洗浄し、表題化合物(8)の108411gを得た。
比旋光度:〔α〕♂’+18’(c 1.0.クロロホ
ルム)(ニ) 4’、2ζジーO−アセチル−5−0
−ベンゾイル−4′。
ルム)(ニ) 4’、2ζジーO−アセチル−5−0
−ベンゾイル−4′。
6′−〇−シクロへキシリデン−1,3,2’ 、6’
、3’−ベンタルN−1−シル−5−ニピートブラマ
イシン(化合物9)の製造 前項(ハ)で得られた化合物(8)の448mgを無水
テトラヒドロフラン6.8+nQに溶解し、トリフェニ
ルホスフィン253mg、ジエチル・アゾジカルボキシ
レート0.15+++Q、安息香酸119mgを順次加
え、室温にて反応させた。2時間後トリフェニルホスフ
ィン253mg、ジエチル・アゾジカルボンキシレート
0.15[IIρ、安息香酸119mgを再び順次加え
、室温にて1晩反応させた(ミツノブ反応)。反応液を
濃縮乾固し、残渣をクロロホルムに溶解後、溶液を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄を行ない、無
水硫酸ナトリウムで脱水した。この溶液を減圧濃縮した
。残渣をシリカゲルクロマ1ヘゲラフイー(メルクシリ
カゲル60 ; 230〜400メツシユ、30g。
、3’−ベンタルN−1−シル−5−ニピートブラマ
イシン(化合物9)の製造 前項(ハ)で得られた化合物(8)の448mgを無水
テトラヒドロフラン6.8+nQに溶解し、トリフェニ
ルホスフィン253mg、ジエチル・アゾジカルボキシ
レート0.15+++Q、安息香酸119mgを順次加
え、室温にて反応させた。2時間後トリフェニルホスフ
ィン253mg、ジエチル・アゾジカルボンキシレート
0.15[IIρ、安息香酸119mgを再び順次加え
、室温にて1晩反応させた(ミツノブ反応)。反応液を
濃縮乾固し、残渣をクロロホルムに溶解後、溶液を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄を行ない、無
水硫酸ナトリウムで脱水した。この溶液を減圧濃縮した
。残渣をシリカゲルクロマ1ヘゲラフイー(メルクシリ
カゲル60 ; 230〜400メツシユ、30g。
展開系、クロロホルムで展開したのちクロロホルム:エ
タノール20:0→20:1)に精製し表題化合物(9
)の316mgを得た。
タノール20:0→20:1)に精製し表題化合物(9
)の316mgを得た。
比旋光度:〔α〕も3−8’(c 1.0.クロロホル
ム)Ll(NMRスペクトル(重ピリジン重水中80℃
):δ1.78(3H,s) δ2.20(6H,s
) δ2.28(311,s)δ2.33(3H,s
) 62.36(3H,s) 以上Ac及びTsの
CH3 56,24(IH,bt、 H−5) (ホ) 4’、6’−0−シクロへキシリデン−1,
3,2’、6’。
ム)Ll(NMRスペクトル(重ピリジン重水中80℃
):δ1.78(3H,s) δ2.20(6H,s
) δ2.28(311,s)δ2.33(3H,s
) 62.36(3H,s) 以上Ac及びTsの
CH3 56,24(IH,bt、 H−5) (ホ) 4’、6’−0−シクロへキシリデン−1,
3,2’、6’。
3′−ペンタ−N−トシル−5−エピ−トブラマイシン
(化合物10)の製造 前項(ニ)で得られた化合物(9)の473mgを0.
2モル濃度のナトリウム・メチラートのメタノール溶液
9.45mQに溶解し、58℃にて27時間反応させた
(アセチル基、ベンゾイル基の脱離)。反応液に希塩酸
を加えて中和後濃縮乾固し、残渣を大量の水で洗浄し、
表題化合物(io)の4]、8mgを得た。
(化合物10)の製造 前項(ニ)で得られた化合物(9)の473mgを0.
2モル濃度のナトリウム・メチラートのメタノール溶液
9.45mQに溶解し、58℃にて27時間反応させた
(アセチル基、ベンゾイル基の脱離)。反応液に希塩酸
を加えて中和後濃縮乾固し、残渣を大量の水で洗浄し、
表題化合物(io)の4]、8mgを得た。
(へ)4′、2ξジー0−アセチル−4″’、6’−0
−シクロへキシリデン−1,3,2’、6’、3’−ペ
ンタ−N−j〜シル−5−エビ−1−ブラマイシン(化
合物11)の製造前項(ホ)で得た化合物(10)の3
.97gを無水ジメチルスルホキシド17.9mQ、無
水ピリジン2.OmQに溶解し、N−アセチルイミダゾ
ール1.376gを加え37°Cにて反応させた。6時
間後N−アセチルイミダゾール1.391gを加え、さ
らに37℃にて1晩反応させた(アセチル化)。反応液
に水2.26mQを加えたのち、これを飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液400m12に投入し、析出した沈殿を
濾取し水洗後弓吃燥エチルエーテルにて洗浄し、無色固
体として表題化合物(11)の3.853 gを得た。
−シクロへキシリデン−1,3,2’、6’、3’−ペ
ンタ−N−j〜シル−5−エビ−1−ブラマイシン(化
合物11)の製造前項(ホ)で得た化合物(10)の3
.97gを無水ジメチルスルホキシド17.9mQ、無
水ピリジン2.OmQに溶解し、N−アセチルイミダゾ
ール1.376gを加え37°Cにて反応させた。6時
間後N−アセチルイミダゾール1.391gを加え、さ
らに37℃にて1晩反応させた(アセチル化)。反応液
に水2.26mQを加えたのち、これを飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液400m12に投入し、析出した沈殿を
濾取し水洗後弓吃燥エチルエーテルにて洗浄し、無色固
体として表題化合物(11)の3.853 gを得た。
この化合物は新規化合物である。
比旋光度: Ca ) b2+ 19°(c 1.0.
クロロホルム)JINMRスペクトル(重ピリジン中)
:δ5.05(IH9bs、 H−5) δ5.46
(IH,dd、 +1−2’)実施例2 (イ) 4’、2’−ジーO−アセチルー4’、6’
−シクロヘキシリデン−1,3,2’ 、6’ 、3ζ
ペンタ−N−トシル−5−デオキシ−5−フルオロ−ト
ブラマイシン(化合物12)の製造 ↓ DAST リハC ジエチルアミノサルファートリフルオライド(DAST
)の0.144+nQを無水ベンゼン5.OmQ、無水
ピリジン0.29+nQにて希釈し、これに化合物(1
1)の331mgを無水ベンゼン8.23mQに溶解し
た溶液を0℃において加えた。室温にて2時間反応させ
た(5位O1lの弗素化と反転)。反応液を氷冷した飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液14mΩに投入し、これを
クロロホルム30mQにて抽出した。クロロホルム溶液
を飽和炭酸水素す1〜リウム水溶液、水にて順次洗浄し
、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この溶液を減圧濃
縮し、乾固して固体として表題化合物(12)の363
mgを得た。
クロロホルム)JINMRスペクトル(重ピリジン中)
:δ5.05(IH9bs、 H−5) δ5.46
(IH,dd、 +1−2’)実施例2 (イ) 4’、2’−ジーO−アセチルー4’、6’
−シクロヘキシリデン−1,3,2’ 、6’ 、3ζ
ペンタ−N−トシル−5−デオキシ−5−フルオロ−ト
ブラマイシン(化合物12)の製造 ↓ DAST リハC ジエチルアミノサルファートリフルオライド(DAST
)の0.144+nQを無水ベンゼン5.OmQ、無水
ピリジン0.29+nQにて希釈し、これに化合物(1
1)の331mgを無水ベンゼン8.23mQに溶解し
た溶液を0℃において加えた。室温にて2時間反応させ
た(5位O1lの弗素化と反転)。反応液を氷冷した飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液14mΩに投入し、これを
クロロホルム30mQにて抽出した。クロロホルム溶液
を飽和炭酸水素す1〜リウム水溶液、水にて順次洗浄し
、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この溶液を減圧濃
縮し、乾固して固体として表題化合物(12)の363
mgを得た。
比旋光度:〔α〕♂2+21°(c 1.0.クロロホ
ルム)” 9FNMRスペクトル(重ピリジン重水中
トリクロロフルオロエタン内部標準)ニー187.40
ppm(ロ)5−デオキシ−5−フルオロトブラマイシ
ンすなわち5,3′−ジデオキシ−5−フルオロカナマ
イシンB(本発明化合物Nα2)の製造 前項(イ)の生成化合物(12)の393mgを一60
℃にて液体アンモニア80m12に溶解し、金属ナトリ
ウム約400mgを加え一50℃で5分間反応させた(
トシル基の脱離)。反応液にメタノール10ml1加え
、室温にてアンモニアを蒸発させ、さらに減圧濃縮後、
残渣を水40+n+Qに溶解し50℃で30分加熱した
(アセチル基の脱離)。反応液を室温まで冷却し、ダウ
エックス(Dowex) 50WX2樹脂60+nQを
加え、これに吸着せしめた(シクロへキシリデン基の脱
雅)。
ルム)” 9FNMRスペクトル(重ピリジン重水中
トリクロロフルオロエタン内部標準)ニー187.40
ppm(ロ)5−デオキシ−5−フルオロトブラマイシ
ンすなわち5,3′−ジデオキシ−5−フルオロカナマ
イシンB(本発明化合物Nα2)の製造 前項(イ)の生成化合物(12)の393mgを一60
℃にて液体アンモニア80m12に溶解し、金属ナトリ
ウム約400mgを加え一50℃で5分間反応させた(
トシル基の脱離)。反応液にメタノール10ml1加え
、室温にてアンモニアを蒸発させ、さらに減圧濃縮後、
残渣を水40+n+Qに溶解し50℃で30分加熱した
(アセチル基の脱離)。反応液を室温まで冷却し、ダウ
エックス(Dowex) 50WX2樹脂60+nQを
加え、これに吸着せしめた(シクロへキシリデン基の脱
雅)。
生成した脱保護生成物を樹脂ごと同一の樹脂20mQの
カラムの上部に加え、水洗後、1−規定アンモニア水に
て溶出し、ニンヒドリン陽性部分を集めた。
カラムの上部に加え、水洗後、1−規定アンモニア水に
て溶出し、ニンヒドリン陽性部分を集めた。
得られた生成物をさらにCM−セファデックスC−25
のカラム(26mQ)でアンモニア水(0→0.15規
定)にて展開し、目的化合物を含む部分を集め濃縮した
。
のカラム(26mQ)でアンモニア水(0→0.15規
定)にて展開し、目的化合物を含む部分を集め濃縮した
。
無色固体として表題化合物(本発明化合物Nα2)の5
5.6mgを得た。
5.6mgを得た。
比旋光度:〔α〕ら’+1.24°(c 1.0.水)
JINMRスペクトル(20%重アンモニア水中、3−
(トリメチルシリル)プロピオン酸ナトリウム塩−d4
内部標準): δ1.28(IHq tl−2ax) δ1.60(
611q +I−3’ax)δ 3.30(III
t H−4’) δ 4.57(ill
dt )ト5)δ5.01(1)1 d H−1,’
) δ5.09(IIL d H−1’)歩考例3 (イ) 1,3.2’、6’、3ζペンタ−N−トシ
ル−4′−デオキシ−カナマイシンB(化合物13)の
製造4′−デオキシ−カナマイシンBの750mgを水
50mflに溶解し、炭酸ナトリウム1.13gを加え
溶解した。
JINMRスペクトル(20%重アンモニア水中、3−
(トリメチルシリル)プロピオン酸ナトリウム塩−d4
内部標準): δ1.28(IHq tl−2ax) δ1.60(
611q +I−3’ax)δ 3.30(III
t H−4’) δ 4.57(ill
dt )ト5)δ5.01(1)1 d H−1,’
) δ5.09(IIL d H−1’)歩考例3 (イ) 1,3.2’、6’、3ζペンタ−N−トシ
ル−4′−デオキシ−カナマイシンB(化合物13)の
製造4′−デオキシ−カナマイシンBの750mgを水
50mflに溶解し、炭酸ナトリウム1.13gを加え
溶解した。
さらにジオキサン50m12を加え冷却中攪拌しながら
トシルクロライド1.84gを加えた。2時間後反応液
にさらに炭酸ナトリウム560mg、トシルクロライド
919mgを加え、室温にて1晩反応させた(N−1−
シル化)。反応液を濃縮乾固し、残渣を大量の水で水洗
し、乾燥したのち、クロロホルム−メタノールに溶解し
エチルエーテルにて再沈殿させ、沈殿をエチルエーテル
にて洗浄し、表題化合物(13)の2.1gを得た。
トシルクロライド1.84gを加えた。2時間後反応液
にさらに炭酸ナトリウム560mg、トシルクロライド
919mgを加え、室温にて1晩反応させた(N−1−
シル化)。反応液を濃縮乾固し、残渣を大量の水で水洗
し、乾燥したのち、クロロホルム−メタノールに溶解し
エチルエーテルにて再沈殿させ、沈殿をエチルエーテル
にて洗浄し、表題化合物(13)の2.1gを得た。
(ロ) 3’、2’、4’、6ζテトラ−0−アセチ
ル−1,3,2’。
ル−1,3,2’。
6’、3’−ペンタ−N−トシル−4′−デオキシ−カ
ナマイシンB(化合物14)の製造 前項(イ)の化合物(13)492mgを無水ピリジン
9.8mQに溶解し、0℃にてアセチルクロライド0
、29mQを加え0℃にて反応させた。2時間後アセチ
ルクロライド0.146mQをさらに加え、3時間反応
させた(アセチル化)。その後、反応液に水0.56m
Qを加えた。これを濃縮し、残渣をクロロホルムに溶止
し。
ナマイシンB(化合物14)の製造 前項(イ)の化合物(13)492mgを無水ピリジン
9.8mQに溶解し、0℃にてアセチルクロライド0
、29mQを加え0℃にて反応させた。2時間後アセチ
ルクロライド0.146mQをさらに加え、3時間反応
させた(アセチル化)。その後、反応液に水0.56m
Qを加えた。これを濃縮し、残渣をクロロホルムに溶止
し。
この溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄し、
水洗後、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。
水洗後、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。
この溶液を減圧濃縮し乾固して表題化合物(14)の5
87mgを得た。
87mgを得た。
(ハ) 3’、2’、4“、6ζテトラ−0−アセチ
ル−5−ベンゾイル−5−エビ−1,3,2’、6’、
3’−ペンタ−N−トシル−4′−デオキシ−カナマイ
シンB(化合物15)の製造前項(ロ)で得られた化合
物(14)の260mgを無水テトラヒドロフラン3
、9mQに溶解し、トリフェニルホスフィン146mg
、ジエチルアゾジカルボキシレート0.086mfl、
安息香酸68mgを順次加え、室温にて1晩反応させた
。1時半後トリフェニルホスフィン147mg、ジエチ
ルアゾジカルボキシレート0.086mg、安息香酸6
8mgを再び順次加え、室温にて1晩反応させた(ミズ
ノブ反応)。反応液を濃縮乾固し、残渣をクロロホルム
に溶解し、溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で
順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この溶
液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(シリカゲル20g展開系:クロロホル
ムで展開したのちクロロホルム:エタノール20:O→
20:1)にて精製し表題化合物(15)の161Bを
得た。
ル−5−ベンゾイル−5−エビ−1,3,2’、6’、
3’−ペンタ−N−トシル−4′−デオキシ−カナマイ
シンB(化合物15)の製造前項(ロ)で得られた化合
物(14)の260mgを無水テトラヒドロフラン3
、9mQに溶解し、トリフェニルホスフィン146mg
、ジエチルアゾジカルボキシレート0.086mfl、
安息香酸68mgを順次加え、室温にて1晩反応させた
。1時半後トリフェニルホスフィン147mg、ジエチ
ルアゾジカルボキシレート0.086mg、安息香酸6
8mgを再び順次加え、室温にて1晩反応させた(ミズ
ノブ反応)。反応液を濃縮乾固し、残渣をクロロホルム
に溶解し、溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で
順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この溶
液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(シリカゲル20g展開系:クロロホル
ムで展開したのちクロロホルム:エタノール20:O→
20:1)にて精製し表題化合物(15)の161Bを
得た。
(ニ) 1.3.2’、6’、3ζペンタ−N−トシ
ル−4′−デオキシ−5−エピ−カナマイシンB(化合
物16)の製造前項(ハ)で得た化合物(15)の15
0mgを0.2モル濃度のす1〜リウム・メチラート3
+++Qに溶解し、58℃にて32時間反応させた(ア
セチル基、ベンゾイル基の脱離)。反応液に希塩酸を加
えて中和したのち濃縮乾固し、残渣を大量の水で洗浄し
乾燥して表題化合物(16)の114mgを得た。
ル−4′−デオキシ−5−エピ−カナマイシンB(化合
物16)の製造前項(ハ)で得た化合物(15)の15
0mgを0.2モル濃度のす1〜リウム・メチラート3
+++Qに溶解し、58℃にて32時間反応させた(ア
セチル基、ベンゾイル基の脱離)。反応液に希塩酸を加
えて中和したのち濃縮乾固し、残渣を大量の水で洗浄し
乾燥して表題化合物(16)の114mgを得た。
(ホ) 3’、2“47 、5#−テトラ−O−アセ
チル−1,3,2’。
チル−1,3,2’。
6′、3ζペンタ−N−トシル−4′−デオキシ−5−
エピ−カナマイシンB(化合物17)の製造 前項(ニ)で得た化合物(16)の350mgを無水ピ
リジン7m12に?8解し、o′Cにてアセチルクロラ
イド0.21ζO加え0℃にて1時間反応させた(アセ
チル化)。反応液に水0.26mffを加えたのち濃縮
乾固した。残渣をクロロホルムに溶解しIa液を10%
硫酸水メ・3カリウム水溶液、飽和炭酸水素す1−リウ
ム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水
した。溶液を濃縮乾固し、無色固体として表題化合物(
17)の415mgを得た。
エピ−カナマイシンB(化合物17)の製造 前項(ニ)で得た化合物(16)の350mgを無水ピ
リジン7m12に?8解し、o′Cにてアセチルクロラ
イド0.21ζO加え0℃にて1時間反応させた(アセ
チル化)。反応液に水0.26mffを加えたのち濃縮
乾固した。残渣をクロロホルムに溶解しIa液を10%
硫酸水メ・3カリウム水溶液、飽和炭酸水素す1−リウ
ム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水
した。溶液を濃縮乾固し、無色固体として表題化合物(
17)の415mgを得た。
夫腐桝旦
(イ) 3’、2’、4’、6“−テ1−ラー0−ア
セチル−1,3,2’。
セチル−1,3,2’。
6′、3ζペンタ−N−トシル−5,4′−ジデオキシ
−5−フルオロカナマイシンB(化合物18)の製造ジ
エチルアミノスルファートリフルオライト(DAST)
の0.17+nQを無水ジクロロメタン7.4mfl。
−5−フルオロカナマイシンB(化合物18)の製造ジ
エチルアミノスルファートリフルオライト(DAST)
の0.17+nQを無水ジクロロメタン7.4mfl。
無水ピリジン0.34ζOにて希釈し、これに、参考例
3(ホ)で得られた化合物(17)の395mgを無水
ジクロロメタン8.4ζOに溶解した溶液を0℃にて加
え、室温にて、1.5時間反応させた(5位叶弗素化と
反転)。反応液を水冷した飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液16m12に投入し、よく攪拌したのちジクロロメタ
ン層をとり出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水に
て順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この
溶液を濃縮乾固し、固体として表題化合物(18)の3
92mgを得た。
3(ホ)で得られた化合物(17)の395mgを無水
ジクロロメタン8.4ζOに溶解した溶液を0℃にて加
え、室温にて、1.5時間反応させた(5位叶弗素化と
反転)。反応液を水冷した飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液16m12に投入し、よく攪拌したのちジクロロメタ
ン層をとり出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水に
て順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この
溶液を濃縮乾固し、固体として表題化合物(18)の3
92mgを得た。
(ロ) 5.4’−ジデオキシ−フルオロカナマイシ
ンB(本発明化合物Nα3)の製造 前項(イ)で得た化合物(18)の302mgを一60
℃にて液体アンモニア90+nQに溶解し金属ナトリウ
ム約300mgを加え、−50℃にて5分間反応させた
(トシル基の脱離)。反応液にメタノールLowΩを加
え、室温にてアンモニアを蒸発させ、さらに減圧濃縮後
残渣を水30mQに溶解し50℃にて30分加熱した(
アセチル基の脱離)。反応液を室温まで冷却し、ダウエ
ックス(Dowax)50W X 2樹脂2(lsQを
加えこれに吸着せしめた。生成した脱保護生成物を樹脂
ごと同一樹脂10mQをつめたカラムの上部に加え、水
洗後、1規定アンモニア水にて溶出しニンヒドリン呈色
陽性部分を集め濃縮した。得られた残渣を水30mQに
溶解し、CMセファデックスC−25のカラム(24ζ
O)にチャージし、アンモニア水(0→0.15規定)
にて溶出し目的化合物を含む部分を集め濃縮し無色固体
として表題化合物(本発明化合物Nu 3 )の411
1aを得た。
ンB(本発明化合物Nα3)の製造 前項(イ)で得た化合物(18)の302mgを一60
℃にて液体アンモニア90+nQに溶解し金属ナトリウ
ム約300mgを加え、−50℃にて5分間反応させた
(トシル基の脱離)。反応液にメタノールLowΩを加
え、室温にてアンモニアを蒸発させ、さらに減圧濃縮後
残渣を水30mQに溶解し50℃にて30分加熱した(
アセチル基の脱離)。反応液を室温まで冷却し、ダウエ
ックス(Dowax)50W X 2樹脂2(lsQを
加えこれに吸着せしめた。生成した脱保護生成物を樹脂
ごと同一樹脂10mQをつめたカラムの上部に加え、水
洗後、1規定アンモニア水にて溶出しニンヒドリン呈色
陽性部分を集め濃縮した。得られた残渣を水30mQに
溶解し、CMセファデックスC−25のカラム(24ζ
O)にチャージし、アンモニア水(0→0.15規定)
にて溶出し目的化合物を含む部分を集め濃縮し無色固体
として表題化合物(本発明化合物Nu 3 )の411
1aを得た。
比旋光度:〔α)、 +120°(c 1.0.水)参
考例4 (イ) 1,3.2’、6’、3ζペンタ−N−)−
シル−3’ 、4’−ジデオキシ−カナマイシンB(化
合物19)の”A 造3’、4’−ジデオキシカナマイ
シンB(すなわちジベカシン)、硫酸塩3.50g(力
価690ug/mg)を水35mQに溶解し、炭酸ナト
リウム3.40g(6モル当量)を加えた後、1,4−
ジオキサン10mQを加え、水冷攪拌下にp−トルエン
スルホニル・クロライド6.12g(ジベカシンに対し
て6モル当量)を加えた。1時間後、室温に戻してさら
に攪拌を続けた。722時間後反応混合物を減圧濃縮し
、水300m12を加え、生じた沈殿を濾取、水洗後、
減圧乾燥させた。さらにこれをエーテルで洗い減圧乾燥
し、6.06gの表題化合物(19)の固体を得た。収
率93%(ロ)4′、6ζ0−シクロへキシリデン−1
,3,2’、6’。
考例4 (イ) 1,3.2’、6’、3ζペンタ−N−)−
シル−3’ 、4’−ジデオキシ−カナマイシンB(化
合物19)の”A 造3’、4’−ジデオキシカナマイ
シンB(すなわちジベカシン)、硫酸塩3.50g(力
価690ug/mg)を水35mQに溶解し、炭酸ナト
リウム3.40g(6モル当量)を加えた後、1,4−
ジオキサン10mQを加え、水冷攪拌下にp−トルエン
スルホニル・クロライド6.12g(ジベカシンに対し
て6モル当量)を加えた。1時間後、室温に戻してさら
に攪拌を続けた。722時間後反応混合物を減圧濃縮し
、水300m12を加え、生じた沈殿を濾取、水洗後、
減圧乾燥させた。さらにこれをエーテルで洗い減圧乾燥
し、6.06gの表題化合物(19)の固体を得た。収
率93%(ロ)4′、6ζ0−シクロへキシリデン−1
,3,2’、6’。
3ξペンタ−N−トシルジベカシン(化合物20)の製
造前項(イ)で得られた化合物(19)の1.63 g
を無水DMF8.1ζOに溶解し、シクロへキサノンジ
メチルアセタール1mQとp−トルエンスルホン酸51
mgを加え、50℃、30mmHgの減圧下に攪拌した
。1時間後、氷冷した飽和重曹水200m<1に反応液
を注ぎ、生じた白色沈殿を濾取、水洗後、減圧乾燥して
1.75 gの表題化合物(20)を白色固体として得
た。収率は定量的。
造前項(イ)で得られた化合物(19)の1.63 g
を無水DMF8.1ζOに溶解し、シクロへキサノンジ
メチルアセタール1mQとp−トルエンスルホン酸51
mgを加え、50℃、30mmHgの減圧下に攪拌した
。1時間後、氷冷した飽和重曹水200m<1に反応液
を注ぎ、生じた白色沈殿を濾取、水洗後、減圧乾燥して
1.75 gの表題化合物(20)を白色固体として得
た。収率は定量的。
比旋光度:(cz)i5”+28’(c t、o、 D
MF)(ハ) 2ζO−ベンゾイル−4′、6ζ0−シ
クロヘキシリデン−1,3,2’、6’、3″−ペンタ
−N−1−シルジベ力シン(化合物21)の製造 前項(ロ)で得られた化合物(20)の1.75gを無
水ピリジン35mQに溶解し、0℃で攪拌下に塩化ベン
ゾイル0.78mflを加えて反応させた。水0 、6
ζOを3.5時間後加え、1時間放置後、減圧濃縮し、
得られた残渣をクロロホルムで抽出し、クロロホルム溶
液を順次飽和重曹水(1,0(lnQX 3)、5%重
硫酸カリウム水(100mI2X 2) 、水(100
mQX 3)で洗浄し、芒硝乾燥後、濃縮乾固して、固
体として表題化合物(21)の1.885gを得た。収
率99.5%比旋光度: (α−:+、2+ 32°(
c 1. CHCb)(ニ)5,2ζO−ベンゾイル−
4′、6“−〇−シクロへキシリデン−1,3,2’、
6’、3ζペンタ−N−トシル−5−エピジベカシン(
化合物22)の製造 前項(ハ)で得た化合物(21)の1.62gを無水テ
トラヒドロフラン24 、3Jに溶解し、ジエチルアゾ
ジカルボキシレート(DEAD)0.54ml1.
トリフェニルホスフィンP (CGH,)、 906m
g、安息香酸を加え、50℃で反応させた。1時間30
分後、同量の試薬をそれぞれ加え、室温に戻して反応さ
せた。3時間後、同量の試薬をそれぞれ加え50℃に昇
温し、5時間後、室温に戻して一晩反応させ、21時間
後、同量の試薬を夫々加え、室温にて反応させた(ミツ
ノブ反応)。92時間後、反応混合物を減圧濃縮し、得
られたシロップをクロロホルム300m12に溶解し、
順次飽和重曹水(200mQ X 3)、水(200m
QX 3)で洗浄した後、芒硝で乾燥し濃縮乾固した。
MF)(ハ) 2ζO−ベンゾイル−4′、6ζ0−シ
クロヘキシリデン−1,3,2’、6’、3″−ペンタ
−N−1−シルジベ力シン(化合物21)の製造 前項(ロ)で得られた化合物(20)の1.75gを無
水ピリジン35mQに溶解し、0℃で攪拌下に塩化ベン
ゾイル0.78mflを加えて反応させた。水0 、6
ζOを3.5時間後加え、1時間放置後、減圧濃縮し、
得られた残渣をクロロホルムで抽出し、クロロホルム溶
液を順次飽和重曹水(1,0(lnQX 3)、5%重
硫酸カリウム水(100mI2X 2) 、水(100
mQX 3)で洗浄し、芒硝乾燥後、濃縮乾固して、固
体として表題化合物(21)の1.885gを得た。収
率99.5%比旋光度: (α−:+、2+ 32°(
c 1. CHCb)(ニ)5,2ζO−ベンゾイル−
4′、6“−〇−シクロへキシリデン−1,3,2’、
6’、3ζペンタ−N−トシル−5−エピジベカシン(
化合物22)の製造 前項(ハ)で得た化合物(21)の1.62gを無水テ
トラヒドロフラン24 、3Jに溶解し、ジエチルアゾ
ジカルボキシレート(DEAD)0.54ml1.
トリフェニルホスフィンP (CGH,)、 906m
g、安息香酸を加え、50℃で反応させた。1時間30
分後、同量の試薬をそれぞれ加え、室温に戻して反応さ
せた。3時間後、同量の試薬をそれぞれ加え50℃に昇
温し、5時間後、室温に戻して一晩反応させ、21時間
後、同量の試薬を夫々加え、室温にて反応させた(ミツ
ノブ反応)。92時間後、反応混合物を減圧濃縮し、得
られたシロップをクロロホルム300m12に溶解し、
順次飽和重曹水(200mQ X 3)、水(200m
QX 3)で洗浄した後、芒硝で乾燥し濃縮乾固した。
得られた固体(9,68g)をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ワコーゲルC−200;この際展開溶媒
としてはチルエン−アセトンを用いた)にて試薬の除去
、生成物の分離、精製を繰り返し0.95gの表題化合
物(22)を黄色固体として得た。収率54.5%(ホ
) 4’、6’−0−シクロヘキシリデン−1,3,
2’、6’。
トグラフィー(ワコーゲルC−200;この際展開溶媒
としてはチルエン−アセトンを用いた)にて試薬の除去
、生成物の分離、精製を繰り返し0.95gの表題化合
物(22)を黄色固体として得た。収率54.5%(ホ
) 4’、6’−0−シクロヘキシリデン−1,3,
2’、6’。
3′−ペンタ−N−)−シル−5−エピジベカシン(化
合物23)の製造 前項(ニ)で得た化合物(22)0.95 gにメタノ
ール1.9ζOを加え(ゲル化する)、28%ナトリウ
ム・メトキシドのメタノール溶液0 、1ζOを加え5
0℃で反応させた(均一溶液になった)。この脱ベンゾ
イル反応を44時間行った後、減圧濃縮し、残渣に0.
25%重硫酸カリウム水20り+Qを加え、得られた白
色沈殿を濾取、水洗後減圧乾燥し、0.83 gの表題
化合物(23)を白色固体として得た。収率は定量的。
合物23)の製造 前項(ニ)で得た化合物(22)0.95 gにメタノ
ール1.9ζOを加え(ゲル化する)、28%ナトリウ
ム・メトキシドのメタノール溶液0 、1ζOを加え5
0℃で反応させた(均一溶液になった)。この脱ベンゾ
イル反応を44時間行った後、減圧濃縮し、残渣に0.
25%重硫酸カリウム水20り+Qを加え、得られた白
色沈殿を濾取、水洗後減圧乾燥し、0.83 gの表題
化合物(23)を白色固体として得た。収率は定量的。
比旋光度:〔α〕ら3+6°(c O,5,アセ1−ン
ーメタノール(1: 1) (へ) 2’−0−ベンゾイル−4′、6ζO−シク
ロヘキシリデン−1,3,2’、6’、3ζベンターN
−トシル−5−エピジベカシン(化合物24)の製造 前項(ホ)の生成化合物(23)の0.77 gを無水
ピリジン15.4ζOに溶解し、0℃攪拌下に塩化ベン
ゾイル0.34mM((5)に対して5mo1当量)を
加えて反応した(2’−0−ベンゾイル化)。30分後
、水0.26tQを加え1時間後、減圧濃縮し、残渣を
クロロホルム100mQに溶解し、飽和重曹水(50m
ff X 3)、5%重硫酸カリウム水(50J X
3) 、水(50mM X 2)で順次洗浄し、芒硝乾
燥後濃縮乾固して0.84 gの表題化合物(24)を
固体として得た。収率は定量的。
ーメタノール(1: 1) (へ) 2’−0−ベンゾイル−4′、6ζO−シク
ロヘキシリデン−1,3,2’、6’、3ζベンターN
−トシル−5−エピジベカシン(化合物24)の製造 前項(ホ)の生成化合物(23)の0.77 gを無水
ピリジン15.4ζOに溶解し、0℃攪拌下に塩化ベン
ゾイル0.34mM((5)に対して5mo1当量)を
加えて反応した(2’−0−ベンゾイル化)。30分後
、水0.26tQを加え1時間後、減圧濃縮し、残渣を
クロロホルム100mQに溶解し、飽和重曹水(50m
ff X 3)、5%重硫酸カリウム水(50J X
3) 、水(50mM X 2)で順次洗浄し、芒硝乾
燥後濃縮乾固して0.84 gの表題化合物(24)を
固体として得た。収率は定量的。
比旋光度:〔α〕ら3+29°(c 1. CHCl3
)叉胤■土 (イ)2ζO−ベンゾイル−4’、6’−0−シクロへ
キシリデン−1,3,2’、6’、3’−ペンタ−N−
トシル−5−デオキシ−5−ジベカシン(化合物25)
の製造無水ベンゼン15.4+++Qに無水ピリジン0
.66−を加え、0℃攪攪拌フジエチルアミノサルファ
ートリフロライドDAST) 0.33+mQ(化合物
(24)に対して5モル当量)を加え、さらに参考例4
(へ)で得た化合物(24)の0.77仁を加えて室温
、N2界囲気下で反ノ芯させた。1時間後反応液を水冷
した飽和型ソウ水26mQにあけ、混合物をクロロホル
ム80mQで抽出した。得られた(7機層を飽和型ソウ
水(40mQ X 1)、5%重硫酸カリウム水(25
mQx 3)、飽和型ソウ水(25n+Q X 2)、
水(25m+QX 3)で順次洗浄し、芒硝乾燥後5淵
1宿乾固すると、0.79gの表題化合物(25)の固
体を得た。収率は定量的。
)叉胤■土 (イ)2ζO−ベンゾイル−4’、6’−0−シクロへ
キシリデン−1,3,2’、6’、3’−ペンタ−N−
トシル−5−デオキシ−5−ジベカシン(化合物25)
の製造無水ベンゼン15.4+++Qに無水ピリジン0
.66−を加え、0℃攪攪拌フジエチルアミノサルファ
ートリフロライドDAST) 0.33+mQ(化合物
(24)に対して5モル当量)を加え、さらに参考例4
(へ)で得た化合物(24)の0.77仁を加えて室温
、N2界囲気下で反ノ芯させた。1時間後反応液を水冷
した飽和型ソウ水26mQにあけ、混合物をクロロホル
ム80mQで抽出した。得られた(7機層を飽和型ソウ
水(40mQ X 1)、5%重硫酸カリウム水(25
mQx 3)、飽和型ソウ水(25n+Q X 2)、
水(25m+QX 3)で順次洗浄し、芒硝乾燥後5淵
1宿乾固すると、0.79gの表題化合物(25)の固
体を得た。収率は定量的。
比旋光度:〔α〕♂゛+37°(c 1. Ct(C1
3)(ロ)5−デオキシ−5−フルオロジベ力シンすな
わち5,3/A1〜トリデオキシ−5−フルオロカナマ
イシンB(本発明化合物Nα4)の製造 前項(イ)の化合物(25) 0.74gをメタノール
14 、 smQに溶解し、28%ナトリウム・メトキ
シドのメタノール溶液0 、55mΩを加え、室温で反
応させた(脱ベンゾイル反応)。2時間後メタノール置
換したダウエックス50W X 2(If+型)4mQ
で中和し、レジンを濾去し、メタノールでレジンを洗い
出し、濾液と洗液を合わせて濃縮乾固し、0.59gの
淡黄色固体を得た(収率87%)。
3)(ロ)5−デオキシ−5−フルオロジベ力シンすな
わち5,3/A1〜トリデオキシ−5−フルオロカナマ
イシンB(本発明化合物Nα4)の製造 前項(イ)の化合物(25) 0.74gをメタノール
14 、 smQに溶解し、28%ナトリウム・メトキ
シドのメタノール溶液0 、55mΩを加え、室温で反
応させた(脱ベンゾイル反応)。2時間後メタノール置
換したダウエックス50W X 2(If+型)4mQ
で中和し、レジンを濾去し、メタノールでレジンを洗い
出し、濾液と洗液を合わせて濃縮乾固し、0.59gの
淡黄色固体を得た(収率87%)。
この脱ベンゾイル化された固体生成物の0.59 gに
80%酢酸水12mQを加えて80℃で反応させた(脱
シクロへキシリデン反応)。30分後、室温に戻し、濃
縮乾固して0.52gの淡黄色固体を得た(収率93%
)。
80%酢酸水12mQを加えて80℃で反応させた(脱
シクロへキシリデン反応)。30分後、室温に戻し、濃
縮乾固して0.52gの淡黄色固体を得た(収率93%
)。
この脱シクロへキシリデン化固体生成物の0.52gを
一50℃下液体アンモニアの約100mΩに溶解し。
一50℃下液体アンモニアの約100mΩに溶解し。
激しく攪拌しながら金属す1−リウム約500mgを加
えて脱トシル化反応を行った。5分後、青色力曽11え
るまでメタノールを加え、室温に戻してアンモニアを蒸
発させた後、減圧乾燥し固体を得た。この固体を水23
mQに溶解し、ダウエックス50W X 2()1+型
)25+nQで中和した。このレジンを同じレジン10
mQのカラムに添加し、カラムを水洗後、INアンモニ
アで溶出し、ニンヒドリン陽性のフラクションを合わせ
て濃縮乾固した。得られた0、18gの固体を水180
tQに?盲片し、CM−セファデクスC−25(NH,
、”型) 90mQカラムに添加し、カラムを水洗後。
えて脱トシル化反応を行った。5分後、青色力曽11え
るまでメタノールを加え、室温に戻してアンモニアを蒸
発させた後、減圧乾燥し固体を得た。この固体を水23
mQに溶解し、ダウエックス50W X 2()1+型
)25+nQで中和した。このレジンを同じレジン10
mQのカラムに添加し、カラムを水洗後、INアンモニ
アで溶出し、ニンヒドリン陽性のフラクションを合わせ
て濃縮乾固した。得られた0、18gの固体を水180
tQに?盲片し、CM−セファデクスC−25(NH,
、”型) 90mQカラムに添加し、カラムを水洗後。
アンモニア水濃度を0.05Nから0.2Nまで連続的
に変化させながら溶出し、相当するフラクションを合わ
せて濃縮・:吃固し、0.10gの表題の本発明化合物
No 4を白色固体として得た(−炭酸塩:−水塩とし
て収率46%)、、化合物(25)からの収率37.2
%。
に変化させながら溶出し、相当するフラクションを合わ
せて濃縮・:吃固し、0.10gの表題の本発明化合物
No 4を白色固体として得た(−炭酸塩:−水塩とし
て収率46%)、、化合物(25)からの収率37.2
%。
比旋光度: 〔α〕♂’+122°(cl、水)tl−
NMR(250Mllz、 20%ND3−D20.7
MS標準):δ4.55 dt )1−5 J5.F”
51.511Z J5,4”8.5又は9.511z
J5+a”9.5又は8.5t(zδ5.01.
d ll−1’ Jl’、2’=3.8Hzδ5.09
d t(−1’ Jl’、2’=3.511zX潮班
旦 (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB(化合物Nα26)の製造 (但しZはベンジルオキシカルボニル基を示す、以下同
様) 5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB(実施例1
の本発明化合物Nα1)の炭酸塩30mgを無水ジメチ
ルスルホキシド0.3mΩに懸濁させ、酢酸亜鉛・2水
和物61.4Bを加え、80℃にて1時間攪拌した。
NMR(250Mllz、 20%ND3−D20.7
MS標準):δ4.55 dt )1−5 J5.F”
51.511Z J5,4”8.5又は9.511z
J5+a”9.5又は8.5t(zδ5.01.
d ll−1’ Jl’、2’=3.8Hzδ5.09
d t(−1’ Jl’、2’=3.511zX潮班
旦 (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB(化合物Nα26)の製造 (但しZはベンジルオキシカルボニル基を示す、以下同
様) 5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB(実施例1
の本発明化合物Nα1)の炭酸塩30mgを無水ジメチ
ルスルホキシド0.3mΩに懸濁させ、酢酸亜鉛・2水
和物61.4Bを加え、80℃にて1時間攪拌した。
得られた5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBと
亜鉛との錯体を含む均一溶液を室温まで冷却したのち、
N−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)サクシンイミ
ド47.4mgを除々に加え、室温にて前記のε11体
に1時間反応せしめた(N−ペンジルオキシカルボニル
化反応)。反応、1kにエチルエーテルを加え、析出し
た固体のエチルエーテルによる洗浄を操り返し、得られ
た固体を3規定アンモニア水にて洗浄を繰り返しヱ11
体から亜εイ)を除去したのち水洗し、乾燥して固体の
表題化合物(26)の38Bを得た。
亜鉛との錯体を含む均一溶液を室温まで冷却したのち、
N−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)サクシンイミ
ド47.4mgを除々に加え、室温にて前記のε11体
に1時間反応せしめた(N−ペンジルオキシカルボニル
化反応)。反応、1kにエチルエーテルを加え、析出し
た固体のエチルエーテルによる洗浄を操り返し、得られ
た固体を3規定アンモニア水にて洗浄を繰り返しヱ11
体から亜εイ)を除去したのち水洗し、乾燥して固体の
表題化合物(26)の38Bを得た。
(ロ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロ−3’−
N−1〜リフルオロアセチルカナマイシンB(化合物2
7)の製造前項(イ)で得られた化合物(26)の37
mgを無水ジメチルスルホキシド0.19m1llに溶
解しトリフルオロ酢酸エチル0.0064n+Qを加え
、室温にて1時間反応せしめた(3ζN−トリフルオロ
アセチル化)。反応液にエチルエーテルを加え、エチル
エーテルによる洗浄を繰り返し行い乾燥後、表題化合物
(27)の42mgを固体として得た。
シカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロ−3’−
N−1〜リフルオロアセチルカナマイシンB(化合物2
7)の製造前項(イ)で得られた化合物(26)の37
mgを無水ジメチルスルホキシド0.19m1llに溶
解しトリフルオロ酢酸エチル0.0064n+Qを加え
、室温にて1時間反応せしめた(3ζN−トリフルオロ
アセチル化)。反応液にエチルエーテルを加え、エチル
エーテルによる洗浄を繰り返し行い乾燥後、表題化合物
(27)の42mgを固体として得た。
(ハ) 3.2’、6′−1〜リス(N−ベンジルオ
キシカルボニル)−1,−N−(3−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル
〕−5−デオキシ−5−フルオロ−3’−N−トリフル
オロアセチルカナマイシンB(化合物28)の製造 前項(ロ)で生成した化合物(27)の46Bをテトラ
ヒドロフランー水(1:l)の混液1.4taQに溶解
させ炭酸ナトリウム4.OBを加えたのち、3−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプ
ロピオン酸のN−ヒドロキシサクシンイミドエステル1
911gをテトラヒドロフラン0.68mgに溶解して
加えた。
キシカルボニル)−1,−N−(3−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル
〕−5−デオキシ−5−フルオロ−3’−N−トリフル
オロアセチルカナマイシンB(化合物28)の製造 前項(ロ)で生成した化合物(27)の46Bをテトラ
ヒドロフランー水(1:l)の混液1.4taQに溶解
させ炭酸ナトリウム4.OBを加えたのち、3−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプ
ロピオン酸のN−ヒドロキシサクシンイミドエステル1
911gをテトラヒドロフラン0.68mgに溶解して
加えた。
室温にて1時間反応させた(1−N−アシル化)。その
後反応液を濃縮し残渣を水洗し、乾燥後、エチルエーテ
ルにて洗浄し、固体として表題化合物(28)の50.
2mgを得た。
後反応液を濃縮し残渣を水洗し、乾燥後、エチルエーテ
ルにて洗浄し、固体として表題化合物(28)の50.
2mgを得た。
(ニ) 1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシプロピオニル〕−5−デオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(本発明化合物Nα5)の製造 り11 前項(ハ)で得た化合物(28)の50mgを2規定ア
ンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液3.
5ml1に溶解させ28℃にて1晩反応させ、3’−N
−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。その後1
反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水−酢酸
(4:1.:1)の混液2.5+nQに溶解し、パラジ
ウム黒を触媒として室温にて1時間接触還元を行ない、
N−ベンジルオキシカルボニル基を脱離した。反応液を
濾過後、濾液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、C
M−セファデックスC−25のカラムでアンモニア水(
0→0.5規定)にて展開し目的化合物を含む部分を集
めて濃縮し1表題の本発明化合物Nn 5の固体17.
4mgを得た。
キシプロピオニル〕−5−デオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(本発明化合物Nα5)の製造 り11 前項(ハ)で得た化合物(28)の50mgを2規定ア
ンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液3.
5ml1に溶解させ28℃にて1晩反応させ、3’−N
−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。その後1
反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水−酢酸
(4:1.:1)の混液2.5+nQに溶解し、パラジ
ウム黒を触媒として室温にて1時間接触還元を行ない、
N−ベンジルオキシカルボニル基を脱離した。反応液を
濾過後、濾液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、C
M−セファデックスC−25のカラムでアンモニア水(
0→0.5規定)にて展開し目的化合物を含む部分を集
めて濃縮し1表題の本発明化合物Nn 5の固体17.
4mgを得た。
比旋光度:〔α〕ら3+83°(cl、水)叉五災且
(イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−1−N−(4−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシブチリル〕−5−
デオキシ−5−フルオロ−3’−N−トリフルオロアセ
チルカナマイシンB(化合物29)の製造 実施例5(ロ)で得ら九た化合物(27)の42mgを
テトラヒドロフランー水(1:1.)の混液1.25I
IIQに溶解し、炭酸ナトリウム3 、6mgを加えた
のち、4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(S
)−とトロキシ酪酸のN−ヒI−口キシサクシンイミド
エステル16.3m3をテトラヒドロフランO,(i2
4mQに溶解して加えた。
シカルボニル)−1−N−(4−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシブチリル〕−5−
デオキシ−5−フルオロ−3’−N−トリフルオロアセ
チルカナマイシンB(化合物29)の製造 実施例5(ロ)で得ら九た化合物(27)の42mgを
テトラヒドロフランー水(1:1.)の混液1.25I
IIQに溶解し、炭酸ナトリウム3 、6mgを加えた
のち、4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(S
)−とトロキシ酪酸のN−ヒI−口キシサクシンイミド
エステル16.3m3をテトラヒドロフランO,(i2
4mQに溶解して加えた。
室温にて2時間後さらに上記活性エステル6mgをテト
ラヒドロフラン0,23n+Qに溶解して加えた。室温
にて3時間反応させた(1−N−アシル化)。その後、
反応液を濃縮し、残渣を水洗し、乾燥したのち、エチル
エーテルにて洗浄し乾燥して表題化合物(29)の46
.3nB;を得た。
ラヒドロフラン0,23n+Qに溶解して加えた。室温
にて3時間反応させた(1−N−アシル化)。その後、
反応液を濃縮し、残渣を水洗し、乾燥したのち、エチル
エーテルにて洗浄し乾燥して表題化合物(29)の46
.3nB;を得た。
(ロ) l−N−〔4−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシブチリル〕−5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB(本発明化合物Nα6)の製造 前項(イ)の生成した化合物(29)の59.4mgを
2規定アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の
混液4.15mgに溶解し、28℃にて1晩攪拌反応さ
せ3ξN−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。
キシブチリル〕−5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB(本発明化合物Nα6)の製造 前項(イ)の生成した化合物(29)の59.4mgを
2規定アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の
混液4.15mgに溶解し、28℃にて1晩攪拌反応さ
せ3ξN−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。
反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水−酢酸
(4:1:1)の混液3mQに溶解し、パラジウム黒を
触媒として室温にて30分接触還元してN−ベンジルオ
キシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾過後、濾
液を濃縮して得られた固体を水に溶解し酬−セファデッ
クスC−25のカラムでアンモニア水(0→0.5規定
)にて展開し、目的化合物を含む部分を集めて濃縮し、
無色固体として表題の本発明化合物Nα6の15.7畔
を得た。
(4:1:1)の混液3mQに溶解し、パラジウム黒を
触媒として室温にて30分接触還元してN−ベンジルオ
キシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾過後、濾
液を濃縮して得られた固体を水に溶解し酬−セファデッ
クスC−25のカラムでアンモニア水(0→0.5規定
)にて展開し、目的化合物を含む部分を集めて濃縮し、
無色固体として表題の本発明化合物Nα6の15.7畔
を得た。
比旋光度: 〔α〕♂3+85°(c 1.0.)に)
LHNMRスペクトル(亜塩酸水中、3−(トリメチル
シリル)プロピオン酸ナトリウム塩〜d4内部標7<1
り : δ4.90(ill dt H−5) δ5.14(
ill d )I−1’又はH−1′)65.76(l
fl d li−ビ又は11−1’)”F NMIIス
ペクトル(亜塩酸水中、1−リクロロフルオロメタン外
部標準) −190,07ppm(dt)り施例7 (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−5〜デオキシ−5−フルオロトブラマ
イシン(化合物30)の製造 ○H 5−デオキシ−5−フルオロトブラマイシン(本発明化
合物Xα2)の炭酸塩311IIgを無水ジメチルスル
ホキシド0.31mgに懸濁させ、酢酸亜鉛・2水和物
671gを加え、80℃にて1.5時間攪拌させて得ら
れた均一溶液を室温まで冷却したのち、N−(ベンジル
オキシカルボニルオキシ)サクシンイミド49mgを除
々に加え、室温にて1時間反応せしめた(N−ベンジル
オキシカルボニル化)。反応液にエチルエーテルを加え
、エチルエーテルによる洗浄を繰り返し、得られた固体
を3規定アンモニア水にて洗浄を繰り返し行い、亜鉛を
除去したのち水洗し、表題化合物(30)の48mgを
得た。
LHNMRスペクトル(亜塩酸水中、3−(トリメチル
シリル)プロピオン酸ナトリウム塩〜d4内部標7<1
り : δ4.90(ill dt H−5) δ5.14(
ill d )I−1’又はH−1′)65.76(l
fl d li−ビ又は11−1’)”F NMIIス
ペクトル(亜塩酸水中、1−リクロロフルオロメタン外
部標準) −190,07ppm(dt)り施例7 (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−5〜デオキシ−5−フルオロトブラマ
イシン(化合物30)の製造 ○H 5−デオキシ−5−フルオロトブラマイシン(本発明化
合物Xα2)の炭酸塩311IIgを無水ジメチルスル
ホキシド0.31mgに懸濁させ、酢酸亜鉛・2水和物
671gを加え、80℃にて1.5時間攪拌させて得ら
れた均一溶液を室温まで冷却したのち、N−(ベンジル
オキシカルボニルオキシ)サクシンイミド49mgを除
々に加え、室温にて1時間反応せしめた(N−ベンジル
オキシカルボニル化)。反応液にエチルエーテルを加え
、エチルエーテルによる洗浄を繰り返し、得られた固体
を3規定アンモニア水にて洗浄を繰り返し行い、亜鉛を
除去したのち水洗し、表題化合物(30)の48mgを
得た。
(ロ) 3.2’、6’−1−リス(N−ベンジルオ
キシカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロ−3“
−N−)−リフルオロアセチルトブラマイシン(化合物
31)の製造044項(イ)の化合物(30)の47m
gを無水ジメチルスルホキシド0.24mQに溶解し、
トリフルオロ酢酸エチル0.0084mρを加え、室温
にて1時間反応せしめた(3”−N〜トリフルオロアセ
チル化)。反応液にエチルエーテルを加え、析出した固
体のエチルエーテルによる洗浄を繰り返し行ない表題化
合物(31)の53m1二を得た。
キシカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロ−3“
−N−)−リフルオロアセチルトブラマイシン(化合物
31)の製造044項(イ)の化合物(30)の47m
gを無水ジメチルスルホキシド0.24mQに溶解し、
トリフルオロ酢酸エチル0.0084mρを加え、室温
にて1時間反応せしめた(3”−N〜トリフルオロアセ
チル化)。反応液にエチルエーテルを加え、析出した固
体のエチルエーテルによる洗浄を繰り返し行ない表題化
合物(31)の53m1二を得た。
(ハ) 3.2’、6′−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル 2−(RS)−ヒドロキシプロピオニル)−3’−N−
トリフルオロアセチル−5−デオキシ−5−フルオロ
−トブラマイシン(化合物32)の製造 前項(口)で得られた3. 2’,6′−1へリス(N
−ベンジルオキシカルボニル)−3’−N− トリフル
オロアセチル−5−デオキシ−5−フルオロ−1−ブラ
マイシン(化合物31)の56mgをテトラヒドロフラ
ン−水(1:1)の混液1.57m+2に溶解し、炭酸
ナトリウム4.8mgを加えたのち、3−ベンジルオキ
シカルボニルアミノ−2−(RS)−ヒドロキシプロピ
オン酸のN−ヒトロキシサクシンイミドエステル24m
gをテトラヒドロフラン0、83mQに溶解して加えた
。室温にて1時間反応させた(1−N−アシル化反応)
。その後反応液を濃縮し、残渣を水洗し乾燥したのちエ
チルエーテルにて洗浄し、表題化合物(32)の63B
を得た。
シカルボニル 2−(RS)−ヒドロキシプロピオニル)−3’−N−
トリフルオロアセチル−5−デオキシ−5−フルオロ
−トブラマイシン(化合物32)の製造 前項(口)で得られた3. 2’,6′−1へリス(N
−ベンジルオキシカルボニル)−3’−N− トリフル
オロアセチル−5−デオキシ−5−フルオロ−1−ブラ
マイシン(化合物31)の56mgをテトラヒドロフラ
ン−水(1:1)の混液1.57m+2に溶解し、炭酸
ナトリウム4.8mgを加えたのち、3−ベンジルオキ
シカルボニルアミノ−2−(RS)−ヒドロキシプロピ
オン酸のN−ヒトロキシサクシンイミドエステル24m
gをテトラヒドロフラン0、83mQに溶解して加えた
。室温にて1時間反応させた(1−N−アシル化反応)
。その後反応液を濃縮し、残渣を水洗し乾燥したのちエ
チルエーテルにて洗浄し、表題化合物(32)の63B
を得た。
(二) 1−N−(3−アミノ−2−(RS)−ヒド
ロキシプロピオニル〕−5−デオキシ−5−フルオロト
ブラマイシン(本発明化合物Nα7)の製造 前項(ハ)で得た化合物(32)の6 2mgを2規定
アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液4
.4v2に溶解し、28°Cにて1晩反応させ、3’−
N−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。そのの
ち、反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−酢酸
−水(4:1:1)の混液3.On+Qに溶解し、パラ
ジウム黒を触媒として室温にて1時間接触還元してN−
ベンジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を
濾過後、濾液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、C
M−セファデックスC−25のカラムでアンモニア水(
0→0.5規定)にて展開し,目的化合物を含む部分を
集めて濃縮し、表題の本発明化合物Nα7の22、ll
lIgを得た。
ロキシプロピオニル〕−5−デオキシ−5−フルオロト
ブラマイシン(本発明化合物Nα7)の製造 前項(ハ)で得た化合物(32)の6 2mgを2規定
アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液4
.4v2に溶解し、28°Cにて1晩反応させ、3’−
N−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。そのの
ち、反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−酢酸
−水(4:1:1)の混液3.On+Qに溶解し、パラ
ジウム黒を触媒として室温にて1時間接触還元してN−
ベンジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を
濾過後、濾液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、C
M−セファデックスC−25のカラムでアンモニア水(
0→0.5規定)にて展開し,目的化合物を含む部分を
集めて濃縮し、表題の本発明化合物Nα7の22、ll
lIgを得た。
比旋光度:〔α〕ら3+75°(C1,水)叉直災且
(イ) 3. 2’,6’−トリス(N−ベンジルオ
キシカルボニル)−1−N−(3−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル〕
−3ξN−トリフルオロアセチル−5−デオキシ−5−
フルオロトブラマイシン(化合物33)の製造 H 実施例7(ロ)で得られた化合物(31)の47mgを
テ1−ラヒlへロフランーフメ(1:1)の混液1.4
mgに溶解し、炭酸す1−リウム4 、 Omgを加え
たのち、3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(
S)−ヒドロキシプロピオン酸のN−ヒドロキンサクシ
ンイミドエステル20mKをテトラ上1−ロフラン0.
1mQに溶解して加えた。室温にて1時間後反応液を濃
縮し残渣を水洗し乾燥したのちエチルエーテルにて洗浄
し、表題化合物(33)の52mgを得た。
キシカルボニル)−1−N−(3−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル〕
−3ξN−トリフルオロアセチル−5−デオキシ−5−
フルオロトブラマイシン(化合物33)の製造 H 実施例7(ロ)で得られた化合物(31)の47mgを
テ1−ラヒlへロフランーフメ(1:1)の混液1.4
mgに溶解し、炭酸す1−リウム4 、 Omgを加え
たのち、3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(
S)−ヒドロキシプロピオン酸のN−ヒドロキンサクシ
ンイミドエステル20mKをテトラ上1−ロフラン0.
1mQに溶解して加えた。室温にて1時間後反応液を濃
縮し残渣を水洗し乾燥したのちエチルエーテルにて洗浄
し、表題化合物(33)の52mgを得た。
(ロ) 1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシプロピオニル〕−5〜デオキシ−5−フルオロトブ
ラマイシン(本発明化合物NQ8−)の製造 ti 前項(イ)の生成した化合物(33)の52mgを2規
定アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液
3.7mlに溶解させ28℃にて1晩反応させ、3ζN
−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。その後、
反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−酢酸−水
(4:1:1)の混液2 、5mgに溶解し、パラジウ
ム黒を触媒として室温にて1時間接触還元してN−ベン
ジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾過
後、濾液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、Cトセ
ファデックスC−25のカラムでアンモニア水(0→0
.5規定)にて展開し、目的化合物を含む部分を集めて
濃縮し、表題の本発明化合物Nα8の18.2mgを得
た。
キシプロピオニル〕−5〜デオキシ−5−フルオロトブ
ラマイシン(本発明化合物NQ8−)の製造 ti 前項(イ)の生成した化合物(33)の52mgを2規
定アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液
3.7mlに溶解させ28℃にて1晩反応させ、3ζN
−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。その後、
反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−酢酸−水
(4:1:1)の混液2 、5mgに溶解し、パラジウ
ム黒を触媒として室温にて1時間接触還元してN−ベン
ジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾過
後、濾液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、Cトセ
ファデックスC−25のカラムでアンモニア水(0→0
.5規定)にて展開し、目的化合物を含む部分を集めて
濃縮し、表題の本発明化合物Nα8の18.2mgを得
た。
比旋光度:〔α〕ら1+79°(C1,水)実施例9
3、2’、6’−トリス(N−ベンジルオキシカルボニ
ル)−1−N−[4−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−2−(S)−ヒドロキシブチリル]−5−デオキシ−
5−フルオロ−3’−N−トリフルオロアセチル1−ブ
ラマイシン(化合物34)の製造 実施例7(ロ)で得られた化合物(31)の52mgを
テトラヒドロフラン−水(1:1)の混液1 、55J
に溶解し、炭酸ナトリウム4 、5mgを加えたのち、
(S)−4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(
S)−ヒドロキシ酪酸のN−ヒドロキシサクシンイミド
エステル22.5mgをテトラヒドロフラン0.78m
Qに溶解して加えた。
ル)−1−N−[4−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−2−(S)−ヒドロキシブチリル]−5−デオキシ−
5−フルオロ−3’−N−トリフルオロアセチル1−ブ
ラマイシン(化合物34)の製造 実施例7(ロ)で得られた化合物(31)の52mgを
テトラヒドロフラン−水(1:1)の混液1 、55J
に溶解し、炭酸ナトリウム4 、5mgを加えたのち、
(S)−4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(
S)−ヒドロキシ酪酸のN−ヒドロキシサクシンイミド
エステル22.5mgをテトラヒドロフラン0.78m
Qに溶解して加えた。
室温にて2時間後さらに上記エステル1 、9mgをテ
トラヒドロフラン0.065mQに溶解したものを加え
た。
トラヒドロフラン0.065mQに溶解したものを加え
た。
3時間反応させた(1−N−アシル化反応)。その後。
反応液を濃縮し、残渣を水洗し乾燥したのち、エチルエ
ーテルにて洗浄し、表題化合物(34)の59mgを′
4()た。
ーテルにて洗浄し、表題化合物(34)の59mgを′
4()た。
(ロ) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシブチリル〕−5−デオキシ−5−フルオロトブラマ
イシン(本発明化合物Nα9)の製造 前項(イ)で得られた化合物(34)の59mgを2規
定アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液
4 、3mgに溶解させ28℃にて1晩反応させ3’−
N−)−リフルオロアセチル基の脱離を行なった。その
のち、反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水
−酢酸(4:1:l)の混液3mflに溶解し、パラジ
ウム黒を触媒として室温にて1時間接触還元してN−ベ
ンジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾
過後、濾液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、 C
M−セファデックスC−25のカラムでアンモニア水(
0→0.5規定)にて展開し目的化合物を含む部分を集
めてu′3縮し、無色固体として表題の本発明化合物N
ll 9の21 + 2 m l−を得た。
キシブチリル〕−5−デオキシ−5−フルオロトブラマ
イシン(本発明化合物Nα9)の製造 前項(イ)で得られた化合物(34)の59mgを2規
定アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液
4 、3mgに溶解させ28℃にて1晩反応させ3’−
N−)−リフルオロアセチル基の脱離を行なった。その
のち、反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水
−酢酸(4:1:l)の混液3mflに溶解し、パラジ
ウム黒を触媒として室温にて1時間接触還元してN−ベ
ンジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾
過後、濾液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、 C
M−セファデックスC−25のカラムでアンモニア水(
0→0.5規定)にて展開し目的化合物を含む部分を集
めてu′3縮し、無色固体として表題の本発明化合物N
ll 9の21 + 2 m l−を得た。
比旋光度:〔α〕ら7+77°(c 3.0.水)’I
INMRスペク1ヘル(重塩酸水中、3−(+−リメチ
ルシリル)プロピオン酸ナトリウム塩−d4内部+ニア
!7(1+ ) : δ・1.02(Ill dt H−5) δ5.17
(IHdt; It−1“又はH−1’)65.64(
111d l−1’又は1ト1″′)夫庭檄旦 (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−5,4’−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(化合物35)の製造 5.4′−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシンB(
本発明化合物Na 3 )の炭酸塩46.5mg @無
水ジメチルスルホキシド0.41mQに懸濁させ、酢酸
亜♀イ)・2水和物100+ngを加え80°Cにて1
.5時間攪拌させた。
INMRスペク1ヘル(重塩酸水中、3−(+−リメチ
ルシリル)プロピオン酸ナトリウム塩−d4内部+ニア
!7(1+ ) : δ・1.02(Ill dt H−5) δ5.17
(IHdt; It−1“又はH−1’)65.64(
111d l−1’又は1ト1″′)夫庭檄旦 (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−5,4’−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(化合物35)の製造 5.4′−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシンB(
本発明化合物Na 3 )の炭酸塩46.5mg @無
水ジメチルスルホキシド0.41mQに懸濁させ、酢酸
亜♀イ)・2水和物100+ngを加え80°Cにて1
.5時間攪拌させた。
1′)らJした亜鉛錯体を含む均一溶液を室温まで冷却
したのち、N−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)サ
クシンイミド73 、5mgを除々に加え、室温にて1
時間反応せしめた(ベンジルオキシカルボ、ニル基によ
るアミノ保護反応)。反応1&にエチルエーテルを加え
、固体を析出させ、この固体をエチルエーテルにて繰り
返し洗浄を行なった。得られた固体を3規定アンモニア
水にて洗浄を繰り返し行ない、これによって、ベンジル
オキシカルボニルされた亜鉛錯体から亜鈴を除去したの
ち水洗し、乾燥して表題化合物(35)の70町を得た
。
したのち、N−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)サ
クシンイミド73 、5mgを除々に加え、室温にて1
時間反応せしめた(ベンジルオキシカルボ、ニル基によ
るアミノ保護反応)。反応1&にエチルエーテルを加え
、固体を析出させ、この固体をエチルエーテルにて繰り
返し洗浄を行なった。得られた固体を3規定アンモニア
水にて洗浄を繰り返し行ない、これによって、ベンジル
オキシカルボニルされた亜鉛錯体から亜鈴を除去したの
ち水洗し、乾燥して表題化合物(35)の70町を得た
。
(口) 3. 2’,6’−1−リス(N−ベンジル
オキシカルボニル)−3’−N−トリフルオロアセチル
−5,4′−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシンB
(化合物36)の製造 前項(イ)の化合物(35)の65mgを無水ジメチル
スルホキシド0.325+nIlに溶解し、トリフルオ
ロ酢酸エチル0.0116m(lを加え室温にて1時間
反応せしめた。反応液にエチルエーテルを加えて固体を
析出させ、これをエチルエーテルによる洗浄を繰り返し
行ない表題化合物(36)の72mgを得た。
オキシカルボニル)−3’−N−トリフルオロアセチル
−5,4′−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシンB
(化合物36)の製造 前項(イ)の化合物(35)の65mgを無水ジメチル
スルホキシド0.325+nIlに溶解し、トリフルオ
ロ酢酸エチル0.0116m(lを加え室温にて1時間
反応せしめた。反応液にエチルエーテルを加えて固体を
析出させ、これをエチルエーテルによる洗浄を繰り返し
行ない表題化合物(36)の72mgを得た。
(ハ) 3. 2’,6’−1−リス(N−ベンジル
オキシカルボニル)−1−N−(4−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシブチリル)−
3”−N−トリフルオロアセチル−5,4′−ジデオキ
シ−5−フルオロカナマイシンB(化合物37)の製造 前項(口)の化合物(36)の7抛じをテトラ上1−ロ
フランー水(1:1)の混液2.09o+Qに溶解し、
炭酸ナトリウム2.0mgl加えたのち、(S)−4−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−2=ヒドロキシ酪酸
のN−ヒドロキシサクシンイミドエステル30.3mg
をテトラヒドロフラン1.05mQに溶解して加えた。
オキシカルボニル)−1−N−(4−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシブチリル)−
3”−N−トリフルオロアセチル−5,4′−ジデオキ
シ−5−フルオロカナマイシンB(化合物37)の製造 前項(口)の化合物(36)の7抛じをテトラ上1−ロ
フランー水(1:1)の混液2.09o+Qに溶解し、
炭酸ナトリウム2.0mgl加えたのち、(S)−4−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−2=ヒドロキシ酪酸
のN−ヒドロキシサクシンイミドエステル30.3mg
をテトラヒドロフラン1.05mQに溶解して加えた。
室温にて2時間@ (S)−4−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2−ヒドロキシ酪酸のN−ヒドロキシサク
シンイミドエステル2.5mgをテトラヒドロフラン0
.0087mQに溶解したものを加えた。3時間反応さ
せた(1−N−アシル化反応)。その後反応液を濃縮し
、残渣を水洗し乾燥したのち、エチルエーテルにて洗浄
し表題化合物(37)の76mgを得た。
ニルアミノ−2−ヒドロキシ酪酸のN−ヒドロキシサク
シンイミドエステル2.5mgをテトラヒドロフラン0
.0087mQに溶解したものを加えた。3時間反応さ
せた(1−N−アシル化反応)。その後反応液を濃縮し
、残渣を水洗し乾燥したのち、エチルエーテルにて洗浄
し表題化合物(37)の76mgを得た。
(二) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシブチリル〕−5.4’−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(本発明化合物Nα10)の製造 前項(ハ)の化合物(37)の63mgを2規定アンモ
ニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液4.6m
Qに溶解させ28℃にて1晩反応させ、3’−N− h
リフルオロアセチル基の脱離を行なった。そののち、反
応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水−酢酸(
4:1:1)の混液3.2+++Qに溶解しパラソウ1
5思を触媒として室温にて1時間接触還元してN〜ベン
ジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾過
後濾液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、CM−セ
ファデックスC−25のカラムにチャージし、アンモニ
ア水(0→0.5規定)にて展開溶出し、目的化合物を
含む部分を焦めて濃縮し、表題の本発明化合物NulO
の22.9mgを得た。
キシブチリル〕−5.4’−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(本発明化合物Nα10)の製造 前項(ハ)の化合物(37)の63mgを2規定アンモ
ニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液4.6m
Qに溶解させ28℃にて1晩反応させ、3’−N− h
リフルオロアセチル基の脱離を行なった。そののち、反
応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水−酢酸(
4:1:1)の混液3.2+++Qに溶解しパラソウ1
5思を触媒として室温にて1時間接触還元してN〜ベン
ジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾過
後濾液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、CM−セ
ファデックスC−25のカラムにチャージし、アンモニ
ア水(0→0.5規定)にて展開溶出し、目的化合物を
含む部分を焦めて濃縮し、表題の本発明化合物NulO
の22.9mgを得た。
比旋光度:〔α〕も5+82°(cl、水)尖頁努旦
(イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロジベ力シ
ン(化合物38)の製造 実施例4で得られた5−デオキシ−5−フルオロジベ力
シンの50.7mgに無水DMSO0,5mQを加え、
酢酸亜鉛2水塩97mg (4,5モル当量)を加え、
N2雰囲気下に室温で一晩攪拌した。得られた均一溶液
にN−ペンジルオキシ力ルポニルオキシスクシンイミ1
へ73.5mgを少しづつ加えた。2時間30分後、N
−ベンジルオキシカルボニルオキシスクシンイミド7.
4mgを加えた。5時間反応後、反応液にエチルエーテ
ルを加え、析出した沈殿をエーテルでくりかえし洗浄し
、得ら才した白色粉末を3N−アンモニア水で順次洗浄
し、減圧乾燥後、84.8mgの表題化合物(38)の
固体を得た。収率は定量的。
シカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロジベ力シ
ン(化合物38)の製造 実施例4で得られた5−デオキシ−5−フルオロジベ力
シンの50.7mgに無水DMSO0,5mQを加え、
酢酸亜鉛2水塩97mg (4,5モル当量)を加え、
N2雰囲気下に室温で一晩攪拌した。得られた均一溶液
にN−ペンジルオキシ力ルポニルオキシスクシンイミ1
へ73.5mgを少しづつ加えた。2時間30分後、N
−ベンジルオキシカルボニルオキシスクシンイミド7.
4mgを加えた。5時間反応後、反応液にエチルエーテ
ルを加え、析出した沈殿をエーテルでくりかえし洗浄し
、得ら才した白色粉末を3N−アンモニア水で順次洗浄
し、減圧乾燥後、84.8mgの表題化合物(38)の
固体を得た。収率は定量的。
(ロ)3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキシカ
ルボニル)−3’−N−トリフルオロアセチル−5−デ
オキシ−5−フルオロジベ力シン(化合物39)の製造
前項(イ)の化合物(38)84.8Bを無水DMF1
.7mQに溶解し、エチル 1〜リフルオロアセテ−1
−18μΩを加え室温で反応させた。2時間後エチル
トリフルオロアセテート12μQを加えた。4時間反応
後。
ルボニル)−3’−N−トリフルオロアセチル−5−デ
オキシ−5−フルオロジベ力シン(化合物39)の製造
前項(イ)の化合物(38)84.8Bを無水DMF1
.7mQに溶解し、エチル 1〜リフルオロアセテ−1
−18μΩを加え室温で反応させた。2時間後エチル
トリフルオロアセテート12μQを加えた。4時間反応
後。
反応液を減圧濃縮し、残渣をエーテル洗浄した後、減圧
乾燥して表題化合物(39)の固体の93.4mgを得
た。収率99%。
乾燥して表題化合物(39)の固体の93.4mgを得
た。収率99%。
゛(ハ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオ
キシカルボニル)−L−N−(3−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−(R3)−ヒドロキシプロピオニル
)−3’−N−トリフルオロアセチル−5−デオキシ−
5−フルオロジベ力シン(化合物40)の製造 す 前項(ロ)の化合物(39) 100mgをテトラヒド
ロフラン1 、5mQに溶解し、炭酸ナトリウム8.9
mgの水1.5n+Q溶液を加え、(R5)−3−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシプロピオ
ン酸のN−ヒドロキシサクシンイミ1(の活性エステル
46mgをテトラヒドロフラン1.5mQ溶液としたも
のを加えて、室温で反応させた(1−N−アシル化反応
)。1時間反応後、反応液を減圧濃縮し、残渣を水洗後
、減圧乾燥した。さらに、エーテル洗浄を行ない、減圧
乾燥した後、表題化合物(40)の固体117mgを得
た。
キシカルボニル)−L−N−(3−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−(R3)−ヒドロキシプロピオニル
)−3’−N−トリフルオロアセチル−5−デオキシ−
5−フルオロジベ力シン(化合物40)の製造 す 前項(ロ)の化合物(39) 100mgをテトラヒド
ロフラン1 、5mQに溶解し、炭酸ナトリウム8.9
mgの水1.5n+Q溶液を加え、(R5)−3−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシプロピオ
ン酸のN−ヒドロキシサクシンイミ1(の活性エステル
46mgをテトラヒドロフラン1.5mQ溶液としたも
のを加えて、室温で反応させた(1−N−アシル化反応
)。1時間反応後、反応液を減圧濃縮し、残渣を水洗後
、減圧乾燥した。さらに、エーテル洗浄を行ない、減圧
乾燥した後、表題化合物(40)の固体117mgを得
た。
収率95%。
(ニ) 1−N−(3−アミノ−2−(R3)−ヒド
ロキシプロピオニルツー5−デオキシ−5−フルオロジ
ベ力シン(本発明化合物Nα11)の製造 前項(ハ)の化合物(40)の117mgにテトラヒド
ロフラン4.7m12.2.5N−アンモニア水3.5
n+uを加え室温で反応させた。24時間反応後に減圧
濃縮し、11.5mgの脱トリフルオロアセチル体を得
た。この脱トリフルオロアセチル体115mgにジオキ
サン−酢酸−水(4:1:1) 8 mQを加え、水に
温潤させたバラジウl、黒を加えて常圧で水素を吹込ん
だ。2時間還元後、パラジウム黒を濾去し、触媒を水洗
して濾液と洗液を合わせて減圧濃縮した。得られた脱ベ
ンジルオキシカルボニル化生成物の固体91mgを水4
5.401(lに溶解し、CM−セファデックスC−2
5(NH4+型)20m12に添加後、カラムを水洗し
、 0.05Nから0.15Nまでアンモニア114度
を連続的に変化させながら溶出した。目的物質を含むフ
ラクションを合わせ、減圧濃縮して表題の本発明化合物
NulOの固体の37mgを得た(−炭酸・−水塩とし
て収率60%)6比旋光度:〔α〕♂5+82°(cl
、水)来−fI■ (イ) 3.2’、6’−1へリス(N−ベンジルオ
キシカルボニル)−1−N−[3−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル]
−3ζN−1−リフルオロアセチル−5−デオキシ−5
−フルオロジベ力シン(化合物41)の製造 実施例11(ロ)で得た化合物(39)の100mgを
テトラヒドロフラン1 、5mQに溶解し、炭酸ナトリ
ウム8 、9mgを含む水1.5mρ溶液を加え、3−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(S)−ヒドロ
キシプロピオン酸のN−ヒドロキシサクシンイミドの活
性エステル46mgをテトラヒドロフラン1.5mΩ溶
液としたものを加え、室温で反応させた(1−N−アシ
ル化)。2時間反応後、減圧濃縮し、残渣を水洗後、減
圧乾燥した。これをさらにエーテルで洗い、減圧乾燥し
て表題化合物(41)の固体の11811Igを得た。
ロキシプロピオニルツー5−デオキシ−5−フルオロジ
ベ力シン(本発明化合物Nα11)の製造 前項(ハ)の化合物(40)の117mgにテトラヒド
ロフラン4.7m12.2.5N−アンモニア水3.5
n+uを加え室温で反応させた。24時間反応後に減圧
濃縮し、11.5mgの脱トリフルオロアセチル体を得
た。この脱トリフルオロアセチル体115mgにジオキ
サン−酢酸−水(4:1:1) 8 mQを加え、水に
温潤させたバラジウl、黒を加えて常圧で水素を吹込ん
だ。2時間還元後、パラジウム黒を濾去し、触媒を水洗
して濾液と洗液を合わせて減圧濃縮した。得られた脱ベ
ンジルオキシカルボニル化生成物の固体91mgを水4
5.401(lに溶解し、CM−セファデックスC−2
5(NH4+型)20m12に添加後、カラムを水洗し
、 0.05Nから0.15Nまでアンモニア114度
を連続的に変化させながら溶出した。目的物質を含むフ
ラクションを合わせ、減圧濃縮して表題の本発明化合物
NulOの固体の37mgを得た(−炭酸・−水塩とし
て収率60%)6比旋光度:〔α〕♂5+82°(cl
、水)来−fI■ (イ) 3.2’、6’−1へリス(N−ベンジルオ
キシカルボニル)−1−N−[3−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル]
−3ζN−1−リフルオロアセチル−5−デオキシ−5
−フルオロジベ力シン(化合物41)の製造 実施例11(ロ)で得た化合物(39)の100mgを
テトラヒドロフラン1 、5mQに溶解し、炭酸ナトリ
ウム8 、9mgを含む水1.5mρ溶液を加え、3−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(S)−ヒドロ
キシプロピオン酸のN−ヒドロキシサクシンイミドの活
性エステル46mgをテトラヒドロフラン1.5mΩ溶
液としたものを加え、室温で反応させた(1−N−アシ
ル化)。2時間反応後、減圧濃縮し、残渣を水洗後、減
圧乾燥した。これをさらにエーテルで洗い、減圧乾燥し
て表題化合物(41)の固体の11811Igを得た。
収率96%。
(ロ) 1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシプロピオニルクー5−デオキシーフルオ口ジベ力シ
ン(本発明化合物Nα12)の製造 りh 前項(イ)の化合物(41)の118mgにテトラヒド
ロフラン4 、1mQ、2.5N−アンモニア水3 、
5n+Rを加え、室温で反応させた。22時間後に減圧
濃縮し、116mgの脱トリフルオロアセチル体を得た
。この脱トリフルオロアセチル体116mgにジオキサ
ン−酢酸−水(4:1:l) 8.1mQとパラジウム
黒を加え、常圧、室温にて水素を吹込んだ。2時間還元
後、触媒を濾去し、濾液と洗液を合わせて濃縮乾固し、
92mgの固体として脱ベンジルオキシカルボニル化生
成物を得た。これを水46mQに溶解し、側−セファデ
ックスC−25(NH4+型) 20mQカラムに添加
後、0.05Nから15Nまでアンモニア濃度を連続的
に変化させて溶出し、目的物質を含むフラクションを合
わせて濃縮乾固して表題の本発明化合物Nα12の固体
の43.7mgを得た(−炭酸・−水塩として収率70
%)。
キシプロピオニルクー5−デオキシーフルオ口ジベ力シ
ン(本発明化合物Nα12)の製造 りh 前項(イ)の化合物(41)の118mgにテトラヒド
ロフラン4 、1mQ、2.5N−アンモニア水3 、
5n+Rを加え、室温で反応させた。22時間後に減圧
濃縮し、116mgの脱トリフルオロアセチル体を得た
。この脱トリフルオロアセチル体116mgにジオキサ
ン−酢酸−水(4:1:l) 8.1mQとパラジウム
黒を加え、常圧、室温にて水素を吹込んだ。2時間還元
後、触媒を濾去し、濾液と洗液を合わせて濃縮乾固し、
92mgの固体として脱ベンジルオキシカルボニル化生
成物を得た。これを水46mQに溶解し、側−セファデ
ックスC−25(NH4+型) 20mQカラムに添加
後、0.05Nから15Nまでアンモニア濃度を連続的
に変化させて溶出し、目的物質を含むフラクションを合
わせて濃縮乾固して表題の本発明化合物Nα12の固体
の43.7mgを得た(−炭酸・−水塩として収率70
%)。
比旋光度:〔α〕ら5+82°(C1,水)。
夫庭五旦
(イ) 3.2’、6’−1−リス(N−ベンジルオ
キシカルボニル)−1−N−(4−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−(S)−ヒドロキシブチリル)−3′−
N− トリフルオロアセチル−5−デオキシ−5−フル
オロジベ力シン(化合物42)の製造 実施例11(口)で得た化合物(39)93.4mgを
テトラヒドロフラン1.4m12に溶解し、炭酸ナトリ
ウム8.3mgの水1 、 4mΩ溶液を加え(溶液は
白濁)、4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(
S)−ヒドロキシブチリル酸のN−ヒドロキシサクシン
イミドの活性エステル44.7mgをテトラヒドロフラ
ン1.4nfl溶液としたものを加えて室温で反応させ
た(1−N−アシル化)。1時間後さらに活性エステル
6、911Igを加えた.1時間30分反応援、反応液
を減圧濃縮し、残渣を水洗後、減圧乾燥した。これをさ
らにエーテルで洗い減圧乾燥した後、表題化合物(42
)の固体のLLl.1mgを得た。収率95%。
キシカルボニル)−1−N−(4−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−(S)−ヒドロキシブチリル)−3′−
N− トリフルオロアセチル−5−デオキシ−5−フル
オロジベ力シン(化合物42)の製造 実施例11(口)で得た化合物(39)93.4mgを
テトラヒドロフラン1.4m12に溶解し、炭酸ナトリ
ウム8.3mgの水1 、 4mΩ溶液を加え(溶液は
白濁)、4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(
S)−ヒドロキシブチリル酸のN−ヒドロキシサクシン
イミドの活性エステル44.7mgをテトラヒドロフラ
ン1.4nfl溶液としたものを加えて室温で反応させ
た(1−N−アシル化)。1時間後さらに活性エステル
6、911Igを加えた.1時間30分反応援、反応液
を減圧濃縮し、残渣を水洗後、減圧乾燥した。これをさ
らにエーテルで洗い減圧乾燥した後、表題化合物(42
)の固体のLLl.1mgを得た。収率95%。
(口) 1−〜−〔4−アミノ−2− (S)−ヒドロ
キシブチリル〕=5ーデオキシ−5−フルオロージベ力
シン(本発明化合物Na13)の製造 酌項(イ)の化合物(42)の111.1mgにテトラ
ヒドロフラン4.4mg、2.5Nアンモニア水3.3
ζOを加え。
キシブチリル〕=5ーデオキシ−5−フルオロージベ力
シン(本発明化合物Na13)の製造 酌項(イ)の化合物(42)の111.1mgにテトラ
ヒドロフラン4.4mg、2.5Nアンモニア水3.3
ζOを加え。
室温で反応させた。22時間後、さらに15Nアンモニ
ア水0.6ζOを加えた。43時間後、減圧濃縮し、1
10mgの脱トリフルオロアセチル体を得た。この脱ト
リフルオロアセチル体110mgにジオキサン−酢酸−
水(4:1:1) 7.7ζOを加えパラジウム黒の水
懸濁液10)丙を加えて常圧で水素を吹込んだ。2時間
還元後、触媒を新しいものにかえ、さらに水素を吹込ん
で反応させた。4時間後、触媒を濾去し、減圧濃縮した
。得られた固体の脱ベンジルオキシカルボニル体の86
.9mgを水43.5mRに溶解し、酬−セファデック
スC−25(NH4“型)2OmQカラムに添加後、カ
ラムを水洗し、0.05Nから0.5Nまでアンモニア
濃度を連続的に変化させながら溶出した。相当するフラ
クションを合わせ濃縮乾固して表題の本発明化合物Nα
13の固体の38mgを得た(−炭酸・−水塩として収
率64%)。
ア水0.6ζOを加えた。43時間後、減圧濃縮し、1
10mgの脱トリフルオロアセチル体を得た。この脱ト
リフルオロアセチル体110mgにジオキサン−酢酸−
水(4:1:1) 7.7ζOを加えパラジウム黒の水
懸濁液10)丙を加えて常圧で水素を吹込んだ。2時間
還元後、触媒を新しいものにかえ、さらに水素を吹込ん
で反応させた。4時間後、触媒を濾去し、減圧濃縮した
。得られた固体の脱ベンジルオキシカルボニル体の86
.9mgを水43.5mRに溶解し、酬−セファデック
スC−25(NH4“型)2OmQカラムに添加後、カ
ラムを水洗し、0.05Nから0.5Nまでアンモニア
濃度を連続的に変化させながら溶出した。相当するフラ
クションを合わせ濃縮乾固して表題の本発明化合物Nα
13の固体の38mgを得た(−炭酸・−水塩として収
率64%)。
比旋光度:〔α〕ら5+83°(cl、水)。
1t(−NMR(250MHz、 20%ND3を含む
D20中: TMS標準)δ4.7L ll−5dt
J5.F:5111Zδ5,08 H−1“d J
IZ2“=3.5Hzδ5.1.7 H−1,’ d
Jl’、2’=3.5Hz参考例5 (イ) 4’、6ζO−シクロへキシリデン−5−エ
ビジベカシン(化合物43)の製造 一50℃の液体アンモニア約15dに金属す1〜リウム
の約50mgを加えて激しくかくはんしながら、これに
、先の実施例4(ホ)で得られた4’、6’−0−シク
ロへキシリデン−1,3,2’、6’、3ζペンタ−N
−トシル−5−エピジベカシン、すなわち化合物(23
)の50mgのテ1−ラヒドロフラン2InQ溶液を一
気に加え、5分間反応させた(脱トシル化)。メタノー
ル0.07mgを加えた後液温を徐々に室温まで上昇さ
せてアンモニアを蒸発させ、さらに濃縮乾固した。残渣
に水2.2m12を加え、得られた混合物にダウエック
ス501i1X2(NH4+型)2m12を加えて脱塩
した後、同じレジン2mQを含むカラムにレジンごと添
加し、カラムを水洗した(12mg)。INアンモニア
水で溶出し、ニンヒドリン陽性部分を合わせて濃縮乾固
し1表題化合物(43)の15.3mgを固体として得
た。収率75%。
D20中: TMS標準)δ4.7L ll−5dt
J5.F:5111Zδ5,08 H−1“d J
IZ2“=3.5Hzδ5.1.7 H−1,’ d
Jl’、2’=3.5Hz参考例5 (イ) 4’、6ζO−シクロへキシリデン−5−エ
ビジベカシン(化合物43)の製造 一50℃の液体アンモニア約15dに金属す1〜リウム
の約50mgを加えて激しくかくはんしながら、これに
、先の実施例4(ホ)で得られた4’、6’−0−シク
ロへキシリデン−1,3,2’、6’、3ζペンタ−N
−トシル−5−エピジベカシン、すなわち化合物(23
)の50mgのテ1−ラヒドロフラン2InQ溶液を一
気に加え、5分間反応させた(脱トシル化)。メタノー
ル0.07mgを加えた後液温を徐々に室温まで上昇さ
せてアンモニアを蒸発させ、さらに濃縮乾固した。残渣
に水2.2m12を加え、得られた混合物にダウエック
ス501i1X2(NH4+型)2m12を加えて脱塩
した後、同じレジン2mQを含むカラムにレジンごと添
加し、カラムを水洗した(12mg)。INアンモニア
水で溶出し、ニンヒドリン陽性部分を合わせて濃縮乾固
し1表題化合物(43)の15.3mgを固体として得
た。収率75%。
(ロ) 1,3.2’、6’、3’−ペンタキス(N
−ベンジルオキシカルボニル)−4’、6’−0−シク
ロへキシリデン−5−エビジベカシン(化合物44)の
製造 前項(イ)の化合物(43)の20mgを水0.4m1
2に溶解し、炭酸ナトリウム24mg、アセトン0.4
mgを加えて水冷下にペンジルオキシカルボニルクロラ
イド0.04mf2を加えて反応させた(N−ベンジル
オキシカルボニル化)。6時間後、室温に戻して反応を
続け、12時間後、減圧′J′5縮した。残渣を水、エ
チルエーテルで順次洗浄して45m&の表題化合物(4
4)を白色固体として41)だ。収率:定量的。
−ベンジルオキシカルボニル)−4’、6’−0−シク
ロへキシリデン−5−エビジベカシン(化合物44)の
製造 前項(イ)の化合物(43)の20mgを水0.4m1
2に溶解し、炭酸ナトリウム24mg、アセトン0.4
mgを加えて水冷下にペンジルオキシカルボニルクロラ
イド0.04mf2を加えて反応させた(N−ベンジル
オキシカルボニル化)。6時間後、室温に戻して反応を
続け、12時間後、減圧′J′5縮した。残渣を水、エ
チルエーテルで順次洗浄して45m&の表題化合物(4
4)を白色固体として41)だ。収率:定量的。
(ハ) 2’−0−ベンゾイル−1,3,2’、6’
、3ζペンタキス(N−ベンジルオキシカルボニル)−
4′、6ζ0−シクロへキシリデン−5−エビジベカシ
ン(化合物45)の製造 前項(ロ)の化合物(44)の40mgを無水ピリジン
0 、8ζOに溶解し、水冷下に塩化ベンゾイル0.0
19mQを加えて0℃で反応させた(2ζO−ベンゾイ
ル化)。
、3ζペンタキス(N−ベンジルオキシカルボニル)−
4′、6ζ0−シクロへキシリデン−5−エビジベカシ
ン(化合物45)の製造 前項(ロ)の化合物(44)の40mgを無水ピリジン
0 、8ζOに溶解し、水冷下に塩化ベンゾイル0.0
19mQを加えて0℃で反応させた(2ζO−ベンゾイ
ル化)。
45分後、水0.015m(lを加え、室温で1時間放
置した後、減圧濃縮した。クロロホルム10mQを加え
、溶液を飽和重曹水(2ζOX 2)、5%重硫酸カリ
ウム水(2ζOX 2)、水(2ζOX 3)で順次洗
浄した。芒硝で乾燥後、減圧下に減圧濃縮して44mg
の表題化合物(45)を淡黄色固体として得た。収率:
定量的。
置した後、減圧濃縮した。クロロホルム10mQを加え
、溶液を飽和重曹水(2ζOX 2)、5%重硫酸カリ
ウム水(2ζOX 2)、水(2ζOX 3)で順次洗
浄した。芒硝で乾燥後、減圧下に減圧濃縮して44mg
の表題化合物(45)を淡黄色固体として得た。収率:
定量的。
実施例14
5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン(本発明化合物
Nα4)の製造 (イ)無水ジクロロメタンの0.76IQに無水ピリジ
ン0.037muを加え、水冷下にジエチルアミノスル
ファ−トリクロライド(DAST)の0.019mQを
加えた。
Nα4)の製造 (イ)無水ジクロロメタンの0.76IQに無水ピリジ
ン0.037muを加え、水冷下にジエチルアミノスル
ファ−トリクロライド(DAST)の0.019mQを
加えた。
この溶液に参考例5(ハ)で得られた化合物(45)の
38mgを加え、室温に戻して6時間反応させたく弗素
化)。反応液を水冷した飽和重曹水8mQにあけ、クロ
ロホルム5mQを加えて抽出した。この抽出液を飽和重
曹水(2ζOX 2)、5%重硫酸カリウム水(2n+
Q X 2)、水(2ζO×3)で順次洗浄し、芒硝乾
燥後、減圧下に濃縮乾固して36 、3Bの黄色固体を
得た。
38mgを加え、室温に戻して6時間反応させたく弗素
化)。反応液を水冷した飽和重曹水8mQにあけ、クロ
ロホルム5mQを加えて抽出した。この抽出液を飽和重
曹水(2ζOX 2)、5%重硫酸カリウム水(2n+
Q X 2)、水(2ζO×3)で順次洗浄し、芒硝乾
燥後、減圧下に濃縮乾固して36 、3Bの黄色固体を
得た。
これをワコーゲルC−200の4g(展開系:クロロホ
ルムー酢酸エチル=3;1)のシリカゲルクロマトグラ
フィーで精製し、11 、5o+gの固体を得た。この
固体は重ピリジン中のNMRでδ−189,4ppm
(CFC]、3をδ=0として)に19Fに由来するダ
ブルトリブレッ1−(J=12、12.52Hz)を認
めた。この固体は2′−〇−ベンゾイルー]、、 3.
2’、6’、3ζペンタキス(N−ベンジルオキシカル
ボニル)−4’ 、 6’−0−シクロへキシリデン−
5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン(化合物46)
から主として成るものであった。
ルムー酢酸エチル=3;1)のシリカゲルクロマトグラ
フィーで精製し、11 、5o+gの固体を得た。この
固体は重ピリジン中のNMRでδ−189,4ppm
(CFC]、3をδ=0として)に19Fに由来するダ
ブルトリブレッ1−(J=12、12.52Hz)を認
めた。この固体は2′−〇−ベンゾイルー]、、 3.
2’、6’、3ζペンタキス(N−ベンジルオキシカル
ボニル)−4’ 、 6’−0−シクロへキシリデン−
5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン(化合物46)
から主として成るものであった。
(ロ)上記の固体(11,5mg)に80%酢酸水の0
.23IQを加え、60℃で反応させた(脱シクロへキ
シリデン化)。1.5時間後濃縮乾固し、トルエンと共
沸させて酢酸を除いた後、10.9mgの淡黄色固体を
得た。
.23IQを加え、60℃で反応させた(脱シクロへキ
シリデン化)。1.5時間後濃縮乾固し、トルエンと共
沸させて酢酸を除いた後、10.9mgの淡黄色固体を
得た。
これにメタノール0.23mR115Nアンモニア水0
.016mΩを加え、室温で3.5時間反応させた(脱
ベンゾイル化)。反応液を濃縮乾固し、lO,5Bの淡
黄色固体を得た。この固体にテトラヒドロフランー水(
4:1) 0.2ζOを加え、ラネーニッケルを加え、
よくふりまぜた後、ニッケルを濾去した。ニッケルをテ
トラヒドロフラン−水0 、8ζOで洗い、濾液と洗液
を合わせて後酢酸0.2ncQパラジウム黒を加えて室
温、常圧で水素を吹込んだ(脱ベンジルオキシカルボニ
ル化)。6時間後パラジウム黒をdl去し、濾液を濃縮
乾固して7mgの固体を得た。これを水3 、5+nQ
に溶解しCトセファデノクスC−252ζOカラムにσ
;εし込み、カラムを水洗後(1,0ζO)、0.05
Nから0.15Nまでアンモニア水濃度を連続的に変化
させながら溶出し目的物質を含むフラクションを合わせ
て減圧下に濃縮乾固すると1.0mgの表題の本発明化
合物Nα4を得た。1炭酸塩として化合物(45)から
収率6.4%であった。
.016mΩを加え、室温で3.5時間反応させた(脱
ベンゾイル化)。反応液を濃縮乾固し、lO,5Bの淡
黄色固体を得た。この固体にテトラヒドロフランー水(
4:1) 0.2ζOを加え、ラネーニッケルを加え、
よくふりまぜた後、ニッケルを濾去した。ニッケルをテ
トラヒドロフラン−水0 、8ζOで洗い、濾液と洗液
を合わせて後酢酸0.2ncQパラジウム黒を加えて室
温、常圧で水素を吹込んだ(脱ベンジルオキシカルボニ
ル化)。6時間後パラジウム黒をdl去し、濾液を濃縮
乾固して7mgの固体を得た。これを水3 、5+nQ
に溶解しCトセファデノクスC−252ζOカラムにσ
;εし込み、カラムを水洗後(1,0ζO)、0.05
Nから0.15Nまでアンモニア水濃度を連続的に変化
させながら溶出し目的物質を含むフラクションを合わせ
て減圧下に濃縮乾固すると1.0mgの表題の本発明化
合物Nα4を得た。1炭酸塩として化合物(45)から
収率6.4%であった。
参考例6
(イ) 4’、6ζO−シクロへキシリデン−1,3
,2’、6’。
,2’、6’。
3′−ペンタキス(N−メトキシカルボニル)−5−エ
ビジベカシン(化合物47)の製造 参考例5(イ)で得られた化合物(43)の50mgに
水1mQ、炭酸ナトリウム60mgを加え、アセトン1
tQを加えた後、水冷下に塩化メトキシカルボニル0.
044mflを滴下して反応させた(N−メトキシカル
ボニル化による保護)。6時間後、室温に戻して室温で
反応を続けた。15時間後、反応混合物を濃縮・乾固し
、水、エーテルで順次洗浄し、73Bの白色固体として
表題化合物(47)を得た。収率95%。
ビジベカシン(化合物47)の製造 参考例5(イ)で得られた化合物(43)の50mgに
水1mQ、炭酸ナトリウム60mgを加え、アセトン1
tQを加えた後、水冷下に塩化メトキシカルボニル0.
044mflを滴下して反応させた(N−メトキシカル
ボニル化による保護)。6時間後、室温に戻して室温で
反応を続けた。15時間後、反応混合物を濃縮・乾固し
、水、エーテルで順次洗浄し、73Bの白色固体として
表題化合物(47)を得た。収率95%。
(ロ) 2’−0−アセチル−4’、6’−0−シク
ロへキシリデン−1,3,2’、6’、3ζペンタキス
(N−メトキシカルボニル)−5−エピジベカシン(化
合物48)の製造前項(イ)で得た化合物(47)の6
5Bを無水ピリジン1.3ζOに溶解し、水冷下に無水
酢酸0.04IQを加えた。室温で15時間反応させた
(2”0−アセチル化)。その後、水0.035mQを
加え、室温で1時間放置した。反応液を飽和重曹水50
mQにあけ、生じた自沈をdl取、水洗後、乾燥して(
l6mgの表題化合物(48)を白色固体として得た。
ロへキシリデン−1,3,2’、6’、3ζペンタキス
(N−メトキシカルボニル)−5−エピジベカシン(化
合物48)の製造前項(イ)で得た化合物(47)の6
5Bを無水ピリジン1.3ζOに溶解し、水冷下に無水
酢酸0.04IQを加えた。室温で15時間反応させた
(2”0−アセチル化)。その後、水0.035mQを
加え、室温で1時間放置した。反応液を飽和重曹水50
mQにあけ、生じた自沈をdl取、水洗後、乾燥して(
l6mgの表題化合物(48)を白色固体として得た。
収率97%。
二ノ乏し、b9本□イQj 5
5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン(本発明化合物
Nα4)の製造 (イ)無水ジクロロメタン1 、2m12に無水ピリジ
ン0.083mQを加え、水冷下にDAST O,O’
13mMを加えた後、かくはんしながら参考例6(ロ)
で得た化合物(48)のl0mgを加えた。室温で6時
間反応した(弗素化)。反応液を水冷した飽和重曹水1
8mflにあけ、クロロホルム12m12を加えて分液
操作を行なった。
Nα4)の製造 (イ)無水ジクロロメタン1 、2m12に無水ピリジ
ン0.083mQを加え、水冷下にDAST O,O’
13mMを加えた後、かくはんしながら参考例6(ロ)
で得た化合物(48)のl0mgを加えた。室温で6時
間反応した(弗素化)。反応液を水冷した飽和重曹水1
8mflにあけ、クロロホルム12m12を加えて分液
操作を行なった。
有機層を、飽和重曹水(5ζOX 2)、5%重硫酸カ
リウム水(5m12X2)、水(5ζOX 2)で順次
洗浄し、芒硝乾燥後濃縮乾固して61mgの81製5−
フルオロ生成物を得た。
リウム水(5m12X2)、水(5ζOX 2)で順次
洗浄し、芒硝乾燥後濃縮乾固して61mgの81製5−
フルオロ生成物を得た。
(ロ) 上記の5−フルオロ生成物を80%酢酸水1.
2ζOで60℃、2時間処理して脱シクロへキシリデン
化を行ない、55mgの生成物を得た。これをテトラヒ
ドロフラン1.1.m1llに溶解し、6N NaOト
10.55ζOを加え、80℃で12時間かくはんした
(脱アセチル化及び脱メ1−キシカルボニル化)。反応
混合物を減圧濃縮し、水3 、3ζOを加えて溶解した
後、ダウエックス50す×2(H+型) 4+uQを加
えて脱塩し、同じレジン4mQカラムにレジンごと添加
した。カラムを水洗しく80+++Q) INアンモニ
ア水で溶出してニンヒドリン陽性部分を合わせて濃縮乾
固し、3(imgの粗生成物を得た。
2ζOで60℃、2時間処理して脱シクロへキシリデン
化を行ない、55mgの生成物を得た。これをテトラヒ
ドロフラン1.1.m1llに溶解し、6N NaOト
10.55ζOを加え、80℃で12時間かくはんした
(脱アセチル化及び脱メ1−キシカルボニル化)。反応
混合物を減圧濃縮し、水3 、3ζOを加えて溶解した
後、ダウエックス50す×2(H+型) 4+uQを加
えて脱塩し、同じレジン4mQカラムにレジンごと添加
した。カラムを水洗しく80+++Q) INアンモニ
ア水で溶出してニンヒドリン陽性部分を合わせて濃縮乾
固し、3(imgの粗生成物を得た。
これを水18mQに溶解し、側−セファデックスC−2
5(NH4”型)10mΩカラムに添加し、カラムを水
洗後(50ζO,)、0.05Nから0.ISNまでア
ンモニア濃度を連続的に変化させながらアンモニア水で
溶出し、相当するフラクションを合わせて濃縮乾固した
。表題の本発明化合物Nα4をlo、7mg得た。−炭
酸塩として化合物(48)からの収率30%。
5(NH4”型)10mΩカラムに添加し、カラムを水
洗後(50ζO,)、0.05Nから0.ISNまでア
ンモニア濃度を連続的に変化させながらアンモニア水で
溶出し、相当するフラクションを合わせて濃縮乾固した
。表題の本発明化合物Nα4をlo、7mg得た。−炭
酸塩として化合物(48)からの収率30%。
参考例7
2′−〇−アセチルー1.3.2’、6’、3’−ペン
タ−N−アセチル−4’ 、 6’−0−シクロへキシ
リデン−5−エビジベカシン(化合物49)の製造 参考例5(イ)で得られた4’、6ζO−シクロへキシ
リデン−5−エピジベカシン、すなわち化合物(43)
の25mgを無水ピリジンの0.5nR,無水DMFの
0,25n+Qに懸濁させ、無水酢酸0.14ζOを加
えた。攪拌しながら室温で18時間反応させた(アセチ
ル化)。その後、水0.13mQを加え、室温で1時間
放置した。反応混合物を減圧濃縮し、水で共沸(5回)
した後、セファデックスL)I−20(展開系テトラヒ
ドロフラン:水=1:1) amQカラムに通筒し、相
当するフラクションを合わせて濃縮乾固した。31mg
の表題化合物(49)が得られた。収率84%。
タ−N−アセチル−4’ 、 6’−0−シクロへキシ
リデン−5−エビジベカシン(化合物49)の製造 参考例5(イ)で得られた4’、6ζO−シクロへキシ
リデン−5−エピジベカシン、すなわち化合物(43)
の25mgを無水ピリジンの0.5nR,無水DMFの
0,25n+Qに懸濁させ、無水酢酸0.14ζOを加
えた。攪拌しながら室温で18時間反応させた(アセチ
ル化)。その後、水0.13mQを加え、室温で1時間
放置した。反応混合物を減圧濃縮し、水で共沸(5回)
した後、セファデックスL)I−20(展開系テトラヒ
ドロフラン:水=1:1) amQカラムに通筒し、相
当するフラクションを合わせて濃縮乾固した。31mg
の表題化合物(49)が得られた。収率84%。
大音y基
5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン(本発明化合物
Nα4)の製造 参考例7で得た化合物(49)の12.1mgに無水ジ
クロロメタン0.24m+Q、jg水ピリジン0.01
9mQ、無水アセトニトリル0.24−を加え、水冷か
くはん下、DAST 0.01ζOを加え、室温で反応
させた(弗素化)66時間後に、水冷した飽和重曹水1
.4n+Qにあけ、全体を室温にて濃縮乾固した。残留
固体をDMFで抽出しく2m12 X 3)、DMF層
を濃縮乾固して12.1mgの粗生成物を得た。この粗
生成物固体は重水中でδ−192,6ppm(CFCL
コをδ=0として)に19Fに由来するダブルトリプレ
ット(J=12.12,49t(z)を認めた。
Nα4)の製造 参考例7で得た化合物(49)の12.1mgに無水ジ
クロロメタン0.24m+Q、jg水ピリジン0.01
9mQ、無水アセトニトリル0.24−を加え、水冷か
くはん下、DAST 0.01ζOを加え、室温で反応
させた(弗素化)66時間後に、水冷した飽和重曹水1
.4n+Qにあけ、全体を室温にて濃縮乾固した。残留
固体をDMFで抽出しく2m12 X 3)、DMF層
を濃縮乾固して12.1mgの粗生成物を得た。この粗
生成物固体は重水中でδ−192,6ppm(CFCL
コをδ=0として)に19Fに由来するダブルトリプレ
ット(J=12.12,49t(z)を認めた。
この粗生成物は2ζ0−アセチル−1,3,2’、6’
、3ζベンターN−アセチル−4’、6’−0−シクロ
へキシリデン−5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン
(化合物50)から主として成るものであった。以下、
実施例15(ロ)と同様に、化合物(50)から酢酸水
による加水分解でシクロへキシリデン基を脱離及び水酸
化ナトリウム水溶液による加水分解でアセチル基を脱離
し、得られた5−デオキシ−5−フルオロジベ力シンの
粗製物をクロマトグラフィで精製した。
、3ζベンターN−アセチル−4’、6’−0−シクロ
へキシリデン−5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン
(化合物50)から主として成るものであった。以下、
実施例15(ロ)と同様に、化合物(50)から酢酸水
による加水分解でシクロへキシリデン基を脱離及び水酸
化ナトリウム水溶液による加水分解でアセチル基を脱離
し、得られた5−デオキシ−5−フルオロジベ力シンの
粗製物をクロマトグラフィで精製した。
2.0mgの表題の本発明化合物Nα4が得られた。化
合物(49)からの収率25%。
合物(49)からの収率25%。
手’fy′L:?l 1j−1−c −1−、’?:’
(自弁)昭和02年1′1月 2 Il 1′1訂庁[(官 殿 ′)、lil’lの表示 昭m61年12fみ′[願第181850号2、発明の
名称 5)−デAキシー5−フルオロカナマイシン[3Aij
4(木とそのlジ」造法 31山正をする省 事1′1どの関係 特許出1頭人住 所 東京
部品用区上大的3丁目14番23号名称 旧団法人微
牛物化学1iJt究会4、代理人 〒l05ft 所束余部港1.Z西11+!1丁目1
a15号物産ヒル別館 口(591)0261 明細書全文 明 a 書 1、発明の名称 5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB rA心導
体その製造法 2、特許請求の範囲 1、 次の一般式 〔式中、Rは水素原子又は次式 (但しnは1又は2の整数である)のα−ヒドロキシ−
ω−アミノアルカノイル基であり、A1及びA2は夫々
に、水酸基又は水素原子である〕で示され及びその酸付
加塩。
(自弁)昭和02年1′1月 2 Il 1′1訂庁[(官 殿 ′)、lil’lの表示 昭m61年12fみ′[願第181850号2、発明の
名称 5)−デAキシー5−フルオロカナマイシン[3Aij
4(木とそのlジ」造法 31山正をする省 事1′1どの関係 特許出1頭人住 所 東京
部品用区上大的3丁目14番23号名称 旧団法人微
牛物化学1iJt究会4、代理人 〒l05ft 所束余部港1.Z西11+!1丁目1
a15号物産ヒル別館 口(591)0261 明細書全文 明 a 書 1、発明の名称 5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB rA心導
体その製造法 2、特許請求の範囲 1、 次の一般式 〔式中、Rは水素原子又は次式 (但しnは1又は2の整数である)のα−ヒドロキシ−
ω−アミノアルカノイル基であり、A1及びA2は夫々
に、水酸基又は水素原子である〕で示され及びその酸付
加塩。
2.5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB(一般
式(1)でRが水素原子でありA1及びA2が夫々に水
酸基である場合)である特許請求の範囲第1項に記載の
化合物。
式(1)でRが水素原子でありA1及びA2が夫々に水
酸基である場合)である特許請求の範囲第1項に記載の
化合物。
3、 5.3’−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンB(一般式(1)でR及びA1が水素原子であり八2
が水酸基である場合)である特許請求の範囲第1項に記
載の化合物。
ンB(一般式(1)でR及びA1が水素原子であり八2
が水酸基である場合)である特許請求の範囲第1項に記
載の化合物。
4、 5.4’−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンB(一般式(1)でR及びA2が水素原子でありA1
が水酸基である場合)である特許請求の範囲第1項に記
載の化合物。
ンB(一般式(1)でR及びA2が水素原子でありA1
が水酸基である場合)である特許請求の範囲第1項に記
載の化合物。
5、 5.3’、 4’−)−リゾオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンB(一般式(1)でR,A”及びA2が
すべて水素原子である場合)である特許請求の範囲第1
項に記載の化合物。
ロカナマイシンB(一般式(1)でR,A”及びA2が
すべて水素原子である場合)である特許請求の範囲第1
項に記載の化合物。
6、 1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロキシ
プロピオニル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB(−ピオニル基であり、A1及びA2が夫々に水
酸基である場合)である特許請求の範囲第1項に記載の
化合物。
プロピオニル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB(−ピオニル基であり、A1及びA2が夫々に水
酸基である場合)である特許請求の範囲第1項に記載の
化合物。
7、 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロキシ
ブチリル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシン
B(一般式(1)でRが4−アミノ−2−(S)−ヒド
ロキシブチリル基であり、A1及びA2が夫々に水酸基
である場合)である特許請求の範囲第1項に記載の化合
物。
ブチリル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシン
B(一般式(1)でRが4−アミノ−2−(S)−ヒド
ロキシブチリル基であり、A1及びA2が夫々に水酸基
である場合)である特許請求の範囲第1項に記載の化合
物。
8、 1−N−(3−アミノ−2−(R3)−ヒドロキ
シプロピオニル)−5,3’−ジデオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンB(一般式(1)でRが3−アミノ−2
−(R5)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1が
水素原子でA2が水酸基である場合)である特許請求の
範囲第1項に記載の化合物。
シプロピオニル)−5,3’−ジデオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンB(一般式(1)でRが3−アミノ−2
−(R5)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1が
水素原子でA2が水酸基である場合)である特許請求の
範囲第1項に記載の化合物。
9、 1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロキシ
プロピオニル)−5,3’−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(一般式(1)でRが3−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1が水素
原子でA2が水酸基である場合)である特許請求の範囲
第1−項に記載の化合物。
プロピオニル)−5,3’−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(一般式(1)でRが3−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1が水素
原子でA2が水酸基である場合)である特許請求の範囲
第1−項に記載の化合物。
10、1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロキシ
ブチリル)−5,3’−ジデオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(一般式(1)でRが4−アミノ−2−(S
)−ヒドロキシブチリル基であり、A”が水素原子でA
2が水酸基である場合)である特許3+ff求の範囲第
1項に記載の化合物。
ブチリル)−5,3’−ジデオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(一般式(1)でRが4−アミノ−2−(S
)−ヒドロキシブチリル基であり、A”が水素原子でA
2が水酸基である場合)である特許3+ff求の範囲第
1項に記載の化合物。
11、1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロキシ
ブチリル)−5,4’−ジデオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(一般式(1)でRが4−アミノ−2−(S
)−ヒドロキシブチリル基であり、A1が水酸基でA2
が水素原子である場合)である特許請求の範囲第1項記
載の化合物。
ブチリル)−5,4’−ジデオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(一般式(1)でRが4−アミノ−2−(S
)−ヒドロキシブチリル基であり、A1が水酸基でA2
が水素原子である場合)である特許請求の範囲第1項記
載の化合物。
12、1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロキシ
プロピオニル)−5,3’、 4’−トリデオキシ−5
−フルオロカナマイシンB(一般式(1)でRが3−ア
ミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル基であり、
A1及びA2が夫々に水素原子である場合)である特許
請求の範囲第1項記載の化合物。
プロピオニル)−5,3’、 4’−トリデオキシ−5
−フルオロカナマイシンB(一般式(1)でRが3−ア
ミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル基であり、
A1及びA2が夫々に水素原子である場合)である特許
請求の範囲第1項記載の化合物。
13、1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロキシ
ブチリル)−5,3’、 4′−トリデオキシ−5−フ
ルオロカナマイシンB(一般式(1)で丁くが4−アミ
ノ−2−(S)−ヒドロキシブチリル基であり、A1及
びA2が夫々に水素原子である場合)である特許請求の
範囲第1項記載の化合物。
ブチリル)−5,3’、 4′−トリデオキシ−5−フ
ルオロカナマイシンB(一般式(1)で丁くが4−アミ
ノ−2−(S)−ヒドロキシブチリル基であり、A1及
びA2が夫々に水素原子である場合)である特許請求の
範囲第1項記載の化合物。
14、一般式
〔式中、AJ及びA4は夫々に保護された水酸基−〇G
(但しGはヒドロキシル保護基としてのアシル基である
)又は水素原子であり、Bはアミノ保護基であり、E及
びElは夫々にヒドロキシル保護基として前記のGと同
じアシル基であるか、若しくはE及び[ミ1は共同して
1個の2価のヒドロキシル保護基を形成するものであり
、2′位水酸基上の基Gはヒドロキシル保護基として前
記のGと同じアシル基である〕で示されるN、O−保護
された5−エピカナマイシンB誘導体を非極性有機溶媒
中で次式%式%() 〔式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基である〕のジ
アルキルアミノサルファー・トリフルオライド又は次式 %式%(11) 〔式中、R1は前記と同じ意味をもつ〕のビス(ジアル
キルアミノ)サルファー・ジフルオライド又はこれらと
均等な弗素化剤と反応させて式(II)の化合物の5位
にあるエピ−ヒドロキシル基の立体配置の反転と弗素置
換反応とを起させ、これにより次式 (式中、A3、A4、B、 E、 E’及びGは前記と
同じ意味をもつ)で示されるN、O−保護された5−デ
オキシ−5−フルオロカナマイシンB誘導体を生成させ
、次いでこの式(IV)の化合物から残留のアミノ保S
基(B)及びヒドロキシル保護基(E、 El及びG)
を常法で脱離させることを特徴とする、次の一般式(式
中、A1及びA2は夫々に、水酸基又は水素原子である
)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナマイシン
B誘導体の製造法。
(但しGはヒドロキシル保護基としてのアシル基である
)又は水素原子であり、Bはアミノ保護基であり、E及
びElは夫々にヒドロキシル保護基として前記のGと同
じアシル基であるか、若しくはE及び[ミ1は共同して
1個の2価のヒドロキシル保護基を形成するものであり
、2′位水酸基上の基Gはヒドロキシル保護基として前
記のGと同じアシル基である〕で示されるN、O−保護
された5−エピカナマイシンB誘導体を非極性有機溶媒
中で次式%式%() 〔式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基である〕のジ
アルキルアミノサルファー・トリフルオライド又は次式 %式%(11) 〔式中、R1は前記と同じ意味をもつ〕のビス(ジアル
キルアミノ)サルファー・ジフルオライド又はこれらと
均等な弗素化剤と反応させて式(II)の化合物の5位
にあるエピ−ヒドロキシル基の立体配置の反転と弗素置
換反応とを起させ、これにより次式 (式中、A3、A4、B、 E、 E’及びGは前記と
同じ意味をもつ)で示されるN、O−保護された5−デ
オキシ−5−フルオロカナマイシンB誘導体を生成させ
、次いでこの式(IV)の化合物から残留のアミノ保S
基(B)及びヒドロキシル保護基(E、 El及びG)
を常法で脱離させることを特徴とする、次の一般式(式
中、A1及びA2は夫々に、水酸基又は水素原子である
)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナマイシン
B誘導体の製造法。
15、次の一般式
(式中、A1及びA2は夫々に、水酸基又は水素原子で
ある)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB誘導体、あるいはこの式(Ia )の化合物の1
位アミノ基以外のアミノ基の一部又は全部をアミノ保護
基で保護された保護誘導体の1位アミノ基を、次の一般
式 〔式中、nは1又は2の整数である〕で示されるα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこのアミノアルカ
ン酸のアミノ基をアミノ保護基で保護された保護誘導体
、あるいはこれらの反応性誘導体と反応させ、こうして
得られた1−N−アシル化反応生成物から、残留したア
ミノ保護基がある場合には、アミノ保護基を次いで脱離
させることから成る、次の一般式 〔式中、A1、A2及びnは前記の意味を有する〕で示
される1−N−(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノ
イル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB誘
導体の製造法。
ある)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB誘導体、あるいはこの式(Ia )の化合物の1
位アミノ基以外のアミノ基の一部又は全部をアミノ保護
基で保護された保護誘導体の1位アミノ基を、次の一般
式 〔式中、nは1又は2の整数である〕で示されるα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこのアミノアルカ
ン酸のアミノ基をアミノ保護基で保護された保護誘導体
、あるいはこれらの反応性誘導体と反応させ、こうして
得られた1−N−アシル化反応生成物から、残留したア
ミノ保護基がある場合には、アミノ保護基を次いで脱離
させることから成る、次の一般式 〔式中、A1、A2及びnは前記の意味を有する〕で示
される1−N−(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノ
イル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB誘
導体の製造法。
3、発明の詳細な説明
(産業上の利用分野)
本発明は新規な半合成アミノ配糖体抗生物質である5−
デオキシ−5−フルオロカナマイシンB及びこれの各種
誘導体並びにこれらの新規化合物の製造法に関する。こ
れらの新規化合物は種々なカナマイシン感受菌およびカ
ナマイシン耐性菌に対して高い抗菌活性を示し、抗菌剤
として有用である。
デオキシ−5−フルオロカナマイシンB及びこれの各種
誘導体並びにこれらの新規化合物の製造法に関する。こ
れらの新規化合物は種々なカナマイシン感受菌およびカ
ナマイシン耐性菌に対して高い抗菌活性を示し、抗菌剤
として有用である。
(従来の技術と発明が解決しようとする問題点)カナマ
イシンA、B及びCから誘導された種々なデオキシ誘導
体が知られている。従来既知の、これらのデオキシカナ
マイシン誘導体は有用な抗菌活性を有するが、抗菌スペ
クトルはさまざまな範囲であり、また新しい耐性菌が出
現してこれに無効になることもあるから、より優れた新
しい抗菌性化合物を創製することは常に要望されている
。
イシンA、B及びCから誘導された種々なデオキシ誘導
体が知られている。従来既知の、これらのデオキシカナ
マイシン誘導体は有用な抗菌活性を有するが、抗菌スペ
クトルはさまざまな範囲であり、また新しい耐性菌が出
現してこれに無効になることもあるから、より優れた新
しい抗菌性化合物を創製することは常に要望されている
。
本発明者は、カナマイシンAの3′位ヒドロキシル基を
フルオロ基で「tき換えた誘導体、すなわち3′−デオ
キシ−3′−フルオロカナマイシンAを創製できるなら
ば、これはカナマイシン耐性菌にも有効である化合物で
あろうと期待し、これを合成することに成功した(特願
昭59−161.615号、出願日二町1和59年8月
2日)。
フルオロ基で「tき換えた誘導体、すなわち3′−デオ
キシ−3′−フルオロカナマイシンAを創製できるなら
ば、これはカナマイシン耐性菌にも有効である化合物で
あろうと期待し、これを合成することに成功した(特願
昭59−161.615号、出願日二町1和59年8月
2日)。
更に、本発明者は、3′−デオキシ−3′−フルオロカ
ナマイシンBを合成することに成功し、しかもこの新規
化合物が耐性菌を含めて種々なダラム陽性菌、ダラム陰
性菌に対して抗菌活性を有することを認めた(特願昭5
9−262700号明細書参照)。
ナマイシンBを合成することに成功し、しかもこの新規
化合物が耐性菌を含めて種々なダラム陽性菌、ダラム陰
性菌に対して抗菌活性を有することを認めた(特願昭5
9−262700号明細書参照)。
更に、3′−デオキシ−3′−フルオロカナマイシンB
の4′−ヒドロキシル基を燐酸化する酵素及び(又は)
アデニリル化する酵素を産生ずる耐性菌、例えばスタフ
ィロコカス・アウレウスAρ01及びスタフィロコカス
・エビデルミジス109に対しても有効である3’、4
’−ジデオキシ−3′−フルオロカナマイシンBを合成
することに成功した(特願昭60−188525号)。
の4′−ヒドロキシル基を燐酸化する酵素及び(又は)
アデニリル化する酵素を産生ずる耐性菌、例えばスタフ
ィロコカス・アウレウスAρ01及びスタフィロコカス
・エビデルミジス109に対しても有効である3’、4
’−ジデオキシ−3′−フルオロカナマイシンBを合成
することに成功した(特願昭60−188525号)。
また、本発明者らは、これら3′−デオキシ−3′−フ
ルオロカナマイシンA又はBの1位アミノ基を(R5)
−又は(S)−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオン
酸又は(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシ醋酸でアシ
ル化することによって、1−N−(R5)−又は(S)
−3−アミノ−2−ヒドロキシプロオニル)−又は1−
N−((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)
−3′−デオキシ−37−フルオロカナマイシンA又は
Bを新規化合物として製造することに成功し、しかもこ
れら新規化合物が耐性菌を含めて種々なダラム陽性菌、
ダラム陰性菌に対して秀れた抗菌活性を有することを認
めた(特願昭60−76706号明細書参照)。
ルオロカナマイシンA又はBの1位アミノ基を(R5)
−又は(S)−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオン
酸又は(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシ醋酸でアシ
ル化することによって、1−N−(R5)−又は(S)
−3−アミノ−2−ヒドロキシプロオニル)−又は1−
N−((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)
−3′−デオキシ−37−フルオロカナマイシンA又は
Bを新規化合物として製造することに成功し、しかもこ
れら新規化合物が耐性菌を含めて種々なダラム陽性菌、
ダラム陰性菌に対して秀れた抗菌活性を有することを認
めた(特願昭60−76706号明細書参照)。
更に研究の結果、本発明者は、2’、3’−ジデオキシ
−2′−フルオロカナマイシンAを初めて合成すること
に成功し、しかもこの新規化合物が耐性菌を含めて種々
なダラム陽性菌、ダラム陰性菌に対して抗菌活性を有す
ることを認めた(特願昭59−263759号明細書参
照)。しかも、本発明者らは、この2’、3’−ジデオ
キシ−2′−フルオロカナマイシンAの1位アミノ基を
(R5)−又は(S)−3−アミノ−2−ヒドロキシプ
ロピオン酸又は(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシ酪
酸でアシル化することによって、 1−N−(R8)−
又は(S)−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオニル
) ′−又は1−N−((S)−4−アミノ−2−
ヒドロキシブチリル)−2’、 3’−ジデオキシ−2
′−フルオロカナマイシンAを新規化合物として製造す
ることに成功し、しかもこれら新規化合物が耐性菌を含
めて種々なダラム陽性菌、ダラム陰性菌に対して秀れた
抗菌活性を有することを認めた(特願昭60−2310
27号)。
−2′−フルオロカナマイシンAを初めて合成すること
に成功し、しかもこの新規化合物が耐性菌を含めて種々
なダラム陽性菌、ダラム陰性菌に対して抗菌活性を有す
ることを認めた(特願昭59−263759号明細書参
照)。しかも、本発明者らは、この2’、3’−ジデオ
キシ−2′−フルオロカナマイシンAの1位アミノ基を
(R5)−又は(S)−3−アミノ−2−ヒドロキシプ
ロピオン酸又は(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシ酪
酸でアシル化することによって、 1−N−(R8)−
又は(S)−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオニル
) ′−又は1−N−((S)−4−アミノ−2−
ヒドロキシブチリル)−2’、 3’−ジデオキシ−2
′−フルオロカナマイシンAを新規化合物として製造す
ることに成功し、しかもこれら新規化合物が耐性菌を含
めて種々なダラム陽性菌、ダラム陰性菌に対して秀れた
抗菌活性を有することを認めた(特願昭60−2310
27号)。
他方、シソミシン分子中に存在する5位水酸基以外の水
酸基のすへて及びアミノ基のすべてを保護されたシソミ
シン保護誘導体を、ジエチルアミノサルファー・トリフ
ルオライド(以下、DASTと略称する)と反応させて
5位水酸基を弗素で置換し且つ立体配置の反転(inv
ersion)を行わせることにより5−デオキシ−5
−フルオロ−5−エピシソミシン保護誘導体を生成して
次いでこれから保護基を脱離する方法によって、5−デ
オキシ−5−フルオロ−5−二ピーシソミシンを製造す
ることがK 、 L 、Rinehart及びT、Su
ami編集によるrAminocyclitoL An
tj、−bioticsJ 、 371〜392頁(ア
メリカン・ケミカル・ソサイエテイ発行、1980年)
に記載されている。
酸基のすへて及びアミノ基のすべてを保護されたシソミ
シン保護誘導体を、ジエチルアミノサルファー・トリフ
ルオライド(以下、DASTと略称する)と反応させて
5位水酸基を弗素で置換し且つ立体配置の反転(inv
ersion)を行わせることにより5−デオキシ−5
−フルオロ−5−エピシソミシン保護誘導体を生成して
次いでこれから保護基を脱離する方法によって、5−デ
オキシ−5−フルオロ−5−二ピーシソミシンを製造す
ることがK 、 L 、Rinehart及びT、Su
ami編集によるrAminocyclitoL An
tj、−bioticsJ 、 371〜392頁(ア
メリカン・ケミカル・ソサイエテイ発行、1980年)
に記載されている。
この文献には5−デオキシ−5−フルオロシソミシンも
、その具体的な製造法の開示がないけれども。
、その具体的な製造法の開示がないけれども。
記載されである。この文献には、各種のシソミシン感受
性細菌及びシソミシン耐性細菌に対する5−エピシソミ
シン、5−デオキシ−5−フルオロ−5−二ピーシソミ
シン及び5−デオキシ−5−フルオロシソミシンの最低
生育阻止濃度の比較が記載されであるが、5−デオキシ
−5−フルオロ−5−エピ−シソミシン及び5−デオキ
シ−5−フルオロ−シソミシンは5−エピ−シソミシン
に比べてエスシエリシア・コリ(大腸菌)耐性株、クレ
ブシェラ・ニューモニア耐性株、シュードモナス・エア
ロギノサ(緑膿菌)に対して抗菌活性が劣ることが示さ
れている。またこの文献には5−デオキシ−5−フルオ
ロ−5−エピ−シソミシンはシソミシンに比べて抗菌活
性がほぼ同等又はそれ以下である旨の記載がある。従っ
て、この文献の記載からは、シソミシンの5位水酸基を
弗素で置換することによって、シソミシンの抗菌活性を
増強できるとの教示は得られない。
性細菌及びシソミシン耐性細菌に対する5−エピシソミ
シン、5−デオキシ−5−フルオロ−5−二ピーシソミ
シン及び5−デオキシ−5−フルオロシソミシンの最低
生育阻止濃度の比較が記載されであるが、5−デオキシ
−5−フルオロ−5−エピ−シソミシン及び5−デオキ
シ−5−フルオロ−シソミシンは5−エピ−シソミシン
に比べてエスシエリシア・コリ(大腸菌)耐性株、クレ
ブシェラ・ニューモニア耐性株、シュードモナス・エア
ロギノサ(緑膿菌)に対して抗菌活性が劣ることが示さ
れている。またこの文献には5−デオキシ−5−フルオ
ロ−5−エピ−シソミシンはシソミシンに比べて抗菌活
性がほぼ同等又はそれ以下である旨の記載がある。従っ
て、この文献の記載からは、シソミシンの5位水酸基を
弗素で置換することによって、シソミシンの抗菌活性を
増強できるとの教示は得られない。
また、カナマイシンAから出発して4′−デオキシ−4
1−フルオロ−4″−二ピーカナマイシンAを製造する
ことがrJournal of Carbohydra
teChcmistryJ+ 1巻289頁(198
2)に記載されているが、この文献にはカナマイシンA
に比べて4′−デオキシ−4“−フルオロ−4“−エピ
−カナマイシンAの抗菌活性が弱いことが示されである
。更に、rTctrahedron LettersJ
24巻、17号、1763〜+766頁(1983)
には、 2’、3’、4’、2’、4’−ペンタ−0−
アセチル−テトラ−N−第3級ブトキシカルボニルカナ
マイシンAをテトラブチルアンモニウム・フルオライl
−と反応させて2’、3’、4’、2’、4ζペンタ−
0−アセチル−テトラ−N−第3級ブトキシカルボニル
ー6″−デオキシ−6ζフルオロカナマイシンAを生成
し、次いでこれから常法の脱保護法でO−アセチル基及
びN−第3級ブトキシカルボニル基を除去することによ
って6ζデオキシ−6ξフルオロカナマイシンAを製造
すること;前記の2’、3’、4’、2“、4′−ペン
タ−〇−アセチルーテトラーN−第3級ブトキシカルボ
ニル−カナマイシンAをDASTと反応させて2’、3
’、4’、2’、4”−ペンター0−アセチルーテトラ
−N−第3級ブトキシカルボニル−5,6ζジデオキシ
−5,6′−ジフルオロ−5−エピ−カナマイシンAを
生成し、さらにこれから常法で、保護基を除去すること
によって5,6′−ジデオキシ−5,6′−ジフルオロ
−5−エピ−カナマイシンAを製造すること、また2’
、3’、4’、2’、6’−ペンタ−0−アセチルーテ
1−ラーN−第3級ブトキシカルボニルカナマイシンA
をDASTと反応させて21.3/、41.21J。
1−フルオロ−4″−二ピーカナマイシンAを製造する
ことがrJournal of Carbohydra
teChcmistryJ+ 1巻289頁(198
2)に記載されているが、この文献にはカナマイシンA
に比べて4′−デオキシ−4“−フルオロ−4“−エピ
−カナマイシンAの抗菌活性が弱いことが示されである
。更に、rTctrahedron LettersJ
24巻、17号、1763〜+766頁(1983)
には、 2’、3’、4’、2’、4’−ペンタ−0−
アセチル−テトラ−N−第3級ブトキシカルボニルカナ
マイシンAをテトラブチルアンモニウム・フルオライl
−と反応させて2’、3’、4’、2’、4ζペンタ−
0−アセチル−テトラ−N−第3級ブトキシカルボニル
ー6″−デオキシ−6ζフルオロカナマイシンAを生成
し、次いでこれから常法の脱保護法でO−アセチル基及
びN−第3級ブトキシカルボニル基を除去することによ
って6ζデオキシ−6ξフルオロカナマイシンAを製造
すること;前記の2’、3’、4’、2“、4′−ペン
タ−〇−アセチルーテトラーN−第3級ブトキシカルボ
ニル−カナマイシンAをDASTと反応させて2’、3
’、4’、2’、4”−ペンター0−アセチルーテトラ
−N−第3級ブトキシカルボニル−5,6ζジデオキシ
−5,6′−ジフルオロ−5−エピ−カナマイシンAを
生成し、さらにこれから常法で、保護基を除去すること
によって5,6′−ジデオキシ−5,6′−ジフルオロ
−5−エピ−カナマイシンAを製造すること、また2’
、3’、4’、2’、6’−ペンタ−0−アセチルーテ
1−ラーN−第3級ブトキシカルボニルカナマイシンA
をDASTと反応させて21.3/、41.21J。
6′−ペンタ−O−アセチル−1,3,6’−トリーN
−第3級ブトキシカルボニル−3’−N、4’−0−カ
ルボニル−5−デオキシ−5−フルオロ−5,4ξジ−
エピ−カナマイシンAと共に2’、3’、4’、2’、
6’−ペンタ−0−アセチル−テトラ−第3級ブトキシ
カルボニル−5−デオキシ−5−フルオロ−5,4ζジ
−エピ−カナマイシンAを生成し、次いで後者から保護
基を除去することによって5−デオキシ−5−フルオロ
−5,4′−ジ−エピ−カナマイシンAを製造すること
が記載される。この文献(「丁etrahedron
LettersJ 24巻17号、1763−1766
頁(1983))には、前記の61−デオキシ−61−
フルオロ−カナマイシンA、5.6#−ジデオキシ−5
,6′−ジフルオロ−5−エピ−カナマイシンA及び5
−デオキシ−5−フルオロ−5,4ζジ−エピ−カナマ
イシンAはカナマイシンAに比べて抗菌活性がほぼ同等
であることが記載されている。従って、この文献の記載
からは、カナマイシンAの6′位水酸基及び/又は5位
水酸基を弗素で置換することによって、カナマイシンA
の抗菌活性を増強できるとの教示は得られない。
−第3級ブトキシカルボニル−3’−N、4’−0−カ
ルボニル−5−デオキシ−5−フルオロ−5,4ξジ−
エピ−カナマイシンAと共に2’、3’、4’、2’、
6’−ペンタ−0−アセチル−テトラ−第3級ブトキシ
カルボニル−5−デオキシ−5−フルオロ−5,4ζジ
−エピ−カナマイシンAを生成し、次いで後者から保護
基を除去することによって5−デオキシ−5−フルオロ
−5,4′−ジ−エピ−カナマイシンAを製造すること
が記載される。この文献(「丁etrahedron
LettersJ 24巻17号、1763−1766
頁(1983))には、前記の61−デオキシ−61−
フルオロ−カナマイシンA、5.6#−ジデオキシ−5
,6′−ジフルオロ−5−エピ−カナマイシンA及び5
−デオキシ−5−フルオロ−5,4ζジ−エピ−カナマ
イシンAはカナマイシンAに比べて抗菌活性がほぼ同等
であることが記載されている。従って、この文献の記載
からは、カナマイシンAの6′位水酸基及び/又は5位
水酸基を弗素で置換することによって、カナマイシンA
の抗菌活性を増強できるとの教示は得られない。
また、「ケミカル・アブストラクツJ 90.104゜
301 (1979)にはカナマイシンAの5位水酸基
以外のアミノ基、水酸基を通常の保護基で保護した誘導
体に対しDASTを反応させることによって5−デオキ
シ−5−フルオロ5−エピ−カナマイシンA誘導体を合
成し、その保護基を脱離することによって、5−デオキ
シ−5−フルオロ−5−エピ−カナマイシンAを製造す
る方法が記載されである。しかしながら、この文献には
カナマイシンAに比べて5−デオキシ−5−フルオロ−
5−エピ−カナマイシンAはその抗菌活性が増強される
ことが示されてない。
301 (1979)にはカナマイシンAの5位水酸基
以外のアミノ基、水酸基を通常の保護基で保護した誘導
体に対しDASTを反応させることによって5−デオキ
シ−5−フルオロ5−エピ−カナマイシンA誘導体を合
成し、その保護基を脱離することによって、5−デオキ
シ−5−フルオロ−5−エピ−カナマイシンAを製造す
る方法が記載されである。しかしながら、この文献には
カナマイシンAに比べて5−デオキシ−5−フルオロ−
5−エピ−カナマイシンAはその抗菌活性が増強される
ことが示されてない。
前述したように、従来では、シソミシンの5位水酸基を
DASTで処理することにより、立体配置の反転を伴な
い又は伴わずに5位水酸基を弗素で置換を行って得た5
−デオキシ−5−フルオロ−5−エピシソミシン又は5
−デオキシ−5−フルオロシソミシンの場合には、シソ
ミシンの抗菌活性は有利に増強できないことが認められ
ており、また更に、カナマイシンAの5位水酸基をDA
STで処理することにより5位の置換基の立体配置の反
転を伴って弗素で置換を行って得た5−デオキシ−5−
フルオロ−5−エピカナマイシンAの場合にも、カナマ
イシンAの抗菌活性は有利に増強できないことが認めら
れていた。
DASTで処理することにより、立体配置の反転を伴な
い又は伴わずに5位水酸基を弗素で置換を行って得た5
−デオキシ−5−フルオロ−5−エピシソミシン又は5
−デオキシ−5−フルオロシソミシンの場合には、シソ
ミシンの抗菌活性は有利に増強できないことが認められ
ており、また更に、カナマイシンAの5位水酸基をDA
STで処理することにより5位の置換基の立体配置の反
転を伴って弗素で置換を行って得た5−デオキシ−5−
フルオロ−5−エピカナマイシンAの場合にも、カナマ
イシンAの抗菌活性は有利に増強できないことが認めら
れていた。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、本発明者らが先に合成した3′−デオキ
シ−3′−フルオロカナマイシンA又はB、3′。
シ−3′−フルオロカナマイシンA又はB、3′。
4′−ジデオキシ−37−フルオロカナマイシンB及び
2’、3’−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
Aが夫々に、対応の弗素置換されてない母体化合物に比
べて改善された抗菌活性を示すことをすでに発見した。
2’、3’−ジデオキシ−2′−フルオロカナマイシン
Aが夫々に、対応の弗素置換されてない母体化合物に比
べて改善された抗菌活性を示すことをすでに発見した。
シソミシン及びカナマイシンAの場合には、5位水酸基
を弗素で置換しても、抗菌活性の有利な増強が得られな
かった事実を認識しながらも、本発明者らは、カナマイ
シンBから新規化合物として5−デオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンBを創製できるならば、5−デオキシ−
5−フルオロカナマイシンBはカナマイシンBに比べて
有利に増強又は改善された抗菌活性をもつであろうと期
待し、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBの合
成の研究を行った。
を弗素で置換しても、抗菌活性の有利な増強が得られな
かった事実を認識しながらも、本発明者らは、カナマイ
シンBから新規化合物として5−デオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンBを創製できるならば、5−デオキシ−
5−フルオロカナマイシンBはカナマイシンBに比べて
有利に増強又は改善された抗菌活性をもつであろうと期
待し、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBの合
成の研究を行った。
」1記の5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBは
改善された抗菌活性を示すことができるとの本発明者の
期待は、本発明者が次の着想を得たことに由る。すなわ
ち、本発明者らは、カナマイシン)3の分子が次式(A
)で示される立体構造を取り、デオキシストレプタミン
部分のエカトリアルな配置の5位水酸基と2,6−ジア
ミノ糖部分のエカトリアルな配置の2′位アミノ基との
間には、何らかの相互作用(水素結合にる吸引作用か又
はN。
改善された抗菌活性を示すことができるとの本発明者の
期待は、本発明者が次の着想を得たことに由る。すなわ
ち、本発明者らは、カナマイシン)3の分子が次式(A
)で示される立体構造を取り、デオキシストレプタミン
部分のエカトリアルな配置の5位水酸基と2,6−ジア
ミノ糖部分のエカトリアルな配置の2′位アミノ基との
間には、何らかの相互作用(水素結合にる吸引作用か又
はN。
O原子による反撥)が勤いていると考えており、この相
互作用がデオキシス1〜レプタミン部分とこれの4位水
酸基に結合した2、6−ジアミノ糖部分との間の化学結
合の角度、ならびにデオキシストレブタミン部分及び2
,6−ジアミノ糖部分の夫々の回転の自由度等を制約し
てカナマイシン8分子中の三つの環部分の相対的な立体
位置を大きく決定していると考えている。本発明者らは
5位水酸基をそのエカトリアルな配置を保ったままに、
より電気陰性度の高い弗素原子で置き代えた形の5−デ
オキシ−5−フルオロカナマイシンBを作ったならば、
エカトリアルな5位フルオロ基とエカトリアルな2′位
アミノ基との間の相互作用は、カナマイシン8分子の時
の5位水酸基と2′位アミノ基との間の相互作用と相違
し、これに伴って、カナマイシン8分子中の3つの環状
部分の相対的な立体位置が変化し、それによって抗菌活
性も影響を受けるから、5−デオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンBはカナマイシンBの抗菌活性に比べて相当
に変化するであろうと着想したのである。そして、今回
、研究の結果、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンBの合成に成功してこの新規化合物の抗菌活性をa+
lI定してカナマイシンBの抗菌活性を比較したところ
、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBの抗菌活
性は実際に増強されていることを発見したのである。す
なわち5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBはカ
ナマイシンBが有効でない大腸菌に−1,21A290
R55(2ζ位水酸基をアデニリル化する酵素をもつ
耐性菌)や大腸菌JR225(3位水酸基基をアセチル
化する酵素をもつ1性)、 さらにプロビデンシアPν
16(2’位のアミノ基をアセチル化する酵素をもつ耐
性菌)に対して有効であった。
互作用がデオキシス1〜レプタミン部分とこれの4位水
酸基に結合した2、6−ジアミノ糖部分との間の化学結
合の角度、ならびにデオキシストレブタミン部分及び2
,6−ジアミノ糖部分の夫々の回転の自由度等を制約し
てカナマイシン8分子中の三つの環部分の相対的な立体
位置を大きく決定していると考えている。本発明者らは
5位水酸基をそのエカトリアルな配置を保ったままに、
より電気陰性度の高い弗素原子で置き代えた形の5−デ
オキシ−5−フルオロカナマイシンBを作ったならば、
エカトリアルな5位フルオロ基とエカトリアルな2′位
アミノ基との間の相互作用は、カナマイシン8分子の時
の5位水酸基と2′位アミノ基との間の相互作用と相違
し、これに伴って、カナマイシン8分子中の3つの環状
部分の相対的な立体位置が変化し、それによって抗菌活
性も影響を受けるから、5−デオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンBはカナマイシンBの抗菌活性に比べて相当
に変化するであろうと着想したのである。そして、今回
、研究の結果、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンBの合成に成功してこの新規化合物の抗菌活性をa+
lI定してカナマイシンBの抗菌活性を比較したところ
、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBの抗菌活
性は実際に増強されていることを発見したのである。す
なわち5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBはカ
ナマイシンBが有効でない大腸菌に−1,21A290
R55(2ζ位水酸基をアデニリル化する酵素をもつ
耐性菌)や大腸菌JR225(3位水酸基基をアセチル
化する酵素をもつ1性)、 さらにプロビデンシアPν
16(2’位のアミノ基をアセチル化する酵素をもつ耐
性菌)に対して有効であった。
本発明者らは、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンBを創製する合成方法を研究している過程において、
研究の結果、5位での弗素置換を行うべき中間原料とし
て、カナマイシン8分子の5位の水酸基以外のすべての
水酸基と、すべてのアミノ基とが保護基で閉塞されであ
るという特別の型式のカナマイシンBのN、O−保護誘
導体が先づ必要であることを認めた6そして、そのよう
な特別の型式のカナマイシンBのN、0−保護体を調製
する方法の研究を続けた。その結果、後述するように各
種の知られたアミノ保護基のうちから、スルホニル型の
アミノ保護基を選び出し、これをカナマイシンBのすべ
てのアミノ基に導入して、アミノ基を保護し1次に、無
水ピリジン中でアシルクロライド、好ましくはアセチル
クロライドを0℃又はそれ以下の低温で反応させて5位
以外の水酸基のすべてをアシル化して保護し;若しくは
先づ2価のヒドロキシ保護基で4″−及び6′−位の水
酸基2個を同時に閉塞した後5位以外の水酸基を保護す
るためにヒドロキシル保護基導入剤としてアシルハロゲ
ニド、アシルアンヒドリド、N−アシル−イミダゾール
を選定された反応条件下に作用させることによって、5
位水酸基のアシル化を伴わずに選択的に3′位、4′位
及び2′位の水酸基のみをアシル化させ、こうして1(
?られた遊離の5位水酸基をもつ3’、4’、2’、4
’、6’−ベンター〇−保+!−1,312’、6’、
3“−ペンタ−N=保護(スルホニル化)−カナマイシ
ンBを収率よく合成することに成功した。
ンBを創製する合成方法を研究している過程において、
研究の結果、5位での弗素置換を行うべき中間原料とし
て、カナマイシン8分子の5位の水酸基以外のすべての
水酸基と、すべてのアミノ基とが保護基で閉塞されであ
るという特別の型式のカナマイシンBのN、O−保護誘
導体が先づ必要であることを認めた6そして、そのよう
な特別の型式のカナマイシンBのN、0−保護体を調製
する方法の研究を続けた。その結果、後述するように各
種の知られたアミノ保護基のうちから、スルホニル型の
アミノ保護基を選び出し、これをカナマイシンBのすべ
てのアミノ基に導入して、アミノ基を保護し1次に、無
水ピリジン中でアシルクロライド、好ましくはアセチル
クロライドを0℃又はそれ以下の低温で反応させて5位
以外の水酸基のすべてをアシル化して保護し;若しくは
先づ2価のヒドロキシ保護基で4″−及び6′−位の水
酸基2個を同時に閉塞した後5位以外の水酸基を保護す
るためにヒドロキシル保護基導入剤としてアシルハロゲ
ニド、アシルアンヒドリド、N−アシル−イミダゾール
を選定された反応条件下に作用させることによって、5
位水酸基のアシル化を伴わずに選択的に3′位、4′位
及び2′位の水酸基のみをアシル化させ、こうして1(
?られた遊離の5位水酸基をもつ3’、4’、2’、4
’、6’−ベンター〇−保+!−1,312’、6’、
3“−ペンタ−N=保護(スルホニル化)−カナマイシ
ンBを収率よく合成することに成功した。
更に1本発明者らは、上記のカナマイシンBのN、0−
保護体の5位水酸基の弗素置換には、温和な反応条件で
弗素化効率のよいDAST又はその他のジアルキルアミ
ノサルファー・トリフルオロライトあるいはビス(ジア
ルキルアミノ)サルファー・ジフルオライト(rJ、
Org、 Chem、J 40. Na5.574〜5
78頁(1975))が適当であると知見したけれども
。
保護体の5位水酸基の弗素置換には、温和な反応条件で
弗素化効率のよいDAST又はその他のジアルキルアミ
ノサルファー・トリフルオロライトあるいはビス(ジア
ルキルアミノ)サルファー・ジフルオライト(rJ、
Org、 Chem、J 40. Na5.574〜5
78頁(1975))が適当であると知見したけれども
。
これらジアルキルアミノサルファー・トリフルオライド
又はビス(ジアルキルアミノ)サルファー・ジフルオラ
イドを前記の3’、4’、2“、4“、6“−ペンタ−
〇−保護−1.3.2’、6’、3“−ペンタ−N−保
護(スルホニル化)−カナマイシンBと反応させる場合
には、弗素置換と同時に5位水酸基の立体配置の反転が
避けられずに5−デオキシ−5−フルオロ−5−エピー
カナマイシンB誘導体を生成して終う欠陥があることに
留意した。研究を続けた結果、DASTの如き前記の弗
素化剤でカナマイシンBの保護体の5位の弗素置換を行
うに先立ち、先づ、5位水酸基の立体配置の反転のみを
行って5−エピカナマイシンBの適当なN、O−保護体
を調製し、次いで後者にDASTの如き前記の弗素化剤
で作用させて5位の弗素置換と5位の2回目の反転を行
い、これによって、エピ体でない所期の5−デオキシ−
5−フルオロカナマイシンBのN、O−保護誘導体を調
製するという工夫を施せば、目的の達成に成功すること
を着想した。
又はビス(ジアルキルアミノ)サルファー・ジフルオラ
イドを前記の3’、4’、2“、4“、6“−ペンタ−
〇−保護−1.3.2’、6’、3“−ペンタ−N−保
護(スルホニル化)−カナマイシンBと反応させる場合
には、弗素置換と同時に5位水酸基の立体配置の反転が
避けられずに5−デオキシ−5−フルオロ−5−エピー
カナマイシンB誘導体を生成して終う欠陥があることに
留意した。研究を続けた結果、DASTの如き前記の弗
素化剤でカナマイシンBの保護体の5位の弗素置換を行
うに先立ち、先づ、5位水酸基の立体配置の反転のみを
行って5−エピカナマイシンBの適当なN、O−保護体
を調製し、次いで後者にDASTの如き前記の弗素化剤
で作用させて5位の弗素置換と5位の2回目の反転を行
い、これによって、エピ体でない所期の5−デオキシ−
5−フルオロカナマイシンBのN、O−保護誘導体を調
製するという工夫を施せば、目的の達成に成功すること
を着想した。
研究を続けた結果、前記の3’、4’、2’、4’、6
’−ペンタ−〇−保護−1.3.2’、6’、3’−ペ
ンタ−N−保護(スルホニル化)−カナマイシンBの5
位水酸基の反転を行うには、トリフェニルホスフィン(
P (Cs H5)3 )と、ジエチル・アゾジカルボ
キシレート (C2H9−0□C−N=N−Co□−C21+、)と
安息香酸又は他の有機酸とを同時に反応させるミツノブ
(Mitsunobu)反応(0,Mitsunobu
、 M、 Yamada、 rBull、 CheIl
l。
’−ペンタ−〇−保護−1.3.2’、6’、3’−ペ
ンタ−N−保護(スルホニル化)−カナマイシンBの5
位水酸基の反転を行うには、トリフェニルホスフィン(
P (Cs H5)3 )と、ジエチル・アゾジカルボ
キシレート (C2H9−0□C−N=N−Co□−C21+、)と
安息香酸又は他の有機酸とを同時に反応させるミツノブ
(Mitsunobu)反応(0,Mitsunobu
、 M、 Yamada、 rBull、 CheIl
l。
Soc、 Jpn、J 40巻、 2380頁(196
7)参照)を利用すると効率がよいことを発見した。こ
のミツノブ反応を利用して、前出のカナマイシンBのN
、O−保護体から5−0−ベンゾイル−5−エピ−3’
、4’、2’、4’、6’−ペンタ−〇−保護−1.3
.2’、6’、3’−ペンタ−N−保護(スルホニル化
)−カナマイシンBを生成し、次いでこれをナトリウム
・メチラートのメタノール溶液で処理して、5位のエピ
−水酸基からベンゾイル基を、また3’、4’、2’、
4’、6’位の水酸基上のアシル基を脱離し、若しくは
3’、4’、2’位の水酸基上のアシル基を脱離しく4
’ 、 6’位の水酸基が2価のヒドロキシル保護基で
保護されである場合)こうして1.3.2’、。
7)参照)を利用すると効率がよいことを発見した。こ
のミツノブ反応を利用して、前出のカナマイシンBのN
、O−保護体から5−0−ベンゾイル−5−エピ−3’
、4’、2’、4’、6’−ペンタ−〇−保護−1.3
.2’、6’、3’−ペンタ−N−保護(スルホニル化
)−カナマイシンBを生成し、次いでこれをナトリウム
・メチラートのメタノール溶液で処理して、5位のエピ
−水酸基からベンゾイル基を、また3’、4’、2’、
4’、6’位の水酸基上のアシル基を脱離し、若しくは
3’、4’、2’位の水酸基上のアシル基を脱離しく4
’ 、 6’位の水酸基が2価のヒドロキシル保護基で
保護されである場合)こうして1.3.2’、。
6′、3ζペンタ−N=保護−5−エピ−カナマイシン
B、若しくは4’ 、 6’−ジー〇−保護−1,3,
2’、6’、3“−ペンタ−N−保護−5−エピ−カナ
マイシンBを生成し、次いでこの5−エピーカナマイシ
ンB保護誘導体を再び前述の要領でN−アシル−イミダ
ゾール又はその他のアシル化剤で処理して、5位水酸基
のアシル化を伴わずに選択的に遊離の水酸基のみをアシ
ル化して3’、4’、2’、4“、6“−ペンタ−〇−
保護−1.,3.2’、6’。
B、若しくは4’ 、 6’−ジー〇−保護−1,3,
2’、6’、3“−ペンタ−N−保護−5−エピ−カナ
マイシンBを生成し、次いでこの5−エピーカナマイシ
ンB保護誘導体を再び前述の要領でN−アシル−イミダ
ゾール又はその他のアシル化剤で処理して、5位水酸基
のアシル化を伴わずに選択的に遊離の水酸基のみをアシ
ル化して3’、4’、2’、4“、6“−ペンタ−〇−
保護−1.,3.2’、6’。
3′−ペンタ−N−保護(スルホニル化)−5−二ピ〜
カナマイシンBを調製することに成功した。更に、後者
の化合物をDAST又はその他のジアルキルアミノサル
ファー・トリフルオライドあるいはビス(ジアルキルア
ミノ)サルファー・ジフルオライド又はこれらと均等な
弗素化剤と反応させて3t、4′、224z。
カナマイシンBを調製することに成功した。更に、後者
の化合物をDAST又はその他のジアルキルアミノサル
ファー・トリフルオライドあるいはビス(ジアルキルア
ミノ)サルファー・ジフルオライド又はこれらと均等な
弗素化剤と反応させて3t、4′、224z。
6′−ペンタ−〇−保護−1.3.2’、6’、3’−
ペンタ−N−保護(スルホニル イシンBを生成し,次いでこれからすべてのアミノ保護
基及びヒドロキシル保護基を常法で脱離することによっ
て、カナマイシンBから目的の5−デオキシ−5−フル
オロ−カナマイシンBを収得することに成功した。また
、ここで合成された5−デオキシ−5−フルオロカナマ
イシンBはカナマイシンBに比べて増強された抗菌活性
を有することを知見した。
ペンタ−N−保護(スルホニル イシンBを生成し,次いでこれからすべてのアミノ保護
基及びヒドロキシル保護基を常法で脱離することによっ
て、カナマイシンBから目的の5−デオキシ−5−フル
オロ−カナマイシンBを収得することに成功した。また
、ここで合成された5−デオキシ−5−フルオロカナマ
イシンBはカナマイシンBに比べて増強された抗菌活性
を有することを知見した。
更に、カナマイシンBから前述の方法によって5−デオ
キシ−5−フルオロカナマイシンBを合成するに当って
は、前記の5位水酸基の反転を行うミツノブ反応を受け
る3’,4’,2’,4’,6’−ヘンター0−保護−
1.3.2’ 、6’ 、3’−ペンタ−N−保護(ス
ルホニル化)ーカナマイシンBにおいては、アミノ保護
基はメシル基の如きアルキルスルホニル基、ベンジルス
ルホニル基の如きアラルキルスルホニル基,トシル基の
如きアリールスルホニル基でないと、ミツノブ)M応が
円滑に起らないこと、この際のアミノ保護基はトシル基
であるのが最も好ましいことを知見した。しかしながら
、DASTの如き前記の弗素化剤との反応でエピ配置の
5位水酸基を弗素置換及び反・Ii/:させるに当って
は、アミノ保護基はスルホニル型のものでなくとも、反
応が十分に進行することが認められた。従って、前記の
3 r、4/、2Z41f。
キシ−5−フルオロカナマイシンBを合成するに当って
は、前記の5位水酸基の反転を行うミツノブ反応を受け
る3’,4’,2’,4’,6’−ヘンター0−保護−
1.3.2’ 、6’ 、3’−ペンタ−N−保護(ス
ルホニル化)ーカナマイシンBにおいては、アミノ保護
基はメシル基の如きアルキルスルホニル基、ベンジルス
ルホニル基の如きアラルキルスルホニル基,トシル基の
如きアリールスルホニル基でないと、ミツノブ)M応が
円滑に起らないこと、この際のアミノ保護基はトシル基
であるのが最も好ましいことを知見した。しかしながら
、DASTの如き前記の弗素化剤との反応でエピ配置の
5位水酸基を弗素置換及び反・Ii/:させるに当って
は、アミノ保護基はスルホニル型のものでなくとも、反
応が十分に進行することが認められた。従って、前記の
3 r、4/、2Z41f。
6s−ヘン9−0−保’JJ−1.3.2’、6’、3
ζヘン9−N−保護(スルホニル化)−5−二ピーカナ
マイシンBを液体アンモニア中でアルカリ金属で処理し
、こうしてスルホニル型のアミノ保護基のすべてを除去
して3 /N、2NA11.6“−ペンタ−〇−保護−
N−非保護−5−エピーカナマイシンBを調製し、次い
でこの化合物のアミノ基のすべてに任意の公知のアミノ
保護基。
ζヘン9−N−保護(スルホニル化)−5−二ピーカナ
マイシンBを液体アンモニア中でアルカリ金属で処理し
、こうしてスルホニル型のアミノ保護基のすべてを除去
して3 /N、2NA11.6“−ペンタ−〇−保護−
N−非保護−5−エピーカナマイシンBを調製し、次い
でこの化合物のアミノ基のすべてに任意の公知のアミノ
保護基。
例えばアシル基、例えばアセチル基の如きアルカノイル
基、ベンゾイル基の如きアロイル基1、工1−キシカル
ボニル基又は第3級ブトキシカルボニル基の如きアルコ
キシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基の如き
アラルキルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル
基の如きアリールオキシカルボニル基、あるいはシッフ
塩几型のアミノ保護基、例えばベンジリデン基、パラニ
トロベンジリデン基を常法で導入し、こうして31.4
/。
基、ベンゾイル基の如きアロイル基1、工1−キシカル
ボニル基又は第3級ブトキシカルボニル基の如きアルコ
キシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基の如き
アラルキルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル
基の如きアリールオキシカルボニル基、あるいはシッフ
塩几型のアミノ保護基、例えばベンジリデン基、パラニ
トロベンジリデン基を常法で導入し、こうして31.4
/。
2’ 、 4’ 、 6’−ペンタ−〇−保護−1.3
.2’、6’、3’−ペンタ−N−保護(スルホニル化
以外の保護)−5−エピ−カナマイシンBを生成し、こ
の化合物の5位の水酸基をDASTの如き前記の弗素化
剤と反応させ、こうして対応のN、O−保護−5−デオ
キシ−5−フルオロカナマイシンBを生成し、後者の化
合物から脱保護することから成る方法によっても、5−
デオキシ−5−フルオロカナマイシンBを合成できるこ
とを知見した。
.2’、6’、3’−ペンタ−N−保護(スルホニル化
以外の保護)−5−エピ−カナマイシンBを生成し、こ
の化合物の5位の水酸基をDASTの如き前記の弗素化
剤と反応させ、こうして対応のN、O−保護−5−デオ
キシ−5−フルオロカナマイシンBを生成し、後者の化
合物から脱保護することから成る方法によっても、5−
デオキシ−5−フルオロカナマイシンBを合成できるこ
とを知見した。
従って1例えば、5−エピカナマイシンBの合成を行う
須網らの方法(rBulletin of the C
hemicalSociety of JapanJ5
2巻3号、 955〜956頁(1979))で中間体
として用いた3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ−
〇−ベンゾイルー1.3.2’、6’、3ζペンタキス
(トエトキシカルボニル)−5−エピ−カナマイシンB
も、本発明の方法でDASTの如き前記の弗素化剤と反
応することにより式(IV)の対応のN、O−保護゛−
5−デオキシー5−フルオロカナマイシンBに転化でき
る。
須網らの方法(rBulletin of the C
hemicalSociety of JapanJ5
2巻3号、 955〜956頁(1979))で中間体
として用いた3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ−
〇−ベンゾイルー1.3.2’、6’、3ζペンタキス
(トエトキシカルボニル)−5−エピ−カナマイシンB
も、本発明の方法でDASTの如き前記の弗素化剤と反
応することにより式(IV)の対応のN、O−保護゛−
5−デオキシー5−フルオロカナマイシンBに転化でき
る。
なおまた、前述のようにカナマイシンBに適用した5位
水酸基以外のすべての水酸基の保護方法とアミノ基の保
護方法、及び5位水酸基の反転を行うミツノブ反応、な
らびにDASTの如きジアルキルアミノサルファー・ト
リフルオライド又はビス(ジアルキルアミノ)−サルフ
ァー・ジフルオライト又はその均等的な弗素化剤でエビ
配置の5位水酸基を弗素化及び反転させる方法を、カナ
マイシンBのデオキシ誘導体である3′−デオキシカナ
マイシンB、4′−デオキシカナマイシンB、3’ 、
4’−デオキシカナマイシンBに応用できることも知見
し、こうして、3′−デオキシカナマイシンB(すなわ
ち1−ブラマイシン)から5,3′−ジデオキシ−5−
フルオロカナマイシンBを、また4′−デオキシカナマ
イシンB (rBull、 Chew、 Soc、 J
pn、J 50.2362頁(1977)から5,4′
−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシンBを、さらに
3’、4’−ジデオキシカナマイシンB(すなわち、ジ
ベカシン)から5.3’、4’−1−リゾオキシ−5−
フルオロカナマイシンB を創製することに成功し、ま
たこれら三つの新規化合物が増強された抗菌活性を有す
ることを知見した。
水酸基以外のすべての水酸基の保護方法とアミノ基の保
護方法、及び5位水酸基の反転を行うミツノブ反応、な
らびにDASTの如きジアルキルアミノサルファー・ト
リフルオライド又はビス(ジアルキルアミノ)−サルフ
ァー・ジフルオライト又はその均等的な弗素化剤でエビ
配置の5位水酸基を弗素化及び反転させる方法を、カナ
マイシンBのデオキシ誘導体である3′−デオキシカナ
マイシンB、4′−デオキシカナマイシンB、3’ 、
4’−デオキシカナマイシンBに応用できることも知見
し、こうして、3′−デオキシカナマイシンB(すなわ
ち1−ブラマイシン)から5,3′−ジデオキシ−5−
フルオロカナマイシンBを、また4′−デオキシカナマ
イシンB (rBull、 Chew、 Soc、 J
pn、J 50.2362頁(1977)から5,4′
−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシンBを、さらに
3’、4’−ジデオキシカナマイシンB(すなわち、ジ
ベカシン)から5.3’、4’−1−リゾオキシ−5−
フルオロカナマイシンB を創製することに成功し、ま
たこれら三つの新規化合物が増強された抗菌活性を有す
ることを知見した。
しかも、本発明者らは、今回創製された5−デオキシ−
5−フルオロカナマイシンB、5,3′−ジデオキシ−
5−フルオロカナマイシンB、5,4′−ジデオキシ−
5−フルオロカナマイシンB、及び5.3’ 、4’−
トリデオキシ−5−フルオロカナマイシンBを夫々、1
−N−(3−アミノ−2−(R3)−又は(S)−ヒド
ロキシプロピオニル)化又は1−N−(4−アミノ−2
−(S)−ヒドロキシブチリル)化することによって、
対応の1−N−(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノ
イル)化誘導体を新規化合物として製造し、しかも後者
の1−N−アシル化誘導体が更に改善された抗菌活性を
有することも知見した。上記の本発明者の知見に基づい
て、本発明は完成されたものである。
5−フルオロカナマイシンB、5,3′−ジデオキシ−
5−フルオロカナマイシンB、5,4′−ジデオキシ−
5−フルオロカナマイシンB、及び5.3’ 、4’−
トリデオキシ−5−フルオロカナマイシンBを夫々、1
−N−(3−アミノ−2−(R3)−又は(S)−ヒド
ロキシプロピオニル)化又は1−N−(4−アミノ−2
−(S)−ヒドロキシブチリル)化することによって、
対応の1−N−(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカノ
イル)化誘導体を新規化合物として製造し、しかも後者
の1−N−アシル化誘導体が更に改善された抗菌活性を
有することも知見した。上記の本発明者の知見に基づい
て、本発明は完成されたものである。
従って、第1の本発明によると1次の一般式〔式中、■
くは水素原子又は次式 −C○−CH−(CHS)。−NI−ISH (但し、nは1又は2の整数である)のα−ヒドロキシ
−ω−アミノアルカノイル基であり A1及びA2は夫
々に、水酸基又は水素原子である〕で示される5−デオ
キシ−5−フルオロカナマイシンB誘導体、及びその酸
付加塩が提供される。
くは水素原子又は次式 −C○−CH−(CHS)。−NI−ISH (但し、nは1又は2の整数である)のα−ヒドロキシ
−ω−アミノアルカノイル基であり A1及びA2は夫
々に、水酸基又は水素原子である〕で示される5−デオ
キシ−5−フルオロカナマイシンB誘導体、及びその酸
付加塩が提供される。
第一の本発明による一般式(1)の5−デオキシ−5一
フルオロカナマイシンB誘導体の例には、下記の13の
化合物があり、これらの化合物はすべて明確な融点を示
さない塩基性の無色粉末状物質である。以下に、それら
の化合物名を挙げて且つそれら化合物の比旋光度の値を
付す。
フルオロカナマイシンB誘導体の例には、下記の13の
化合物があり、これらの化合物はすべて明確な融点を示
さない塩基性の無色粉末状物質である。以下に、それら
の化合物名を挙げて且つそれら化合物の比旋光度の値を
付す。
(1)5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB(一
般式(1)でRが水素原子でA1及びA2が夫々に水酸
基である場合)、(本発明化合物Nα1という)。
般式(1)でRが水素原子でA1及びA2が夫々に水酸
基である場合)、(本発明化合物Nα1という)。
EC!]i53+lL7°(c O,6,水)。
(2) 5.3’−ジデオキシ−5−フルオロカナマイ
シンBすなわち5−デオキシ−5−フルオロトブラマイ
シン(一般式(I)でR及びA1が水素原子でA2が水
酸基である場合)、(本発明化合物Nα2)。
シンBすなわち5−デオキシ−5−フルオロトブラマイ
シン(一般式(I)でR及びA1が水素原子でA2が水
酸基である場合)、(本発明化合物Nα2)。
〔α〕も’+124°(c 1.0.水)。
(3) 5.4’−ジデオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB(一般式(I)でR及び八2が水素原子でA1が
水酸基である場合)、(本発明化合物NQ3)。
シンB(一般式(I)でR及び八2が水素原子でA1が
水酸基である場合)、(本発明化合物NQ3)。
(α〕o” +120″’(c 1.0.水)、。
(4) 5.3’、4’−トリデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(一般式(I)でR,A’及びA1がす
べて水素原子である場合)、(本発明化合物Nα4)。
カナマイシンB(一般式(I)でR,A’及びA1がす
べて水素原子である場合)、(本発明化合物Nα4)。
(α) B’ + ]、 22°(cl、水)。
(5) 1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロキ
シプロピオニル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマ
イシンB(一般式(1)でRが3−アミノ−2−(S)
−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1及びA2が夫
々に水酸基である場合)、(本発明化合物Nα5)。
シプロピオニル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマ
イシンB(一般式(1)でRが3−アミノ−2−(S)
−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1及びA2が夫
々に水酸基である場合)、(本発明化合物Nα5)。
〔α〕♂4+83°(cl、水)。
(6) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロキ
シブチリル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンB(一般式(1)で[(が4−アミノ−2−(S)−
ヒドロキシブチリル基であり AI及びA2が夫々に水
酸基である場合)、(本発明化合物Nn6)。
シブチリル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンB(一般式(1)で[(が4−アミノ−2−(S)−
ヒドロキシブチリル基であり AI及びA2が夫々に水
酸基である場合)、(本発明化合物Nn6)。
〔α〕1″+85°(cl、水)。
(7)1−N−(3−アミノ−2−(R5)−ヒドロキ
シプロピオニル)−5,3’−ジデオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンB(一般式(1)でRが3−アミノ−2
−(R5)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1が
水素原子で八2が水酸II(である場合)、(本発明化
合物Nα7)。
シプロピオニル)−5,3’−ジデオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンB(一般式(1)でRが3−アミノ−2
−(R5)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1が
水素原子で八2が水酸II(である場合)、(本発明化
合物Nα7)。
〔α)う’+7s°(cl、水)。
(8) 1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロキ
シプロピオニル)−5,3’−ジデオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンB(一般式(1)でRが3−アミノ−2
−(S)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1が水
素原子でA2が水酸基である場合)、(本発明化合物N
α8)。
シプロピオニル)−5,3’−ジデオキシ−5−フルオ
ロカナマイシンB(一般式(1)でRが3−アミノ−2
−(S)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A1が水
素原子でA2が水酸基である場合)、(本発明化合物N
α8)。
〔α〕も’+79”(c 1.0.水)。
(9) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロキ
シブチリル)−5,3′−ジデオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンB (一般式(1)でRが4−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシブチリル基であり、A1が水素原子
でA2が水酸基である場合)、(本発明化合物Nα9)
。
シブチリル)−5,3′−ジデオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンB (一般式(1)でRが4−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシブチリル基であり、A1が水素原子
でA2が水酸基である場合)、(本発明化合物Nα9)
。
〔α〕ら’+77’(c 3.0.水)。
(to) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシブチリル)−5,4’−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(一般式(1)でRが4−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシブチリル基であり、A1が水酸基で
A2が水素原子である場合)、(本発明化合物Nα10
)。
キシブチリル)−5,4’−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(一般式(1)でRが4−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシブチリル基であり、A1が水酸基で
A2が水素原子である場合)、(本発明化合物Nα10
)。
〔α〕ら5+82’(c 1.水)。
(11) 1−N−(3−アミノ−2−(R3)−ヒド
ロキシプロピオニル)−5,3’ 、4’−トリデオキ
シ−5−フルオロカナマイシンB(一般式(1)でRが
3−アミノ−2−(R3)−ヒドロキシプロビオニル基
であり、A1及び八2が夫々に水素ツノ;(子である場
合)、(本発明化合物NQIL)。
ロキシプロピオニル)−5,3’ 、4’−トリデオキ
シ−5−フルオロカナマイシンB(一般式(1)でRが
3−アミノ−2−(R3)−ヒドロキシプロビオニル基
であり、A1及び八2が夫々に水素ツノ;(子である場
合)、(本発明化合物NQIL)。
〔α13’+82”(c l、水)。
(12) 1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒド
ロキシプロピオニル)−5,3’、4’−hリゾオキシ
−5−フルオロカナマイシンB(一般式(+)でRが3
−アミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル栽であ
り、A1及びA2が水素原子である場合)、(本発明化
合物Nn 12 )。
ロキシプロピオニル)−5,3’、4’−hリゾオキシ
−5−フルオロカナマイシンB(一般式(+)でRが3
−アミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル栽であ
り、A1及びA2が水素原子である場合)、(本発明化
合物Nn 12 )。
〔α〕b′+82°(cl、水)。
(1:l) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒド
ロキシブチリル)−5,3’ 、4’−1−リゾオキシ
−5−フルオロカナマイシン[3(一般式(1)でRが
4−アミノ−2−(S)−ヒドロキシブチリルJ、(で
あり、A1及びA2が夫々に水素原子である場合)、(
本発明化合物Nα13)。
ロキシブチリル)−5,3’ 、4’−1−リゾオキシ
−5−フルオロカナマイシン[3(一般式(1)でRが
4−アミノ−2−(S)−ヒドロキシブチリルJ、(で
あり、A1及びA2が夫々に水素原子である場合)、(
本発明化合物Nα13)。
〔α〕八へ+83°(cl、水)。
本発明による一般式(1)の化合物の抗菌活性は、各f
)1(の細菌に対する最低生育阻止濃度(MIC,mc
g/mQ)を倍数希釈法で測定することによって調べた
。
)1(の細菌に対する最低生育阻止濃度(MIC,mc
g/mQ)を倍数希釈法で測定することによって調べた
。
alll定された本発明の化合物Nα1〜化合物Nα1
3の抗菌スペクトルは第1表に示す通りである。比較の
ため、カナマイシンB (KMBと略記)、3′−デオ
キシカナマイシンBすなわちI−ブラマイシン(TMB
と略記)、3’、4’−ジデオキシカナマイシンBすな
わちジベカシン(DKBと略記)、及び1−N−(4−
アミノ−2−(S)−ヒドロキシブチリル)−カナマイ
シンAすなわちアミカシン(AMKと略記)の抗菌スペ
クトルを同様に測定して第1表に示す。
3の抗菌スペクトルは第1表に示す通りである。比較の
ため、カナマイシンB (KMBと略記)、3′−デオ
キシカナマイシンBすなわちI−ブラマイシン(TMB
と略記)、3’、4’−ジデオキシカナマイシンBすな
わちジベカシン(DKBと略記)、及び1−N−(4−
アミノ−2−(S)−ヒドロキシブチリル)−カナマイ
シンAすなわちアミカシン(AMKと略記)の抗菌スペ
クトルを同様に測定して第1表に示す。
供 試 t′u
(Pseudomonas aeruginosa)第
1 表 (つづき) 0.39 0.39 0.39 0.3!
] <0.2 0.3!] 1.5GO
,39Q、78 0.78 25 +、
56 0.78 3.120.39 0.
39 0.39 <0.2 <0.2
0.3!1 1.56<0.2 0.2
<0.2 0.7g 6.25 6.
25 1.560.2 0.2 0.2
0.39 0.39 0.2 0.7
812.5 50 50 50
+00 50 250.78 0.
78 0.30>100 0.78 0
.78 1.56+、56 1.56 0
.78 12.5 25 50
+、560.78 0.39 0.2
12.5 25 too 1.56
1.56 1.56 0.78>100
12.5 25 3.126.25
(1,730,邦 1.5ε Q、78 1.ε
6 0.7B3、+2 1.56 0.78
>100 12.5 50 3.]、
20.2 <0.2 <0.2 0.2
0.2 0.2 0.7!13.12
1.56 1.55 3.12 12.5
25 6.250.78 +、56
0.78 +2.5 6.25 25
0.780.39 0.39 0.3
9 1.56 <0.2 0.2 1
.566.25 6.25 6.25 50
50 100 、 25本発明による
一般式(りの化合物は、遊離の塩基または水和物または
炭酸塩の形で得られるが、通常の方法により薬学的に許
容できる酸付加塩とすることができる。酸付加塩として
は、例えば塩酸、硫酸、燐酸、硝酸などの薬学的に許容
できる無機酸あるいは酢酸、リンゴ酸、クエン酸、アス
コルビン酸、メタンスルホン酸などの薬学的に許容でき
る有機酸との塩がある。
1 表 (つづき) 0.39 0.39 0.39 0.3!
] <0.2 0.3!] 1.5GO
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56 0.78 3.120.39 0.
39 0.39 <0.2 <0.2
0.3!1 1.56<0.2 0.2
<0.2 0.7g 6.25 6.
25 1.560.2 0.2 0.2
0.39 0.39 0.2 0.7
812.5 50 50 50
+00 50 250.78 0.
78 0.30>100 0.78 0
.78 1.56+、56 1.56 0
.78 12.5 25 50
+、560.78 0.39 0.2
12.5 25 too 1.56
1.56 1.56 0.78>100
12.5 25 3.126.25
(1,730,邦 1.5ε Q、78 1.ε
6 0.7B3、+2 1.56 0.78
>100 12.5 50 3.]、
20.2 <0.2 <0.2 0.2
0.2 0.2 0.7!13.12
1.56 1.55 3.12 12.5
25 6.250.78 +、56
0.78 +2.5 6.25 25
0.780.39 0.39 0.3
9 1.56 <0.2 0.2 1
.566.25 6.25 6.25 50
50 100 、 25本発明による
一般式(りの化合物は、遊離の塩基または水和物または
炭酸塩の形で得られるが、通常の方法により薬学的に許
容できる酸付加塩とすることができる。酸付加塩として
は、例えば塩酸、硫酸、燐酸、硝酸などの薬学的に許容
できる無機酸あるいは酢酸、リンゴ酸、クエン酸、アス
コルビン酸、メタンスルホン酸などの薬学的に許容でき
る有機酸との塩がある。
本発明による一般式(1)の化合物又はこれの酸付加塩
は、薬学的に許容できる液体又は固体担体と配合して抗
菌剤組成物に調合できる。
は、薬学的に許容できる液体又は固体担体と配合して抗
菌剤組成物に調合できる。
第1表の抗菌データから判るように、本発明による一般
式(1)の化合物は高い抗菌活性を及ぼす細菌が多種に
わたっており、幅広い抗菌スペクトルを有する。しかも
、マウスに対して極めて低い急性毒性を示すことが認め
られ、例えば本発明化合物Na 1、Na 2、k13
の夫々の150B/kgを経口投与してもマウス金側が
生存した。
式(1)の化合物は高い抗菌活性を及ぼす細菌が多種に
わたっており、幅広い抗菌スペクトルを有する。しかも
、マウスに対して極めて低い急性毒性を示すことが認め
られ、例えば本発明化合物Na 1、Na 2、k13
の夫々の150B/kgを経口投与してもマウス金側が
生存した。
本発明による一般式(1)の化合物のうち、式中の艮が
水素原子である場合の化合物の製造について、第2の本
発明によると、次の一般式〔式中、A3及びA4は夫々
に保護された水酸基−〇G(但しGはヒドロキシル保護
基としてのアシル基である)又は水素原子であり、Bは
アミノ保護基であり、E及びElは夫々にヒドロキシル
保護基としての前記のGと同じアシル基であるか、若し
くはE及びElは共同して1個の2価のヒドロキシル保
護基を形成するものであり、2′位水酸基上の基Gはヒ
ドロキシル保護基として前記のGと同じアシル基である
〕で示されるN、0−保護された5−エピカナマイシン
B誘導体を非極性有機溶媒中で次式N −S F、
(III)2と 〔式中、R1は炭素数1〜4のアルキル法である〕のジ
アルキルアミノサルファー・トリフルオライド又は次式 %式%) 〔式中、R1は前記と同じ意1床をもつ〕のビス(ジア
ルキルアミノ)サルファー・ジフルオライド又はこれら
と均等な弗素化剤と反応させて1式(II)の化合物の
5位にあるエピ−ヒドロキシル基の立体配:i′iの反
転と弗素置換反応とを起させ、これによりりU (式中、A3. A4. B、 E、 E’及びGは前
記と同じ意味をもつ)で示されるN、0−保護された5
−デオキシ−5−フルオロカナマイシン13誘導体を生
成させ、次いでこの式(IV)の化合物から残留のアミ
ン保護基(B)及びヒドロキシル保i鋸(t:、 E”
及びG)を常法で脱離させることを特徴とする、次の一
般式(式中、A1及びA2は夫々に、水酸基又は水素原
子である)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB誘導体の製造法が提供される。
水素原子である場合の化合物の製造について、第2の本
発明によると、次の一般式〔式中、A3及びA4は夫々
に保護された水酸基−〇G(但しGはヒドロキシル保護
基としてのアシル基である)又は水素原子であり、Bは
アミノ保護基であり、E及びElは夫々にヒドロキシル
保護基としての前記のGと同じアシル基であるか、若し
くはE及びElは共同して1個の2価のヒドロキシル保
護基を形成するものであり、2′位水酸基上の基Gはヒ
ドロキシル保護基として前記のGと同じアシル基である
〕で示されるN、0−保護された5−エピカナマイシン
B誘導体を非極性有機溶媒中で次式N −S F、
(III)2と 〔式中、R1は炭素数1〜4のアルキル法である〕のジ
アルキルアミノサルファー・トリフルオライド又は次式 %式%) 〔式中、R1は前記と同じ意1床をもつ〕のビス(ジア
ルキルアミノ)サルファー・ジフルオライド又はこれら
と均等な弗素化剤と反応させて1式(II)の化合物の
5位にあるエピ−ヒドロキシル基の立体配:i′iの反
転と弗素置換反応とを起させ、これによりりU (式中、A3. A4. B、 E、 E’及びGは前
記と同じ意味をもつ)で示されるN、0−保護された5
−デオキシ−5−フルオロカナマイシン13誘導体を生
成させ、次いでこの式(IV)の化合物から残留のアミ
ン保護基(B)及びヒドロキシル保i鋸(t:、 E”
及びG)を常法で脱離させることを特徴とする、次の一
般式(式中、A1及びA2は夫々に、水酸基又は水素原
子である)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB誘導体の製造法が提供される。
この第2の本発明の方法に出発化合物として用いる式(
II)のN、0−保護さ九た5−エピカナマイシンB誘
導体の調製法は、本明細書では後に詳しく説明する。
II)のN、0−保護さ九た5−エピカナマイシンB誘
導体の調製法は、本明細書では後に詳しく説明する。
式(II)の出発化合物において、1位、3位、2′位
、6′位及び3“位の5個のアミノ基は反応に関与しな
い何れか既知のアミノ保護基、例えばアセチル基、1〜
リフルオロアセチル基の如きアルカノイル基、ベンゾイ
ル基の如きアロイル基などのアシル基、ざらにメ1−キ
シカルボニル基、エトキシカルボニル1.5、ブI−キ
シカルボニル基の如きアルコキシカルボニル ネチルオキシカルボニル シカルボニルL(、又はフェノキシカルボニル法又はメ
1ーキシフェノキシカルボニル基の如きアリールオキシ
カルボニル基、若しくはスルホニル基の形の保護基例え
ばアルキルスルホニル基、ベンジルスルホニル基の如き
アラルキルスルホニル基、トシル基の如きアリールスル
ホニル基であることができる。
、6′位及び3“位の5個のアミノ基は反応に関与しな
い何れか既知のアミノ保護基、例えばアセチル基、1〜
リフルオロアセチル基の如きアルカノイル基、ベンゾイ
ル基の如きアロイル基などのアシル基、ざらにメ1−キ
シカルボニル基、エトキシカルボニル1.5、ブI−キ
シカルボニル基の如きアルコキシカルボニル ネチルオキシカルボニル シカルボニルL(、又はフェノキシカルボニル法又はメ
1ーキシフェノキシカルボニル基の如きアリールオキシ
カルボニル基、若しくはスルホニル基の形の保護基例え
ばアルキルスルホニル基、ベンジルスルホニル基の如き
アラルキルスルホニル基、トシル基の如きアリールスル
ホニル基であることができる。
式(11)の出発化合物の3′位及び/又は4′位に水
酸基(AJ及び/又はA4)がある場合には、3′−水
酸基及び/又は4′−水酸基並びに2“位水酸基はアシ
ル基、好ましくはアルカノイル基又はアロイル基から選
ばれる公知のヒドロキシル保護基(G)で保護されてい
ることが必要である。また、4′位及び6′位の水酸基
も同様にアシル基、好ましくはアルカノイル基又はアロ
イル基から選ばれる公知のヒドロキシル保護基(E,
El)で保護されていることが必要である。このヒドロ
キシル保護用のアシル基はアルカノイル基であることが
でき,例えば炭素数2〜5個のアルカノイル基,例えば
アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、等が適当に
用いられる。前記のアシル基はアロイル基であることも
でき、このアロイル基としては、フェニル核上にアルキ
ル置換基をもち得るフェニルカルボニル基。
酸基(AJ及び/又はA4)がある場合には、3′−水
酸基及び/又は4′−水酸基並びに2“位水酸基はアシ
ル基、好ましくはアルカノイル基又はアロイル基から選
ばれる公知のヒドロキシル保護基(G)で保護されてい
ることが必要である。また、4′位及び6′位の水酸基
も同様にアシル基、好ましくはアルカノイル基又はアロ
イル基から選ばれる公知のヒドロキシル保護基(E,
El)で保護されていることが必要である。このヒドロ
キシル保護用のアシル基はアルカノイル基であることが
でき,例えば炭素数2〜5個のアルカノイル基,例えば
アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、等が適当に
用いられる。前記のアシル基はアロイル基であることも
でき、このアロイル基としては、フェニル核上にアルキ
ル置換基をもち得るフェニルカルボニル基。
好ましくはベンゾイル基を用い得る。4′位水酸基を保
護する保護基(El)と6′位水酸基を保護する保護,
!!(E)とは、両者が共同して公知の2価のヒドロキ
シル保護基の1個であることができ、例えば炭素数2〜
8個のアルキリデン基、例えばエチリデン基及びイソプ
ロピリデン基、若しくはシクロアルキリデン基例えばシ
クロへキシリデン基、若しくはテトラヒドロビラニリデ
ン基であることができる。保護基E1及びEは共同して
1個のイソプロピリデン基又はシクロへキシリデン基で
あるのが便利である。
護する保護基(El)と6′位水酸基を保護する保護,
!!(E)とは、両者が共同して公知の2価のヒドロキ
シル保護基の1個であることができ、例えば炭素数2〜
8個のアルキリデン基、例えばエチリデン基及びイソプ
ロピリデン基、若しくはシクロアルキリデン基例えばシ
クロへキシリデン基、若しくはテトラヒドロビラニリデ
ン基であることができる。保護基E1及びEは共同して
1個のイソプロピリデン基又はシクロへキシリデン基で
あるのが便利である。
弗素化剤として用いられる式(III)のジアルキルア
ミンサルファー・トリフルオライドの例には、ジメチル
アミノサルファー・トリフルオライド、ジエチルアミノ
サルファー・トリフルオライド、及びジプロピルアミノ
サルファー・トリフルオライド等がある。また、式(■
′)のビス(ジアルキルアミノ)サルファー・ジフルオ
ライドの例には、ビス(ジメチルアミノ)サルファー・
ジフルオライド又はビス(ジエチルアミノ)サルファー
・ジフルオライドがある。これらは公知の弗素化剤であ
る(rJ、 Org、 Cheml 40.Nn5.5
74〜578頁(1975)参照)。
ミンサルファー・トリフルオライドの例には、ジメチル
アミノサルファー・トリフルオライド、ジエチルアミノ
サルファー・トリフルオライド、及びジプロピルアミノ
サルファー・トリフルオライド等がある。また、式(■
′)のビス(ジアルキルアミノ)サルファー・ジフルオ
ライドの例には、ビス(ジメチルアミノ)サルファー・
ジフルオライド又はビス(ジエチルアミノ)サルファー
・ジフルオライドがある。これらは公知の弗素化剤であ
る(rJ、 Org、 Cheml 40.Nn5.5
74〜578頁(1975)参照)。
式(II)の出発化合物と式(m)又は(■′)の弗素
化剤との反応は、非極性の有機溶媒、例えばベンゼン、
キシレン等の芳香族炭化水素、あるいはクロロメタン、
ジクロロメタン、クロロホルムの如き塩素化炭化水素中
で一70℃〜+50°Cの範囲の温度で、好ましくは室
温で無水の条件下で実施できる。式(II)の出発化合
物の1モル当りに式(III)又は(In’)の弗素化
剤は1〜10モルの量で用いるのがよい。酸結合剤とし
てアミン類、例えば第3級アルキルアミン又はピリジン
を反応混合物中に存在させるのがよい。
化剤との反応は、非極性の有機溶媒、例えばベンゼン、
キシレン等の芳香族炭化水素、あるいはクロロメタン、
ジクロロメタン、クロロホルムの如き塩素化炭化水素中
で一70℃〜+50°Cの範囲の温度で、好ましくは室
温で無水の条件下で実施できる。式(II)の出発化合
物の1モル当りに式(III)又は(In’)の弗素化
剤は1〜10モルの量で用いるのがよい。酸結合剤とし
てアミン類、例えば第3級アルキルアミン又はピリジン
を反応混合物中に存在させるのがよい。
なお、式(II)の化合物の5位水酸基の反転を伴う弗
素化には、上述のDASTで代表される方法の外に、ま
づ5位水酸基をスルホニル化1例えばメシル化又はトリ
フルオロメチルスルホニル化の如きアルキルスルホニル
化、ベンジルスルホニル化の如きアラルキルスルホニル
化(トシル化の如きアリールスルホニル化は困難である
)を行なって後、通常の弗素化試薬、たとえばテトラブ
チルアンモニウム・フルオライドの如きテ1−ラアルキ
ルアンモニウム・フルオライド、弗化カリウム、弗化セ
シウム等を作用せしめて5位のスルホニルオキシ基を脱
離せしめると同時に弗素化を行なうこともできる。この
際スルホニル化反応はピリジンの如き溶媒に化合物(I
I)を溶解せしめ、これに上述のアルキルスルホニル、
又はアラルキルスルホニル・ハロゲニドたとえばメチル
スルホニルクロリド、ペンシルスルホニルクロリド又は
相当する無水物を1〜10モル相当斌加え、−20°〜
100℃の範囲の温度で、好ましくは室温で、無水の条
件で行いつる。さらにこの5−0−スルホニル化合物の
弗素化はエーテル、テトラヒドロフラン、アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、スルホラン、ヘキサメチル
ホスホリックトリアミドの如き溶媒中で、テトラエチル
−又はテトラブチルアンモニウム・フルオライド、セシ
ウムフルオライド、各種のクラウンエーテルを含めたカ
リウムフルオライド等の如き弗素化試薬を過剰に加え、
0°〜150°Cの範囲の温度で行いうる。
素化には、上述のDASTで代表される方法の外に、ま
づ5位水酸基をスルホニル化1例えばメシル化又はトリ
フルオロメチルスルホニル化の如きアルキルスルホニル
化、ベンジルスルホニル化の如きアラルキルスルホニル
化(トシル化の如きアリールスルホニル化は困難である
)を行なって後、通常の弗素化試薬、たとえばテトラブ
チルアンモニウム・フルオライドの如きテ1−ラアルキ
ルアンモニウム・フルオライド、弗化カリウム、弗化セ
シウム等を作用せしめて5位のスルホニルオキシ基を脱
離せしめると同時に弗素化を行なうこともできる。この
際スルホニル化反応はピリジンの如き溶媒に化合物(I
I)を溶解せしめ、これに上述のアルキルスルホニル、
又はアラルキルスルホニル・ハロゲニドたとえばメチル
スルホニルクロリド、ペンシルスルホニルクロリド又は
相当する無水物を1〜10モル相当斌加え、−20°〜
100℃の範囲の温度で、好ましくは室温で、無水の条
件で行いつる。さらにこの5−0−スルホニル化合物の
弗素化はエーテル、テトラヒドロフラン、アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、スルホラン、ヘキサメチル
ホスホリックトリアミドの如き溶媒中で、テトラエチル
−又はテトラブチルアンモニウム・フルオライド、セシ
ウムフルオライド、各種のクラウンエーテルを含めたカ
リウムフルオライド等の如き弗素化試薬を過剰に加え、
0°〜150°Cの範囲の温度で行いうる。
前記の5位水酸基を弗素化する反応の終了後は、反応液
を炭酸アルカリ金属又は炭酸水素アルカリ金属の水溶液
、好ましくは炭酸水素ナトリウムのフド溶液に加えて、
酸性の成分を中和し、その混合物をクロロホルムで抽出
し、その抽出液を水洗及び乾燥し、更に抽出液からクロ
ロホルムを減圧下に留去すると、前記の式(IV)で示
されるN、O−保護された5−デオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB誘導体が固体として得られる。
を炭酸アルカリ金属又は炭酸水素アルカリ金属の水溶液
、好ましくは炭酸水素ナトリウムのフド溶液に加えて、
酸性の成分を中和し、その混合物をクロロホルムで抽出
し、その抽出液を水洗及び乾燥し、更に抽出液からクロ
ロホルムを減圧下に留去すると、前記の式(IV)で示
されるN、O−保護された5−デオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB誘導体が固体として得られる。
式(IV)の化合物に残留するアミノ保護基(B)、な
らびにヒドロキシル保護基(E、El及びG)は、公知
の脱保護法で脱離できる。アルコキシカルボニル基又は
アリールオキシカルボニル基型のアミノ保護基はアルカ
リ加水分解により、またアラルキルオキシカルボニル基
型のアミノ保護基はアルカリ加水分解又は還元により脱
離できる。スルホニル基型のアミノ保護基は、式(IV
)の化合物を液体アンモニア中で金属ナトリウムで処理
することによって公知の方法で脱離できる(例えば英国
特許第1555661号、特公昭60−29720号明
細書参照)。また、アシル型のヒドロキシル保護基(E
、E”、G)は水酸化アルカリ金属、例えば水酸化ナト
リウムの水溶液中で加水分解することによって脱離でき
る。
らびにヒドロキシル保護基(E、El及びG)は、公知
の脱保護法で脱離できる。アルコキシカルボニル基又は
アリールオキシカルボニル基型のアミノ保護基はアルカ
リ加水分解により、またアラルキルオキシカルボニル基
型のアミノ保護基はアルカリ加水分解又は還元により脱
離できる。スルホニル基型のアミノ保護基は、式(IV
)の化合物を液体アンモニア中で金属ナトリウムで処理
することによって公知の方法で脱離できる(例えば英国
特許第1555661号、特公昭60−29720号明
細書参照)。また、アシル型のヒドロキシル保護基(E
、E”、G)は水酸化アルカリ金属、例えば水酸化ナト
リウムの水溶液中で加水分解することによって脱離でき
る。
ヒドロキシ保護基E1及びEがアルキリデン基、シクロ
アルキリデン基又はテトラヒド口ピラニリデン、1.(
の形である場合には、無機酸、有機酸又は強酸性のカチ
オン交換樹脂、例えばスルホン酸基含有のカチオン交換
樹脂の存在下に加水分解することによって脱離できる(
例えば英国特許第2043634B号明卸1害参照)。
アルキリデン基又はテトラヒド口ピラニリデン、1.(
の形である場合には、無機酸、有機酸又は強酸性のカチ
オン交換樹脂、例えばスルホン酸基含有のカチオン交換
樹脂の存在下に加水分解することによって脱離できる(
例えば英国特許第2043634B号明卸1害参照)。
こうして式(IV)の化合物から残留の保護基のすへて
を除去すると、目的とする前記の(Ia)の化合物が生
成される。式(Ia)の目的化合物を単離、精製するに
は、側−セファデックスC−25の如き分子篩剤を用い
てアンモニア水で勾配溶出するクロマトグラフィ法が適
する。
を除去すると、目的とする前記の(Ia)の化合物が生
成される。式(Ia)の目的化合物を単離、精製するに
は、側−セファデックスC−25の如き分子篩剤を用い
てアンモニア水で勾配溶出するクロマトグラフィ法が適
する。
更に、本発明による一般式(1)の化合物のうち、式中
のRがα−ヒドロキシ−の−アミノアルカノイル基であ
る場合の化合物の製造について、第3の本発明によると
、次の一般式 (式中、A1及びA2は夫々に、水酸基又は水素原子で
ある)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB誘導体、あるいはこの式(Ia)の化合物の1位
アミノ基以外のアミノ基の一部又は全部をアミノ保護基
で保護された保護誘導体の1位アミノ基を、次の一般式 〔式中、nは1又は2の整数である〕で示されるα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこのアミノアルカ
ン酸のアミノ基をアミノ保護基で保護された保護誘導体
、あるいはこれらの反応性誘導体と反応させ、こうして
得られた1−N−アシル化反応生成物から、残留したア
ミノ保護基がある場合には、アミノ保護基を次いで脱離
させることから成る、次の一般式 〔式中、A゛、A2及びnは前記の意味を有する〕でで
示される1−N−(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカ
ノイル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB
誘導体の製造法が提供される。
のRがα−ヒドロキシ−の−アミノアルカノイル基であ
る場合の化合物の製造について、第3の本発明によると
、次の一般式 (式中、A1及びA2は夫々に、水酸基又は水素原子で
ある)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB誘導体、あるいはこの式(Ia)の化合物の1位
アミノ基以外のアミノ基の一部又は全部をアミノ保護基
で保護された保護誘導体の1位アミノ基を、次の一般式 〔式中、nは1又は2の整数である〕で示されるα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこのアミノアルカ
ン酸のアミノ基をアミノ保護基で保護された保護誘導体
、あるいはこれらの反応性誘導体と反応させ、こうして
得られた1−N−アシル化反応生成物から、残留したア
ミノ保護基がある場合には、アミノ保護基を次いで脱離
させることから成る、次の一般式 〔式中、A゛、A2及びnは前記の意味を有する〕でで
示される1−N−(α−ヒドロキシ−ω−アミノアルカ
ノイル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB
誘導体の製造法が提供される。
第3の本発明の方法において、一般式には、式(Ia)
の出発化合物の1位アミノ基以外のアミノ基のすべで又
は一部を保護するアミノ保護基としては、通常のアミノ
保護基が使用される。例えば、第三ブトキシカルボニル
基、第三アミロキシカルボニル基などのアルコキシカル
ボニル基、シクロへキシルオキシカルボニル基などのシ
クロアルキルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカル
ボニル基などのアラルキルオキシカルボニル基、トリフ
ルオロアセチル基、オルト−ニトロフェノキシアセチル
基などの、加水分解で脱離し易い置換された低級アルカ
ノイル基、ジフェニルホスフィノチオイル基、ジメチル
ホスフィノチオイル基などのホスフィノチオイル基、ジ
フェニルホスフィニル基などのホスフィニル基の如き一
価のアミノ保護基が用いられる。また二価のアミノ保護
基としてはフタロイル基を用いることができ、また式(
Ia)の出発化合物の1位アミノ基以外のアミノ基は、
これをシッフ塩基の形にして保護することもできる。こ
れらのアミノ保護基の導入はペプチド合成等で公知の方
法により、例えば酸ハライド、酸アジド、活性エステル
、酸無水物などのアシル他剤の形で公知のアミノ保護基
導入剤を用いることができる。これらのアミノ保護基導
入剤を0.5〜6モル当量比の範囲で用いることにより
、出発化合物(Ia)の各アミノ基の反応性の差異によ
り種々の部分アミノ保護誘導体を任意の比率で製造する
ことができる。
の出発化合物の1位アミノ基以外のアミノ基のすべで又
は一部を保護するアミノ保護基としては、通常のアミノ
保護基が使用される。例えば、第三ブトキシカルボニル
基、第三アミロキシカルボニル基などのアルコキシカル
ボニル基、シクロへキシルオキシカルボニル基などのシ
クロアルキルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカル
ボニル基などのアラルキルオキシカルボニル基、トリフ
ルオロアセチル基、オルト−ニトロフェノキシアセチル
基などの、加水分解で脱離し易い置換された低級アルカ
ノイル基、ジフェニルホスフィノチオイル基、ジメチル
ホスフィノチオイル基などのホスフィノチオイル基、ジ
フェニルホスフィニル基などのホスフィニル基の如き一
価のアミノ保護基が用いられる。また二価のアミノ保護
基としてはフタロイル基を用いることができ、また式(
Ia)の出発化合物の1位アミノ基以外のアミノ基は、
これをシッフ塩基の形にして保護することもできる。こ
れらのアミノ保護基の導入はペプチド合成等で公知の方
法により、例えば酸ハライド、酸アジド、活性エステル
、酸無水物などのアシル他剤の形で公知のアミノ保護基
導入剤を用いることができる。これらのアミノ保護基導
入剤を0.5〜6モル当量比の範囲で用いることにより
、出発化合物(Ia)の各アミノ基の反応性の差異によ
り種々の部分アミノ保護誘導体を任意の比率で製造する
ことができる。
第3の本発明による式(Ib)の化合物の製造方法にお
いては、1位アミノ基以外のアミノ基のす入で又は一部
分が保護されたアミノ保護誘導体、例えば3.2’、6
’、3″′−テトラ−N−保護体、3.2’、6’−ト
リーN−保護体、6′、3ξジーN−保護体、又は6′
−モノ−N−保護体が使用できる。さらに、これらの部
分アミノ保護体の混合体も第3の本発明の方法で1位ア
ミン基のアシル化のために用いられる。
いては、1位アミノ基以外のアミノ基のす入で又は一部
分が保護されたアミノ保護誘導体、例えば3.2’、6
’、3″′−テトラ−N−保護体、3.2’、6’−ト
リーN−保護体、6′、3ξジーN−保護体、又は6′
−モノ−N−保護体が使用できる。さらに、これらの部
分アミノ保護体の混合体も第3の本発明の方法で1位ア
ミン基のアシル化のために用いられる。
第3の本発明の方法において一般式(Ib)の目的化合
物を高い収率で製造するためには、一般式(Ia)の出
発化合物の1位アミノ基を選択的に式(V)の α−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸でアシル化すれば良い
のである。従って、1位アミノ基以外のすべてのアミノ
基がアミノ保護基で閉塞されている出発化合物(Ia)
の保護誘導体、すなわち3.2’、6’、3ζテ1−シ
ーN−保護−5−デオキシー5−フルオロカナマイシン
B tl導体を水沫の出発物質として用いるのが最も好
ましいことは明らかであろう。
物を高い収率で製造するためには、一般式(Ia)の出
発化合物の1位アミノ基を選択的に式(V)の α−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸でアシル化すれば良い
のである。従って、1位アミノ基以外のすべてのアミノ
基がアミノ保護基で閉塞されている出発化合物(Ia)
の保護誘導体、すなわち3.2’、6’、3ζテ1−シ
ーN−保護−5−デオキシー5−フルオロカナマイシン
B tl導体を水沫の出発物質として用いるのが最も好
ましいことは明らかであろう。
一般式(Ia)の化合物の1位アミノ基以外のすべての
アミノ基が保護された保護誘導体を調製するには、例え
ば次の方法を利用できる。すなわち、式(Ia)の化合
物を二価遷移金属、例えば銅(■)。
アミノ基が保護された保護誘導体を調製するには、例え
ば次の方法を利用できる。すなわち、式(Ia)の化合
物を二価遷移金属、例えば銅(■)。
ニッケル(II)、コバルト(II)、あるいは亜鉛の
カチオンと反応させて金属錯体を形成させ、この錯体に
アミノ保護基導入剤を作用させて錯体のカナ74228
部分の1位と3′位の2個のアミノ基(これらは二価金
属イオンと錯結合して閉塞されている)以外のすべての
アミノ基をアミノ保護基で保護し、その後に、上記錯体
から二価金属カチオンを例えばカチオン交換樹脂による
処理、硫化水素処理又はアンモニア水処理で脱除するこ
とによる特開昭52−153944号(米国特許第4,
136,254号)又は特開昭55−64598号(又
は米国特許第4,297,485号のクレーム1)によ
るN−保護方法を応用することによって、先づ5−デオ
キシ−5−フルオロカナマイシンB化合物の3.2’、
6’−トリーN−保護誘導体を高収率で生成する。次い
で、本発明者らが開発した特開昭55−164696号
(又は米国特許第4,297,485号のクレーム15
)による1位以外のアミノ基が選択的に保護された保護
誘導体の製造法の応用によって、化合物(Ia)の1位
アミノ基以外のすべてのアミノ基が保護されたテトラ−
へ=保護誘導体を高収率で調製できるのである。この特
開昭55−164696号の方法においては、1位及び
3′位アミノ基以外のアミノ基を保護されであるアミノ
グリコシド抗生物質に対して3″位アミノ基の選択的ア
シル化剤として、例えばギ酸エステル、ジハロゲン化ま
たはトリハロゲン化アルカン酸エステル、あるいはホル
ミルイミダゾールを用いて作用せしめるものであり、こ
れによって該アミノグリコシドの1位アミノ基をアシル
化することなく、3′位アミノ基をホルミル基、ジー又
はトリーハロアルカノイル基で選択的に保護できる。
カチオンと反応させて金属錯体を形成させ、この錯体に
アミノ保護基導入剤を作用させて錯体のカナ74228
部分の1位と3′位の2個のアミノ基(これらは二価金
属イオンと錯結合して閉塞されている)以外のすべての
アミノ基をアミノ保護基で保護し、その後に、上記錯体
から二価金属カチオンを例えばカチオン交換樹脂による
処理、硫化水素処理又はアンモニア水処理で脱除するこ
とによる特開昭52−153944号(米国特許第4,
136,254号)又は特開昭55−64598号(又
は米国特許第4,297,485号のクレーム1)によ
るN−保護方法を応用することによって、先づ5−デオ
キシ−5−フルオロカナマイシンB化合物の3.2’、
6’−トリーN−保護誘導体を高収率で生成する。次い
で、本発明者らが開発した特開昭55−164696号
(又は米国特許第4,297,485号のクレーム15
)による1位以外のアミノ基が選択的に保護された保護
誘導体の製造法の応用によって、化合物(Ia)の1位
アミノ基以外のすべてのアミノ基が保護されたテトラ−
へ=保護誘導体を高収率で調製できるのである。この特
開昭55−164696号の方法においては、1位及び
3′位アミノ基以外のアミノ基を保護されであるアミノ
グリコシド抗生物質に対して3″位アミノ基の選択的ア
シル化剤として、例えばギ酸エステル、ジハロゲン化ま
たはトリハロゲン化アルカン酸エステル、あるいはホル
ミルイミダゾールを用いて作用せしめるものであり、こ
れによって該アミノグリコシドの1位アミノ基をアシル
化することなく、3′位アミノ基をホルミル基、ジー又
はトリーハロアルカノイル基で選択的に保護できる。
第3の本発明による方法においては、式(■)のα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸としては、アミノ基を
保護した又はしていないα−ヒドロキシ−ω−アミノア
ルカン酸が用いられ、これで上記の出発化合物(Ia)
又はそれの部分アミノ保護誘導体の1位アミノ基をアシ
ル化する。この1−N−アシル化反応は、式(V)のα
−ヒドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこれの反応誘
導体(官能的均等物)をジシクロへキシルカルボジイミ
ド法、混合酸無水物法、アジド法、活性エステル法など
で、作用させて実施できる。反応温度は0℃〜30℃の
範囲が適当である。式(V)のα−ヒドロキシ−ω−ア
ミノアルカン酸のアミノ基を保護するアミノ保護基は、
出発化合物(Ia)の保護誘導体のアミノ保護基に用い
られたと同じ又は異なるものでよい。トリフロロ酢酸、
酢酸などの水溶液または塩酸などの希薄溶液中で処理し
て容易に脱保護できる第三ブトキシカルボニル基やパラ
メトキシベンジルオキシカルボニル基は、好ましくは用
いられるアミノ保護基である。また、パラジウム、酸化
白金などの白金族触媒の存在下に通常の接触還元で脱保
護できるベンジルオキシカルボニル基も便利なアミノ保
5基である。
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸としては、アミノ基を
保護した又はしていないα−ヒドロキシ−ω−アミノア
ルカン酸が用いられ、これで上記の出発化合物(Ia)
又はそれの部分アミノ保護誘導体の1位アミノ基をアシ
ル化する。この1−N−アシル化反応は、式(V)のα
−ヒドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこれの反応誘
導体(官能的均等物)をジシクロへキシルカルボジイミ
ド法、混合酸無水物法、アジド法、活性エステル法など
で、作用させて実施できる。反応温度は0℃〜30℃の
範囲が適当である。式(V)のα−ヒドロキシ−ω−ア
ミノアルカン酸のアミノ基を保護するアミノ保護基は、
出発化合物(Ia)の保護誘導体のアミノ保護基に用い
られたと同じ又は異なるものでよい。トリフロロ酢酸、
酢酸などの水溶液または塩酸などの希薄溶液中で処理し
て容易に脱保護できる第三ブトキシカルボニル基やパラ
メトキシベンジルオキシカルボニル基は、好ましくは用
いられるアミノ保護基である。また、パラジウム、酸化
白金などの白金族触媒の存在下に通常の接触還元で脱保
護できるベンジルオキシカルボニル基も便利なアミノ保
5基である。
第3の発明の方法での1−N−アシル化反応は含水溶媒
中で活性エステル法で行われることが好ましい。例えば
、通常の方法で得られる活性エステルとして(S)−4
−第三ブI〜キシカルボニルアミノー2−ヒドロキシ酪
酸のN−ヒドロキシコハク酸イミドを1〜3モル当量、
好ましくは1〜1.5モル当量の範囲で使用して式(I
a)の化合物に反応させる。使用される溶媒としては、
好ましくはジオキサン、ジメトキシエタン、ジメチルホ
ルムアミド、テトラ上1−ロフラン、トリエチルアミン
などの水混和性の有機溶剤が使用される。
中で活性エステル法で行われることが好ましい。例えば
、通常の方法で得られる活性エステルとして(S)−4
−第三ブI〜キシカルボニルアミノー2−ヒドロキシ酪
酸のN−ヒドロキシコハク酸イミドを1〜3モル当量、
好ましくは1〜1.5モル当量の範囲で使用して式(I
a)の化合物に反応させる。使用される溶媒としては、
好ましくはジオキサン、ジメトキシエタン、ジメチルホ
ルムアミド、テトラ上1−ロフラン、トリエチルアミン
などの水混和性の有機溶剤が使用される。
こうして生成された1−N−アシル化反応生成物にアミ
ノ保護基が残存する場合、アミノ保護基を脱離せしめる
が、この脱離は常法で行なわれる。すなわち、上記のア
ルキルオキシカルボニル成型のアミノ保護基はトリフロ
ロ酢酸、酢酸などの水溶液、または塩酸などの希薄溶液
中で加水分解により処理して脱離される。またアミノ保
護基がベンジルオキシカルボニル基などのアラルキルオ
キシカルボニル基の場合には通常の接触還元(水添分解
)によって容易に脱離できる。またアミノ保護基にフタ
ロイル基を有する場合は抱水ヒドラジンのアルコール溶
液中で加熱により除去できる9式(丁b)による本発明
化合物の合成は、未保護の式(I a)の化合物、例え
ば5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBから出発
して特開昭55−64598号の亜鉛錯体法ならびに特
開昭55−164696号の選択的3′−アミノ保護法
を利用してアミノ保1m導体を先づ調製し、次いで本発
明の方法を行う合成ルート、例えば具体的には次の工程
から成る合成ルートで行うのが便利である。
ノ保護基が残存する場合、アミノ保護基を脱離せしめる
が、この脱離は常法で行なわれる。すなわち、上記のア
ルキルオキシカルボニル成型のアミノ保護基はトリフロ
ロ酢酸、酢酸などの水溶液、または塩酸などの希薄溶液
中で加水分解により処理して脱離される。またアミノ保
護基がベンジルオキシカルボニル基などのアラルキルオ
キシカルボニル基の場合には通常の接触還元(水添分解
)によって容易に脱離できる。またアミノ保護基にフタ
ロイル基を有する場合は抱水ヒドラジンのアルコール溶
液中で加熱により除去できる9式(丁b)による本発明
化合物の合成は、未保護の式(I a)の化合物、例え
ば5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBから出発
して特開昭55−64598号の亜鉛錯体法ならびに特
開昭55−164696号の選択的3′−アミノ保護法
を利用してアミノ保1m導体を先づ調製し、次いで本発
明の方法を行う合成ルート、例えば具体的には次の工程
から成る合成ルートで行うのが便利である。
先づ1式(Ia)の化合物と酢酸亜鉛とをジメチルスル
ホキシド(DMSO)に懸濁し、又は水とジメチルホル
ムアミド(DMF)の混液に溶解し、生成した化合物(
Ia)と亜鉛との錯体の懸濁液又は溶液に対して、N−
(ベンジルオキシカルボニルオキシ)サクシンイミド(
アミノ保護基としてのベンジルオキシカルボニル基の導
入試薬)を作用させてカナ7428部分の3位、2′位
及び6′位のアミノ基をベンジルオキシカルボニル基で
保護し更に亜鉛カチオンをイオン交換樹脂(例えばアン
バーライトCG−50)処理により脱離させて3.2’
、6’−トリス−N−(ベンジルオキシカルボニル)化
された化合物(Ia)(化合物a)を生成させる(工程
1)、さらに化合物(a)にDMSO又はDMF中でト
リフルオロ酢酸エチルを作用させて、3”位アミノ基を
1−リフルオロアセチル基で保護(特開昭55−164
696号の保護法による)して3.2’、6’−トリス
−N−(ベンジルオキシカルボニルリフルオロアセチル
化された化合物(Ia) (化合物b)を生成させる(
工程2)。さらに化合物(b)に含水テトラヒドロフラ
ン中で炭酸ナトリウムの存在下にN−(ベンジルオキシ
カルボニル)−(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブ
チリルオキシサクシンイミドまたはN−(ベンジルオキ
シカルボニル)−(S)又は(RS)−3−アミノ−2
−ヒドロキシプロピオニルオキシサクシンイミトを作用
させ、化合物(b)の1位アミノ基を選択的に(S)−
4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ
ブチリル化、または、(S)又は(RS)−3−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシプロピオニ
ル化する(工程3)。これによって、1−N−((S)
−4−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−2−ヒド
ロキシブチリル〕−又は1−N−C(S)又は(RS)
−3−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−2−ヒド
ロキシプロピオニル)−3.2’,6’−トリス−N−
(ベンジルオキシカルボニル)−3″’−N−トリフル
オロアセチル化された化合物(Ia)(化合物C)を1
−N−アシル化反応生成物として形成させる。
ホキシド(DMSO)に懸濁し、又は水とジメチルホル
ムアミド(DMF)の混液に溶解し、生成した化合物(
Ia)と亜鉛との錯体の懸濁液又は溶液に対して、N−
(ベンジルオキシカルボニルオキシ)サクシンイミド(
アミノ保護基としてのベンジルオキシカルボニル基の導
入試薬)を作用させてカナ7428部分の3位、2′位
及び6′位のアミノ基をベンジルオキシカルボニル基で
保護し更に亜鉛カチオンをイオン交換樹脂(例えばアン
バーライトCG−50)処理により脱離させて3.2’
、6’−トリス−N−(ベンジルオキシカルボニル)化
された化合物(Ia)(化合物a)を生成させる(工程
1)、さらに化合物(a)にDMSO又はDMF中でト
リフルオロ酢酸エチルを作用させて、3”位アミノ基を
1−リフルオロアセチル基で保護(特開昭55−164
696号の保護法による)して3.2’、6’−トリス
−N−(ベンジルオキシカルボニルリフルオロアセチル
化された化合物(Ia) (化合物b)を生成させる(
工程2)。さらに化合物(b)に含水テトラヒドロフラ
ン中で炭酸ナトリウムの存在下にN−(ベンジルオキシ
カルボニル)−(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブ
チリルオキシサクシンイミドまたはN−(ベンジルオキ
シカルボニル)−(S)又は(RS)−3−アミノ−2
−ヒドロキシプロピオニルオキシサクシンイミトを作用
させ、化合物(b)の1位アミノ基を選択的に(S)−
4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ
ブチリル化、または、(S)又は(RS)−3−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシプロピオニ
ル化する(工程3)。これによって、1−N−((S)
−4−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−2−ヒド
ロキシブチリル〕−又は1−N−C(S)又は(RS)
−3−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−2−ヒド
ロキシプロピオニル)−3.2’,6’−トリス−N−
(ベンジルオキシカルボニル)−3″’−N−トリフル
オロアセチル化された化合物(Ia)(化合物C)を1
−N−アシル化反応生成物として形成させる。
次に化合物(c)からアミノ保護基としてのトリフルオ
ロアセチル基を酸又は塩基による加水分解により、また
ベンジルオキシカルボニル基を白金族金属触媒たとえば
パラジウム又はラネーニッケルによる接触還元により脱
離する(工程4)。これらの工程により、目的の式(I
b)の化合物が得られるのである。
ロアセチル基を酸又は塩基による加水分解により、また
ベンジルオキシカルボニル基を白金族金属触媒たとえば
パラジウム又はラネーニッケルによる接触還元により脱
離する(工程4)。これらの工程により、目的の式(I
b)の化合物が得られるのである。
前述した第2の本発明の方法で出発化合物として用いら
れる式(n)のN,O−保護された5−エピカナマイシ
ンB誘導体を調製する方法を次に説明する。
れる式(n)のN,O−保護された5−エピカナマイシ
ンB誘導体を調製する方法を次に説明する。
この方法は下記の一連の段階から成る。すなわち、先づ
、カナマイシンB、3′−デオキシカナマイシンB、4
′−デオキシカナマイシンB又は3’ 、4’−ジデオ
キシカナマイシンBにアミノ保護基(B′)としてアル
キルスルホニル基、アラルキルスルホニル基又はアリー
ルスルホニル基を導入する第1段階を行う。この第1段
階は次式 %式%() C式中、R3は低級アルキル基、アラルキル基、特にベ
ンジル基又はアリール基、特にフェニル基であり、Xは
塩素又は臭素である〕のスルホン酸ハライド、好ましく
はトシルクロライドを含水ジオキサン中で0〜50℃の
温度で炭酸ナトリウムの存在下にカナマイシンB、3′
−デオキシカナマイシンB、4′−デオキシカナマイシ
ンB、又は3’、 4’−ジデオキシカナマイシンBに
反応させることによって公知の要領(例えば英国特許第
1555661号、特公昭60−29720号公報参照
)で行われる。この第1段階によって次式 〔式中、A1及び八2は夫々に水酸基又は水素原子であ
り、B′は式R’5O2−(但しR3は前記の意味であ
る)で示されるスルホニル型のアミノ保護基である〕で
示される1、3.2’、6’、3′−ベンターN−保護
(スルホニル化)−カナマイシンB誘導体が生成される
。
、カナマイシンB、3′−デオキシカナマイシンB、4
′−デオキシカナマイシンB又は3’ 、4’−ジデオ
キシカナマイシンBにアミノ保護基(B′)としてアル
キルスルホニル基、アラルキルスルホニル基又はアリー
ルスルホニル基を導入する第1段階を行う。この第1段
階は次式 %式%() C式中、R3は低級アルキル基、アラルキル基、特にベ
ンジル基又はアリール基、特にフェニル基であり、Xは
塩素又は臭素である〕のスルホン酸ハライド、好ましく
はトシルクロライドを含水ジオキサン中で0〜50℃の
温度で炭酸ナトリウムの存在下にカナマイシンB、3′
−デオキシカナマイシンB、4′−デオキシカナマイシ
ンB、又は3’、 4’−ジデオキシカナマイシンBに
反応させることによって公知の要領(例えば英国特許第
1555661号、特公昭60−29720号公報参照
)で行われる。この第1段階によって次式 〔式中、A1及び八2は夫々に水酸基又は水素原子であ
り、B′は式R’5O2−(但しR3は前記の意味であ
る)で示されるスルホニル型のアミノ保護基である〕で
示される1、3.2’、6’、3′−ベンターN−保護
(スルホニル化)−カナマイシンB誘導体が生成される
。
次に、式(■)の化合物の5位水酸基以外の残余の水酸
基すべてを保護する第2段階を行なう。
基すべてを保護する第2段階を行なう。
このためには、第1方法として、式(■)の化合物に対
して無水ピリジン中で50℃又はそれ以下の温度、例え
ば0℃でアセチルクロライドを化合物(■)の゛1モル
当りに5モルの割合又はそれよりやや過剰斌を反応させ
ると、化合物(■)の5位水酸基以外のすべての水酸基
、すなわち3 / 、 4/ 、 2# 、 4#。
して無水ピリジン中で50℃又はそれ以下の温度、例え
ば0℃でアセチルクロライドを化合物(■)の゛1モル
当りに5モルの割合又はそれよりやや過剰斌を反応させ
ると、化合物(■)の5位水酸基以外のすべての水酸基
、すなわち3 / 、 4/ 、 2# 、 4#。
6″′位(但し3′位及び/又は4′位に−OHが在る
場合)がアセチル化されて保護される。一般に、アセチ
ルクロライドの代りに、他の低級アルカノイル・タロラ
イドあるいはベンゾイル・クロライドの如きアコイル・
クロライドを含めて、アシルクロライドを用いた場合に
も、同様に、5位水酸基がアシル化されずに、その他の
水酸基のすべてはアシル化されて保護される。こうして
次式 〔式中、A3及びA4は夫々に水素原子又は基−0G(
但しGは後記の意味をもつ〕であり、B′は前記のスル
ホニル基型のアミノ保護基であり、上記のGは用いたア
シル・クロライドから来るアシル基である〕で示される
1、、3.2’、6’、3’−ペンタ−N−保護(スル
ホニル化)−3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ−
〇−保護(アシル化)−又は4’、2’、4″′、6ζ
テトラ−〇−保護(アシル化)−又は3’、2’、4’
、6ζテトラ−〇−保護(アシル化)−又は2“、4′
、6ζトリー〇−保護(アシル化)−カナマイシンB誘
導体が生成される。
場合)がアセチル化されて保護される。一般に、アセチ
ルクロライドの代りに、他の低級アルカノイル・タロラ
イドあるいはベンゾイル・クロライドの如きアコイル・
クロライドを含めて、アシルクロライドを用いた場合に
も、同様に、5位水酸基がアシル化されずに、その他の
水酸基のすべてはアシル化されて保護される。こうして
次式 〔式中、A3及びA4は夫々に水素原子又は基−0G(
但しGは後記の意味をもつ〕であり、B′は前記のスル
ホニル基型のアミノ保護基であり、上記のGは用いたア
シル・クロライドから来るアシル基である〕で示される
1、、3.2’、6’、3’−ペンタ−N−保護(スル
ホニル化)−3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ−
〇−保護(アシル化)−又は4’、2’、4″′、6ζ
テトラ−〇−保護(アシル化)−又は3’、2’、4’
、6ζテトラ−〇−保護(アシル化)−又は2“、4′
、6ζトリー〇−保護(アシル化)−カナマイシンB誘
導体が生成される。
或いは別法の第2方法として、先づ式(vm)の化合物
の4′位及び6″位の水酸基を同時に2価のヒドロキシ
ル保護基で保護する反応を行う。この反応は、式(■)
の化合物を無水ジメチルホルムアミド中でジメトキシア
ルカン、例えば2,2−ジメトキシプロパン又はベンズ
アルデヒド、ジメチルアセタールあるいはジメトキシシ
クロアルカン、例えば1.1−ジメトキシシクロヘキサ
ン(シクロヘキサノン・ジメチルアセタール)、あるい
は5,6−シヒドロー4−メトキシ−211−ピランで
触媒量のp−トルエンスルホン酸の存在下に処理するこ
とによって公知の要領(例えば英国特許第20!136
34B号)で行われる。
の4′位及び6″位の水酸基を同時に2価のヒドロキシ
ル保護基で保護する反応を行う。この反応は、式(■)
の化合物を無水ジメチルホルムアミド中でジメトキシア
ルカン、例えば2,2−ジメトキシプロパン又はベンズ
アルデヒド、ジメチルアセタールあるいはジメトキシシ
クロアルカン、例えば1.1−ジメトキシシクロヘキサ
ン(シクロヘキサノン・ジメチルアセタール)、あるい
は5,6−シヒドロー4−メトキシ−211−ピランで
触媒量のp−トルエンスルホン酸の存在下に処理するこ
とによって公知の要領(例えば英国特許第20!136
34B号)で行われる。
この処理によって、次式
〔式中、A1.A′及びB′は前記の意味であり、−E
2−はアルキリデン基、ベンジリデンL(の如きアラル
キリデン基、シクロアルキリデン基又はテトラヒトロビ
ラニリデン基である2価のヒドロキシル保護基である〕
で示される4’ 、 6’−0−保護−1,3,2’、
6’。
2−はアルキリデン基、ベンジリデンL(の如きアラル
キリデン基、シクロアルキリデン基又はテトラヒトロビ
ラニリデン基である2価のヒドロキシル保護基である〕
で示される4’ 、 6’−0−保護−1,3,2’、
6’。
3”−ペンタ−N−保護(スルホニル化)−カナマイシ
ンB誘導体が生成される。
ンB誘導体が生成される。
更に、式(■′)の化合物の残余の遊離の水酸基(5位
水酸基を除く)、すなわちZ′位の水酸基、ならびに存
在すれば3′位の水酸基及び/又は4′位の水酸基を公
知のヒドロキシル保護基としてのアシル基、特にアルカ
ノイル基、好ましくはアセチル基、あるいはアコイル基
、好ましくはベンゾイル基で保護するアシル反応を行う
。このアシル化反応は、式(■′)の化合物に対して無
水ジメチルスルホキシド中でピリジンの存在下に前出の
アシル・クロライド、あるいはN−アルカツルイミダゾ
ール例えばN−アセチル・イミダゾール又はN−アロイ
ル−イミダゾール例えばN−ベンゾイル・イミダゾール
の如きN−アシル・イミダゾールを0〜50℃の温度で
反応させることによって行う。この際、2′位の水酸基
、ならびに存在すれば3′位の水酸基及び(又は)4′
位の水酸基がアシル化されて保護されるが、5位の水酸
基はアシル化されずに遊離のままである。
水酸基を除く)、すなわちZ′位の水酸基、ならびに存
在すれば3′位の水酸基及び/又は4′位の水酸基を公
知のヒドロキシル保護基としてのアシル基、特にアルカ
ノイル基、好ましくはアセチル基、あるいはアコイル基
、好ましくはベンゾイル基で保護するアシル反応を行う
。このアシル化反応は、式(■′)の化合物に対して無
水ジメチルスルホキシド中でピリジンの存在下に前出の
アシル・クロライド、あるいはN−アルカツルイミダゾ
ール例えばN−アセチル・イミダゾール又はN−アロイ
ル−イミダゾール例えばN−ベンゾイル・イミダゾール
の如きN−アシル・イミダゾールを0〜50℃の温度で
反応させることによって行う。この際、2′位の水酸基
、ならびに存在すれば3′位の水酸基及び(又は)4′
位の水酸基がアシル化されて保護されるが、5位の水酸
基はアシル化されずに遊離のままである。
従って、この選択アシル化反応によって、次式〔式中、
B′及びE2は前記の通りであり、A3及びA4は水素
原子又は基−OGであり、Gはアシル基である〕で示さ
れる3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ−〇−保護
一又は3′、2″4# 、 6N−テトラ−〇−保護一
又は4’、2’、4’、6’−テトラ−〇−保護一又は
2’、4’、6’−トリー〇−保護−1,3,2’。
B′及びE2は前記の通りであり、A3及びA4は水素
原子又は基−OGであり、Gはアシル基である〕で示さ
れる3’、4’、2’、4’、6’−ペンタ−〇−保護
一又は3′、2″4# 、 6N−テトラ−〇−保護一
又は4’、2’、4’、6’−テトラ−〇−保護一又は
2’、4’、6’−トリー〇−保護−1,3,2’。
6’、3’−ペンタ−N−保護(スルホニル化)−カナ
マイシンB誘導体が生成される。
マイシンB誘導体が生成される。
更に、式(■)又は式(■″)の化合物の5位水酸基を
反転して5−エビ体に転化する第3段階を行う。
反転して5−エビ体に転化する第3段階を行う。
この第3段階はミツノブ反応を利用して行われ、式(■
)又は(■″)の化合物を無水テトラヒドロフラン中等
で室温でトリフェニルホスフィン、ジエチルアゾジカル
ボキシレート (C,+(、O(ニーN=N−Co−C2)1.)及び
安息香酸で処理することによって、公知の要領で行われ
る。この第3段階によって、次式 C式中、A3、A4、B′及びGは前記の意味をもち、
E及びElは夫々に前記のG(アシル基)と同じである
か、あるいはE及びElは共同して1個の前記−E”−
基をなし、Bzはベンゾイル基を示す〕で示される5−
0−ベンゾイル−5−二ピーカナマイシンB誘導体が生
成される。なお、この5位水酸基の反転は式(■″)の
5−0−スルホニル化合物にソジウムアセテ−1へやソ
シウムベンゾエートを作用せしめて(IX)又は(11
当する5−0−アセチル化合物に導〈従来の方法によっ
ても製造することができる。
)又は(■″)の化合物を無水テトラヒドロフラン中等
で室温でトリフェニルホスフィン、ジエチルアゾジカル
ボキシレート (C,+(、O(ニーN=N−Co−C2)1.)及び
安息香酸で処理することによって、公知の要領で行われ
る。この第3段階によって、次式 C式中、A3、A4、B′及びGは前記の意味をもち、
E及びElは夫々に前記のG(アシル基)と同じである
か、あるいはE及びElは共同して1個の前記−E”−
基をなし、Bzはベンゾイル基を示す〕で示される5−
0−ベンゾイル−5−二ピーカナマイシンB誘導体が生
成される。なお、この5位水酸基の反転は式(■″)の
5−0−スルホニル化合物にソジウムアセテ−1へやソ
シウムベンゾエートを作用せしめて(IX)又は(11
当する5−0−アセチル化合物に導〈従来の方法によっ
ても製造することができる。
更に、式(IX)の化合物から5−0−ベンゾイル基を
脱離する第4段階を行う。この第4段階は1式(IX)
の化合物をナトリウム・メチラー1−のメタノール溶液
で室温乃至メタノールの還流温度の温度で処理すること
によって行われ、この際、5−〇−ベンゾイル基が脱離
されると同時に、他の水酸基上のアシル型のヒドロキシ
ル保護基も脱離される。
脱離する第4段階を行う。この第4段階は1式(IX)
の化合物をナトリウム・メチラー1−のメタノール溶液
で室温乃至メタノールの還流温度の温度で処理すること
によって行われ、この際、5−〇−ベンゾイル基が脱離
されると同時に、他の水酸基上のアシル型のヒドロキシ
ル保護基も脱離される。
従って、この第4段階によると、次式
〔式中、AL、A2、+3’は前記の意味をもち、El
及びE4は夫々に水素であるか、あるいはE3及びE4
が共同して1個のn:f記2価のヒドロキシル保護JA
−E’−をなす〕で示される5−エピカナマイシンB
jA心導体生成される。また、必要ならば、式(X)の
化合物(cff及びElが共同して保護基−E2−をな
す場合の)を、次いで無機酸、例えばメタンスルホン酸
又は強酸性のカチオン交換樹脂の存在Fに加水分解する
ことによって、式(X)の化合物から4″位水酸基及び
6″位水酸基を保護する2価の鋸(−E”−)を脱離す
ると、次式 〔式中、A1、八2、B′は前記の意味をもつ〕で示さ
れるペンタ−N−保護(スルホニル化)−5−エビカナ
マイシンBM導体が生成される。
及びE4は夫々に水素であるか、あるいはE3及びE4
が共同して1個のn:f記2価のヒドロキシル保護JA
−E’−をなす〕で示される5−エピカナマイシンB
jA心導体生成される。また、必要ならば、式(X)の
化合物(cff及びElが共同して保護基−E2−をな
す場合の)を、次いで無機酸、例えばメタンスルホン酸
又は強酸性のカチオン交換樹脂の存在Fに加水分解する
ことによって、式(X)の化合物から4″位水酸基及び
6″位水酸基を保護する2価の鋸(−E”−)を脱離す
ると、次式 〔式中、A1、八2、B′は前記の意味をもつ〕で示さ
れるペンタ−N−保護(スルホニル化)−5−エビカナ
マイシンBM導体が生成される。
次いで第5段階として、式(X)の化合物又は式(X′
)の化合物中の5位水酸基以外の水酸基を保護する反応
を行う。このためには、化合物(X)又は(X′)を、
前述の第2段階と同じ要領で無水ジメチルスルホキシド
又はピリジン中で0℃〜50℃の温度で無水の条件下に
アシル・クロライドあるいはN−アシル・イミダゾール
、例えばN−アルカノイル・イミダゾール又はN−アロ
イル−イミダゾールと反応させる。この際、5位水酸基
のみがアシル化されない。こうして、この第5段階によ
り次式〔式中、B′は前記の意味のスルホニル型のアミ
ノ保護基であり、A3及びA4は夫々に水素原子又は保
護された水酸基−〇G(但しGは上記に用いたアシル・
クロライド又はN−アシル・イミダゾールに由来するア
シル基であるヒドロキシル保護基である)であり、また
2′位の基−OGにおけるGも前記と同じアシル基であ
り、さらにE及びE″は夫々にアシル基Gであるか、あ
るいは両者が共同して2価ヒドロキシル保護基(式中(
X)の化合物における一E2−と同じである)を表ねす
〕で示されるN、0−保護−5−エピカナマイシンBW
導体が生成される。
)の化合物中の5位水酸基以外の水酸基を保護する反応
を行う。このためには、化合物(X)又は(X′)を、
前述の第2段階と同じ要領で無水ジメチルスルホキシド
又はピリジン中で0℃〜50℃の温度で無水の条件下に
アシル・クロライドあるいはN−アシル・イミダゾール
、例えばN−アルカノイル・イミダゾール又はN−アロ
イル−イミダゾールと反応させる。この際、5位水酸基
のみがアシル化されない。こうして、この第5段階によ
り次式〔式中、B′は前記の意味のスルホニル型のアミ
ノ保護基であり、A3及びA4は夫々に水素原子又は保
護された水酸基−〇G(但しGは上記に用いたアシル・
クロライド又はN−アシル・イミダゾールに由来するア
シル基であるヒドロキシル保護基である)であり、また
2′位の基−OGにおけるGも前記と同じアシル基であ
り、さらにE及びE″は夫々にアシル基Gであるか、あ
るいは両者が共同して2価ヒドロキシル保護基(式中(
X)の化合物における一E2−と同じである)を表ねす
〕で示されるN、0−保護−5−エピカナマイシンBW
導体が生成される。
さらに所望ならば、第6段階として、式(XI)の化合
物のスルホニル基型のアミノ保護基(B’)ヲ、他の型
のアミノ保護基と取代える処理を行うことができる。こ
のためには、式(X[)の化合物を液体アンモニア中で
金属ナトリウムで処理する既知の脱保護法を行なう。こ
れによって、次式〔式中、AJ、A4、E、 E”及び
Gは前記と同じ意味をもつ〕で示される〇−保護−5−
エピカナマイシンB誘導体が生成される。この式(Xl
l)の化合物の5個のアミノ基に、次いで、所望の型の
アミノ保護基(B)、例えばアシル栽型のアミノ保護基
、即ちアセチルの如きアルカノイル基、ベンゾイルの如
きアロイル基、エトキシカルボニル又は第3級ブトキシ
カルボニルの如きアルコキシカルボニル基。
物のスルホニル基型のアミノ保護基(B’)ヲ、他の型
のアミノ保護基と取代える処理を行うことができる。こ
のためには、式(X[)の化合物を液体アンモニア中で
金属ナトリウムで処理する既知の脱保護法を行なう。こ
れによって、次式〔式中、AJ、A4、E、 E”及び
Gは前記と同じ意味をもつ〕で示される〇−保護−5−
エピカナマイシンB誘導体が生成される。この式(Xl
l)の化合物の5個のアミノ基に、次いで、所望の型の
アミノ保護基(B)、例えばアシル栽型のアミノ保護基
、即ちアセチルの如きアルカノイル基、ベンゾイルの如
きアロイル基、エトキシカルボニル又は第3級ブトキシ
カルボニルの如きアルコキシカルボニル基。
又はベンジルオキシカルボニルの如きアラルコキシカル
ボニル基、あるいは再び所望の種類のスルホニル基型の
アミノ保J”JJを導入するN−保護反応を常法で行う
と、次式 〔式中、A3. A’、 E、 E”、 Gは前記の意
味をもち、Bはこの第6段階で導入されたアミノ保護基
である。〕で示されるN、0−保護さ九た5−エピカナ
マイシンB誘導体が生成されるのである。前記の第1〜
第5段階又は第1〜第6段階よりなる方法で生成された
式(XI)の化合物あるいは式(II)の化合物は、次
いで、第2の本発明による方法で5位のエピ−ヒドロキ
シル基の弗素置換に使用される。
ボニル基、あるいは再び所望の種類のスルホニル基型の
アミノ保J”JJを導入するN−保護反応を常法で行う
と、次式 〔式中、A3. A’、 E、 E”、 Gは前記の意
味をもち、Bはこの第6段階で導入されたアミノ保護基
である。〕で示されるN、0−保護さ九た5−エピカナ
マイシンB誘導体が生成されるのである。前記の第1〜
第5段階又は第1〜第6段階よりなる方法で生成された
式(XI)の化合物あるいは式(II)の化合物は、次
いで、第2の本発明による方法で5位のエピ−ヒドロキ
シル基の弗素置換に使用される。
次に、本発明を、本発明の方法に用いる出発化合物の調
製を示す参考例について、また第2の本発明の方法を例
示する実施例1〜4及び14〜16について、さらに第
3の本発明の方法を例示する実施例5〜1:3について
具体的に説明する。
製を示す参考例について、また第2の本発明の方法を例
示する実施例1〜4及び14〜16について、さらに第
3の本発明の方法を例示する実施例5〜1:3について
具体的に説明する。
なお、実施例1〜16の最終化合物は第1の本発明によ
る一般式(1)の化合物に属するものである。
る一般式(1)の化合物に属するものである。
宿翫(Zll 1
(イ) 3’、4’、2’、=1″、6ζペンター0
−アセチル−1,3゜2t 、 6/ 、 ?7/−ペ
ンターN−トシルカナマイシンB(化合物1)の製造 1、3.2’、6’、3″−ペンタ−N−トシルカナマ
イシン13のllomgを無水ピリジン2.2mRに溶
解し、0°Cにてアセチルクロライド0.062mQを
加え、0°Cにて反応させた。2時間後アセチルクロラ
イド0.029+++Qをさらに加え、3時間反応させ
た(アセチル化)。その後、反応液に水0.12mQを
加えた。これを濃縮し、残渣をクロロホルムにて抽出し
、この溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄し
、水洗後、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この溶液
を減圧濃縮し乾固して表題の化合物(1)の147mg
を得た。
−アセチル−1,3゜2t 、 6/ 、 ?7/−ペ
ンターN−トシルカナマイシンB(化合物1)の製造 1、3.2’、6’、3″−ペンタ−N−トシルカナマ
イシン13のllomgを無水ピリジン2.2mRに溶
解し、0°Cにてアセチルクロライド0.062mQを
加え、0°Cにて反応させた。2時間後アセチルクロラ
イド0.029+++Qをさらに加え、3時間反応させ
た(アセチル化)。その後、反応液に水0.12mQを
加えた。これを濃縮し、残渣をクロロホルムにて抽出し
、この溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄し
、水洗後、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この溶液
を減圧濃縮し乾固して表題の化合物(1)の147mg
を得た。
比旋光度:〔α〕i)J+25″(C1,0,クロロホ
ルム)(ロ) 3’、4’、2’、4’、6’−ペン
タ−0−アセチル−5−〇−ペンソイルー1.3.2’
、6’、3’−ペンタ−N−トシル−5−エピ−カナマ
イシンB(化合物2)の製造前項(イ)で得られた化合
物(1)の4.23gを無水テトラヒドロフラン64m
Qに溶解しトリフェニルホスフィン2.27g、ジエチ
ルアゾジカルボキシレート1.34mQ、安息香酸1.
06gを順次加え、室温にて反応させた。、2時間後、
トリフェニルホスフィン2.27g、ジエチルアゾジカ
ルボキシレート1..34mQ、安息香酸1.06gを
再び順次加え、室温にて1晩反応させた(ミツノブ反応
)。反応液を濃縮乾固し、残渣をクロロホルムに溶解し
、溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄
を行ない、無水硫酸ナトリウムで脱水した。この溶液を
減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(シリカゲル325g、展開系:クロロホルムで展
開したのちクロロホルム:エタノール20:0→20:
1)にて精製し表題の化合物(2)の2.38gを得た
。
ルム)(ロ) 3’、4’、2’、4’、6’−ペン
タ−0−アセチル−5−〇−ペンソイルー1.3.2’
、6’、3’−ペンタ−N−トシル−5−エピ−カナマ
イシンB(化合物2)の製造前項(イ)で得られた化合
物(1)の4.23gを無水テトラヒドロフラン64m
Qに溶解しトリフェニルホスフィン2.27g、ジエチ
ルアゾジカルボキシレート1.34mQ、安息香酸1.
06gを順次加え、室温にて反応させた。、2時間後、
トリフェニルホスフィン2.27g、ジエチルアゾジカ
ルボキシレート1..34mQ、安息香酸1.06gを
再び順次加え、室温にて1晩反応させた(ミツノブ反応
)。反応液を濃縮乾固し、残渣をクロロホルムに溶解し
、溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄
を行ない、無水硫酸ナトリウムで脱水した。この溶液を
減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(シリカゲル325g、展開系:クロロホルムで展
開したのちクロロホルム:エタノール20:0→20:
1)にて精製し表題の化合物(2)の2.38gを得た
。
比旋光度:〔α)”o3+ 20’ (c 1.0.ク
ロロホルム)JINMRスペクトル(重クロロホルム重
水中):δ1.48(Ill q ll−2,′ix)
δt、54(3tl 5Ac)51.64CI
ll s Ac) δ1.84(311S
)〜C)δ1.94(:Ill s Ac)
δ1.97(3+1 3 、〜C)δ2.17
(IHdt lt−2eq) 62.34(311s
TsのC113)δ2.:38(3Hs TsのC+
+3)δ2.40(311s TsのCHl、)δ2.
47(3tl s TsのCHl、)δ2.5](31
1s ’I’sのCHl3)δ:3.78(Ill d
dI+−6) δ6.01(III dt +
1−5)(ハ) 5−エビ−1,3,2’、6’、3“
−ペンタ−N−トシルカナマイシンB(化合物3)の製
造 前項(ロ)で得られた化合物(2) 1.20gを0.
2モル濃度のナトリウム・メトキシドのメタノール溶液
24m(lに溶解し、58℃にて37時間反応させた(
アセチル法、ベンゾイル基の脱離)、反応液に希塩酸を
加えて中和したのち濃縮乾固し、残渣を大量の水で洗浄
し乾燥して表題の化合物(3)の0 、930 g、を
得た。
ロロホルム)JINMRスペクトル(重クロロホルム重
水中):δ1.48(Ill q ll−2,′ix)
δt、54(3tl 5Ac)51.64CI
ll s Ac) δ1.84(311S
)〜C)δ1.94(:Ill s Ac)
δ1.97(3+1 3 、〜C)δ2.17
(IHdt lt−2eq) 62.34(311s
TsのC113)δ2.:38(3Hs TsのC+
+3)δ2.40(311s TsのCHl、)δ2.
47(3tl s TsのCHl、)δ2.5](31
1s ’I’sのCHl3)δ:3.78(Ill d
dI+−6) δ6.01(III dt +
1−5)(ハ) 5−エビ−1,3,2’、6’、3“
−ペンタ−N−トシルカナマイシンB(化合物3)の製
造 前項(ロ)で得られた化合物(2) 1.20gを0.
2モル濃度のナトリウム・メトキシドのメタノール溶液
24m(lに溶解し、58℃にて37時間反応させた(
アセチル法、ベンゾイル基の脱離)、反応液に希塩酸を
加えて中和したのち濃縮乾固し、残渣を大量の水で洗浄
し乾燥して表題の化合物(3)の0 、930 g、を
得た。
(ニ) 3’、4’、2“、4”、6“−ペンタ−0
−アセチル−1,3゜2’、6’、3”−ペンタ−N−
)−シル−5−二ビーカナマイシン+3 (化合物4)
の製造 (Acはアセチル基、Tsは1−シル基を示す。以下同
様) 前項(ハ)で得られた化合物(3)の898mgを無水
ピリジン18mQに溶解し、0℃にてアセチルクロライ
ド0.77tQ加え、0℃にて1時間反応させた(アセ
チル化による水酸基保護)。反応液に水0.97n+Q
を加えたのち濃縮乾固した。残渣をクロロホルムに溶解
し、溶液を10%硫酸水素カリウム水溶液、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで脱水した。溶液を濃縮乾固し、無色固体として表
題の化合物(4)の1086mgを得た。
−アセチル−1,3゜2’、6’、3”−ペンタ−N−
)−シル−5−二ビーカナマイシン+3 (化合物4)
の製造 (Acはアセチル基、Tsは1−シル基を示す。以下同
様) 前項(ハ)で得られた化合物(3)の898mgを無水
ピリジン18mQに溶解し、0℃にてアセチルクロライ
ド0.77tQ加え、0℃にて1時間反応させた(アセ
チル化による水酸基保護)。反応液に水0.97n+Q
を加えたのち濃縮乾固した。残渣をクロロホルムに溶解
し、溶液を10%硫酸水素カリウム水溶液、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで脱水した。溶液を濃縮乾固し、無色固体として表
題の化合物(4)の1086mgを得た。
比旋光度:〔α)′D’ + 23°(c 1.0.ク
ロロホルム)JINMRスペクトル(車クロロホルム中
):δ1.60(3Hs Ac) δ1,71(
311s Ac)61.9:1(311s Ac)
δ1,97(3Hs Ac)62.02(3tl
s Ac) δ2.38(6Hs TsのCIl
、 X 2)δ2.40(311s TsのCHl)
δ2.48(3Hs TsのC)I3)δ2.49(
311s TsのCO,)二2す1−スI島硼二f?す
± (イ) 3’、4’、2’、4’、6ζペンタ−0−
アセチル−1,3゜2’、6′、37′−ペンタ−N−
トシル−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB(
化合物5)の製造 ○Ac ジエチルアミノサルファートリフルオライド(DAST
)の0.452mgを無水ジクロロメタン17.4mN
、無水ピリジン0 、9mQにて希釈し、これに参考例
1、(ニ)で得られた化合物(4)の1085mgを無
水ジクロロメタン26m12に溶解した溶液を0℃にて
加え、室温にて1.5時間反応させた(エビ−5位OH
の弗素化と反転)。反応液を水冷した飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液45m1llに投入し、よく攪拌したのち
ジグロロメタン層をとり出し、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムに脱水
した。この溶液を濃縮乾固し、固体として表題の化合物
(5)の1.lOgを得た。
ロロホルム)JINMRスペクトル(車クロロホルム中
):δ1.60(3Hs Ac) δ1,71(
311s Ac)61.9:1(311s Ac)
δ1,97(3Hs Ac)62.02(3tl
s Ac) δ2.38(6Hs TsのCIl
、 X 2)δ2.40(311s TsのCHl)
δ2.48(3Hs TsのC)I3)δ2.49(
311s TsのCO,)二2す1−スI島硼二f?す
± (イ) 3’、4’、2’、4’、6ζペンタ−0−
アセチル−1,3゜2’、6′、37′−ペンタ−N−
トシル−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB(
化合物5)の製造 ○Ac ジエチルアミノサルファートリフルオライド(DAST
)の0.452mgを無水ジクロロメタン17.4mN
、無水ピリジン0 、9mQにて希釈し、これに参考例
1、(ニ)で得られた化合物(4)の1085mgを無
水ジクロロメタン26m12に溶解した溶液を0℃にて
加え、室温にて1.5時間反応させた(エビ−5位OH
の弗素化と反転)。反応液を水冷した飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液45m1llに投入し、よく攪拌したのち
ジグロロメタン層をとり出し、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムに脱水
した。この溶液を濃縮乾固し、固体として表題の化合物
(5)の1.lOgを得た。
19FNMRスペクトル(重水1滴を含む重クロロホル
ム重水中 トリクロロフルオロメタン内部標Qli )
ニー 188.87ppm(dt) (ロ) 5−デ
オキシ−5−フルオロカナマイシンB(本発明化合物N
α1)の製造前項(イ)で得た化合物(5)の1.1g
を一60℃にて液体アンモニア300m1l!に溶解し
金Jll+<ナトリウム約1.1gを加え一50℃にて
5分間反応させた(1〜シル基の脱離)。反応液にメタ
ノール30mQを加え、室温にてアンモニアを蒸発させ
、さらに減圧濃縮後、残渣を水110mQに溶解し50
°Cで30分加熱した(アセチルノ、(の脱離)。反応
液を室温まで冷却し、ダウエックス(Dovex) 5
01j X 2樹月旨80mQを力11えこ才すに吸、
1゛Iせしめた。生成した脱保護生成物を樹脂ごと同一
の樹11i′i40 m Qのカラムの上部に加え、水
洗後、1呪定アンモニア水にて溶出し、ニンヒドリン陽
性部分を集めた。得られた生成物をさらに、馴−セファ
テノクスC−25のカラム(85mQ)でアンモニア水
(O→0.15規定)にて展開し、目的化合物を含む部
分を集め濃縮した。無色固体として表題の化合物の98
1を得た。
ム重水中 トリクロロフルオロメタン内部標Qli )
ニー 188.87ppm(dt) (ロ) 5−デ
オキシ−5−フルオロカナマイシンB(本発明化合物N
α1)の製造前項(イ)で得た化合物(5)の1.1g
を一60℃にて液体アンモニア300m1l!に溶解し
金Jll+<ナトリウム約1.1gを加え一50℃にて
5分間反応させた(1〜シル基の脱離)。反応液にメタ
ノール30mQを加え、室温にてアンモニアを蒸発させ
、さらに減圧濃縮後、残渣を水110mQに溶解し50
°Cで30分加熱した(アセチルノ、(の脱離)。反応
液を室温まで冷却し、ダウエックス(Dovex) 5
01j X 2樹月旨80mQを力11えこ才すに吸、
1゛Iせしめた。生成した脱保護生成物を樹脂ごと同一
の樹11i′i40 m Qのカラムの上部に加え、水
洗後、1呪定アンモニア水にて溶出し、ニンヒドリン陽
性部分を集めた。得られた生成物をさらに、馴−セファ
テノクスC−25のカラム(85mQ)でアンモニア水
(O→0.15規定)にて展開し、目的化合物を含む部
分を集め濃縮した。無色固体として表題の化合物の98
1を得た。
比旋光度: Ca )0’ + 117°(c O,6
,水)18NMRスペクトル(型温酸中、3−(1〜リ
メチルシリル)プロピオン酸ナトリウム塩−d4内部標
準):62.08(ill q ll−2ax) δ
2,60(ill bdt ll−2aq)δ3.31
(11(dd H−6’a) δ4.24(11(q
H−6又は)I−4)δ 4.49(11イ q
I+−4又はH−6) 64.99(+、Hdt
H−5ンδ5.+6(IHd 11−1’)
δ5.78(IHd 11−]−’)参考例2 (イ) 1.3.2’、6’、3ζペンタ−N−)−
ジルトブラマイシン(化合物6)の製造 トブラマイシンすなわち3′−デオキシカナマイシンB
の600mgを水40mQに溶解し、炭酸ナトリウム9
00mgを加え溶解した。さらにジオキサン4On+Q
を加え水冷中、攪拌しながらトシルクロライド1469
Bを加えた。1.5時間後反応液にさらに炭酸す1−リ
ウム450mg、トシルクロライド735mgを加え、
さらに3時間後、炭酸ナトリウム450mg、 トシ
ルクロライド7:15mHを加え、室温にて1晩反応さ
せた(N−トシル化)。反応液を濃縮乾固し、残渣を大
量の水で水洗し乾燥したのちクロロホルt1−エタノー
ルに溶解し、エチルエーテルにて再沈殿させ。
,水)18NMRスペクトル(型温酸中、3−(1〜リ
メチルシリル)プロピオン酸ナトリウム塩−d4内部標
準):62.08(ill q ll−2ax) δ
2,60(ill bdt ll−2aq)δ3.31
(11(dd H−6’a) δ4.24(11(q
H−6又は)I−4)δ 4.49(11イ q
I+−4又はH−6) 64.99(+、Hdt
H−5ンδ5.+6(IHd 11−1’)
δ5.78(IHd 11−]−’)参考例2 (イ) 1.3.2’、6’、3ζペンタ−N−)−
ジルトブラマイシン(化合物6)の製造 トブラマイシンすなわち3′−デオキシカナマイシンB
の600mgを水40mQに溶解し、炭酸ナトリウム9
00mgを加え溶解した。さらにジオキサン4On+Q
を加え水冷中、攪拌しながらトシルクロライド1469
Bを加えた。1.5時間後反応液にさらに炭酸す1−リ
ウム450mg、トシルクロライド735mgを加え、
さらに3時間後、炭酸ナトリウム450mg、 トシ
ルクロライド7:15mHを加え、室温にて1晩反応さ
せた(N−トシル化)。反応液を濃縮乾固し、残渣を大
量の水で水洗し乾燥したのちクロロホルt1−エタノー
ルに溶解し、エチルエーテルにて再沈殿させ。
沈殿をエチルエーテルにて洗浄し、表題の化合物(6)
の1721mgを得た。
の1721mgを得た。
比旋光度: [a )3J+ 24°(c 1.0.ピ
リジン)(ロ)4’、6#−0−シクロへキシリデン−
1,3,2’、6’。
リジン)(ロ)4’、6#−0−シクロへキシリデン−
1,3,2’、6’。
3N−ペンタ−N−)ジルトブラマイシン(化合物7)
の製造 前項(イ)で得られた化合物(6)の1.72gを無水
ジメチルホルムアミド35n+Iltに溶解し、p−ト
ルエンスルホンa 60 m g、1,1−ジメI〜キ
シシクロヘキサン1 、25mQを加え、30mmHg
id圧下、50℃にて2時間攪拌して反応せしめて4“
、6“−〇−シクロへキシリデン化した。反応液を冷却
し、飽和炭酸水素すI〜リウム水溶液25 m Qにあ
け、濃縮乾固した。残渣を大量の水で水洗し乾燥したの
ち、エチルエーテルにて洗浄し表題の化合物(7)の1
.76gを得た。
の製造 前項(イ)で得られた化合物(6)の1.72gを無水
ジメチルホルムアミド35n+Iltに溶解し、p−ト
ルエンスルホンa 60 m g、1,1−ジメI〜キ
シシクロヘキサン1 、25mQを加え、30mmHg
id圧下、50℃にて2時間攪拌して反応せしめて4“
、6“−〇−シクロへキシリデン化した。反応液を冷却
し、飽和炭酸水素すI〜リウム水溶液25 m Qにあ
け、濃縮乾固した。残渣を大量の水で水洗し乾燥したの
ち、エチルエーテルにて洗浄し表題の化合物(7)の1
.76gを得た。
比旋光度:〔α〕ら’+3”(c 1.ピリジン)(ハ
) 4’、2ζジー0−アセチル−4′、6′−〇−
シクロへキシリデン−1,3,2’、6’、3’−ペン
タ−N−トシルトブラマイシン(化合物8)の製造 前項(ロ)で得られた化合物(7)の1059mgを無
水ジメチルスルホキシド4.8mQに溶解し、無水ピリ
ジン0 、53mQを加え、N−アセチル・イミダゾー
ル356mgを加え37℃にて反応させた。12時間後
、24時間後、36時間後、48時間後、60時間後、
72時間後に各々N−アセチル・イミダゾール360m
gを加えた(アセチル化による水酸基の保護)。84時
間後、反応液に水2mQを加えたのち、これを飽和炭酸
水素す1−リウム水溶液106mQに投入し、析出した
沈殿を1慮取、水洗後、乾燥したのちエチルエーテルに
て洗浄し、表題化合物(8)の1084mgを得た。
) 4’、2ζジー0−アセチル−4′、6′−〇−
シクロへキシリデン−1,3,2’、6’、3’−ペン
タ−N−トシルトブラマイシン(化合物8)の製造 前項(ロ)で得られた化合物(7)の1059mgを無
水ジメチルスルホキシド4.8mQに溶解し、無水ピリ
ジン0 、53mQを加え、N−アセチル・イミダゾー
ル356mgを加え37℃にて反応させた。12時間後
、24時間後、36時間後、48時間後、60時間後、
72時間後に各々N−アセチル・イミダゾール360m
gを加えた(アセチル化による水酸基の保護)。84時
間後、反応液に水2mQを加えたのち、これを飽和炭酸
水素す1−リウム水溶液106mQに投入し、析出した
沈殿を1慮取、水洗後、乾燥したのちエチルエーテルに
て洗浄し、表題化合物(8)の1084mgを得た。
比旋光度:〔α〕♂1+18°(c 1.0.クロロホ
ル11)(ニ) 4′、2ζジー0−アセチル−5−
0−ベンゾイル−4“。
ル11)(ニ) 4′、2ζジー0−アセチル−5−
0−ベンゾイル−4“。
6’−0−シクロへキシリデン−1,3,2’、6’、
3″′−ペンタ−、〜 トシル−5−エピ−トブラマイ
シン(化合物9)の製造 前項(ハ)で得られた化合物(8)の448Bを無水テ
1〜ラヒトロフラン6.8n+Qに溶解し、1へリフェ
ニルホスフィン253B、ジエチル・アゾジカルボキシ
レ−l” 0.15mQ、安、g、杏酸119mgを順
次加え、室温にて反応させた。2時間後トリフェニルホ
スフィン253mg、ジエチル・アゾジカルボンキシレ
ート0.15mQ、安息香酸119mgを再び順次加え
、室温にて1晩反応させた(ミツノブ反応)。反応液を
濃縮弓吃固し、残渣をクロロホルムに溶解後、溶液を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄を行ない、
無水硫酸ナトリウムで脱水した。この、溶液を減圧δ3
縮した。残渣をシリカゲルグロマトクラフイー(メルク
シリカゲル60 ; 230〜400メツシユ、30g
。
3″′−ペンタ−、〜 トシル−5−エピ−トブラマイ
シン(化合物9)の製造 前項(ハ)で得られた化合物(8)の448Bを無水テ
1〜ラヒトロフラン6.8n+Qに溶解し、1へリフェ
ニルホスフィン253B、ジエチル・アゾジカルボキシ
レ−l” 0.15mQ、安、g、杏酸119mgを順
次加え、室温にて反応させた。2時間後トリフェニルホ
スフィン253mg、ジエチル・アゾジカルボンキシレ
ート0.15mQ、安息香酸119mgを再び順次加え
、室温にて1晩反応させた(ミツノブ反応)。反応液を
濃縮弓吃固し、残渣をクロロホルムに溶解後、溶液を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄を行ない、
無水硫酸ナトリウムで脱水した。この、溶液を減圧δ3
縮した。残渣をシリカゲルグロマトクラフイー(メルク
シリカゲル60 ; 230〜400メツシユ、30g
。
展開系、クロロホルムで展開したのちクロロホルム:エ
タノール20:0→20:1)に精製し表題化合物(9
)の316+ugを得た。
タノール20:0→20:1)に精製し表題化合物(9
)の316+ugを得た。
比旋光度:〔α〕も3−8°(c 1.0.クロロホル
ム)JINMRスペクトル(■ピリジン重水中80℃)
:δ1.78(3H,s) δ2.20(6H,s)
δ2,2g(3+1.5)62.33(3f(、s
) δ2,36(3H,s) 以上Ac及びTsの
CI+。
ム)JINMRスペクトル(■ピリジン重水中80℃)
:δ1.78(3H,s) δ2.20(6H,s)
δ2,2g(3+1.5)62.33(3f(、s
) δ2,36(3H,s) 以上Ac及びTsの
CI+。
δ6.24(IH,bt、 H−5)
(ホ) 4’、6ζ0−シクロへキシリデン−1,3
,2′、6’。
,2′、6’。
3“−ペンタ−N−トシル−5−エピ−トブラマイシン
(化合物10)の製造 前項(ニ)で得られた化合物(9)の473mgを0.
2モル濃度のナトリウム・メトキシドのメタノール7容
液9.45mQに溶解し、58℃にて27時間反応させ
た(アセチル基、ベンゾイル基の脱離)。反応液に希塩
酸を加えて中和後濃縮乾固し、残渣を大址の水で洗浄し
、表題化合物(10)の418mgを得た。
(化合物10)の製造 前項(ニ)で得られた化合物(9)の473mgを0.
2モル濃度のナトリウム・メトキシドのメタノール7容
液9.45mQに溶解し、58℃にて27時間反応させ
た(アセチル基、ベンゾイル基の脱離)。反応液に希塩
酸を加えて中和後濃縮乾固し、残渣を大址の水で洗浄し
、表題化合物(10)の418mgを得た。
(へ) 4’、2’−ジーO−アセチル−4’、6’
−0−シクロへキシリデン−1,3,2’、6’、3’
−ペンタ−N−トシル−5−エピ−トブラマイシン(化
合物11)の製造前項(ホ)で得た化合物(10)の3
.97 gを無水ジメチルスルホキシド17 、9mQ
、無水ピリジン2 、 On+Qに1容解し、N−アセ
チルイミダゾール1.376gを加え37℃にて反応さ
せた。6時間後N−アセチルイミダゾール1.391g
を加え、さらに37℃にて1晩反応させた(アセチル化
)。反応液に水2.26mQを加えたのち、これを飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液400+nQに投入し、析出
した沈殿を濾取し水洗後乾燥エチルエーテルにて洗浄し
、無色固体として表題化合物(11)の3.853 g
を得た。この化合物は新規化合物である。
−0−シクロへキシリデン−1,3,2’、6’、3’
−ペンタ−N−トシル−5−エピ−トブラマイシン(化
合物11)の製造前項(ホ)で得た化合物(10)の3
.97 gを無水ジメチルスルホキシド17 、9mQ
、無水ピリジン2 、 On+Qに1容解し、N−アセ
チルイミダゾール1.376gを加え37℃にて反応さ
せた。6時間後N−アセチルイミダゾール1.391g
を加え、さらに37℃にて1晩反応させた(アセチル化
)。反応液に水2.26mQを加えたのち、これを飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液400+nQに投入し、析出
した沈殿を濾取し水洗後乾燥エチルエーテルにて洗浄し
、無色固体として表題化合物(11)の3.853 g
を得た。この化合物は新規化合物である。
比旋光度:〔α〕♂2+19°(c 1.0.クロロホ
ルム)’HNMRスペクトル(東ピリジン中):δ5.
05(IH,bs、 ll−5) 65.46(il
l、 dd、 11−2’)止栓 (イ) 4’、2ζジーO−アセチル−4″、6’−
0−シクロヘキシリデン−1,3,2’、6’、3ξペ
ンタ−N−)−シル−5−デオキシ−5−フルオロ−ト
ブラマイシン(化合物12)の製造 ↓ DAST すAC ジエチルアミノサルファー1ヘリフルオライド(DAS
T)の0.]444mを無水ベンゼン5 、 OmQ、
無水ピリジン0.29mQにて希釈し、これに化合物(
11)の331mgを無水ベンゼン8.23+nQに溶
解した溶液を0℃において加えた。室温にて2時間反応
させた(エピ−5位011の弗素化と反転)。反応液を
氷冷した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液14mQに投入
し、これをグロロホルム30n+Qにて抽出した。クロ
ロホルムン容液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水に
て順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この
溶液を減圧濃縮し、乾固して固体として表題化合物(1
2)の363mgを得た。
ルム)’HNMRスペクトル(東ピリジン中):δ5.
05(IH,bs、 ll−5) 65.46(il
l、 dd、 11−2’)止栓 (イ) 4’、2ζジーO−アセチル−4″、6’−
0−シクロヘキシリデン−1,3,2’、6’、3ξペ
ンタ−N−)−シル−5−デオキシ−5−フルオロ−ト
ブラマイシン(化合物12)の製造 ↓ DAST すAC ジエチルアミノサルファー1ヘリフルオライド(DAS
T)の0.]444mを無水ベンゼン5 、 OmQ、
無水ピリジン0.29mQにて希釈し、これに化合物(
11)の331mgを無水ベンゼン8.23+nQに溶
解した溶液を0℃において加えた。室温にて2時間反応
させた(エピ−5位011の弗素化と反転)。反応液を
氷冷した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液14mQに投入
し、これをグロロホルム30n+Qにて抽出した。クロ
ロホルムン容液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水に
て順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この
溶液を減圧濃縮し、乾固して固体として表題化合物(1
2)の363mgを得た。
比旋光度:Cα〕B”+21°(c 1.0.りoaホ
ルム)’′FNMRスペクトル(1(ピリジン重水中
トリクロロフルオロエタン内部標準): −187,4
0ppm(ロ)5−デオキシ−5−フルオロトブラマイ
シンすなわち5,3′−ジデオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(本発明化合物Nα2)の製造 前項(イ)の生成化合物(12)の393Bを一60℃
にて液体アンモニア80n+Qに溶解し、金属ナトリウ
ム約400mgを加え一50℃で5分間反応させた(ト
シル基の脱離)。反応液にメタノール10mQ加え、室
温にてアンモニアを蒸発させ、さらに減圧濃縮後。
ルム)’′FNMRスペクトル(1(ピリジン重水中
トリクロロフルオロエタン内部標準): −187,4
0ppm(ロ)5−デオキシ−5−フルオロトブラマイ
シンすなわち5,3′−ジデオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(本発明化合物Nα2)の製造 前項(イ)の生成化合物(12)の393Bを一60℃
にて液体アンモニア80n+Qに溶解し、金属ナトリウ
ム約400mgを加え一50℃で5分間反応させた(ト
シル基の脱離)。反応液にメタノール10mQ加え、室
温にてアンモニアを蒸発させ、さらに減圧濃縮後。
残渣を水40mQに溶解し50°Cで30分加熱した(
アセチル基の脱離)。反応液を室温まで冷却し、ダウエ
ックス(Dowex) 50WX2樹脂60mQを加え
、これに吸着せしめた(シクロへキシリデン基の脱a)
。
アセチル基の脱離)。反応液を室温まで冷却し、ダウエ
ックス(Dowex) 50WX2樹脂60mQを加え
、これに吸着せしめた(シクロへキシリデン基の脱a)
。
生成した脱保護生成物を樹脂ごと同一の樹脂20mQの
カラムの上部に加え、水洗後、1規定アンモニア水にて
溶出し、ニンヒドリン陽性部分を集めた。
カラムの上部に加え、水洗後、1規定アンモニア水にて
溶出し、ニンヒドリン陽性部分を集めた。
得られた生成物をさらにCM−セファデックスC−25
のカラム(26n+Q)でアンモニア水(0→0.15
規定)にて展開し、目的化合物を含む部分を集め濃縮し
た。
のカラム(26n+Q)でアンモニア水(0→0.15
規定)にて展開し、目的化合物を含む部分を集め濃縮し
た。
無色固体として表題化合物(本発明化合物Nα2)の5
5.6mgを得た。
5.6mgを得た。
比旋光度: I:α)i5’−+−124°(c 1.
0.水)JINMRスペクトル(20%重アンモニア水
中、3〜(1〜リメチルシリル)プロピオン酸ナトリウ
ム塩−d4内部標準): δ1.28(IHq H−2ax) δ1.60(6
Hq If−3’ax)δ3.30(IHt H−4’
) δ4,57(IHdt H−5)55.01(
ill d 1(−1’) 65.09(IHd
H−1’)参考例3 (イ) 1,3.2’、6’、3’−ペンタ−N−ト
シル−4′−デオキシ−カナマイシンB(化合物13)
の製造4′−デオキシ−カナマイシンBの750mgを
水50+nQに溶解し、炭酸ナトリウム1.13gを加
え溶解した。
0.水)JINMRスペクトル(20%重アンモニア水
中、3〜(1〜リメチルシリル)プロピオン酸ナトリウ
ム塩−d4内部標準): δ1.28(IHq H−2ax) δ1.60(6
Hq If−3’ax)δ3.30(IHt H−4’
) δ4,57(IHdt H−5)55.01(
ill d 1(−1’) 65.09(IHd
H−1’)参考例3 (イ) 1,3.2’、6’、3’−ペンタ−N−ト
シル−4′−デオキシ−カナマイシンB(化合物13)
の製造4′−デオキシ−カナマイシンBの750mgを
水50+nQに溶解し、炭酸ナトリウム1.13gを加
え溶解した。
さらにジオキサン50v2を加え水冷中に攪拌しながら
トシルクロライド1.84gを加えた。2時間後反応液
にさらに炭酸ナトリウム560mg、トシルクロライド
910mgを力nえ、室温にて1晩反応させた(N−ト
シル化)。反応液を濃縮乾固し、残渣を大量の水で水洗
し、乾燥したのち、クロロホルム−メタノールに溶解し
エチルエーテルにて再沈殿させ、沈殿をエチルエーテル
にて洗浄し、表題化合物(13)の2.1gを得た。
トシルクロライド1.84gを加えた。2時間後反応液
にさらに炭酸ナトリウム560mg、トシルクロライド
910mgを力nえ、室温にて1晩反応させた(N−ト
シル化)。反応液を濃縮乾固し、残渣を大量の水で水洗
し、乾燥したのち、クロロホルム−メタノールに溶解し
エチルエーテルにて再沈殿させ、沈殿をエチルエーテル
にて洗浄し、表題化合物(13)の2.1gを得た。
(ロ) 3’、2’、4’、6″−テトラ−O−アセ
チル−1,3,2’。
チル−1,3,2’。
6′、3ζペンタ−N−トシル−4′−デオキシ−カナ
マイシンB(化合物14)の製造 前項(イ)の化合物(13)492mgを無水ピリジン
9.8m+2に溶解し、OoCにてアセチルクロライド
0.29mUを加え0℃にて反応させた。2時間後アセ
チルクロライドO,146Inρをさらに加え、3時間
反応させた(アセチル化)6その後、反応液に水0 、
56+nQを加えた。これを濃縮し、残渣をクロロホル
ムに溶解し、この溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
にて洗浄し、水洗後、無水硫酸す1−リウムにて脱水し
た。
マイシンB(化合物14)の製造 前項(イ)の化合物(13)492mgを無水ピリジン
9.8m+2に溶解し、OoCにてアセチルクロライド
0.29mUを加え0℃にて反応させた。2時間後アセ
チルクロライドO,146Inρをさらに加え、3時間
反応させた(アセチル化)6その後、反応液に水0 、
56+nQを加えた。これを濃縮し、残渣をクロロホル
ムに溶解し、この溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
にて洗浄し、水洗後、無水硫酸す1−リウムにて脱水し
た。
この溶液を減圧1縮し乾固して表題化合物(14)の5
87mgを?:)だ。
87mgを?:)だ。
(ハ) 3’、2″、4“、6”−テトラ−0−アセ
チル−5−0−ベンゾイル−5−ニピー1.3.2’、
6’、:3ζベンターN−1〜シル−4′−デオキシ−
カナマイシンB(化合物15)の製造前項(ロ)で得ら
れた化合物(14)の260mgを無水テトラヒドロフ
ラン3.9mQに溶解し、トリフェニルホスフィン14
6mg、ジエチルアゾジカルボキシレート0.086m
12、安息香酸68mgを順次加え、室温にて反応させ
た。1時間牛後トリフェニルホスフィン147■、ジエ
チルアゾジ力ルポキシレート0.086mg、安息香酸
68mgを再び順次加え、室温にて1晩反応させた(ミ
ツノブ反応)。反応液を濃縮乾固し、残渣をクロロホル
ムに溶解し、溶液を飽和炭酸水着ナトリウム水溶液、水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この
溶液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(シリカゲル20g展開系:クロロホ
ルムで展開したのちクロロホルム:エタノール20:0
→20:1)にて精製し表題化合物(15)の161m
gを得た。
チル−5−0−ベンゾイル−5−ニピー1.3.2’、
6’、:3ζベンターN−1〜シル−4′−デオキシ−
カナマイシンB(化合物15)の製造前項(ロ)で得ら
れた化合物(14)の260mgを無水テトラヒドロフ
ラン3.9mQに溶解し、トリフェニルホスフィン14
6mg、ジエチルアゾジカルボキシレート0.086m
12、安息香酸68mgを順次加え、室温にて反応させ
た。1時間牛後トリフェニルホスフィン147■、ジエ
チルアゾジ力ルポキシレート0.086mg、安息香酸
68mgを再び順次加え、室温にて1晩反応させた(ミ
ツノブ反応)。反応液を濃縮乾固し、残渣をクロロホル
ムに溶解し、溶液を飽和炭酸水着ナトリウム水溶液、水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。この
溶液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(シリカゲル20g展開系:クロロホ
ルムで展開したのちクロロホルム:エタノール20:0
→20:1)にて精製し表題化合物(15)の161m
gを得た。
(二’) l、 3.2’、6’、3’−ペンタ−N
−l−シル−4′−デオキシ−5−二ピーカナマイシン
B(化合物16)の製造前項(ハ)で得た化合物(15
)の150ff1gを0.2モル濃度のナトリウム・メ
トキシドのメタノール溶液3mΩに溶解し、58℃にて
32時間反応させた(アセチル基、ベンゾイル基の脱離
)。反応液に希塩酸を加えて中和したのち濃縮乾固し、
残渣を大量の水で洗浄し乾燥して表題化合物(16)の
1.14Bを得た。
−l−シル−4′−デオキシ−5−二ピーカナマイシン
B(化合物16)の製造前項(ハ)で得た化合物(15
)の150ff1gを0.2モル濃度のナトリウム・メ
トキシドのメタノール溶液3mΩに溶解し、58℃にて
32時間反応させた(アセチル基、ベンゾイル基の脱離
)。反応液に希塩酸を加えて中和したのち濃縮乾固し、
残渣を大量の水で洗浄し乾燥して表題化合物(16)の
1.14Bを得た。
(ホ) 3’、2’、4’、6’−テトラ−O−アセ
チル−1,3,2’。
チル−1,3,2’。
6’、3’−ペンタ−N−トシル−4′−デオキシ−5
−エピ−カナマイシンB(化合物17)の製造 VハC 前項(ニ)で得た化合物(16)の350mgを無水ピ
リジン7m12に溶解し、0℃にてアセチルクロライド
0.21+nQ加えO′Cにて1時間反応させた(アセ
チル化)。反応液に水0.26m12を加えたのちJ!
縮乾固した。残渣をクロロホルムに溶解し溶液を10%
硫酸水素カリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水した。
−エピ−カナマイシンB(化合物17)の製造 VハC 前項(ニ)で得た化合物(16)の350mgを無水ピ
リジン7m12に溶解し、0℃にてアセチルクロライド
0.21+nQ加えO′Cにて1時間反応させた(アセ
チル化)。反応液に水0.26m12を加えたのちJ!
縮乾固した。残渣をクロロホルムに溶解し溶液を10%
硫酸水素カリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水した。
溶液を濃縮乾固し、無色固体として表題化合物(17)
の415mgを得た。
の415mgを得た。
夫嵐貫立
(イ) 3’、2’、4’、6ζテトラ−0−アセチ
ル−]、、 3.2’。
ル−]、、 3.2’。
6′、3ζペンタ−N−トシル−5,4′−ジデオキシ
−5−フルオロカナマイシンB(化合物18)の製造ジ
エチルアミノスルファ−トリフルオライド(DAST)
の0 、11mQを無水ジクロロメタン1.4mQ、無
水ピリジン0.34mQにて希釈し、これに、参考例3
(ホ)で得られた化合物(17)の395mgを無水ジ
グロロメタン8.4mQに溶解した溶液を0℃にて加え
、室温にて、1.5時間反応させた(エビ−5位011
の弗素化と反転〕。反応液を水冷した飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液16mQに投入し、よく攪拌したのちジク
ロロメタン層をとり出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水し
た。この溶液をa縮乾固し。
−5−フルオロカナマイシンB(化合物18)の製造ジ
エチルアミノスルファ−トリフルオライド(DAST)
の0 、11mQを無水ジクロロメタン1.4mQ、無
水ピリジン0.34mQにて希釈し、これに、参考例3
(ホ)で得られた化合物(17)の395mgを無水ジ
グロロメタン8.4mQに溶解した溶液を0℃にて加え
、室温にて、1.5時間反応させた(エビ−5位011
の弗素化と反転〕。反応液を水冷した飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液16mQに投入し、よく攪拌したのちジク
ロロメタン層をとり出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水し
た。この溶液をa縮乾固し。
固体として表題化合物(18)の392mgを得た。
(ロ) 5.4’−ジデオキシ−フルオロカナマイシ
ンB(本発明化合物Nα3)の製造 前項(イ)で得た化合物(18)の302mgを一60
℃にて液体アンモニア90mQに溶解し金属ナトリウム
約300mgを加え、−50℃にて5分間反応させた(
トシル基の脱離)、反応液にメタノール10mQを加え
、室温にてアンモニアを蒸発させ、さらに減圧儂縮後残
、・hを水30o+Qに溶解し50°Cにて30分加熱
したくアセチル基の脱離)。反応液を室温まで冷却し、
ダウエックス(Do+、+ex)50W X 2樹脂2
0m1llを加えこれに吸着せしめた。生成した脱保護
生成物を樹脂ごと同一樹脂10mΩをつめたカラムの上
部に加え、水洗後、1規定アンモニア水にて溶出しニン
ヒ1へリン呈色陽性部分を集め濃縮した。得られた残渣
を水30mQに溶解し、酬セファデックスC−25のカ
ラム(24mQ)にチャージし、アンモニア水(0→0
.15規定)にて溶出し目的化合物を含む部分を集め′
、a縮し無色固体として表題化合物(本発明化合物Nα
3)の41邦を11)だ。
ンB(本発明化合物Nα3)の製造 前項(イ)で得た化合物(18)の302mgを一60
℃にて液体アンモニア90mQに溶解し金属ナトリウム
約300mgを加え、−50℃にて5分間反応させた(
トシル基の脱離)、反応液にメタノール10mQを加え
、室温にてアンモニアを蒸発させ、さらに減圧儂縮後残
、・hを水30o+Qに溶解し50°Cにて30分加熱
したくアセチル基の脱離)。反応液を室温まで冷却し、
ダウエックス(Do+、+ex)50W X 2樹脂2
0m1llを加えこれに吸着せしめた。生成した脱保護
生成物を樹脂ごと同一樹脂10mΩをつめたカラムの上
部に加え、水洗後、1規定アンモニア水にて溶出しニン
ヒ1へリン呈色陽性部分を集め濃縮した。得られた残渣
を水30mQに溶解し、酬セファデックスC−25のカ
ラム(24mQ)にチャージし、アンモニア水(0→0
.15規定)にて溶出し目的化合物を含む部分を集め′
、a縮し無色固体として表題化合物(本発明化合物Nα
3)の41邦を11)だ。
比旋光度:〔α〕♂’+120°(c 1.0.水)歩
考例4 (イ) 1,3.2’、6’、3’−ペンタ−N−)
−シル−3’、4’−ジテオキシ−カナマイシンB(化
合物19)の製造:l’、4’−ジデオキシカナマイシ
ンB(すなわちジベカシン)、硫酸塩3.50g(力価
690μg/邦)を水35mQに溶解し、炭酸ナトリウ
ム3.40g(6モル当量)を加えた後、1,4−ジオ
キサン70mΩを加え、水冷攪拌下にp−トルエンスル
ホニル・クロライド6.12g(シベカシンに対して6
モル当量)を加えた。1時間後、室温に戻してさらに攪
拌を続けた。72時間後、反応混合物を減圧;加縮し、
水300+++Qを加え、生じた沈殿を濾取、水洗後、
減圧乾燥させた。さらにこれをエーテルで洗い減圧乾燥
し、6.06 gの表題化合物(19)の固体を得た。
考例4 (イ) 1,3.2’、6’、3’−ペンタ−N−)
−シル−3’、4’−ジテオキシ−カナマイシンB(化
合物19)の製造:l’、4’−ジデオキシカナマイシ
ンB(すなわちジベカシン)、硫酸塩3.50g(力価
690μg/邦)を水35mQに溶解し、炭酸ナトリウ
ム3.40g(6モル当量)を加えた後、1,4−ジオ
キサン70mΩを加え、水冷攪拌下にp−トルエンスル
ホニル・クロライド6.12g(シベカシンに対して6
モル当量)を加えた。1時間後、室温に戻してさらに攪
拌を続けた。72時間後、反応混合物を減圧;加縮し、
水300+++Qを加え、生じた沈殿を濾取、水洗後、
減圧乾燥させた。さらにこれをエーテルで洗い減圧乾燥
し、6.06 gの表題化合物(19)の固体を得た。
収率93%(ロ) 4’、6’−0−シクロへキシリ
デン−1,3,2’、6’。
デン−1,3,2’、6’。
3′−ペンタ−N−トシルジベカシン(化合物20)の
製造前項(イ)で得られた化合物(19)の1.63
gを無水DMF8.1ζOに溶解し、シクロヘキサノン
ジメチルアセタール1mQとp−hルエンスルホン酸5
1mgを加え、50℃、30mm11gの減圧下に攪拌
した。1時間後、氷冷した飽和重曹水200mQに反応
液を注ぎ、生じた白色沈殿を濾取、水洗後、減圧乾燥し
て1.75 gの表題化合物(20)を白色固体として
得た。収率は定量的。
製造前項(イ)で得られた化合物(19)の1.63
gを無水DMF8.1ζOに溶解し、シクロヘキサノン
ジメチルアセタール1mQとp−hルエンスルホン酸5
1mgを加え、50℃、30mm11gの減圧下に攪拌
した。1時間後、氷冷した飽和重曹水200mQに反応
液を注ぎ、生じた白色沈殿を濾取、水洗後、減圧乾燥し
て1.75 gの表題化合物(20)を白色固体として
得た。収率は定量的。
比旋光度: [a )o’ + 28°(c 1.0.
DMF)(ハ) 2’−0−ベンゾイル−4′、6
ζO−シクロヘキシリデン−11312’+6′、3“
−ペンタ−N−1−シルジベ力シン(化合物21)の製
造 前項(ロ)で得られた化合物(20)の1.75gを無
水ピリジン35mQに溶解し、0℃で攪拌下に塩化ベン
ソイル0.78mQを加えて反応させた。水0.6mQ
を3.5時間後加え、1時間放置後、減圧濃縮し、得ら
れた残渣をクロロホルムで抽出し、クロロホルム溶液を
順次飽和重曹水(lOOmQ X 3)、5%重硫酸カ
リウム水(100mQX 2)、水(1,00mQX
3)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮乾固
して、固体として表題化合物(21)の1.885gを
得た。収率99.5%比旋光度:〔α弓2+32°(c
1. CHCl3)(ニ)5.2’−ジー0−ベンゾ
イル−4′、6ζ0−シクロへキシリデン−1,3,2
’、6′、3ξペンタ−N−1〜シル−5−エピジベカ
シン(化合物22)の製造 前項(ハ)で得た化合物(21)の1.62gを無水テ
トラヒドロフラン24 、3+++Qに溶解し、ジエチ
ルアゾジカルボキシレート(DEAD)の0.54mQ
、1−リフ x 二)’JホスフィンP(C,+15)
、の906mg、安息香酸の422mgを加え、50℃
で反応させた。1時間30分後、同地の試薬をそれぞれ
加え、室温に戻して反応させた。
DMF)(ハ) 2’−0−ベンゾイル−4′、6
ζO−シクロヘキシリデン−11312’+6′、3“
−ペンタ−N−1−シルジベ力シン(化合物21)の製
造 前項(ロ)で得られた化合物(20)の1.75gを無
水ピリジン35mQに溶解し、0℃で攪拌下に塩化ベン
ソイル0.78mQを加えて反応させた。水0.6mQ
を3.5時間後加え、1時間放置後、減圧濃縮し、得ら
れた残渣をクロロホルムで抽出し、クロロホルム溶液を
順次飽和重曹水(lOOmQ X 3)、5%重硫酸カ
リウム水(100mQX 2)、水(1,00mQX
3)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮乾固
して、固体として表題化合物(21)の1.885gを
得た。収率99.5%比旋光度:〔α弓2+32°(c
1. CHCl3)(ニ)5.2’−ジー0−ベンゾ
イル−4′、6ζ0−シクロへキシリデン−1,3,2
’、6′、3ξペンタ−N−1〜シル−5−エピジベカ
シン(化合物22)の製造 前項(ハ)で得た化合物(21)の1.62gを無水テ
トラヒドロフラン24 、3+++Qに溶解し、ジエチ
ルアゾジカルボキシレート(DEAD)の0.54mQ
、1−リフ x 二)’JホスフィンP(C,+15)
、の906mg、安息香酸の422mgを加え、50℃
で反応させた。1時間30分後、同地の試薬をそれぞれ
加え、室温に戻して反応させた。
3時間後、同社の試薬をそれぞれ加え50℃に昇温し、
5時間後、室温に戻して一晩反応させ、21時間後、同
量の試薬を夫々加え、室温にて反応させた(ミツノブ反
応)。92時間後、反応混合物を減圧列線し、得られた
シロップをクロロホルム300IaQに溶解し、順次飽
和重曹水(200mQX 3)、水(200mQ X
3)で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮乾
固した。得られた固体(9,68g)をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ワコーゲルC−200;この際
展開溶媒としては1−ルエンーアセトンを用いた)にて
試薬の除去、生成物の分離、精製を繰り返し0.95g
の表題化合物(22)を黄色固体として得た。収率54
.5% (ホ) 4’、6ζ0−シクロへキシリデン−1,3
,2’、6’。
5時間後、室温に戻して一晩反応させ、21時間後、同
量の試薬を夫々加え、室温にて反応させた(ミツノブ反
応)。92時間後、反応混合物を減圧列線し、得られた
シロップをクロロホルム300IaQに溶解し、順次飽
和重曹水(200mQX 3)、水(200mQ X
3)で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮乾
固した。得られた固体(9,68g)をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ワコーゲルC−200;この際
展開溶媒としては1−ルエンーアセトンを用いた)にて
試薬の除去、生成物の分離、精製を繰り返し0.95g
の表題化合物(22)を黄色固体として得た。収率54
.5% (ホ) 4’、6ζ0−シクロへキシリデン−1,3
,2’、6’。
3ζペンタ−N−トシル−5−エピジベカシン(化合物
23)の製造 前項(ニ)で得た化合物(22)、0.95 gにメタ
ノール19m+Qを加え(ゲル化する)、28%ナトリ
ウム・メトキシドのメタノール溶液0.1mQを加え5
0℃で反応させた(均一溶液になった)。この脱ベンゾ
イル反応を44時間行った後、減圧濃縮し、残渣に0.
25%重硫酸カリウム水20m(!を加え、得られた白
色沈殿を濾取、水洗後減圧乾燥し、0.83 gの表題
化合物(23)を白色固体として得た。収率は定量的。
23)の製造 前項(ニ)で得た化合物(22)、0.95 gにメタ
ノール19m+Qを加え(ゲル化する)、28%ナトリ
ウム・メトキシドのメタノール溶液0.1mQを加え5
0℃で反応させた(均一溶液になった)。この脱ベンゾ
イル反応を44時間行った後、減圧濃縮し、残渣に0.
25%重硫酸カリウム水20m(!を加え、得られた白
色沈殿を濾取、水洗後減圧乾燥し、0.83 gの表題
化合物(23)を白色固体として得た。収率は定量的。
(へ) 2ζ0−ベンゾイル−4’ 、 6”−0−シ
クロへキシリデン−1,3,2’、6’、3“−ペンタ
−N−トシル−5−エビジベカシン(化合物24)のf
fd造 前項(ホ)の生成化合物(23)の0.77 gを無水
ピリジン15.4n+Qに溶解し、O″CBt押押下塩
化ベンゾイル0.34mQ(化合物(23)に対して5
m01当量)を加えて反応した(2ζ0−ベンゾイル化
)。30分後、水0 、26+++Qを加え1時間後、
減圧濃縮し、残渣をクロロホルムloomQに溶解し、
飽和q(VJ水(50mu X 3)、5%重硫酸カリ
ウム水(50u+Qx 3)、水(50mQX 2)で
順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、a縮乾固し
て0.84 gの表題化合物(24)を固体として得た
。収率は定量的。
クロへキシリデン−1,3,2’、6’、3“−ペンタ
−N−トシル−5−エビジベカシン(化合物24)のf
fd造 前項(ホ)の生成化合物(23)の0.77 gを無水
ピリジン15.4n+Qに溶解し、O″CBt押押下塩
化ベンゾイル0.34mQ(化合物(23)に対して5
m01当量)を加えて反応した(2ζ0−ベンゾイル化
)。30分後、水0 、26+++Qを加え1時間後、
減圧濃縮し、残渣をクロロホルムloomQに溶解し、
飽和q(VJ水(50mu X 3)、5%重硫酸カリ
ウム水(50u+Qx 3)、水(50mQX 2)で
順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、a縮乾固し
て0.84 gの表題化合物(24)を固体として得た
。収率は定量的。
比旋光度:〔α〕ら3+29°(c 1. CHCl3
)災旌災土 (イ) 2ζ0−ベンゾイル−4“、6”−0−シクロ
へキシリデン−1,、3,2’、6’、3’−ペンタ−
N−トシル−5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン(
化合物25)の製造無水ベンゼン15.4mQに無水ピ
リジン0 、66m+2を加え、0℃攪攪拌フジエチル
アミノサルファートリフロライトDAST) 0.33
+nQ(化合物(24)に対して5モル当社)を加え、
さらに参考例4(へ)で得た化合物(24)の0.77
gを加えて室温、N2雰囲気下で反応させた。11時間
後反応液を水冷した飽和型ソウ水2f3m12にあけ、
混合物をクロロホルム80mQで抽出した。得られた有
機層を飽和型ソウ水(40mQ x 1)、5%重硫酸
カリウム水(25mΩ×3)、飽和型ソウ水(25mQ
x 2)、水(25mQX 3)で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、′a縮乾固すると、0.79
gの表題化合物(25)の固体を得た。収率は定量的
。
)災旌災土 (イ) 2ζ0−ベンゾイル−4“、6”−0−シクロ
へキシリデン−1,、3,2’、6’、3’−ペンタ−
N−トシル−5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン(
化合物25)の製造無水ベンゼン15.4mQに無水ピ
リジン0 、66m+2を加え、0℃攪攪拌フジエチル
アミノサルファートリフロライトDAST) 0.33
+nQ(化合物(24)に対して5モル当社)を加え、
さらに参考例4(へ)で得た化合物(24)の0.77
gを加えて室温、N2雰囲気下で反応させた。11時間
後反応液を水冷した飽和型ソウ水2f3m12にあけ、
混合物をクロロホルム80mQで抽出した。得られた有
機層を飽和型ソウ水(40mQ x 1)、5%重硫酸
カリウム水(25mΩ×3)、飽和型ソウ水(25mQ
x 2)、水(25mQX 3)で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、′a縮乾固すると、0.79
gの表題化合物(25)の固体を得た。収率は定量的
。
比旋光度:〔α〕も’ + 37’ (c 1 、CH
Cl3)(ロ)5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン
すなわち5.3’、4’−トリデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(本発明化合物Nα4)の製造 前項(イ)の化合物(25) 0.74gをメタノール
14.8mQに?盲片し、28%ナトリウム・メトキシ
ドのメタノール溶液0,55n+Qを加え、室温で反応
させた(脱ベンゾイル反応)。2時間後、メタノール飽
和したダウエックス50W X 2(H“型)4+nQ
と混合して中和し、レジンを濾去し、メタノールでレジ
ンを洗い出し、濾液と洗液を合わせて濃縮乾固し、0.
59gの淡黄色固体を得た(収率87%)。
Cl3)(ロ)5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン
すなわち5.3’、4’−トリデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(本発明化合物Nα4)の製造 前項(イ)の化合物(25) 0.74gをメタノール
14.8mQに?盲片し、28%ナトリウム・メトキシ
ドのメタノール溶液0,55n+Qを加え、室温で反応
させた(脱ベンゾイル反応)。2時間後、メタノール飽
和したダウエックス50W X 2(H“型)4+nQ
と混合して中和し、レジンを濾去し、メタノールでレジ
ンを洗い出し、濾液と洗液を合わせて濃縮乾固し、0.
59gの淡黄色固体を得た(収率87%)。
この脱ベンゾイル化された固体生成物の0.59 gに
80%酢酸水12mQを加えて80℃で反応させた(脱
シクロへキシリデン反応)。30分後、室温に戻し、濃
縮乾固して0.52.、の淡黄色固体を得た(収率93
%)。
80%酢酸水12mQを加えて80℃で反応させた(脱
シクロへキシリデン反応)。30分後、室温に戻し、濃
縮乾固して0.52.、の淡黄色固体を得た(収率93
%)。
この脱シクロへキシリデン化固体生成物の0.52gを
一50℃下液体アンモニアの約100mQに溶解し、激
しく攪拌しながら金属ナトリウム約500mgを加えて
脱1−シル化反応を行った。5分後、青色が消えるまで
メタノールを加え、室温に戻してアンモニアを蒸発させ
た後、減圧乾燥して脱トシル化生成物よりなる固体を得
た。この固体を水23mQに溶解し、ダウエックス50
W X 2(I(+型)25mQを混合して中和した。
一50℃下液体アンモニアの約100mQに溶解し、激
しく攪拌しながら金属ナトリウム約500mgを加えて
脱1−シル化反応を行った。5分後、青色が消えるまで
メタノールを加え、室温に戻してアンモニアを蒸発させ
た後、減圧乾燥して脱トシル化生成物よりなる固体を得
た。この固体を水23mQに溶解し、ダウエックス50
W X 2(I(+型)25mQを混合して中和した。
脱1〜シル化生成物を吸着、含有したこのレジンを同じ
レジンLOmQのカラムの上部に圓き、カラムを水洗後
、 INアンモニアで溶出し、ニンヒ1−リン陽性のフ
ラクションを合わせてJ2縮乾固した。得られた0、1
8 gの固体を水180℃葛に溶解し、い−セファデク
スC−25(NH4+型) 90muカラムに添加し、
カラムを水洗後、アンモニア水濃度を0.05Nから0
.2Nまで連続的に変化させながら溶出し、相当するフ
ラクションを合わせて濃縮乾固し、0.10gの表題の
本発明化合物Nα4を白色固体として得た(−炭酸塩二
−水温として収率46%)。化合物(25)からの収率
37.2%。
レジンLOmQのカラムの上部に圓き、カラムを水洗後
、 INアンモニアで溶出し、ニンヒ1−リン陽性のフ
ラクションを合わせてJ2縮乾固した。得られた0、1
8 gの固体を水180℃葛に溶解し、い−セファデク
スC−25(NH4+型) 90muカラムに添加し、
カラムを水洗後、アンモニア水濃度を0.05Nから0
.2Nまで連続的に変化させながら溶出し、相当するフ
ラクションを合わせて濃縮乾固し、0.10gの表題の
本発明化合物Nα4を白色固体として得た(−炭酸塩二
−水温として収率46%)。化合物(25)からの収率
37.2%。
比旋光度: 〔α〕も’+122°(C1,水)Jl−
NMR(250Mtlz、 20%NO,−D20.
TMS標準):51.55(dt 11−5 J、、、
F”51.511z +9,4=8.5又は9.5f
iz J、、、、=9.5又は8.511z)65.
01(d ll−1’ J工’ + z ”3 、81
(z)65.09(d ll−1’ J工’ +2 ’
=3.5Hz)夫度套l (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB(化合物Nα26)の製造 (但しZはベンジルオキシカルボニル基を示す、以下同
様) 5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB(実施例1
の本発明化合物Nα1)の炭酸塩30mgを無水ジメチ
ルスルホキシド0.3mgに懸濁させ、酢酸亜鉛・2水
和物61.4mgを加え、 80℃にて1時間攪拌した
。
NMR(250Mtlz、 20%NO,−D20.
TMS標準):51.55(dt 11−5 J、、、
F”51.511z +9,4=8.5又は9.5f
iz J、、、、=9.5又は8.511z)65.
01(d ll−1’ J工’ + z ”3 、81
(z)65.09(d ll−1’ J工’ +2 ’
=3.5Hz)夫度套l (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB(化合物Nα26)の製造 (但しZはベンジルオキシカルボニル基を示す、以下同
様) 5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB(実施例1
の本発明化合物Nα1)の炭酸塩30mgを無水ジメチ
ルスルホキシド0.3mgに懸濁させ、酢酸亜鉛・2水
和物61.4mgを加え、 80℃にて1時間攪拌した
。
得られた5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンBと
亜鉛カチオンとの錯体を含む均一溶液を室温まで冷却し
たのち、N−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)サク
シンイミド47.4mgを除々に加え、室温にて前記の
錯体に1時間反応せしめた(N−ベンジルオキシカルボ
ニル化反応)。反応液にエチルエーテルを加え、析出し
た固体のエチルエーテルによる洗浄を繰り返し、得られ
た固体を3規定アンモニア水にて洗浄を繰り返し、トベ
ンジルオキシ力ルボニル化された錯体から亜鉛カチオン
を除去したのち水洗し、乾燥して固体の表題化合物(2
6)の:38 m gを得た。
亜鉛カチオンとの錯体を含む均一溶液を室温まで冷却し
たのち、N−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)サク
シンイミド47.4mgを除々に加え、室温にて前記の
錯体に1時間反応せしめた(N−ベンジルオキシカルボ
ニル化反応)。反応液にエチルエーテルを加え、析出し
た固体のエチルエーテルによる洗浄を繰り返し、得られ
た固体を3規定アンモニア水にて洗浄を繰り返し、トベ
ンジルオキシ力ルボニル化された錯体から亜鉛カチオン
を除去したのち水洗し、乾燥して固体の表題化合物(2
6)の:38 m gを得た。
(ロ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル オロアセチルカナマイシンB(化合物27)の製造前項
(イ)で得られた化合物(26)の37mgを無水ジメ
チルスルホキシド0.19mMに溶解し1−リフルオロ
酢酸エチル0.0064m12を加え、得られた沈澱を
室温にて1時間反応せしめた(3′−N−トリフルオロ
アセチル化)。反応液にエチルエーテルを加え、エチル
エーテルによる洗浄を繰り返し、そして乾燥した後、表
題化合物(27)の4 2mgを固体として得た。
シカルボニル オロアセチルカナマイシンB(化合物27)の製造前項
(イ)で得られた化合物(26)の37mgを無水ジメ
チルスルホキシド0.19mMに溶解し1−リフルオロ
酢酸エチル0.0064m12を加え、得られた沈澱を
室温にて1時間反応せしめた(3′−N−トリフルオロ
アセチル化)。反応液にエチルエーテルを加え、エチル
エーテルによる洗浄を繰り返し、そして乾燥した後、表
題化合物(27)の4 2mgを固体として得た。
(ハ) 3. 2’,6’−1〜リス(N−ベンジル
オキシカルボニル)−L−N−(3−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル
〕−5−デオキシ−5−フルオロ−3’−N− トリフ
ルオロアセチルカナマイシンB(化合物28)の製造 前項(口)で生成した化合物(27)の46mgをテ1
〜うヒl’コフランー水(1,:I)の混液1.4mf
fに溶解させ炭酸すI〜ツリウム 、 OmHを加えた
のち、3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(S
)−ヒドロキシプロピオン酸のN−ヒドロキシサクシン
イミドエステル19mgをテトラヒドロフラン0.68
+n+Qに溶解して加えた。
オキシカルボニル)−L−N−(3−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル
〕−5−デオキシ−5−フルオロ−3’−N− トリフ
ルオロアセチルカナマイシンB(化合物28)の製造 前項(口)で生成した化合物(27)の46mgをテ1
〜うヒl’コフランー水(1,:I)の混液1.4mf
fに溶解させ炭酸すI〜ツリウム 、 OmHを加えた
のち、3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(S
)−ヒドロキシプロピオン酸のN−ヒドロキシサクシン
イミドエステル19mgをテトラヒドロフラン0.68
+n+Qに溶解して加えた。
室i1Aにて1時間反応させた(1−N−アシル化)。
その後反応液を製綿し残渣を水洗し、乾燥後、エチルエ
ーテルにて洗浄し、固体として表題化合物(28)の5
0.2mgを得た。
ーテルにて洗浄し、固体として表題化合物(28)の5
0.2mgを得た。
(ニ) 1−N−[3−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシプロピオニルツー5−デオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(本発明化合物Nα5)の製造 前項(ハ)で得た化合物(28)の50mgを2規定ア
ンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液3.
5mQに溶解させ28℃にて1晩反応させ、36N−1
−リフルオロアセチル基の脱離を行なった。その後、反
応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水−酢酸(
4:、1:1)の混液2.5mQに溶解し、パラジウム
黒を触媒として室温にて水素ガスで1時間接触還元を行
ない、N−ベンジルオキシカルボニル基を脱離した。
キシプロピオニルツー5−デオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(本発明化合物Nα5)の製造 前項(ハ)で得た化合物(28)の50mgを2規定ア
ンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液3.
5mQに溶解させ28℃にて1晩反応させ、36N−1
−リフルオロアセチル基の脱離を行なった。その後、反
応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水−酢酸(
4:、1:1)の混液2.5mQに溶解し、パラジウム
黒を触媒として室温にて水素ガスで1時間接触還元を行
ない、N−ベンジルオキシカルボニル基を脱離した。
反応液を濾過後、濾液を濃縮して得られた固体を水に溶
解し、CM−セファデックスC−25のカラムでアンモ
ニア水(0→0.5規定)にて展開し目的化合物を含む
部分を集めて濃縮し1表題の本発明化合物Na 5の固
体17.4mgを得た。
解し、CM−セファデックスC−25のカラムでアンモ
ニア水(0→0.5規定)にて展開し目的化合物を含む
部分を集めて濃縮し1表題の本発明化合物Na 5の固
体17.4mgを得た。
比旋光度:〔α):3+a3°(cl、水)支■
(イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−1−N−〔4−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシブチリル〕−5−
デオキシ−5−フルオロ−3″’−N−トリフルオロア
セチルカナマイシンB(化合物29)の製造 実施例5(ロ)で得られた化合物(27)の42mgを
テトラヒドロフラン−水(1:1)の混液1 、25n
+Qに溶解し、炭酸ナトリウム3.6o+gを加えたの
ち、4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(S)
−ヒドロキシ酪酸のN−ヒトロキシサクシンイミドエス
テル16.3mgをテトラヒドロフラン0.624mQ
に溶解して加えた。
シカルボニル)−1−N−〔4−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシブチリル〕−5−
デオキシ−5−フルオロ−3″’−N−トリフルオロア
セチルカナマイシンB(化合物29)の製造 実施例5(ロ)で得られた化合物(27)の42mgを
テトラヒドロフラン−水(1:1)の混液1 、25n
+Qに溶解し、炭酸ナトリウム3.6o+gを加えたの
ち、4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(S)
−ヒドロキシ酪酸のN−ヒトロキシサクシンイミドエス
テル16.3mgをテトラヒドロフラン0.624mQ
に溶解して加えた。
室温にて2時間後さらに上記活性エステル6mgをテト
ラヒドロフラン0.23mQに溶解して加えた。室温に
て3時間反応させた(1−N−アシル化)。その後、反
応液を濃縮し、残渣を水洗し、乾燥したのち、エチルエ
ーテルにて洗浄し乾燥して表題化合物(29)の45.
3mgを得た。
ラヒドロフラン0.23mQに溶解して加えた。室温に
て3時間反応させた(1−N−アシル化)。その後、反
応液を濃縮し、残渣を水洗し、乾燥したのち、エチルエ
ーテルにて洗浄し乾燥して表題化合物(29)の45.
3mgを得た。
(ロ) 1−N−[4−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシブチリル〕−5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB(本発明化合物Nα6)の製造 前項(イ)の生成した化合物(29)の59.4[II
gを2規定アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3
)の混液4.15mQに溶解し、28℃にて1晩攪拌反
応させ3“−N−トリフルオロアセチル基の脱離を行な
った。反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水
−酢酸(4:1.:L)の混液3mQに溶解し、パラジ
ウム黒を触媒として室温にて30分接触還元してN−ベ
ンジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾
過後、濾液をa縮して得られた固体を水に溶解しCM−
セファデックスC−25のカラムでアンモニア水(0→
0.5規定)にて展開し、目的化合物を含む部分を集め
て濃縮し、無色固体として表題の本発明化合物Nu 6
の15.7Bを得た。
キシブチリル〕−5−デオキシ−5−フルオロカナマイ
シンB(本発明化合物Nα6)の製造 前項(イ)の生成した化合物(29)の59.4[II
gを2規定アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3
)の混液4.15mQに溶解し、28℃にて1晩攪拌反
応させ3“−N−トリフルオロアセチル基の脱離を行な
った。反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水
−酢酸(4:1.:L)の混液3mQに溶解し、パラジ
ウム黒を触媒として室温にて30分接触還元してN−ベ
ンジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾
過後、濾液をa縮して得られた固体を水に溶解しCM−
セファデックスC−25のカラムでアンモニア水(0→
0.5規定)にて展開し、目的化合物を含む部分を集め
て濃縮し、無色固体として表題の本発明化合物Nu 6
の15.7Bを得た。
比旋光度: 〔α)’D3+ 85°(c 1.0.水
)JI NMRスペクトル(コ)(塩酸水中、3−(ト
リメチルシリル)プロピオン酸す1ヘリウム塩−d4内
部標準): δ4.90(IHdt I+−5) 65.14(I
Hd t+−1“又はI+−1’)δ5,76(IHd
I+−1’又は+1−1’)”F NMRスペク1−
ル(型温酸水中、トリクロロフルオロメタン外部標準)
−190,07ppm(dt)失IL卸ヱ (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロトブラマ
イシン(化合物30)の製造 5−デオキシ−5−フルオロトブラマイシン(本発明化
合物Nα2)の炭酸塩31mgを無水ジメチルスルホキ
シド0.31mgに懸濁させ、酢酸亜鉛・2水和物67
mgを加え、80℃にて1.5時間攪拌させて得られた
均一溶液を室温まで冷却したのち、N−(ベンジルオキ
シカルボニルオキシ)サクシンイミド49mgを除々に
加え、室温にて1時間反応せしめた(N−ベンジルオキ
シカルボニル化)。反応液にエチルエーテルを加え、エ
チルエーテルによる洗浄を繰り返し、得られた固体を3
規定アンモニア水にて洗浄を繰り返し行い、亜鉛カチオ
ンを除去したのち水洗し、表題化合物(30)の48m
gを得た。
)JI NMRスペクトル(コ)(塩酸水中、3−(ト
リメチルシリル)プロピオン酸す1ヘリウム塩−d4内
部標準): δ4.90(IHdt I+−5) 65.14(I
Hd t+−1“又はI+−1’)δ5,76(IHd
I+−1’又は+1−1’)”F NMRスペク1−
ル(型温酸水中、トリクロロフルオロメタン外部標準)
−190,07ppm(dt)失IL卸ヱ (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロトブラマ
イシン(化合物30)の製造 5−デオキシ−5−フルオロトブラマイシン(本発明化
合物Nα2)の炭酸塩31mgを無水ジメチルスルホキ
シド0.31mgに懸濁させ、酢酸亜鉛・2水和物67
mgを加え、80℃にて1.5時間攪拌させて得られた
均一溶液を室温まで冷却したのち、N−(ベンジルオキ
シカルボニルオキシ)サクシンイミド49mgを除々に
加え、室温にて1時間反応せしめた(N−ベンジルオキ
シカルボニル化)。反応液にエチルエーテルを加え、エ
チルエーテルによる洗浄を繰り返し、得られた固体を3
規定アンモニア水にて洗浄を繰り返し行い、亜鉛カチオ
ンを除去したのち水洗し、表題化合物(30)の48m
gを得た。
(ロ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル オロアセチルトブラマイシン(化合物31)の製造前項
(イ)の化合物(30)の47弓を無水ジメチルスルホ
キシド0.24+mQに溶解し、トリフルオロ酢酸エチ
ル0.0034+nQを加え、室温にて1時間反応せし
めた(3ζN−トリフルオロアセチル化)。反応液にエ
チルエーテルを加え、析出した固体のエチルエーテルに
よる洗浄を繰り返し行ない表題化合物(31)の53m
銹を得た。
シカルボニル オロアセチルトブラマイシン(化合物31)の製造前項
(イ)の化合物(30)の47弓を無水ジメチルスルホ
キシド0.24+mQに溶解し、トリフルオロ酢酸エチ
ル0.0034+nQを加え、室温にて1時間反応せし
めた(3ζN−トリフルオロアセチル化)。反応液にエ
チルエーテルを加え、析出した固体のエチルエーテルに
よる洗浄を繰り返し行ない表題化合物(31)の53m
銹を得た。
(ハ) 3. 2’,6’−トリス(N−ベンジルオ
キシカルボニル)−1−N−C3−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−(RS)−ヒドロキシプロピオニル
〕−3“−N−トリフルオロアセチル−5−デオキシ−
5−フルオロ−トブラマイシン(化合物32)の製造 前項(口)で得られた3. 2’,6’−トリス(N−
ベンジルオキシカルボニル ル−5−デオキシ−5−フルオロ−トブラマイシン(化
合物31)の56mgをテトラヒドロフラン−水(1:
1)の混液1。67mQに溶解し、炭酸ナトリウム4
、 8mgを加えたのち、3−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−2−(RS)−ヒドロキシプロピオン酸のN
−ヒドロキシサクシンイミドエステル24mgをテトラ
ヒドロフラン0 、 83mQに溶解して加えた。室温
にて1時間反応させた(1−N−アシル化反応)。その
後反応液を濃縮し。
キシカルボニル)−1−N−C3−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−(RS)−ヒドロキシプロピオニル
〕−3“−N−トリフルオロアセチル−5−デオキシ−
5−フルオロ−トブラマイシン(化合物32)の製造 前項(口)で得られた3. 2’,6’−トリス(N−
ベンジルオキシカルボニル ル−5−デオキシ−5−フルオロ−トブラマイシン(化
合物31)の56mgをテトラヒドロフラン−水(1:
1)の混液1。67mQに溶解し、炭酸ナトリウム4
、 8mgを加えたのち、3−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−2−(RS)−ヒドロキシプロピオン酸のN
−ヒドロキシサクシンイミドエステル24mgをテトラ
ヒドロフラン0 、 83mQに溶解して加えた。室温
にて1時間反応させた(1−N−アシル化反応)。その
後反応液を濃縮し。
残渣を水洗し乾燥したのちエチルエーテルにて洗浄し、
表題化合物(32)の63Bを得た。
表題化合物(32)の63Bを得た。
(ニ) 1−N−(3−アミノ−2−(R3)−ヒド
ロキシプロピオニル〕−5−デオキシ−5−フルオロト
ブラマイシン(本発明化合物Nα7)の製造 前項(ハ)で得た化合物(32)の62mgを2規定ア
ンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液4.
4mQに溶解し、28°Cにて1晩反応させ、3″’−
N−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。そのの
ち1反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−酢酸
−水(4:1:l)の混液3 、 OmUに溶解し、パ
ラジウム黒を触媒として室温にて水素で1時間接触還元
してN−ベンジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。
ロキシプロピオニル〕−5−デオキシ−5−フルオロト
ブラマイシン(本発明化合物Nα7)の製造 前項(ハ)で得た化合物(32)の62mgを2規定ア
ンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液4.
4mQに溶解し、28°Cにて1晩反応させ、3″’−
N−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。そのの
ち1反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−酢酸
−水(4:1:l)の混液3 、 OmUに溶解し、パ
ラジウム黒を触媒として室温にて水素で1時間接触還元
してN−ベンジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。
反応液を濾過後、濾液を濃縮して得られた固体を水に溶
解し、い−セファデックスC−25のカラムでアンモニ
ア水(0→0.5規定)にて展開し、目的化合物を含む
部分を集めてa縮し、表題の本発明化合物Na 7の2
2.bngを得た。
解し、い−セファデックスC−25のカラムでアンモニ
ア水(0→0.5規定)にて展開し、目的化合物を含む
部分を集めてa縮し、表題の本発明化合物Na 7の2
2.bngを得た。
比旋光度:〔α〕も3+75°(C1,水)災庭皿旦
(イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−1−N−[3−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル]−
3ξN−トリフルオロアセチル−5−デオキシ−5−フ
ルオロトブラマイシン(化合物33)の製造 し11 実施例7(ロ)で得られた化合物(31)の47mgを
テトラヒドロフラン−水(1:1)の混液1.4m(1
に溶解し、炭酸ナトリウム4 、0mgを加えたのち、
3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(S)−ヒ
ドロキシプロピオン酸のN−ヒドロキシサクシンイミド
エステル20mgをテトラヒドロフラン0.1mQに溶
解して加えた。室温にて1時間後反応液を濃縮し残渣を
水洗し乾燥したのちエチルエーテルにて洗浄し、表題化
合物(33)の52mgを得た。
シカルボニル)−1−N−[3−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル]−
3ξN−トリフルオロアセチル−5−デオキシ−5−フ
ルオロトブラマイシン(化合物33)の製造 し11 実施例7(ロ)で得られた化合物(31)の47mgを
テトラヒドロフラン−水(1:1)の混液1.4m(1
に溶解し、炭酸ナトリウム4 、0mgを加えたのち、
3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(S)−ヒ
ドロキシプロピオン酸のN−ヒドロキシサクシンイミド
エステル20mgをテトラヒドロフラン0.1mQに溶
解して加えた。室温にて1時間後反応液を濃縮し残渣を
水洗し乾燥したのちエチルエーテルにて洗浄し、表題化
合物(33)の52mgを得た。
(ロ) 1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシプロピオニル〕−5−デオキシ−5−フルオロトブ
ラマイシン(本発明化合物Nα8)の製造 H 前項(イ)の生成した化合物(33)の52畦を2規定
アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液3
.7+nlに溶解させ28℃にて1晩反応させ、3 ”
−N−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。そ
の後、反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−酢
酸−水(4:l:1)の混液2.5m(lに溶解し、パ
ラジウム黒を触媒として室温にて水素で1時間接触還元
してN−ベンジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。
キシプロピオニル〕−5−デオキシ−5−フルオロトブ
ラマイシン(本発明化合物Nα8)の製造 H 前項(イ)の生成した化合物(33)の52畦を2規定
アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液3
.7+nlに溶解させ28℃にて1晩反応させ、3 ”
−N−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。そ
の後、反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−酢
酸−水(4:l:1)の混液2.5m(lに溶解し、パ
ラジウム黒を触媒として室温にて水素で1時間接触還元
してN−ベンジルオキシカルボニル基を脱離せしめた。
反応液を濾過後、濾液を濃縮して得られた固体を水に溶
解し、側−セファデックスC−25のカラムでアンモニ
ア水(0→0.5規定)にて展開し、目的化合物を含む
部分を集めて濃縮し、表題の本発明化合物Ha 8の1
8.2mgを得た。
解し、側−セファデックスC−25のカラムでアンモニ
ア水(0→0.5規定)にて展開し、目的化合物を含む
部分を集めて濃縮し、表題の本発明化合物Ha 8の1
8.2mgを得た。
比旋光度:〔α〕♂3+79°(cl、水)失凰災旦
3、2’、6’−トリス(N−ベンジルオキシカルボニ
ル)−L−N−(4−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−2−(S)−ヒドロキシブチリル〕−5−デオキシ−
5−フルオロ−3ξN−トリフルオロアセチルトブラマ
イシン(化合物34)の製造 実施例7(ロ)で1!)られた化合物(31)の52m
εをテトラヒドロフラン−水(1:l)の混液1 、5
5mQに溶解し、炭酸すトリウム4.5m)<を加えた
のち、(S)−4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
2−(S)−ヒドロキシ酪酸のN−ヒドロキシサクシン
イミドエステル22.5mLをテ1−ラヒドロフラン0
.78社に溶解して加えた。
ル)−L−N−(4−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−2−(S)−ヒドロキシブチリル〕−5−デオキシ−
5−フルオロ−3ξN−トリフルオロアセチルトブラマ
イシン(化合物34)の製造 実施例7(ロ)で1!)られた化合物(31)の52m
εをテトラヒドロフラン−水(1:l)の混液1 、5
5mQに溶解し、炭酸すトリウム4.5m)<を加えた
のち、(S)−4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
2−(S)−ヒドロキシ酪酸のN−ヒドロキシサクシン
イミドエステル22.5mLをテ1−ラヒドロフラン0
.78社に溶解して加えた。
室温にて2時間後さらに上記エステル1.9mgをテト
ラヒドロフラン0.065mQに溶解したものを加えた
。
ラヒドロフラン0.065mQに溶解したものを加えた
。
3時間反応させた(1−N−アシル化反応)。その後、
反応液を濃縮し、残渣を水洗し乾燥したのち、エチルエ
ーテルにて洗浄し1表題化合物(34)の59mgを1
1?た。
反応液を濃縮し、残渣を水洗し乾燥したのち、エチルエ
ーテルにて洗浄し1表題化合物(34)の59mgを1
1?た。
(ロ) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシブチリル〕−5−デオキシ−5−フルオロトブラマ
イシン(本発明化合物Nα9)の製造 前項(イ)で得られた化合物(34)の59+ngを2
規定アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混
液4 、3mQに溶解させ28℃にて1晩反応させ3’
−N−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。その
のち。
キシブチリル〕−5−デオキシ−5−フルオロトブラマ
イシン(本発明化合物Nα9)の製造 前項(イ)で得られた化合物(34)の59+ngを2
規定アンモニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混
液4 、3mQに溶解させ28℃にて1晩反応させ3’
−N−トリフルオロアセチル基の脱離を行なった。その
のち。
反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水−酢酸
(4:1:1)の混液3+nQに溶解し、パラジウム黒
を触媒として室温にて1時間接触還元してN−ベンジル
オキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾過後、
濾液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、CM−セフ
ァデックスC−25のカラムでアンモニア水(0→0.
5規定)にて展開し目的化合物を含む部分を集めて濃縮
し、無色固体として表題の本発明化合物Nα9の21.
2mgを得た。
(4:1:1)の混液3+nQに溶解し、パラジウム黒
を触媒として室温にて1時間接触還元してN−ベンジル
オキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾過後、
濾液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、CM−セフ
ァデックスC−25のカラムでアンモニア水(0→0.
5規定)にて展開し目的化合物を含む部分を集めて濃縮
し、無色固体として表題の本発明化合物Nα9の21.
2mgを得た。
比旋光度:〔α〕♂1+77°(c 3.0.水)ゝ1
+ NMRスペクトル(亜塩酸水中、3−(トリメチル
シリル)プロピオン酸ナトリウム塩−d4内部標準): 54.02(ill dt 14−5) 65.17
(Ill d 1l−1’又はH−1’)δ5.64(
ill d H−1’又はH−1’)失速−凱烈 (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル B(化合物35)の製造 9、4′−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシンB(
本発明化合物Nα3)の炭酸塩46.5mgを無水ジメ
チルX /L/ホキシト0.41rnQにl!t ?I
Iaさせ、酢酸亜鉛・2水和物100mgを加え80″
Cにて1.5時間攪拌させた。
+ NMRスペクトル(亜塩酸水中、3−(トリメチル
シリル)プロピオン酸ナトリウム塩−d4内部標準): 54.02(ill dt 14−5) 65.17
(Ill d 1l−1’又はH−1’)δ5.64(
ill d H−1’又はH−1’)失速−凱烈 (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル B(化合物35)の製造 9、4′−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシンB(
本発明化合物Nα3)の炭酸塩46.5mgを無水ジメ
チルX /L/ホキシト0.41rnQにl!t ?I
Iaさせ、酢酸亜鉛・2水和物100mgを加え80″
Cにて1.5時間攪拌させた。
得られた!I!釦錯体を含む均一溶液を室温まで冷却し
たのち、N−(ベンジルオキシカルボニルサンシンイミ
F73.5mgを除々に加え、室温にて1時間反応せし
めた(ベンジルオキシカルボニル基によるアミノ保護反
応)。反応液にエチルエーテルを加えると、N−ベンジ
ルオキシカルボニル化された亜鉛錯体よりなる固体を析
出させた。この固体をエチルエーテルにて繰り返し洗浄
を行なった。
たのち、N−(ベンジルオキシカルボニルサンシンイミ
F73.5mgを除々に加え、室温にて1時間反応せし
めた(ベンジルオキシカルボニル基によるアミノ保護反
応)。反応液にエチルエーテルを加えると、N−ベンジ
ルオキシカルボニル化された亜鉛錯体よりなる固体を析
出させた。この固体をエチルエーテルにて繰り返し洗浄
を行なった。
得られた固体を3規定アンモニア水にて洗浄を繰り返し
行ない、これによって、N−ベンジルオキシカルボニル
化された亜鉛錯体から亜鉛カチオンを除去したのち、得
られた固体生成物を水洗し、乾燥して表題化合物(35
)の70mgを得た。
行ない、これによって、N−ベンジルオキシカルボニル
化された亜鉛錯体から亜鉛カチオンを除去したのち、得
られた固体生成物を水洗し、乾燥して表題化合物(35
)の70mgを得た。
(口) 3. 2’,6’−トリス(N−ベンジルオ
キシカルボニル)−3’−N− 1−リフルオロアセチ
ル−5,4′−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシン
B(化合物36)の製1′I;1項(イ)の化合物(3
5)の65Bを無水ジメチルスルホキシド0.325m
Qに溶解し、トリフルオロ酢酸エチル0.0116mΩ
を加え室温にて1時間反応せしめた。反応液にエチルエ
ーテルを加えて固体を析出させ、これをエチルエーテル
による洗浄を繰り返し行ない表題化合物(36)の72
mgを得た。
キシカルボニル)−3’−N− 1−リフルオロアセチ
ル−5,4′−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシン
B(化合物36)の製1′I;1項(イ)の化合物(3
5)の65Bを無水ジメチルスルホキシド0.325m
Qに溶解し、トリフルオロ酢酸エチル0.0116mΩ
を加え室温にて1時間反応せしめた。反応液にエチルエ
ーテルを加えて固体を析出させ、これをエチルエーテル
による洗浄を繰り返し行ない表題化合物(36)の72
mgを得た。
(ハ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−1−N−[4−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2− (S)−ヒドロキシブチリル]−3
ζN−トリフルオロアセチル−5,4′−ジデオキシ−
5−フルオロカナマイシンB(化合物37)の製造 前項(口)の化合物(36)の70mgをテトラヒドロ
フラン−水(1:1)の混液2.09mQに溶解し、炭
酸ナトリウム2.0mgを加えたのち、 (S)−4−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ酪酸
のN−ヒドロキシサクシンイミドエステル30.3mg
をテトラヒドロフラン1 、 05mQに溶解して加え
た。室温にて2時間後(S)−4−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−ヒドロキシ醋酸のN−ヒドロキシサ
クシンイミトエステル2 、 5mgをテトラヒドロフ
ラン0.0087m12に溶解したものを加えた。3時
間反応させた(1−N−アシル化反応)。その後反応液
を濃縮し、残渣を水洗し乾燥したのち、エチルエーテル
にて洗浄し表題化合物(37)の76Bを得た。
シカルボニル)−1−N−[4−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2− (S)−ヒドロキシブチリル]−3
ζN−トリフルオロアセチル−5,4′−ジデオキシ−
5−フルオロカナマイシンB(化合物37)の製造 前項(口)の化合物(36)の70mgをテトラヒドロ
フラン−水(1:1)の混液2.09mQに溶解し、炭
酸ナトリウム2.0mgを加えたのち、 (S)−4−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ酪酸
のN−ヒドロキシサクシンイミドエステル30.3mg
をテトラヒドロフラン1 、 05mQに溶解して加え
た。室温にて2時間後(S)−4−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−2−ヒドロキシ醋酸のN−ヒドロキシサ
クシンイミトエステル2 、 5mgをテトラヒドロフ
ラン0.0087m12に溶解したものを加えた。3時
間反応させた(1−N−アシル化反応)。その後反応液
を濃縮し、残渣を水洗し乾燥したのち、エチルエーテル
にて洗浄し表題化合物(37)の76Bを得た。
(二) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシブチリル〕−5.4’−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(本発明化合物Nα10)の製造 前項(ハ)の化合物(37)の63+ngを2規定アン
モニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液4.6
mQに溶解させ28℃にて1晩反応させ、3’−N−
トリフルオロアセチル基の脱離を行なった.そののち、
反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水−酢酸
(4:l:1)の混液3.2mQに溶解しパラジウム黒
を触媒として室温にて1時間接触還元してN−ベンジル
オキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾過後渡
液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、CM−セファ
デックスC−25のカラムにチャージし、アンモニア水
(0→0.5規定)にて展開溶出し、目的化合物を含む
部分を集めて濃縮し、表題の本発明化合物NalOの2
2.9Bを得た。
キシブチリル〕−5.4’−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(本発明化合物Nα10)の製造 前項(ハ)の化合物(37)の63+ngを2規定アン
モニア水−テトラヒドロフラン(4:3)の混液4.6
mQに溶解させ28℃にて1晩反応させ、3’−N−
トリフルオロアセチル基の脱離を行なった.そののち、
反応液を濃縮して得られた固体をジオキサン−水−酢酸
(4:l:1)の混液3.2mQに溶解しパラジウム黒
を触媒として室温にて1時間接触還元してN−ベンジル
オキシカルボニル基を脱離せしめた。反応液を濾過後渡
液を濃縮して得られた固体を水に溶解し、CM−セファ
デックスC−25のカラムにチャージし、アンモニア水
(0→0.5規定)にて展開溶出し、目的化合物を含む
部分を集めて濃縮し、表題の本発明化合物NalOの2
2.9Bを得た。
比旋光度:[α〕ら5+82°(cl,水)尖血斑旦
(イ) 3. 2’,6’−トリス(N−ベンジルオ
キシカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロジベ力
シン(化合物38)の製造 実施例4で得られた5−デオキシ−5−フルオロジベ力
シンの50.7mgに無水DMSO 0.5+nRを加
え、酢酸亜鉛2水塩97mg(4.5モル当量)を加え
,N2雰囲気下に室温で一晩攪拌した。得られた均一溶
液にN−ペンジルオキシ力ルポニルオキシスクシンイミ
1へ73、5mgを少しづつ加えた。2時間30分後、
再びN−ベンジルオキシカルボニルオキシスクシンイミ
ド7、4Bを加えた。5時間反応後,反応液にエチルエ
ーテルを加え、析出した沈殿をエーテルでくりかえし洗
浄し、得られた白色粉末を3N−アンモニア水で順次洗
浄し、減圧乾燥後、84.8mgの表題化合物(38)
の固体を得た。収率は定置的。
キシカルボニル)−5−デオキシ−5−フルオロジベ力
シン(化合物38)の製造 実施例4で得られた5−デオキシ−5−フルオロジベ力
シンの50.7mgに無水DMSO 0.5+nRを加
え、酢酸亜鉛2水塩97mg(4.5モル当量)を加え
,N2雰囲気下に室温で一晩攪拌した。得られた均一溶
液にN−ペンジルオキシ力ルポニルオキシスクシンイミ
1へ73、5mgを少しづつ加えた。2時間30分後、
再びN−ベンジルオキシカルボニルオキシスクシンイミ
ド7、4Bを加えた。5時間反応後,反応液にエチルエ
ーテルを加え、析出した沈殿をエーテルでくりかえし洗
浄し、得られた白色粉末を3N−アンモニア水で順次洗
浄し、減圧乾燥後、84.8mgの表題化合物(38)
の固体を得た。収率は定置的。
(口) 3. 2’,6’−トリス(N−ベンジルオ
キシカルボニル)−3ζN−トリフルオロアセチル−5
−デオキシ−5−フルオロジベ力シン(化合物39)の
製造前項(イ)の化合物(38) 84 、 8mgを
無水DMF1.7m12に溶解し、エチル トリフルオ
ロアセテート18μQを加え室温で反応させた。2時間
後エチル トリフルオロアセテート12μQを加えた。
キシカルボニル)−3ζN−トリフルオロアセチル−5
−デオキシ−5−フルオロジベ力シン(化合物39)の
製造前項(イ)の化合物(38) 84 、 8mgを
無水DMF1.7m12に溶解し、エチル トリフルオ
ロアセテート18μQを加え室温で反応させた。2時間
後エチル トリフルオロアセテート12μQを加えた。
4時間反応後、反応液を減圧濃縮し、残渣をエーテル洗
浄した後。
浄した後。
減圧乾燥して表題化合物(39)の固体の93.4mg
を得た。収率99%。
を得た。収率99%。
(ハ) 3. 2’,6’−トリス(N−ベンジルオ
キシカルボニル)−1.−N−(3−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−2− (RS)−ヒドロキシプロピオ
ニル)−3’−N− トリフルオロアでチル−5−デオ
キシ−5−フルオ口ジベ力シン(化合物40)の製造 前項(ロ)の化合物(39) 100mgをテトラヒ]
・ロフランl 、 5n+Qに溶解し、炭酸ナトリウム
8 、9mgの水1.5mQi容液を加え、(R5)−
3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ
プロピオン酸のN−ヒドロキシサクシンイミドの活性エ
ステル46Bをテトラヒドロフラン1 、5n+Q¥S
液としたものを加えて、室温で反応させた(1−N−ア
シル化反応)。1時間反応後、反応液を減圧濃縮し、残
渣を水洗後、減圧乾燥した。さらに、エーテル洗浄を行
ない、減圧乾燥した後、表題化合物(40)の固体11
7mgを得た。
キシカルボニル)−1.−N−(3−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−2− (RS)−ヒドロキシプロピオ
ニル)−3’−N− トリフルオロアでチル−5−デオ
キシ−5−フルオ口ジベ力シン(化合物40)の製造 前項(ロ)の化合物(39) 100mgをテトラヒ]
・ロフランl 、 5n+Qに溶解し、炭酸ナトリウム
8 、9mgの水1.5mQi容液を加え、(R5)−
3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ
プロピオン酸のN−ヒドロキシサクシンイミドの活性エ
ステル46Bをテトラヒドロフラン1 、5n+Q¥S
液としたものを加えて、室温で反応させた(1−N−ア
シル化反応)。1時間反応後、反応液を減圧濃縮し、残
渣を水洗後、減圧乾燥した。さらに、エーテル洗浄を行
ない、減圧乾燥した後、表題化合物(40)の固体11
7mgを得た。
収率95%。
(ニ) 1−N−(3−7ミ/−2−(R5)−ヒド
ロキシプロピオニル〕〜5−デオキシ−5−フルオロジ
ベ力シン(本発明化合物Nα11)の製造 前項(ハ)の化合物(40)の1.17Bにテトラ上1
−ロフラン4.7mfl、2.5N−アンモニア水3.
5mQを加え室温で反応させた。24時間反応後に減圧
濃縮し、115mgの脱トリフルオロアセチル体を得た
。この脱トリフルオロアセチル体]、15mgにジオキ
サン−酢酸−水(4:1:1)8dを加え、水に懸濁さ
せたバラソウ11黒を加えて9.’i°圧で水素を吹込
んだ。2時1?U還元後、パラジウム黒を濾去し、触媒
を水洗して濾液と洗液を合わせて減圧濃縮した。得られ
た脱ベンジルオキシカルボニル化生成物の固体9]、B
を水45.4mQにl4解し、CM−セファデックスC
−25(NH4+型)20mQに添加後、カラムを水洗
し、0.05Nから0.1.5Nまでアンモニア濃度を
連続的に変化させながら溶出した。目的物質を含むフラ
クションを合わせ、減圧濃縮して表題の本発明化合物N
n ]、 0の固体の37鮎を得た(−炭酸・−水塩と
して収率60%)。
ロキシプロピオニル〕〜5−デオキシ−5−フルオロジ
ベ力シン(本発明化合物Nα11)の製造 前項(ハ)の化合物(40)の1.17Bにテトラ上1
−ロフラン4.7mfl、2.5N−アンモニア水3.
5mQを加え室温で反応させた。24時間反応後に減圧
濃縮し、115mgの脱トリフルオロアセチル体を得た
。この脱トリフルオロアセチル体]、15mgにジオキ
サン−酢酸−水(4:1:1)8dを加え、水に懸濁さ
せたバラソウ11黒を加えて9.’i°圧で水素を吹込
んだ。2時1?U還元後、パラジウム黒を濾去し、触媒
を水洗して濾液と洗液を合わせて減圧濃縮した。得られ
た脱ベンジルオキシカルボニル化生成物の固体9]、B
を水45.4mQにl4解し、CM−セファデックスC
−25(NH4+型)20mQに添加後、カラムを水洗
し、0.05Nから0.1.5Nまでアンモニア濃度を
連続的に変化させながら溶出した。目的物質を含むフラ
クションを合わせ、減圧濃縮して表題の本発明化合物N
n ]、 0の固体の37鮎を得た(−炭酸・−水塩と
して収率60%)。
比施光度:〔α〕ちゝ+82°(cl、水)3冬ξ、b
((イタl−27 (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−1−N−(3−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル〕−
3“−N−l−リフルオロアセチル−5−デオキシ−5
−フルオロジベ力シン(化合物41)の製造 実施例+−1(ロ)で得た化合物(39)の100mg
をテトラヒドロフラン1.5mQに溶解し、炭酸ナトリ
ウム8Jmgを含む水] 、 5mQ溶液を加え、3−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(S)−ヒドロ
キシプロピオン酸のN−ヒドロキシサクシンイミドの活
性エステル46mgをテトラヒドロフラン1.5mR4
液としたものを加え、室温で反応させた(1−N−アシ
ル化)。2時間反応後、減圧濃縮し、残渣を水洗後、減
圧乾燥した。これをさらにエーテルで洗い、減圧乾燥し
て表題化合物(41)の固体の118mgを得た。収率
96%。
((イタl−27 (イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−1−N−(3−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル〕−
3“−N−l−リフルオロアセチル−5−デオキシ−5
−フルオロジベ力シン(化合物41)の製造 実施例+−1(ロ)で得た化合物(39)の100mg
をテトラヒドロフラン1.5mQに溶解し、炭酸ナトリ
ウム8Jmgを含む水] 、 5mQ溶液を加え、3−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−(S)−ヒドロ
キシプロピオン酸のN−ヒドロキシサクシンイミドの活
性エステル46mgをテトラヒドロフラン1.5mR4
液としたものを加え、室温で反応させた(1−N−アシ
ル化)。2時間反応後、減圧濃縮し、残渣を水洗後、減
圧乾燥した。これをさらにエーテルで洗い、減圧乾燥し
て表題化合物(41)の固体の118mgを得た。収率
96%。
(ロ) ]−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシプロピオニル〕−5−デオキシ−5−フルオロジベ
力シン(本発明化合物Nα12)の製造 り11 前項(イ)の化合物(111)の1lli邦にテトラヒ
ドロフラン4 、1ζO,2,5N−アンモニア水3
、5n+Qを加え、室温で反応させた。22時間後に誠
圧濃5縮し、116mgの脱1−リフルオロアセチル体
を得た。二〇脱1−リフルオロアセチル体116mgに
ジオキサン−酢酸−水(4:l:l) 8.1ζOとパ
ラジウム黒を加え、常圧、室温にて水素を吹込んだ。2
時間還元後、触媒を濾去し、濾液と洗液を合わせて濃縮
乾固し、92Bの固体として脱ベンジルオキシカルボニ
ル化生成物を得た。これを水46mΩに溶解し、Cトセ
ファデックスC−,25(Nl+4+型) 20mQカ
ラムに添加後、0.05Nから0.15Nまでアンモニ
ア濃度を連続的に変化させて溶出し、目的物質を含むフ
ラクションを合わせて濃縮乾固して表題の本発明化合物
NQ12の固体の43.7mgを得た(−炭酸・−水塩
として収率70%)。
キシプロピオニル〕−5−デオキシ−5−フルオロジベ
力シン(本発明化合物Nα12)の製造 り11 前項(イ)の化合物(111)の1lli邦にテトラヒ
ドロフラン4 、1ζO,2,5N−アンモニア水3
、5n+Qを加え、室温で反応させた。22時間後に誠
圧濃5縮し、116mgの脱1−リフルオロアセチル体
を得た。二〇脱1−リフルオロアセチル体116mgに
ジオキサン−酢酸−水(4:l:l) 8.1ζOとパ
ラジウム黒を加え、常圧、室温にて水素を吹込んだ。2
時間還元後、触媒を濾去し、濾液と洗液を合わせて濃縮
乾固し、92Bの固体として脱ベンジルオキシカルボニ
ル化生成物を得た。これを水46mΩに溶解し、Cトセ
ファデックスC−,25(Nl+4+型) 20mQカ
ラムに添加後、0.05Nから0.15Nまでアンモニ
ア濃度を連続的に変化させて溶出し、目的物質を含むフ
ラクションを合わせて濃縮乾固して表題の本発明化合物
NQ12の固体の43.7mgを得た(−炭酸・−水塩
として収率70%)。
比旋光度:〔α〕ら5+82°(CI、水)。
ソL充進」ユ
(イ) 3.2’、6’−トリス(N−ベンジルオキ
シカルボニル)−1−N−[4−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−(S)−ヒドロキシブチリル]−3“−N
−トリフルオロアセチル−5−デオキシ−5−フルオa
ジベカシン(化合物・12)の′!A造 実施例11(ロ)で11)だ化合物(39)93 、4
mgをテトラ上1〜ロフラン1.4mQに溶解し、炭酸
ナトリウム8.3mgの水14mQ’(8液を加え(溶
液は白濁)、4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2
−(S)−ヒドロキシブチリル酸のN−ヒドロキシサク
シンイミトの活性エステル44 、7mgをテトラヒド
ロフラン1.4mQ78液としたものを加えて室温で反
応させた(l−N−アシル化)。1時間後さらに活性エ
ステル6.9mgを加えた。1時間30分反塔径、反応
液を減圧濃縮し、残渣を水洗後、減圧乾燥した。これを
さらにエーテルで洗い減圧乾燥した後、表題化合物(4
2)の固体の111..1mgを得た。収率95%。
シカルボニル)−1−N−[4−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−(S)−ヒドロキシブチリル]−3“−N
−トリフルオロアセチル−5−デオキシ−5−フルオa
ジベカシン(化合物・12)の′!A造 実施例11(ロ)で11)だ化合物(39)93 、4
mgをテトラ上1〜ロフラン1.4mQに溶解し、炭酸
ナトリウム8.3mgの水14mQ’(8液を加え(溶
液は白濁)、4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2
−(S)−ヒドロキシブチリル酸のN−ヒドロキシサク
シンイミトの活性エステル44 、7mgをテトラヒド
ロフラン1.4mQ78液としたものを加えて室温で反
応させた(l−N−アシル化)。1時間後さらに活性エ
ステル6.9mgを加えた。1時間30分反塔径、反応
液を減圧濃縮し、残渣を水洗後、減圧乾燥した。これを
さらにエーテルで洗い減圧乾燥した後、表題化合物(4
2)の固体の111..1mgを得た。収率95%。
(ロ) 1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロ
キシブチリル〕−5−デオキシ−5−フルオロージベ力
シン(本発明化合物N1113)の製造 前項(イ)の化合物(42)の111.1Bにテ1へラ
ヒドロフラン4.4mQ、2.5Nアンモニア水3 、
3ζOを加え、室温で反応させた。22時間後、さらに
1.5Nアンモニア水0 、6ζOを加えた。43時間
後、減圧濃縮し、110o+にの脱トリフルオロアセチ
ル体を得た。この脱[−リフルオロアセチル体110m
gにジオキサン−酢酸−水(4:l:1) 1.1ζO
を加えパラジウム黒の水懸濁液10河を加えて常圧で水
素を吹込んだ。2時間還元後、触媒を新しいものにかえ
、さらに水素を吹込んで反応させた。4時間後、触媒を
濾去し、減圧濃縮した。1!)られだ固体の脱ベンジル
オキシカルボニル体の86.9111gを水43.5m
Qに溶解し、側−セファデックスC−25(Nl+4+
型)20mQカラムに添加後、カラムを水洗し、0.0
5Nから0.5Nまでアンモニア濃度を連続的に変化さ
せながら溶出した。相当するフラクションを合わせ濃縮
乾固して表題の本発明化合物Nα13の固体の38Bを
得た(−炭酸・−水塩として収率64%)。
キシブチリル〕−5−デオキシ−5−フルオロージベ力
シン(本発明化合物N1113)の製造 前項(イ)の化合物(42)の111.1Bにテ1へラ
ヒドロフラン4.4mQ、2.5Nアンモニア水3 、
3ζOを加え、室温で反応させた。22時間後、さらに
1.5Nアンモニア水0 、6ζOを加えた。43時間
後、減圧濃縮し、110o+にの脱トリフルオロアセチ
ル体を得た。この脱[−リフルオロアセチル体110m
gにジオキサン−酢酸−水(4:l:1) 1.1ζO
を加えパラジウム黒の水懸濁液10河を加えて常圧で水
素を吹込んだ。2時間還元後、触媒を新しいものにかえ
、さらに水素を吹込んで反応させた。4時間後、触媒を
濾去し、減圧濃縮した。1!)られだ固体の脱ベンジル
オキシカルボニル体の86.9111gを水43.5m
Qに溶解し、側−セファデックスC−25(Nl+4+
型)20mQカラムに添加後、カラムを水洗し、0.0
5Nから0.5Nまでアンモニア濃度を連続的に変化さ
せながら溶出した。相当するフラクションを合わせ濃縮
乾固して表題の本発明化合物Nα13の固体の38Bを
得た(−炭酸・−水塩として収率64%)。
比旋光度:〔α36’ + 83’(c 1.水)。
”I−1−NMR(2l−1−N、 20%ND、を含
むり、O中:T詔標準)64.7L H−5dt J
5.p=511(z65.08 H−1’ d J、
’、2’=3.5t(z65.17 H−1’ d
J5’、’=3.5Hz隻ム災旦 (イ) 4’、6ζO−シクロへキシリデン−5−エ
ピジベカシン(化合物43)の製造 −50℃の液体アンモニア約15mQに金属ナトリウム
の約50mgを加えて激しくかくはんしながら、これに
、先の実施例4(ホ)で得られた4’、6“−〇−シク
ロへキシリデン−1、3、2/ 、 6 / 、 31
F−ペンタ−N−トシル−5−エピジベカシン、すなわ
ち化合物(23)の50Bのテトラヒドロフラン2mQ
溶液を一気に加え、5分間反応させた(脱1ヘシル化)
。メタノール0.07mgを加えた後液温を徐々に室温
まで上昇させてアンモニアを蒸発させ、さらしこ濃縮乾
固した。残渣に水2.2+++Qを加え、得られた混合
物にダウ二ノクス50すX2(NH4+型)2n+Qを
加えて脱塩した後、同じレジン2m12を含むカラムに
レジンごと添加し、カラムを水洗した(12m12)。
むり、O中:T詔標準)64.7L H−5dt J
5.p=511(z65.08 H−1’ d J、
’、2’=3.5t(z65.17 H−1’ d
J5’、’=3.5Hz隻ム災旦 (イ) 4’、6ζO−シクロへキシリデン−5−エ
ピジベカシン(化合物43)の製造 −50℃の液体アンモニア約15mQに金属ナトリウム
の約50mgを加えて激しくかくはんしながら、これに
、先の実施例4(ホ)で得られた4’、6“−〇−シク
ロへキシリデン−1、3、2/ 、 6 / 、 31
F−ペンタ−N−トシル−5−エピジベカシン、すなわ
ち化合物(23)の50Bのテトラヒドロフラン2mQ
溶液を一気に加え、5分間反応させた(脱1ヘシル化)
。メタノール0.07mgを加えた後液温を徐々に室温
まで上昇させてアンモニアを蒸発させ、さらしこ濃縮乾
固した。残渣に水2.2+++Qを加え、得られた混合
物にダウ二ノクス50すX2(NH4+型)2n+Qを
加えて脱塩した後、同じレジン2m12を含むカラムに
レジンごと添加し、カラムを水洗した(12m12)。
INアンモニア水で溶出し、ニンヒドリン陽性部分を合
わせて濃縮乾固し1表題化合物(43)の15.3mg
を固体として得た。収率75%。
わせて濃縮乾固し1表題化合物(43)の15.3mg
を固体として得た。収率75%。
(ロ) 1,3.2’、6’、3ζペンタキス(N−
ベンジルオキシカルボニル)−4’、6ζ0−シクロへ
キシリデン−5−エビジベカシン(化合物44)の製造 前項(イ)の化合物(43)の20mgを水0.4mQ
に溶解し、炭酸ナトリウム24mg、アセトン0.4m
λを加えて水冷下にベンジルオキシカルボニルクロライ
ド0.04mgを加えて反応させた(N−ベンジルオキ
シカルボニル化)。6時間後、室温に戻して反応を続け
、12時間後、減圧濃縮した。残渣を水、エチルエーテ
ルで順次洗浄して45mgの表題化合物(44)を白色
固体として1:)た。収率:定斌的。
ベンジルオキシカルボニル)−4’、6ζ0−シクロへ
キシリデン−5−エビジベカシン(化合物44)の製造 前項(イ)の化合物(43)の20mgを水0.4mQ
に溶解し、炭酸ナトリウム24mg、アセトン0.4m
λを加えて水冷下にベンジルオキシカルボニルクロライ
ド0.04mgを加えて反応させた(N−ベンジルオキ
シカルボニル化)。6時間後、室温に戻して反応を続け
、12時間後、減圧濃縮した。残渣を水、エチルエーテ
ルで順次洗浄して45mgの表題化合物(44)を白色
固体として1:)た。収率:定斌的。
(ハ) 2“−0−ベンゾイル−1,3,2’、6’、
3ζペンタキス(N−ベンジルオキシカルボニル)−4
’、6ζO−シクロヘキシリデン−5−エビジベカシン
(化合物45)の製造 前項(ロ)の化合物(44)の40mgを無水ピリジン
0.8ζOに溶解し、水冷下に塩化ベンゾイルO,O1
9mQを加えて0℃で反応させた(2’−0−ベンゾイ
ル化)。
3ζペンタキス(N−ベンジルオキシカルボニル)−4
’、6ζO−シクロヘキシリデン−5−エビジベカシン
(化合物45)の製造 前項(ロ)の化合物(44)の40mgを無水ピリジン
0.8ζOに溶解し、水冷下に塩化ベンゾイルO,O1
9mQを加えて0℃で反応させた(2’−0−ベンゾイ
ル化)。
45分後、水0.O1,5mQを加え、室温で1時間放
置した後、減圧濃縮した。クロロホルム1抛Qを加え、
溶液を飽和重曹水(2mΩ×2)、5%重硫酸カリウム
水(2m12 X 2)、水(2+nQX 3)で順次
洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に減圧
濃縮して44Bの表題化合物(45)を淡黄色固体とし
て得た。収率:定置的。
置した後、減圧濃縮した。クロロホルム1抛Qを加え、
溶液を飽和重曹水(2mΩ×2)、5%重硫酸カリウム
水(2m12 X 2)、水(2+nQX 3)で順次
洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に減圧
濃縮して44Bの表題化合物(45)を淡黄色固体とし
て得た。収率:定置的。
朱苅夕M
5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン(本発明化合物
Na 4 )の製造 (イ)無水ジグロロメタンの0 、76mgに無水ピリ
ジン0.037+++Qを加え、水冷下にジエチルアミ
ノスルファ−トリフルオライド(DAST)の0.01
9mΩを加えた。この溶液に参考例5(ハ)で得られた
化合物(45)の381を加え、室温に戻して6時間反
応させた(エビ−5−ヒドロキシル基の弗素化と反転)
。反応液を氷冷した飽和■曹水8n+Qにあけ、クロロ
ホルム5dを加えて抽出した。この抽出液を飽和亜曹水
(2mQX 2)、5%重硫酸カリウム水(2mQX
2)、水(2m12 X 3)で順次洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮乾固して36.3m
gの黄色固体を得た。これをワコーゲルC−200の4
g(展開系:クロロホルムー酢酸エチル=3:1)のシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し、11 、5Bの
固体を得た。
Na 4 )の製造 (イ)無水ジグロロメタンの0 、76mgに無水ピリ
ジン0.037+++Qを加え、水冷下にジエチルアミ
ノスルファ−トリフルオライド(DAST)の0.01
9mΩを加えた。この溶液に参考例5(ハ)で得られた
化合物(45)の381を加え、室温に戻して6時間反
応させた(エビ−5−ヒドロキシル基の弗素化と反転)
。反応液を氷冷した飽和■曹水8n+Qにあけ、クロロ
ホルム5dを加えて抽出した。この抽出液を飽和亜曹水
(2mQX 2)、5%重硫酸カリウム水(2mQX
2)、水(2m12 X 3)で順次洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮乾固して36.3m
gの黄色固体を得た。これをワコーゲルC−200の4
g(展開系:クロロホルムー酢酸エチル=3:1)のシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し、11 、5Bの
固体を得た。
この固体は重ピリジン中のNMRでδ=−L89.4p
pm(CFCI、をδ:0として)に1gFに由来する
ダブルトリプレット(J:12.12.5211z)を
認めた。この固体は2′−〇−ベンゾイルー1.3.2
’、6’、3’−ペンタキス(N−べンジルオキシカル
ボニル)−4’、6“−〇−シクロへキシリデン−5−
デオキシ−5−フルオロジベ力シン(化合物46)から
主として成るものであった。
pm(CFCI、をδ:0として)に1gFに由来する
ダブルトリプレット(J:12.12.5211z)を
認めた。この固体は2′−〇−ベンゾイルー1.3.2
’、6’、3’−ペンタキス(N−べンジルオキシカル
ボニル)−4’、6“−〇−シクロへキシリデン−5−
デオキシ−5−フルオロジベ力シン(化合物46)から
主として成るものであった。
(ロ) 上記の固体(11,5mg)に80%酢酸水の
0.23mQを加え、60°Cで反応させた(脱シクロ
へキシリデン化)。1,5時間後濃縮乾固し、トルエン
と共沸させて酢酸を除いた後、1.0.9mgの淡黄色
固体を得た。
0.23mQを加え、60°Cで反応させた(脱シクロ
へキシリデン化)。1,5時間後濃縮乾固し、トルエン
と共沸させて酢酸を除いた後、1.0.9mgの淡黄色
固体を得た。
これにメタノール0.23mQ、15Nアンモニア水0
.016mQを加え、室温で3.5時間反応させた(脱
ベンゾイル化)。反応液を濃縮乾固し、10.5mgの
淡黄色固体を得た。この固体にテトラヒドロフラン−水
(4:I) 0.2mQを加え、ラネーニッケルを加え
、よくふりまぜた後、ニッケルを濾去した。ニッケルを
テトラヒドロフランー水0.13n+Qで洗い、濾液と
洗液を合わせて後、酢酸0 、2mQパラジウム黒を加
えて室温、常圧で水素を吹込んだ(脱ベンジルオキシカ
ルボニル化)。6時間後パラジウム黒を濾去し、濾液を
濃縮乾固して7mgの固体を1jIた。これを水3.5
mQに溶解しCM−セファデックスC−252n+Qカ
ラムに流し込み、カラムを水洗後(10+nFI)、0
.05Nから0.15Nまでアンモニア水濃度を連続的
に変化させながら溶出し目的物質を含むフラクションを
合わせて減圧下に濃縮乾固すると1 、0mHの表題の
本発明化合物Nα4を得た。1炭酸塩として化合物(4
5)から収率6.4%であった。
.016mQを加え、室温で3.5時間反応させた(脱
ベンゾイル化)。反応液を濃縮乾固し、10.5mgの
淡黄色固体を得た。この固体にテトラヒドロフラン−水
(4:I) 0.2mQを加え、ラネーニッケルを加え
、よくふりまぜた後、ニッケルを濾去した。ニッケルを
テトラヒドロフランー水0.13n+Qで洗い、濾液と
洗液を合わせて後、酢酸0 、2mQパラジウム黒を加
えて室温、常圧で水素を吹込んだ(脱ベンジルオキシカ
ルボニル化)。6時間後パラジウム黒を濾去し、濾液を
濃縮乾固して7mgの固体を1jIた。これを水3.5
mQに溶解しCM−セファデックスC−252n+Qカ
ラムに流し込み、カラムを水洗後(10+nFI)、0
.05Nから0.15Nまでアンモニア水濃度を連続的
に変化させながら溶出し目的物質を含むフラクションを
合わせて減圧下に濃縮乾固すると1 、0mHの表題の
本発明化合物Nα4を得た。1炭酸塩として化合物(4
5)から収率6.4%であった。
参考例6
(イ) 4’、6ζ0−シクロへキシリデン−1,3
,2’、6’。
,2’、6’。
3′−ペンタキス(N−メトキシカルボニル)−5−エ
ビジベカシン(化合物47)の製造 参考例5(イ)で得られた化合物(43)の50mgに
水1mQ、炭酸ナトリウム60mgを加え、アセトン1
mQを加えた後、水冷下に塩化メトキシカルボニル0.
044+++Qを滴下して反応させた(N−メトキシカ
ルボニル化による保護)。6時間後、室温に戻して室温
で反応を続けた。15時間後、反応混合物を濃縮乾固し
、水、エーテルで順次洗浄し、73mgの白色固体とし
て表題化合物(47)を得た。収率95%。
ビジベカシン(化合物47)の製造 参考例5(イ)で得られた化合物(43)の50mgに
水1mQ、炭酸ナトリウム60mgを加え、アセトン1
mQを加えた後、水冷下に塩化メトキシカルボニル0.
044+++Qを滴下して反応させた(N−メトキシカ
ルボニル化による保護)。6時間後、室温に戻して室温
で反応を続けた。15時間後、反応混合物を濃縮乾固し
、水、エーテルで順次洗浄し、73mgの白色固体とし
て表題化合物(47)を得た。収率95%。
(ロ) 2’−0−アセチル−4’ 、 6’−0−
シクロへキシリデン−1,3,2′、6’、3’−ペン
タキス(N−メトキシカルボニル)−5−エビジベカシ
ン(化合物48)の製造前項(イ)で11)だ化合物(
47)の65mgを無水ピリジン1.3n+Qに溶解し
、水冷下に無水酢酸0.04m12を加えた。室温で1
5時間反応させた(2’−0−アセチル化)。その後、
水0.035m12を加え、室温で1時間放置した。反
応液を飽和重曹水50+nQにあけ、生じた自沈を濾取
、水洗後、乾燥して66mgの表題化合物(48)’5
白色固体として得た。収率97%。
シクロへキシリデン−1,3,2′、6’、3’−ペン
タキス(N−メトキシカルボニル)−5−エビジベカシ
ン(化合物48)の製造前項(イ)で11)だ化合物(
47)の65mgを無水ピリジン1.3n+Qに溶解し
、水冷下に無水酢酸0.04m12を加えた。室温で1
5時間反応させた(2’−0−アセチル化)。その後、
水0.035m12を加え、室温で1時間放置した。反
応液を飽和重曹水50+nQにあけ、生じた自沈を濾取
、水洗後、乾燥して66mgの表題化合物(48)’5
白色固体として得た。収率97%。
去濾JIi長
5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン(本発明化合物
Nα4)の製造 (イ)無水ジクロロメタン1 、2mQに無水ピリジン
0.083mffを加え、水冷下にDAST 0.04
3mffを加えた後、かくはんしながら参考例6(ロ)
で得た化合物(48)のlomgを加えた。室温で6時
間反応した(エビ−5−ヒドロキシル基の弗素化と反転
)。反応液を水冷した飽和重り一ソ水18mflにあけ
、クロロホルム12mQを加えて分岐操作を行なった。
Nα4)の製造 (イ)無水ジクロロメタン1 、2mQに無水ピリジン
0.083mffを加え、水冷下にDAST 0.04
3mffを加えた後、かくはんしながら参考例6(ロ)
で得た化合物(48)のlomgを加えた。室温で6時
間反応した(エビ−5−ヒドロキシル基の弗素化と反転
)。反応液を水冷した飽和重り一ソ水18mflにあけ
、クロロホルム12mQを加えて分岐操作を行なった。
有機層を、飽和重ill/水(5m12 X 2)、5
%重硫酸カリウム水(5mQX 2)、水(5mQX
2)で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮
乾固して61mgの粗製5−フルオロ生成物を得た。
%重硫酸カリウム水(5mQX 2)、水(5mQX
2)で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮
乾固して61mgの粗製5−フルオロ生成物を得た。
(ロ) 上記の5−フルオロ生成物を80%酢酸水1.
2m+2で60℃、2時間処理して脱シクロへキシリデ
ン化を行ない、55mgの生成物を得た。これをテトラ
ヒドロフラン1 、1mQに溶解し、6N NaO80
,55mQを加え、80℃で12時間かくはんした(脱
アセチル化及び脱メトキシカルボニル化)。反応混合物
を減圧濃縮し、水3.3+aQを加えて溶解した後、イ
オン交換樹脂ダウエックス50WX2(+4+型) 4
mAを加えて脱塩し、同じレジン4mQカラムにレジン
ごと添加した。カラムを水(80mQ)で洗い、INア
ンモニア水で溶出してニンヒドリン陽性部分を合わせて
、Q縮乾固し、36mgの目的化合物の粗生成物を得た
。
2m+2で60℃、2時間処理して脱シクロへキシリデ
ン化を行ない、55mgの生成物を得た。これをテトラ
ヒドロフラン1 、1mQに溶解し、6N NaO80
,55mQを加え、80℃で12時間かくはんした(脱
アセチル化及び脱メトキシカルボニル化)。反応混合物
を減圧濃縮し、水3.3+aQを加えて溶解した後、イ
オン交換樹脂ダウエックス50WX2(+4+型) 4
mAを加えて脱塩し、同じレジン4mQカラムにレジン
ごと添加した。カラムを水(80mQ)で洗い、INア
ンモニア水で溶出してニンヒドリン陽性部分を合わせて
、Q縮乾固し、36mgの目的化合物の粗生成物を得た
。
これを水18mQに溶解し、CM−セファデックスC−
25(N11.”型)10mQカラムに添加し、カラム
を水洗後(50mQ)、 0.05Nから0.15Nま
でアンモニア濃度を連続的に変化させながらアンモニア
水で溶出し、相当するフラクションを合わせて濃縮乾固
した。表題の本発明化合物Nα4を10.7mg得た。
25(N11.”型)10mQカラムに添加し、カラム
を水洗後(50mQ)、 0.05Nから0.15Nま
でアンモニア濃度を連続的に変化させながらアンモニア
水で溶出し、相当するフラクションを合わせて濃縮乾固
した。表題の本発明化合物Nα4を10.7mg得た。
−炭酸塩として化合物(48)からの収率30%。
参yL例どL
Q VL −0−アセチル−1,3,2’、6’、3M
−ベンターN−アセチル−4’、6“−〇−シクロへキ
シリデン−5−エビジベカシン(化合物49)の製造 参考例5(イ)で得られた4“、6“−〇−シクロへキ
シリデン−5−エビジベカシン、すなわち化合物(43
)の251を無水ピリジンの0.5+nQ、無水1)M
Fの0.25m12に懸濁させ、無水酢酸0.14++
+Qを加えた。攪拌しながら室温で18時間反応させた
(N、0−アセチル化)。
−ベンターN−アセチル−4’、6“−〇−シクロへキ
シリデン−5−エビジベカシン(化合物49)の製造 参考例5(イ)で得られた4“、6“−〇−シクロへキ
シリデン−5−エビジベカシン、すなわち化合物(43
)の251を無水ピリジンの0.5+nQ、無水1)M
Fの0.25m12に懸濁させ、無水酢酸0.14++
+Qを加えた。攪拌しながら室温で18時間反応させた
(N、0−アセチル化)。
その後、水0.13m1llを加え、室温で1時間放置
した。
した。
反応44合物を減圧濃縮し、水で共沸(5回)した後、
セファテックスLH−20(展開系テトラヒドロフラン
:水=1:1.) 5mffカラムに通筒し、相当す
るフラクションを合わせて濃縮乾固した。31Bの表題
化合物(49)が得られた。収率84%。
セファテックスLH−20(展開系テトラヒドロフラン
:水=1:1.) 5mffカラムに通筒し、相当す
るフラクションを合わせて濃縮乾固した。31Bの表題
化合物(49)が得られた。収率84%。
刃算■亜
5−デオキシ−5−フルオロジベ力シン(本発明化合物
Nα4)の製造 参考例7で得た化合物(49)の12.1mgに無水ジ
クロロメタン0.24+nQ、無水ピリジン0.O19
mQ、無水アセ1−ニトリル0.24ζOを加え、水冷
かくはん下、DAST 0.01+nQを加え、室温で
反応させたにピー5−ヒi〜ロキシル基の弗素化と反転
)。 6時間後に、氷冷した飽和重曹水1.4ζOにあ
け、全体を室温にて濃縮乾固した。残留固体をDMFで
抽出しく2mQX3)、DMF層を濃縮乾固して12.
in+Hの粗生成物を得た。この粗生成物固体のN M
R分析によると、重水中でδ= −192,6ppm
(CFCl2をδ=0として)に1″Fに由来するダブ
ルトリプレソt−(J = 12.12.4911z)
を認めた。この粗生成物は2″−0−アセチル−1,3
゜2’、6’、3’−ペンタ−N−アセチル−4’、6
ζO−シクロへキシリデン−5−デオキシ−5−フルオ
ロジベ力シン(化合物50)から主として成るものであ
った。以下、実施例15(ロ)と同様に、化合物(50
)から酢酸水による加水分解でシクロへキシリデン基を
脱離及び水酸化ナトリウム水溶液による加水分解でアセ
チル基を脱離し、得られた5−デオキシ−5−フルオロ
ジベ力シンの粗製物をクロマトグラフィでM’Hした。
Nα4)の製造 参考例7で得た化合物(49)の12.1mgに無水ジ
クロロメタン0.24+nQ、無水ピリジン0.O19
mQ、無水アセ1−ニトリル0.24ζOを加え、水冷
かくはん下、DAST 0.01+nQを加え、室温で
反応させたにピー5−ヒi〜ロキシル基の弗素化と反転
)。 6時間後に、氷冷した飽和重曹水1.4ζOにあ
け、全体を室温にて濃縮乾固した。残留固体をDMFで
抽出しく2mQX3)、DMF層を濃縮乾固して12.
in+Hの粗生成物を得た。この粗生成物固体のN M
R分析によると、重水中でδ= −192,6ppm
(CFCl2をδ=0として)に1″Fに由来するダブ
ルトリプレソt−(J = 12.12.4911z)
を認めた。この粗生成物は2″−0−アセチル−1,3
゜2’、6’、3’−ペンタ−N−アセチル−4’、6
ζO−シクロへキシリデン−5−デオキシ−5−フルオ
ロジベ力シン(化合物50)から主として成るものであ
った。以下、実施例15(ロ)と同様に、化合物(50
)から酢酸水による加水分解でシクロへキシリデン基を
脱離及び水酸化ナトリウム水溶液による加水分解でアセ
チル基を脱離し、得られた5−デオキシ−5−フルオロ
ジベ力シンの粗製物をクロマトグラフィでM’Hした。
2.0mgの表題の本発明化合物Nα4が得られた。
化合物(49)からの収率25%。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Rは水素原子又は次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但しnは1又は2の整数である)のα−ヒドロキシ−
ω−アミノアルカノイル基であり、A^1及びA^2は
夫々に、水酸基又は水素原子である〕で示される5−デ
オキシ−5−フルオロカナマイシンB誘導体及びその酸
付加塩。 2、5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB(一般
式( I )でRが水素原子でありA^1及びA^2が夫
々に水酸基である場合)である特許請求の範囲第1項に
記載の化合物。 3、5,3′−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシン
B(一般式( I )でR及びA^1が水素原子でありA
^2が水酸基である場合)である特許請求の範囲第1項
に記載の化合物。 4、5,4′−ジデオキシ−5−フルオロカナマイシン
B(一般式( I )でR及びA^2が水素原子でありA
^1が水酸基である場合)である特許請求の範囲第1項
に記載の化合物。 5、5,3′,4′−トリデオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(一般式( I )でR、A^1及びA^2が
すべて水素原子である場合)である特許請求の範囲第1
項に記載の化合物。 6、1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロキシプ
ロピオニル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシ
ンB(一般式( I )でRが3−アミノ−2−(S)−
ヒドロキシプロピオニル基であり、A^1及びA^2が
夫々に水酸基である場合)である特許請求の範囲第1項
に記載の化合物。 7、1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロキシブ
チリル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンB
(一般式( I )でRが4−アミノ−2−(S)−ヒド
ロキシブチリル基であり、A^1及びA^2が夫々に水
酸基である場合)である特許請求の範囲第1項に記載の
化合物。 8、1−N−(3−アミノ−2−(RS)−ヒドロキシ
プロピオニル)−5,3′−ジデオキシ−5−フルオロ
カナマイシンB(一般式( I )でRが3−アミノ−2
−(RS)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A^1
が水素原子でA^2が水酸基である場合)である特許請
求の範囲第1項に記載の化合物。 9、1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロキシプ
ロピオニル)−5,3′−ジデオキシ−5−フルオロカ
ナマイシンB(一般式( I )でRが3−アミノ−2−
(S)−ヒドロキシプロピオニル基であり、A^1が水
素原子でA^2が水酸基である場合)である特許請求の
範囲第1項に記載の化合物。 10、1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロキシ
ブチリル)−5,3′−ジデオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(一般式( I )でRが4−アミノ−2−(
S)−ヒドロキシブチリル基であり、A^1が水素原子
でA^2が水酸基である場合)である特許請求の範囲第
1項に記載の化合物。 11、1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロキシ
ブチリル)−5,4′−ジデオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB(一般式( I )でRが4−アミノ−2−(
S)−ヒドロキシブチリル基であり、A^1が水酸基で
A^2が水素原子である場合)である特許請求の範囲第
1項記載の化合物。 12、1−N−(3−アミノ−2−(S)−ヒドロキシ
プロピオニル)−5,3′,4′−トリデオキシ−5−
フルオロカナマイシンB(一般式( I )でRが3−ア
ミノ−2−(S)−ヒドロキシプロピオニル基であり、
A^1及びA^2が夫々に水素原子である場合)である
特許請求の範囲第1項記載の化合物。 13、1−N−(4−アミノ−2−(S)−ヒドロキシ
ブチリル)−5,3′,4′−トリデオキシ−5−フル
オロカナマイシンB(一般式( I )でRが4−アミノ
−2−(S)−ヒドロキシブチリル基であり、A^1及
びA^2が夫々に水素原子である場合)である特許請求
の範囲第1項記載の化合物。 14、 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、A^3及びA^4は夫々に保護された水酸基−
OG(但しGはヒドロキシル保護基としてのアシル基で
ある)又は水素原子であり、Bはアミノ保護基であり、
E及びE^1は夫々にヒドロキシル保護基として前記の
Gと同じアシル基であるか、若しくはE及びE^1は共
同して1個の2価のヒドロキシル保護基を形成するもの
であり、2″位水酸基上の基Gはヒドロキシル基として
前記のGと同じアシル基である〕で示されるN,O−保
護された5−エピカナマイシンB誘導体を非極性有機溶
媒中で次式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、R^1は炭素数1〜4のアルキル基である〕の
ジアルキルアミノサルファー・トリフルオライド又は次
式 R^1N−SF_2−NR^1(III′) 〔式中、R^1は前記と同じ意味をもつ〕のビス(ジア
ルキルアミノ)サルファー・ジフルオライド又はこれら
と均等な弗素化剤と反応させて式(II)の化合物の5位
にあるエピ−ヒドロキシル基の立体配置の反転と弗素置
換反応とを起させ、これにより次式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、A^3、A^4、B、E、E^1及びGは前記
と同じ意味をもつ)で示されるN,O−保護された5−
デオキシ−5−フルオロカナマイシンB誘導体を生成さ
せ、次いでこの式(IV)の化合物から残留のアミノ保護
基(B)及びヒドロキシル保護基(E、E^1及びG)
を常法で脱離させることを特徴とする、次の一般式▲数
式、化学式、表等があります▼( I a) (式中、A^1及びA^2は夫々に、水酸基又は水素原
子である)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB誘導体の製造法。 15、次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) (式中、A^1及びA^2は夫々に、水酸基又は水素原
子である)で示される5−デオキシ−5−フルオロカナ
マイシンB誘導体、あるいはこの式( I a)の化合物
の1位アミノ基以外のアミノ基の一部又は全部をアミノ
保護基で保護された保護誘導体の1位アミノ基を、次の
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 〔式中、nは1又は2の整数である〕で示されるα−ヒ
ドロキシ−ω−アミノアルカン酸又はこのアミノアルカ
ン酸のアミノ基をアミノ保護基で保護された保護誘導体
、あるいはこれらの反応性誘導体と反応させ、こうして
得られた1−N−アシル化反応生成物から、残留したア
ミノ保護基がある場合には、アミノ保護基を次いで脱離
させることから成る、次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I b) 〔式中、A^1、A^2及びnは前記の意味を有する〕
で示される1−N−(α−ヒドロキシ−ω−アミノアル
カノイル)−5−デオキシ−5−フルオロカナマイシン
B誘導体の製造法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61181850A JPS6339891A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | 5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンb誘導体とその製造法 |
DK404587A DK404587A (da) | 1986-08-04 | 1987-08-03 | 5-deoxy-5-flourkanamycin b-derivater samt fremgangsmaader til fremstilling deraf |
KR1019870008551A KR880002893A (ko) | 1986-08-04 | 1987-08-04 | 5-데옥시-5-플루오로 카나마이신 b 유도체 및 그 제조방법 |
EP87306904A EP0259014A2 (en) | 1986-08-04 | 1987-08-04 | 5-Deoxy-5-fluorokanamycin B derivatives and processes for the production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61181850A JPS6339891A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | 5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンb誘導体とその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6339891A true JPS6339891A (ja) | 1988-02-20 |
Family
ID=16107913
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61181850A Pending JPS6339891A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | 5−デオキシ−5−フルオロカナマイシンb誘導体とその製造法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0259014A2 (ja) |
JP (1) | JPS6339891A (ja) |
KR (1) | KR880002893A (ja) |
DK (1) | DK404587A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02125630A (ja) * | 1988-11-04 | 1990-05-14 | Nec Corp | 半導体装置 |
WO1992003460A1 (fr) * | 1990-08-24 | 1992-03-05 | Zaidan Hojin Biseibutsu Kagaku Kenkyu Kai | Derive de 4-0-(aminoglycosyl)-or4,6-di-0-(aminoglycosyl)-2,5 didesoxy-5,5-difluorostreptamine et production de ce derive |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5488038A (en) * | 1992-11-27 | 1996-01-30 | Zaidan Hojin Biseibutsu Kagaku Kenkyu Kai | Dibekacin derivatives and arbekacin derivatives active against resistant bacteria |
JP2022514472A (ja) * | 2018-12-05 | 2022-02-14 | アジャイルバイオティクス ベー.フェー. | 新規抗菌性4,6-二置換2,5-ジデオキシストレプタミンアミノグリコシド系抗生物質の3’’誘導体 |
-
1986
- 1986-08-04 JP JP61181850A patent/JPS6339891A/ja active Pending
-
1987
- 1987-08-03 DK DK404587A patent/DK404587A/da not_active Application Discontinuation
- 1987-08-04 EP EP87306904A patent/EP0259014A2/en not_active Withdrawn
- 1987-08-04 KR KR1019870008551A patent/KR880002893A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02125630A (ja) * | 1988-11-04 | 1990-05-14 | Nec Corp | 半導体装置 |
WO1992003460A1 (fr) * | 1990-08-24 | 1992-03-05 | Zaidan Hojin Biseibutsu Kagaku Kenkyu Kai | Derive de 4-0-(aminoglycosyl)-or4,6-di-0-(aminoglycosyl)-2,5 didesoxy-5,5-difluorostreptamine et production de ce derive |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0259014A2 (en) | 1988-03-09 |
DK404587A (da) | 1988-02-05 |
KR880002893A (ko) | 1988-05-12 |
DK404587D0 (da) | 1987-08-03 |
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