JPS6338317U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6338317U JPS6338317U JP12947186U JP12947186U JPS6338317U JP S6338317 U JPS6338317 U JP S6338317U JP 12947186 U JP12947186 U JP 12947186U JP 12947186 U JP12947186 U JP 12947186U JP S6338317 U JPS6338317 U JP S6338317U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lid
- reaction tube
- basket
- disk
- gap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 3
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
Description
第1図は本考案の一実施例の全体の縦断面図、
第2図は、第1図のA―A断面の反応管内部詳細
図、第3図aは、従来装置での冷却特性線図でウ
エハ温度の経時的変化を表わし、第3図bはウエ
ハのBTM、MID、TOPの各位置関係を示し
たものである。 1……ウエハ、2……バスケツト、3……反応
器、4……均熱管、5……ヒータ、6……蓋体、
7……ガス通路、8……ピース、9……円板、1
0……断熱材、11……アーム、12……給気管
、13……排気管、14……給気口、15……ベ
ース。
第2図は、第1図のA―A断面の反応管内部詳細
図、第3図aは、従来装置での冷却特性線図でウ
エハ温度の経時的変化を表わし、第3図bはウエ
ハのBTM、MID、TOPの各位置関係を示し
たものである。 1……ウエハ、2……バスケツト、3……反応
器、4……均熱管、5……ヒータ、6……蓋体、
7……ガス通路、8……ピース、9……円板、1
0……断熱材、11……アーム、12……給気管
、13……排気管、14……給気口、15……ベ
ース。
Claims (1)
- 鉛直に立てた反応管の外周からヒータで加熱て
おり、装置外でウエハを装着したバスケツトを反
応管の底面の出入口から反応管内に挿入する機構
を有しており、該バスケツトと一体もしくは単体
で連動する蓋体によつて反応管底面を閉じること
を特徴とするウエハの加熱処理装置において、蓋
体に装置外部面から反応管内に貫通するガス通路
を設け、蓋体をバスケツトの間に円板を置き円板
と蓋体の隙間で半径方向のガス通路を設けており
、両者のガス通路及び反応管と蓋体の隙間を通じ
て、冷却ガスを流すことにより蓋体を冷却してい
ることを特徴とする半導体ウエハの加熱処理装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12947186U JPS6338317U (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12947186U JPS6338317U (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6338317U true JPS6338317U (ja) | 1988-03-11 |
Family
ID=31026068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12947186U Pending JPS6338317U (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6338317U (ja) |
-
1986
- 1986-08-27 JP JP12947186U patent/JPS6338317U/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3069412B2 (ja) | 半導体ウエハの処理装置および方法 | |
| TWI610339B (zh) | 熱處理裝置及熱處理方法 | |
| JPH0727895B2 (ja) | 半導体ウエハーの処理方法と装置 | |
| JP2004304096A (ja) | 熱処理方法及び熱処理装置 | |
| KR20090037808A (ko) | 열처리장치, 열처리방법 및 기억매체 | |
| US4979896A (en) | Cooling device of heating furnace in thermal analyzer | |
| JPS6338317U (ja) | ||
| JPS61208218A (ja) | 縦型拡散炉装置 | |
| JP2002305189A (ja) | 縦型熱処理装置およびその強制空冷方法 | |
| JPS627685B2 (ja) | ||
| JP4718054B2 (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| JPS61227169A (ja) | スパツタリング装置 | |
| JPH0271513A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2974032B2 (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| JPH0445031Y2 (ja) | ||
| JP3118760B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| JP3468562B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| JPH0330259U (ja) | ||
| JPS61161711A (ja) | 半導体の熱処理方法及び熱処理装置 | |
| JPH09306857A (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| JP2536994Y2 (ja) | 半導体製造装置のボート搬送装置 | |
| JPH0350325U (ja) | ||
| JPH044749B2 (ja) | ||
| JPS6217481Y2 (ja) | ||
| JPS62152432U (ja) |