JPS6339386A - 情報記録媒体 - Google Patents
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、ヒートモート記録媒体に関するものである。
さらに詳しくは本発明は、高エネルギー密度のレーザー
ビームな用いて情報の書き込みおよび/または読み取り
かできる情報記録媒体に関するものである。
ビームな用いて情報の書き込みおよび/または読み取り
かできる情報記録媒体に関するものである。
[発明の技術的背景および従来技術]
近年、レーザービームを高パワー密度のスポットに集束
させて記録媒体を照射し、記録媒体の一部を選択的に融
解、蒸発、除去、および/または変形させて情報の記録
を行なうビー1−モードのレーザー記録方式は多くの潰
れた特徴を有する新しい記録方式として注目を浴びてい
る。
させて記録媒体を照射し、記録媒体の一部を選択的に融
解、蒸発、除去、および/または変形させて情報の記録
を行なうビー1−モードのレーザー記録方式は多くの潰
れた特徴を有する新しい記録方式として注目を浴びてい
る。
L記の記録方式は、特に加熱現像、定着などの後処理お
よび処理液を必要としないリアルタイムの記録方式であ
ること、極めて高解像の高コン1〜ラストの画像を形成
し得ること、記録媒体は室内光には感光せず、暗室操作
か不要であること、伝送されてくる蒔系列信()などの
電気信号の記録に適していること、後からの情tυの追
加、111F)ア1−オンか回部であることなどの利点
を有するところから、たとえば、ビデオディスク、オー
ディオディスクなどの光ディスク、更には大容埴静11
−画像フアイル、大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リー、マイクロ画像記録媒体、超マイクロ画像記録媒体
、COM、マイクロファクシミリ、写真植字用原板等と
して使用され、あるいは使用か検討されている。
よび処理液を必要としないリアルタイムの記録方式であ
ること、極めて高解像の高コン1〜ラストの画像を形成
し得ること、記録媒体は室内光には感光せず、暗室操作
か不要であること、伝送されてくる蒔系列信()などの
電気信号の記録に適していること、後からの情tυの追
加、111F)ア1−オンか回部であることなどの利点
を有するところから、たとえば、ビデオディスク、オー
ディオディスクなどの光ディスク、更には大容埴静11
−画像フアイル、大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リー、マイクロ画像記録媒体、超マイクロ画像記録媒体
、COM、マイクロファクシミリ、写真植字用原板等と
して使用され、あるいは使用か検討されている。
−に記の記録方式に用いられる記録媒体は、基本構造と
してプラスチック、ガラス等からなる透明基板と、この
上に設けられたBi、Sn、In、Te他の金属または
半金属、あるいは色素などからなる記録層とを有する。
してプラスチック、ガラス等からなる透明基板と、この
上に設けられたBi、Sn、In、Te他の金属または
半金属、あるいは色素などからなる記録層とを有する。
また、通常の記録媒体は、基板と記録層との間に、それ
ら各層間の接着性の向−]−1記録感度の向上、記録層
の汚染防止などの機部を有する中間層(あるいは下塗R
)を備えている。
ら各層間の接着性の向−]−1記録感度の向上、記録層
の汚染防止などの機部を有する中間層(あるいは下塗R
)を備えている。
たとえば、記録感度を向」−させるために、特開昭50
−126237号公報および特開昭57−205193
号公報に記載されているように、基板と記録層との間に
、ポリエステル、ポリエチレン、ポリスチレン、アクリ
ル系ポリマー等の有機高分子物質:あるいは二酸化ケイ
素等の非金属からなる断熱層を設けることにより、レー
ザービームの照射による熱エネルギーか記録層から基板
等へ熱伝導によって損失することを低減するとの技術か
知られている。また!1、シ開閉55−46988号公
報には、同じく記録感度を向トさせる1・1的にて、基
板と記録層との間に臭素化ポリヒドロキシスチレンを含
むrlr間層を設けるとの発明が開示されている。
−126237号公報および特開昭57−205193
号公報に記載されているように、基板と記録層との間に
、ポリエステル、ポリエチレン、ポリスチレン、アクリ
ル系ポリマー等の有機高分子物質:あるいは二酸化ケイ
素等の非金属からなる断熱層を設けることにより、レー
ザービームの照射による熱エネルギーか記録層から基板
等へ熱伝導によって損失することを低減するとの技術か
知られている。また!1、シ開閉55−46988号公
報には、同じく記録感度を向トさせる1・1的にて、基
板と記録層との間に臭素化ポリヒドロキシスチレンを含
むrlr間層を設けるとの発明が開示されている。
また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板から構成し、そのうちの少なく
とも一枚の基板1−に記録層を設け、この二枚の基板を
記録層か内側に位若し、かつ閉空間を形成するようにリ
ンク状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して
接合してなるエアーサントイッヂ構造が提案されている
。このような構造を有する光ディスつては、記録層か直
接外気に接することなく、情報の記録、再生は基板を透
過するレーザー光で行なわれるために、記録層か物理的
または化学的なltl傷を受けたり、あるいはその表面
に塵埃か伺着して情報の記録、再生の障害となることか
ないとの利点を有する。
して、二枚の円盤状基板から構成し、そのうちの少なく
とも一枚の基板1−に記録層を設け、この二枚の基板を
記録層か内側に位若し、かつ閉空間を形成するようにリ
ンク状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して
接合してなるエアーサントイッヂ構造が提案されている
。このような構造を有する光ディスつては、記録層か直
接外気に接することなく、情報の記録、再生は基板を透
過するレーザー光で行なわれるために、記録層か物理的
または化学的なltl傷を受けたり、あるいはその表面
に塵埃か伺着して情報の記録、再生の障害となることか
ないとの利点を有する。
記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザービー
ムなこの記録媒体に照射することにより行なわれ、記録
層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇する
結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光学的
特性を変えることにより情報か記録される。記録媒体か
らの情報の読み取りもまた、レーザービームな記録媒体
に照射することなどにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応した反m光または透退光を検出することに
より情報か再生される。
ムなこの記録媒体に照射することにより行なわれ、記録
層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇する
結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光学的
特性を変えることにより情報か記録される。記録媒体か
らの情報の読み取りもまた、レーザービームな記録媒体
に照射することなどにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応した反m光または透退光を検出することに
より情報か再生される。
情報記録媒体は、前述のように種々の分野において非常
に利用価値か高いものであるが、その記録感度ill少
しても高いものであることか望まれている。
に利用価値か高いものであるが、その記録感度ill少
しても高いものであることか望まれている。
[発明の要旨]
本発明は、記録感度の向上した情報記録媒体を提供する
ことを主な目的とするものである。
ことを主な目的とするものである。
本発明は、基板上に、中間層を介してレーザーによる情
報の書き込み15よび/または読み取りが可能な記録層
を有する情報記録媒体において、該記録層および/また
は中間層が、炭素数10の不飽和炭化水素化合物を主成
分として含む不飽和化合物の重合体を含有することを4
¥徴とする情報記録媒体からなる。
報の書き込み15よび/または読み取りが可能な記録層
を有する情報記録媒体において、該記録層および/また
は中間層が、炭素数10の不飽和炭化水素化合物を主成
分として含む不飽和化合物の重合体を含有することを4
¥徴とする情報記録媒体からなる。
すなわち本発明は、基板と記録層との間の中間層、記録
層、あるいは中間層と記録層の双方に、炭素数10の不
飽和炭化水素化合物を主成分として含む不飽和化合物(
好ましくは不飽和炭化水素化合物)の重合体を含有させ
ることにより、情報記録媒体における感度の顕著な向上
を実現するものである。
層、あるいは中間層と記録層の双方に、炭素数10の不
飽和炭化水素化合物を主成分として含む不飽和化合物(
好ましくは不飽和炭化水素化合物)の重合体を含有させ
ることにより、情報記録媒体における感度の顕著な向上
を実現するものである。
従来より、基板と記録層との間に断熱効果を有する材料
からなる層を設けて、fUられる情報記録媒体の感度を
高めることか行なわれているが、本発明によれば、公知
の中間層を有する記録媒体よりも更に高感度の記録媒体
か得られる。情報記録媒体の中間層および/または記録
層に、炭素数lOの不飽和炭化水素化合物を)ミ成分と
して含む不飽和化合物の重合体を含有させることにより
、なぜ感度の顕著な向」二か実現するかについては詳細
な点は不明であるが、この重合体はレーザービームの照
射を受けた際に、それ自身の優れた熱的特性のために、
その上に設けられた記録層もしくは共存している記録材
ネ1の熱的変化の促進を実現するものと推察される。
からなる層を設けて、fUられる情報記録媒体の感度を
高めることか行なわれているが、本発明によれば、公知
の中間層を有する記録媒体よりも更に高感度の記録媒体
か得られる。情報記録媒体の中間層および/または記録
層に、炭素数lOの不飽和炭化水素化合物を)ミ成分と
して含む不飽和化合物の重合体を含有させることにより
、なぜ感度の顕著な向」二か実現するかについては詳細
な点は不明であるが、この重合体はレーザービームの照
射を受けた際に、それ自身の優れた熱的特性のために、
その上に設けられた記録層もしくは共存している記録材
ネ1の熱的変化の促進を実現するものと推察される。
また、たとえば、前記特開昭55−46988号公報に
記載されているように中間層の材料として臭素化ボリヒ
1〜ロキシスヂレンを用いた場合には、熱分解によって
ポリマー中の臭素か遊離し易く不安定であるとの欠点が
あった。中間層を、上記の炭素数10の不飽和炭化水素
化合物を主成分と【ノて含む不飽和炭化水素化合物の重
合体を主成分とする材料から形成した場合には、そのよ
うな好ましくない現象か生じることかなく、従って、本
発明の情報記録媒体は経時安定性の点ても優れたものと
なる。
記載されているように中間層の材料として臭素化ボリヒ
1〜ロキシスヂレンを用いた場合には、熱分解によって
ポリマー中の臭素か遊離し易く不安定であるとの欠点が
あった。中間層を、上記の炭素数10の不飽和炭化水素
化合物を主成分と【ノて含む不飽和炭化水素化合物の重
合体を主成分とする材料から形成した場合には、そのよ
うな好ましくない現象か生じることかなく、従って、本
発明の情報記録媒体は経時安定性の点ても優れたものと
なる。
[発明の構成]
本発明の情報記録媒体は、たとえば、次にような方法に
より製造することかてきる。
より製造することかてきる。
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材ネ′1から任意に選
択することかできる。基板の光学的特性、平面性、加工
性、堆扱い性、経時安定性および製造コストなどの点か
ら、基板材料の例としては強化ガラス等のガラス;セル
キャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメチ
ルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、
塩化ビニル共重合体等のJIJ化ビエビニル系樹脂リエ
チレンテレフタレートなどのポリエステル;およびポリ
カーボネートを挙げることかできる。
基板として用いられている各種の材ネ′1から任意に選
択することかできる。基板の光学的特性、平面性、加工
性、堆扱い性、経時安定性および製造コストなどの点か
ら、基板材料の例としては強化ガラス等のガラス;セル
キャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメチ
ルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、
塩化ビニル共重合体等のJIJ化ビエビニル系樹脂リエ
チレンテレフタレートなどのポリエステル;およびポリ
カーボネートを挙げることかできる。
記録層か設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向」−および記録層の変質の防止などの目的て
、下塗層が設けられていてもよい。
接着力の向」−および記録層の変質の防止などの目的て
、下塗層が設けられていてもよい。
下塗層の材料としては、たとえば、ポリメチルメタクリ
レ−1〜、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレ
ン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、
N−メチロールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸
共重合体、14に素化ポリエチレン、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、ポ
リエステル、ボリイミ1〜、酢酸ビニル・塩化ビニル共
重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリカーボネートなどの高分子物質
を挙げることかてきる。
レ−1〜、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレ
ン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、
N−メチロールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸
共重合体、14に素化ポリエチレン、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、ポ
リエステル、ボリイミ1〜、酢酸ビニル・塩化ビニル共
重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリカーボネートなどの高分子物質
を挙げることかてきる。
下塗層は、−1−記高分子物質を適当な溶剤に溶解また
は分散した後、この塗布液をスピンコード、ディップコ
−1−、エクストルージョンコート、ハーコーl〜、ス
クリーン印刷などの塗布方法を用いて基板上に塗布する
ことにより、形成することかてきる。下塗層の層厚は一
般に0.01乃至2011、mであり、好ましくは0.
1乃至lO川用である。
は分散した後、この塗布液をスピンコード、ディップコ
−1−、エクストルージョンコート、ハーコーl〜、ス
クリーン印刷などの塗布方法を用いて基板上に塗布する
ことにより、形成することかてきる。下塗層の層厚は一
般に0.01乃至2011、mであり、好ましくは0.
1乃至lO川用である。
次に、基板上には直接にあるいは下塗層を介して中間層
が設けられる。すなわち、中間層は下塗層を兼ねていて
もよい。
が設けられる。すなわち、中間層は下塗層を兼ねていて
もよい。
本発明の特徴的要件である炭素数10の不飽和炭化水素
化合物を主成分として含む不飽和化合物の重合体は、こ
の中間層または記録層に含有させる。また、中間層と記
録層の双方に含有させてもよい。なお記録層は、その形
成材料として色素などの塗布型材料を用いる場合以外は
、金属あるいは゛V:金属などの記録層材料をA着、ス
パッタリンク、イオンプレーテインダなどの方法によっ
て)4(板上に形成する場合か多いため、通常は1−記
の不飽和炭化水素化合物の重合体は中間層に含有される
ことか好ましい。なお、中間層は1−配下飽和化合物の
重合体のみから形成されていてもよく、あるいは他の重
合体などの所望の4A才1との161合物であってもよ
い。たたし、後者の場合には上記不飽和化合物の重合体
はその41シ合物中に50重1j%を越える吊にて含有
されていることか好ましい。
化合物を主成分として含む不飽和化合物の重合体は、こ
の中間層または記録層に含有させる。また、中間層と記
録層の双方に含有させてもよい。なお記録層は、その形
成材料として色素などの塗布型材料を用いる場合以外は
、金属あるいは゛V:金属などの記録層材料をA着、ス
パッタリンク、イオンプレーテインダなどの方法によっ
て)4(板上に形成する場合か多いため、通常は1−記
の不飽和炭化水素化合物の重合体は中間層に含有される
ことか好ましい。なお、中間層は1−配下飽和化合物の
重合体のみから形成されていてもよく、あるいは他の重
合体などの所望の4A才1との161合物であってもよ
い。たたし、後者の場合には上記不飽和化合物の重合体
はその41シ合物中に50重1j%を越える吊にて含有
されていることか好ましい。
炭素数10の不飽和炭化水素化合物の例としては、α−
ピネン、β−ピネン、ベンゾンおよびジシクロペンタジ
ェンを挙げることかできる。炭素数10の不飽和炭化水
素化合物は単独でも、相7fに組合せても利用すること
かできる。その組合せの例としては、α−ピネン/β−
ピネン/ジペンテン/ジシクロペンタジェン、α−ピネ
ン/β−ピネン/シベンデン、α−ピネン/β−ピネン
などを挙げることかてきる。
ピネン、β−ピネン、ベンゾンおよびジシクロペンタジ
ェンを挙げることかできる。炭素数10の不飽和炭化水
素化合物は単独でも、相7fに組合せても利用すること
かできる。その組合せの例としては、α−ピネン/β−
ピネン/ジペンテン/ジシクロペンタジェン、α−ピネ
ン/β−ピネン/シベンデン、α−ピネン/β−ピネン
などを挙げることかてきる。
本発明の炭素数10の不飽和炭化水素化合物は、炭素数
9以下の鎖状不飽和炭化水素化合物、あるいは炭素数5
もしくは6の環状不飽和炭化水素化合物などと組合せて
使用してもよい。
9以下の鎖状不飽和炭化水素化合物、あるいは炭素数5
もしくは6の環状不飽和炭化水素化合物などと組合せて
使用してもよい。
炭素数9以下の鎖状不飽和炭化水素化合物の例としては
、エチレン、プロピレン、イソプロピレンなどの炭素数
3以下のもの、ブタジェン、イソラテン、I−ブテンお
よび2−ブテンなどの炭素数4のもの、ペンテン、イソ
プレン、1.3−ペンタジェンおよびメチルラテンなど
の炭素数5のもの、■−ヘキセンなどの炭素数6のもの
、1−ヘプテンなどの炭素数7のもの、スチレン、フェ
ニルアセチレンなどの炭素数8のもの、α−メチルスヂ
レン、インデン、ビニルトルエンなどの炭素数9のもの
を挙げることかできる。
、エチレン、プロピレン、イソプロピレンなどの炭素数
3以下のもの、ブタジェン、イソラテン、I−ブテンお
よび2−ブテンなどの炭素数4のもの、ペンテン、イソ
プレン、1.3−ペンタジェンおよびメチルラテンなど
の炭素数5のもの、■−ヘキセンなどの炭素数6のもの
、1−ヘプテンなどの炭素数7のもの、スチレン、フェ
ニルアセチレンなどの炭素数8のもの、α−メチルスヂ
レン、インデン、ビニルトルエンなどの炭素数9のもの
を挙げることかできる。
tj5素数5もしくは6の環状不飽和炭化水素化合物の
例としては、シクロペンタジェン、シクロペンテン、シ
クロヘキセンを挙げることができる。
例としては、シクロペンタジェン、シクロペンテン、シ
クロヘキセンを挙げることができる。
本発明の炭素数lOの不飽和炭化水素化合物は、不飽和
炭化水素化合物以外の不飽和化合物と組合せて使用して
もよい。そのような不飽和化合物の例としては、アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリルアミ1〜、メタクリルア
ミ1〜.アクリル酸ニスデル、メタクリル酎ニスデルお
よびヒ1〜ロキシエチルメタクリレ−1−などを挙げる
ことかできる。
炭化水素化合物以外の不飽和化合物と組合せて使用して
もよい。そのような不飽和化合物の例としては、アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリルアミ1〜、メタクリルア
ミ1〜.アクリル酸ニスデル、メタクリル酎ニスデルお
よびヒ1〜ロキシエチルメタクリレ−1−などを挙げる
ことかできる。
たたし、いずれの場合ても、重合体を形成する不飽和炭
化水素化合物には、 l&素数10の不飽和炭化水素化
合物かに成分として含まれる必要かあり、通常はその:
L成分か20モル%以1−の割合にて用いられることか
好ましく、50モル%以上であることか特に好ましい。
化水素化合物には、 l&素数10の不飽和炭化水素化
合物かに成分として含まれる必要かあり、通常はその:
L成分か20モル%以1−の割合にて用いられることか
好ましく、50モル%以上であることか特に好ましい。
」−記の炭素数lOの不飽和炭化水素化合物を主成分と
して含む不飽和化合物の重合体は、たとえばテレピン油
として市1阪されているが、あるいは、公知のオレフィ
ン重合法に従って容易に製造することかてきる。
して含む不飽和化合物の重合体は、たとえばテレピン油
として市1阪されているが、あるいは、公知のオレフィ
ン重合法に従って容易に製造することかてきる。
なお、本発明にて使用する不飽和化合物の重合体は、平
均分子量か100〜1ooooの範囲内に入る程度の低
分子量のものであることが望ましく、さらに300〜5
000の範囲内の平均分子量を有するものであることか
特に望ましい。
均分子量か100〜1ooooの範囲内に入る程度の低
分子量のものであることが望ましく、さらに300〜5
000の範囲内の平均分子量を有するものであることか
特に望ましい。
」−記の炭素数10の不飽和炭化水素化合物を主成分と
して含む不飽和化合物の重合体は、公知の各種の高分子
物質、たとえば、ポリアクリレート系樹脂、ポリメタク
リレート系樹脂、セルロース系樹脂などと混合して用い
てもよい。
して含む不飽和化合物の重合体は、公知の各種の高分子
物質、たとえば、ポリアクリレート系樹脂、ポリメタク
リレート系樹脂、セルロース系樹脂などと混合して用い
てもよい。
中間層の形成においては、まず上記重合体を溶剤に溶解
して塗布液を調製する。
して塗布液を調製する。
重合体を溶解するための溶剤としては、メタノール、エ
タノール、プロパツール、ブタノール、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケ1〜ン、ジアセト
ンアルコール、メチルセロソルツ、エチルセロソルブ、
プチルセロソルツ、メチルセロソルブアセテ−1〜、エ
チルセロソルブアセテ−1〜、ジメチルホルムアミド、
シンナーなどを挙げることかてきる。
タノール、プロパツール、ブタノール、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケ1〜ン、ジアセト
ンアルコール、メチルセロソルツ、エチルセロソルブ、
プチルセロソルツ、メチルセロソルブアセテ−1〜、エ
チルセロソルブアセテ−1〜、ジメチルホルムアミド、
シンナーなどを挙げることかてきる。
これらの重合体溶液中には、基板との接着性増強剤、可
塑剤、滑剤、マット剤、帯電防止剤、架橋剤なとの各種
の添加物を所望に応して添加することか可能である。
塑剤、滑剤、マット剤、帯電防止剤、架橋剤なとの各種
の添加物を所望に応して添加することか可能である。
この塗布液を、スプレー法、スピンナー法、デイツプ法
、ロールヨー1〜法、プレートコート法、ドクターロー
ル法、スクリーン印刷法などの塗布方法により基板表面
(もしくは′F:塗層表面)に塗布して塗膜を形成した
のち乾燥することにより、基板(または下塗層)−1−
に中間層を形成することかできる。中間層の層厚は、通
常は0.02乃至20Jj、mてあり、好ましくは0.
05乃至5.0pmである。
、ロールヨー1〜法、プレートコート法、ドクターロー
ル法、スクリーン印刷法などの塗布方法により基板表面
(もしくは′F:塗層表面)に塗布して塗膜を形成した
のち乾燥することにより、基板(または下塗層)−1−
に中間層を形成することかできる。中間層の層厚は、通
常は0.02乃至20Jj、mてあり、好ましくは0.
05乃至5.0pmである。
次いて、中間層上には記録層か設けられる。
記録層に用いられる材ネこ1の例としては、Te、Zn
、In、Sn、Zr、Alt、Ti、Cu、Ge、Au
、Pt等の金属;Bi、As、Sb等の半金属:Ge、
Sl等の半導体;およびこれらの合金またはこれらの組
合せを挙げることかできる。また、これらの金属、半金
属または半導体の硫化物、酸化物、ホウ化物、ケイ素化
合物、炭化物および窒化物等の化合物:およびこれらの
化合°1勿と金属との混合物も記録層に用いることかて
きる。あるいは、色素と重合体との組合せを利用するこ
ともてきる。
、In、Sn、Zr、Alt、Ti、Cu、Ge、Au
、Pt等の金属;Bi、As、Sb等の半金属:Ge、
Sl等の半導体;およびこれらの合金またはこれらの組
合せを挙げることかできる。また、これらの金属、半金
属または半導体の硫化物、酸化物、ホウ化物、ケイ素化
合物、炭化物および窒化物等の化合物:およびこれらの
化合°1勿と金属との混合物も記録層に用いることかて
きる。あるいは、色素と重合体との組合せを利用するこ
ともてきる。
記録層は、L記材料を蒸着、スパッタリング、イオンプ
レーデーfンタなどの方法により基板上に直接にまたは
ド塗層な介して形成することができる。記録層は中層ま
たは重層てもよいが、その層厚は、光情報記録に要求さ
れる光学濃度の点から一般に1. OO乃至5500X
の範囲であり、好ましくは150〜1000又の範囲で
ある。
レーデーfンタなどの方法により基板上に直接にまたは
ド塗層な介して形成することができる。記録層は中層ま
たは重層てもよいが、その層厚は、光情報記録に要求さ
れる光学濃度の点から一般に1. OO乃至5500X
の範囲であり、好ましくは150〜1000又の範囲で
ある。
記録層か色素と重合体との組合せからなる場合には、そ
の重合体として、前記の炭素数lOの不飽和炭化水素化
合物を主成分として含む不飽和化合物の重合体を用いて
もよい。
の重合体として、前記の炭素数lOの不飽和炭化水素化
合物を主成分として含む不飽和化合物の重合体を用いて
もよい。
このようにして、基本的に基板、中間層および記録層か
この順序て積層された情報記録媒体を製造することかで
きる。
この順序て積層された情報記録媒体を製造することかで
きる。
なお、記録層の上には、機械的強度の向上などの[1的
て、たとえばゼラチン、ゼラチン誘導体等の天然高分子
物質:セルロース誘導体、ポリサラカライド、ラテック
ス状ビニルポリマー、エヂレン・酢酸ビニル共重合体等
の合成高分子物質などからなる保M膜か設けられていて
もよい。
て、たとえばゼラチン、ゼラチン誘導体等の天然高分子
物質:セルロース誘導体、ポリサラカライド、ラテック
ス状ビニルポリマー、エヂレン・酢酸ビニル共重合体等
の合成高分子物質などからなる保M膜か設けられていて
もよい。
また、基板−1−にはレーザービームのトラッキング用
溝やア1〜レス信号等の情報を表わす凹凸かr・め設け
られていてもよい。このような溝および凹凸を設ける方
法としては、溝または凹凸を有する原盤から射出成形法
によりポリメチルメタクリレート、ポリカーボネー1−
等のプラスチック基板を作製する方法かある。この場合
に本発明に係る中間層は、この溝、凹凸を有する基板上
に前述の方法により塗設される。また、溝、凹凸を設け
る別の方法としては、基板と原盤との間に光硬化性樹脂
からなる塗膜を設けて光硬化させたのち、原盤を剥離さ
せる方法(2P法)かある。この場合には、本発明に係
る中間層を予め原盤に塗設したのち光硬化性樹脂を原盤
と基板との間に挟み込み。
溝やア1〜レス信号等の情報を表わす凹凸かr・め設け
られていてもよい。このような溝および凹凸を設ける方
法としては、溝または凹凸を有する原盤から射出成形法
によりポリメチルメタクリレート、ポリカーボネー1−
等のプラスチック基板を作製する方法かある。この場合
に本発明に係る中間層は、この溝、凹凸を有する基板上
に前述の方法により塗設される。また、溝、凹凸を設け
る別の方法としては、基板と原盤との間に光硬化性樹脂
からなる塗膜を設けて光硬化させたのち、原盤を剥離さ
せる方法(2P法)かある。この場合には、本発明に係
る中間層を予め原盤に塗設したのち光硬化性樹脂を原盤
と基板との間に挟み込み。
光照射後、R盤をM離させて光硬化性樹脂層1:に中間
層か設けられた構造を得ることかてきる。
層か設けられた構造を得ることかてきる。
後者の方法に使用される光硬化性樹脂の代表的な例とし
ては、光重合性千ツマ−(および/またはオリゴマー)
と光重合開始剤等との混合物か挙げられる。光重合性千
ツマ−(オリゴマー)としては、エチレングリコール、
ポリエチレンクリコール、ボリブロピレンタリコール、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等のメ
タクリル酸エステル、アクリル酸エステルなど公知の材
料を単独てまたは組み合わせて用いることかてきる。ま
た光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイン
メチルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル、アン
スラキノン等のキノン類他の従来公知の材料を好適に用
いることかてきる。
ては、光重合性千ツマ−(および/またはオリゴマー)
と光重合開始剤等との混合物か挙げられる。光重合性千
ツマ−(オリゴマー)としては、エチレングリコール、
ポリエチレンクリコール、ボリブロピレンタリコール、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等のメ
タクリル酸エステル、アクリル酸エステルなど公知の材
料を単独てまたは組み合わせて用いることかてきる。ま
た光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイン
メチルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル、アン
スラキノン等のキノン類他の従来公知の材料を好適に用
いることかてきる。
基板の記録層か設けられる側とは反対側の表面には、耐
傷性、防湿性などを高めるために、たとえば二酸化ケイ
素、酸化スズ、弗化マクネシウムなどの無機物質からな
る薄膜が真空蒸着、スパッタリング等により設けられて
いてもよい。
傷性、防湿性などを高めるために、たとえば二酸化ケイ
素、酸化スズ、弗化マクネシウムなどの無機物質からな
る薄膜が真空蒸着、スパッタリング等により設けられて
いてもよい。
なお、本発明の情報記録媒体は貼り合わせタイプの形態
にあってもよく、この記録媒体においては、上記構成を
有する二枚の基板を接着剤等を用いて接合することによ
り製造することかできる。
にあってもよく、この記録媒体においては、上記構成を
有する二枚の基板を接着剤等を用いて接合することによ
り製造することかできる。
また、エアーサンドイッチタイプの記録媒体においては
、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方か上記構成
を有する基板を、リング状の外側スペーサと円盤状内側
スペーサとを介して接合することにより製造することか
できる。
、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方か上記構成
を有する基板を、リング状の外側スペーサと円盤状内側
スペーサとを介して接合することにより製造することか
できる。
あるいは、ポリエステル薄1模なとからなる可撓性支持
体上に中間層を設け、さらに記録層と保護層とを設ける
ことによりウエツ状のレーザー記録媒体を得ることもで
きる。
体上に中間層を設け、さらに記録層と保護層とを設ける
ことによりウエツ状のレーザー記録媒体を得ることもで
きる。
次に本発明の実施例および比較例を記載する。
たたし、これらの各個は本発明を制限するものでない。
[実施例1]
正方形のポリエステル基板(40cmxlOcm、厚さ
:10100pをイソプロピルアルコール中に浸漬して
超音波洗浄し、次いでフレオンを用いて素堅く乾燥させ
た。
:10100pをイソプロピルアルコール中に浸漬して
超音波洗浄し、次いでフレオンを用いて素堅く乾燥させ
た。
α−ピネン/β−ピネン/ジペンテン共重合体(平均分
子量:800)2gを、メチルエチルケトン30 m
l、トルエン30m1およびプロピレンクリコール千ツ
メチルエーテル60 m lからなる混合溶媒に溶解し
て中間層形成用塗布液を調製し、この塗布液を上記基板
の表面にスピンコーターを用い、回転数300rpmに
て10秒間塗布し、次いで回転数800rpmにて20
秒間塗布した。この塗布層を80°Cにて10分間乾燥
して、乾燥後の膜厚が0.2ルmの中間層を形成した。
子量:800)2gを、メチルエチルケトン30 m
l、トルエン30m1およびプロピレンクリコール千ツ
メチルエーテル60 m lからなる混合溶媒に溶解し
て中間層形成用塗布液を調製し、この塗布液を上記基板
の表面にスピンコーターを用い、回転数300rpmに
て10秒間塗布し、次いで回転数800rpmにて20
秒間塗布した。この塗布層を80°Cにて10分間乾燥
して、乾燥後の膜厚が0.2ルmの中間層を形成した。
次に、上記中間層の」−にIn層(300X)とGeS
層(240X)とを共蒸着し、層厚が540又の記録層
を形成した。
層(240X)とを共蒸着し、層厚が540又の記録層
を形成した。
以」二の方法により、基板、炭素数ioの不飽和炭化水
素化合物の重合体からなる中間層、および記録層から構
成された情報記録媒体を製造した。
素化合物の重合体からなる中間層、および記録層から構
成された情報記録媒体を製造した。
[実施例2]
中間層形成用の重合体として、α−ピネン/β−ピネン
/ジペンテン/アクリル酸(平均分子量: 600)を
同量用いた以外は実施例1と同様にして、基板、炭素数
10の不飽和炭化水素化合物を主成分として含む不飽和
炭化水素化合物の重合体からなる中間層、および記録層
から構成された情報記録媒体を製造した。
/ジペンテン/アクリル酸(平均分子量: 600)を
同量用いた以外は実施例1と同様にして、基板、炭素数
10の不飽和炭化水素化合物を主成分として含む不飽和
炭化水素化合物の重合体からなる中間層、および記録層
から構成された情報記録媒体を製造した。
[比較例11
中間層形成用の重合体として、ポリメチルメタクリレー
ト(ダイヤナールBR−85、二菱し−ヨン■製、平均
分子量: 250000 )を同量用いた以外は実施例
1と同様にして、基板、ポリメチルメタクリレートから
なる中間層、および記録層から構成された情報記録媒体
を製造した。
ト(ダイヤナールBR−85、二菱し−ヨン■製、平均
分子量: 250000 )を同量用いた以外は実施例
1と同様にして、基板、ポリメチルメタクリレートから
なる中間層、および記録層から構成された情報記録媒体
を製造した。
[比較例2]
中間層形成用の重合体として、ニトロセルロース(R3
1/2、ダイセル■製、平均分子量=1200)を同量
用いた以外は実施例1と同様にして、基板、ニトロセル
ロースからなる中間層、および記録層から構成された情
報記録媒体を製造した。
1/2、ダイセル■製、平均分子量=1200)を同量
用いた以外は実施例1と同様にして、基板、ニトロセル
ロースからなる中間層、および記録層から構成された情
報記録媒体を製造した。
[比較例3]
中間層形成用の重合体として、ポリスチレン(ハイマー
ST−’95、玉洋化成鞠製、平均分子昂: 1ooo
o)を同量用いた以外は実施例1と同様にして、基板、
ポリスチレンからなる中間層、および記録層から構成さ
れた情報記録媒体を製造した。
ST−’95、玉洋化成鞠製、平均分子昂: 1ooo
o)を同量用いた以外は実施例1と同様にして、基板、
ポリスチレンからなる中間層、および記録層から構成さ
れた情報記録媒体を製造した。
[比較例4]
中間層形成用の重合体として、ポリスチレン(ハイマー
5B−120、三洋化成■製、平均分子量: 2500
0 )を同量用いた以外は実施例1と同様にして、基板
、ポリスチレンからなる中間層、および記録層から構成
された情報記録媒体を製造した。
5B−120、三洋化成■製、平均分子量: 2500
0 )を同量用いた以外は実施例1と同様にして、基板
、ポリスチレンからなる中間層、および記録層から構成
された情報記録媒体を製造した。
[実施例3]
正方形のポリエステル基板(10cmX10cm、厚さ
:10100pをイソプロピルアルコール中に浸漬して
超音波洗浄し、次いてフレオンを用いて素早く乾燥させ
た。
:10100pをイソプロピルアルコール中に浸漬して
超音波洗浄し、次いてフレオンを用いて素早く乾燥させ
た。
α−ピネン/β−ピネン/ジペンテン共重合体(平均分
子量: 800)5gを、メチルエチルケトン40gと
1−ルエン55gからなる混合溶媒に溶解して中間層形
成用塗布液を調製し、この塗布液を上記基板の表面にス
ピンコーターを用い、回転数300rpmにて10秒間
塗布し、次いて回転数800rpmにて20秒間塗布し
た。この塗布層を80°Cにて10分間乾燥して、乾燥
後の膜厚が0.2gmの中間層を形成した。
子量: 800)5gを、メチルエチルケトン40gと
1−ルエン55gからなる混合溶媒に溶解して中間層形
成用塗布液を調製し、この塗布液を上記基板の表面にス
ピンコーターを用い、回転数300rpmにて10秒間
塗布し、次いて回転数800rpmにて20秒間塗布し
た。この塗布層を80°Cにて10分間乾燥して、乾燥
後の膜厚が0.2gmの中間層を形成した。
」−記中間層の表面上に、■−メチルー2−[7−(1
−メチル−3,3−ジメチル−5−クロロ−2−インド
リニリデン)−1,3,5−ヘプタトリフェニル]−3
,3−ジメチル−5−クロロインドリウム・パークコレ
−1〜色素0.6gをメタノール94.4gとジクロル
メタン5.0gとの混合溶媒に溶解させた記録層形成用
塗布液を、スピンコーターを用い、回転数30Orpm
にて10秒間塗布し、次いて回転@ 800 r p
mにて20秒間塗布した。この塗41層を806Cにて
10分間乾燥して、乾燥後の膜厚か480pLmの色素
記録層を形成した。
−メチル−3,3−ジメチル−5−クロロ−2−インド
リニリデン)−1,3,5−ヘプタトリフェニル]−3
,3−ジメチル−5−クロロインドリウム・パークコレ
−1〜色素0.6gをメタノール94.4gとジクロル
メタン5.0gとの混合溶媒に溶解させた記録層形成用
塗布液を、スピンコーターを用い、回転数30Orpm
にて10秒間塗布し、次いて回転@ 800 r p
mにて20秒間塗布した。この塗41層を806Cにて
10分間乾燥して、乾燥後の膜厚か480pLmの色素
記録層を形成した。
以りの方法により、基板、炭素数10の不飽和炭化水素
化合物の重合体からなる中間層、および色素記録層から
構成された情報記録媒体を製造した。
化合物の重合体からなる中間層、および色素記録層から
構成された情報記録媒体を製造した。
[比較例5]
中間層形成用の重合体として、ニトロセルロース(R3
I/2、タイセル■製、平均分子量:1200)を同量
用いた以外は実施例3と同様にして、基板、ニトロセル
ロースからなる中間層、および色素記録層から構成され
た情報記録媒体を製造した。
I/2、タイセル■製、平均分子量:1200)を同量
用いた以外は実施例3と同様にして、基板、ニトロセル
ロースからなる中間層、および色素記録層から構成され
た情報記録媒体を製造した。
[情報記録媒体の感度評価]
アルゴンレーザー(波長: 514.5nm)をレンズ
によりビーム系257tmに集光し、変調器により1.
33psecのパルス幅として、各個において得られた
情報記録媒体に照射して、露光操作を行なった。この露
光操作において記録層に線lll、11OpLmの溝を
形成するに必要なレーザー出力強度を当該情報記録媒体
の感度として評価した。
によりビーム系257tmに集光し、変調器により1.
33psecのパルス幅として、各個において得られた
情報記録媒体に照射して、露光操作を行なった。この露
光操作において記録層に線lll、11OpLmの溝を
形成するに必要なレーザー出力強度を当該情報記録媒体
の感度として評価した。
従って、レーザー出力強度の低い記録媒体はど感度か高
いことになる。
いことになる。
評価結果を第1表に示す。
第1表
感度(m W )
実施例1 80
実施例2 85
比較例1 175
比較例2 175
比較例3 170
比較例4 170
実施例3 45
比較例5 150
第1表に示した結果から明らかなように、本発明の情報
記録媒体(実施例1.2)は、公知の情報記録媒体(比
較例1.2.3.4)と比較して記録感度か著しく高い
ことか確認された。また、記録層の記録材料として色素
を用いた系でも同様な傾向かあること(実施例3と比較
例5)か確認された。
記録媒体(実施例1.2)は、公知の情報記録媒体(比
較例1.2.3.4)と比較して記録感度か著しく高い
ことか確認された。また、記録層の記録材料として色素
を用いた系でも同様な傾向かあること(実施例3と比較
例5)か確認された。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1。基板上に、中間層を介してレーザーによる情報の書
き込みおよび/または読み取りが可能な記録層を有する
情報記録媒体において、該記録層および/または中間層
が、炭素数10の不飽和炭化水素化合物を主成分として
含む不飽和化合物の重合体を含有することを特徴とする
情報記録媒体。 2。炭素数10の不飽和炭化水素化合物が、α−ピネン
、β−ピネン、ジペンテンおよびジシクロペンタジエン
からなる群より選ばれる少なくとも一種の不飽和炭化水
素化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の情報記録媒体。 3。炭素数10の不飽和炭化水素化合物を主成分として
含む不飽和化合物の重合体が、100〜10000の範
囲内の平均分子量を有するものであることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の情報記録媒体。 4。炭素数10の不飽和炭化水素化合物を主成分として
含む不飽和化合物の重合体が、300〜5000の範囲
内の平均分子量を有するものであることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の情報記録媒体。 5。記録層が、上記不飽和化合物の重合体を含有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の情報記録媒
体。 6。中間層が、上記不飽和化合物の重合体を含有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の情報記録媒
体。 7。中間層が、実質的に上記不飽和化合物の重合体より
なることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の情報
記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61184629A JPS6339386A (ja) | 1986-08-05 | 1986-08-05 | 情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61184629A JPS6339386A (ja) | 1986-08-05 | 1986-08-05 | 情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6339386A true JPS6339386A (ja) | 1988-02-19 |
Family
ID=16156573
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61184629A Pending JPS6339386A (ja) | 1986-08-05 | 1986-08-05 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6339386A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0455824A1 (en) * | 1989-11-29 | 1991-11-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Frost image recording medium and method and apparatus for preparing and reading frost image |
-
1986
- 1986-08-05 JP JP61184629A patent/JPS6339386A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0455824A1 (en) * | 1989-11-29 | 1991-11-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Frost image recording medium and method and apparatus for preparing and reading frost image |
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