JPS6334899A - Ｘ線装置の高電圧制御用真空管のフイラメント加熱回路 - Google Patents
Ｘ線装置の高電圧制御用真空管のフイラメント加熱回路Info
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- JPS6334899A JPS6334899A JP17775386A JP17775386A JPS6334899A JP S6334899 A JPS6334899 A JP S6334899A JP 17775386 A JP17775386 A JP 17775386A JP 17775386 A JP17775386 A JP 17775386A JP S6334899 A JPS6334899 A JP S6334899A
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
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- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の利用分野］
本発明は、Ｘ線装置においてｘ４＠管の管電圧を制御す
る高電圧制御用真空管のフィラメント加熱回路に関する
ものである。
る高電圧制御用真空管のフィラメント加熱回路に関する
ものである。
［発明の背景コ
従来のこの種の回路が適用されたＸ線装置を第３図に示
す。この第３図において、摺動トランス１は高圧トラン
ス２に印加する一次電圧を調整するものであり、この高
圧トランス２の二次側に発生した高電圧を整流器３ａ＋
３ｂにて整流した後、高圧コンデンサ４ａ＊ ４ｂにて
平滑し、高電圧制御用真空管、ここでは高圧四極真空管
（以下テトロードチューブと称す） ５ａ＋ ｓｂのグ
リッド電圧を可変するバイアス回路６ａｔＳｂをもって
制御することによりｘａ管７に任意の電圧を印加する。
す。この第３図において、摺動トランス１は高圧トラン
ス２に印加する一次電圧を調整するものであり、この高
圧トランス２の二次側に発生した高電圧を整流器３ａ＋
３ｂにて整流した後、高圧コンデンサ４ａ＊ ４ｂにて
平滑し、高電圧制御用真空管、ここでは高圧四極真空管
（以下テトロードチューブと称す） ５ａ＋ ｓｂのグ
リッド電圧を可変するバイアス回路６ａｔＳｂをもって
制御することによりｘａ管７に任意の電圧を印加する。
Ｘ線管電圧制御回路８はＸ線条件設定器１８により設定
され、ＣＰＵ９から出力された設定Ｘ線管電圧データを
ディジタル／アナログ変換器１０ａによりアナログ量に
変換してなる設定Ｘ線管電圧信号と１分圧器１１により
取り出された実Ｘ線管電圧信号とを比較制御し、Ｘ線放
射スイッチ１７が閉略されたときをもって起動される限
時回路１２により設定された時間中に設定Ｘ線管電圧を
Ｘ線管７に印加すべくテトロードチューブ５ａ、５ｂを
動作せしめるものである。
され、ＣＰＵ９から出力された設定Ｘ線管電圧データを
ディジタル／アナログ変換器１０ａによりアナログ量に
変換してなる設定Ｘ線管電圧信号と１分圧器１１により
取り出された実Ｘ線管電圧信号とを比較制御し、Ｘ線放
射スイッチ１７が閉略されたときをもって起動される限
時回路１２により設定された時間中に設定Ｘ線管電圧を
Ｘ線管７に印加すべくテトロードチューブ５ａ、５ｂを
動作せしめるものである。
加熱トランス１３ａは、Ｘ線管７のフィラメントに電圧
を印加するものであり、Ｘ線条件設定器１８により設定
されたＣＰＵ９からの設定Ｘ線管電流データをディジタ
ル／アナログ変換器ｔａｂによりアナログ量に変換して
なる設定Ｘ線管電流信号をもって加熱用回路１４により
フィラメント印加電圧を可変する。開閉器１５はＸ線放
射準備スイッチ１６が閉路された時をもって図示しない
リレー回路により投入され、摺動トランス１の出力電圧
を高圧トランス２の一次側に印加するものである。
を印加するものであり、Ｘ線条件設定器１８により設定
されたＣＰＵ９からの設定Ｘ線管電流データをディジタ
ル／アナログ変換器ｔａｂによりアナログ量に変換して
なる設定Ｘ線管電流信号をもって加熱用回路１４により
フィラメント印加電圧を可変する。開閉器１５はＸ線放
射準備スイッチ１６が閉路された時をもって図示しない
リレー回路により投入され、摺動トランス１の出力電圧
を高圧トランス２の一次側に印加するものである。
なお、テトロードチューブ５ａｙ ｓｂのフィラメント
加熱回路を構成するフィラメント加熱トランス１３ｂ、
１３ｃは、摺動トランスｌの入力側に直結されており
、装置ｆｆｉ源投入後はテトロードチューブフィラメン
トに常に定格電圧を印加している。
加熱回路を構成するフィラメント加熱トランス１３ｂ、
１３ｃは、摺動トランスｌの入力側に直結されており
、装置ｆｆｉ源投入後はテトロードチューブフィラメン
トに常に定格電圧を印加している。
次に上述装置の動作を説明する。装置電源が投入された
だけの状態（定常状態）においては、開閉器１５は開放
されており、高圧トランス２には電源は供給されない、
テトロードチューブ５ａ、５ｂはグリッドバイアス回路
６ａｅ Ｓｂをもってカットオフ状態にあるが、そのフ
ィラメントには加熱トランス１３ｂ＊ １３ｃにより定
格電圧が印加されている。一方、Ｘ線管７のフィラメン
トには加熱トランス１３、によってその定格電圧に比べ
て微小な電圧が印加されている。これは、Ｘ線管７のフ
ィラメント温度が規定の管電流を流し得る温度に達する
のに完全に冷却状態にあると時間を要するからである。
だけの状態（定常状態）においては、開閉器１５は開放
されており、高圧トランス２には電源は供給されない、
テトロードチューブ５ａ、５ｂはグリッドバイアス回路
６ａｅ Ｓｂをもってカットオフ状態にあるが、そのフ
ィラメントには加熱トランス１３ｂ＊ １３ｃにより定
格電圧が印加されている。一方、Ｘ線管７のフィラメン
トには加熱トランス１３、によってその定格電圧に比べ
て微小な電圧が印加されている。これは、Ｘ線管７のフ
ィラメント温度が規定の管電流を流し得る温度に達する
のに完全に冷却状態にあると時間を要するからである。
ｘＩｉ！放射準備スイッチ１６が閉路された時をもって
開閉器１５が投入され、高圧トランス２、整流器３ａｗ
３ｂ、高圧コンデンサ４ａ＊ ４ｂを経てテトロードヂ
ューブＦｅ１ｔ ｓｂに高圧直流が印加される。この時
点でＣＰＵ９よりＸ線条件設定器１８にてあらかじめ設
定されたＸ線管電圧値に応じた信号がＤ／Ａ変換器１０
Ｂを経てＸ線管電圧制御回路８に出力されるが、限時回
路１２よりＸ線放射の信号がないのでテトロードチュー
ブ５ａｙ ｓｂはまだカットオフ状態にあり、Ｘ線管７
には電圧は印加されない。また、同時にＣＰＵ９よりＸ
線条件設定器１８にて設定されたＸ線管電流値に応じた
信号がＤ／Ａ変換器１０ｂを経て加熱用回路１４に出力
され、加熱トランス１３ａにより設定Ｘ線管電流値に応
じたフィラメント電圧の印加、すなわちｘｇ管７のフィ
ラメント加熱が開始される。
開閉器１５が投入され、高圧トランス２、整流器３ａｗ
３ｂ、高圧コンデンサ４ａ＊ ４ｂを経てテトロードヂ
ューブＦｅ１ｔ ｓｂに高圧直流が印加される。この時
点でＣＰＵ９よりＸ線条件設定器１８にてあらかじめ設
定されたＸ線管電圧値に応じた信号がＤ／Ａ変換器１０
Ｂを経てＸ線管電圧制御回路８に出力されるが、限時回
路１２よりＸ線放射の信号がないのでテトロードチュー
ブ５ａｙ ｓｂはまだカットオフ状態にあり、Ｘ線管７
には電圧は印加されない。また、同時にＣＰＵ９よりＸ
線条件設定器１８にて設定されたＸ線管電流値に応じた
信号がＤ／Ａ変換器１０ｂを経て加熱用回路１４に出力
され、加熱トランス１３ａにより設定Ｘ線管電流値に応
じたフィラメント電圧の印加、すなわちｘｇ管７のフィ
ラメント加熱が開始される。
続いてＸ線放射スイッチ１７が閉路された時をもって、
限時回路１２よりＸ線放射信号がＸ線管電圧制御回路８
に出力され、テトロードチューブ５ａｙ５、は導通状態
となりＸ線管７に設定電圧が印加され、Ｘ線管７のフィ
ラメント加熱と相まって設定管電圧・管電流に従った、
Ｘ線を放射する。Ｘ線の放射は、Ｘ線条件設定器１８に
よりあらかじめ設定された時間に応じて限時回路１２に
よりテトロードチューブ５ａ＋”＆を再びカットオフ状
態とすることで停止する。テトロードチューブ５ａｐ５
ｂへの電圧の印加は、Ｘ線放射準備スイッチ１６を開路
することにより開閉器１５が開放され、遮断される。同
時にＸ線管７のフィラメント電圧も微小値に戻る。
限時回路１２よりＸ線放射信号がＸ線管電圧制御回路８
に出力され、テトロードチューブ５ａｙ５、は導通状態
となりＸ線管７に設定電圧が印加され、Ｘ線管７のフィ
ラメント加熱と相まって設定管電圧・管電流に従った、
Ｘ線を放射する。Ｘ線の放射は、Ｘ線条件設定器１８に
よりあらかじめ設定された時間に応じて限時回路１２に
よりテトロードチューブ５ａ＋”＆を再びカットオフ状
態とすることで停止する。テトロードチューブ５ａｐ５
ｂへの電圧の印加は、Ｘ線放射準備スイッチ１６を開路
することにより開閉器１５が開放され、遮断される。同
時にＸ線管７のフィラメント電圧も微小値に戻る。
上述説明から分かるように、従来の高電圧制御用真空管
のフィラメント加熱回路は、Ｘ線装置ｉ！電源投入中、
高電圧制御用真空管（上述回路ではテトロードチューブ
５ａｅ ５ｂ）には常時そのフィラメントの定格電圧を
印加するように構成されていた。
のフィラメント加熱回路は、Ｘ線装置ｉ！電源投入中、
高電圧制御用真空管（上述回路ではテトロードチューブ
５ａｅ ５ｂ）には常時そのフィラメントの定格電圧を
印加するように構成されていた。
このためフィラメント寿命、ひいては高電圧制御用真空
管自体の寿命を短縮、特にＸ線装置使用後にその電源を
切り忘れることによっては著しく短縮させるという問題
点があった。
管自体の寿命を短縮、特にＸ線装置使用後にその電源を
切り忘れることによっては著しく短縮させるという問題
点があった。
［発明の目的］
本発明は上記のような問題点を解消するためになされた
もので、高電圧制御用真空管を長寿命化することができ
る高電圧制御用真空管のフィラメント加熱回路を提供す
ることを目的とする。
もので、高電圧制御用真空管を長寿命化することができ
る高電圧制御用真空管のフィラメント加熱回路を提供す
ることを目的とする。
［発明の概要コ
本発明は、Ｘ線管に管電圧を実際に印加する時間は従来
回路における高電圧制御用真空管のフィラメント定格電
圧印加時間中のごくわずかな時間だけであることに着目
してなされたもので、前記管電圧を実際に印加する場合
に必要とする最小時間を除いては、前記フィラメントに
は微小電圧を印加し、上述目的を達成するようにしたも
のである。
回路における高電圧制御用真空管のフィラメント定格電
圧印加時間中のごくわずかな時間だけであることに着目
してなされたもので、前記管電圧を実際に印加する場合
に必要とする最小時間を除いては、前記フィラメントに
は微小電圧を印加し、上述目的を達成するようにしたも
のである。
［発明の実施例］
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。第１図
は本発明回路が適用されたＸ線装置の一例を示す回路図
で、図中１０．はＣＰＵ９からの信号をアナログ信号に
変換するディジタル／アナログ変換器、１９はこの変換
Ｗ１１０ｃからの信号によりテトロードチューブ５ａ＋
５ｂのフィラメントに電圧を印加し、加熱する加熱用回
路である。この場合、ＣＰＵ９からディジタルｌアナロ
グ変換器１０ｃに送られる信号は、テトロードチューブ
５ａ＋５ｂのフィラメントに対し、Ｘ線装置電源投入時
からは定格電圧に比べて微小電圧を印加させ、少なくと
もＸ線管７の管電圧を印加する一定時ｒｍ（アイドリン
グ時間）前から印加終了時までの時間にはＸ線条件設定
器１８であらかじめ設定されたＸ線条件に応じた電圧を
印加させることを内容とする信号である。
は本発明回路が適用されたＸ線装置の一例を示す回路図
で、図中１０．はＣＰＵ９からの信号をアナログ信号に
変換するディジタル／アナログ変換器、１９はこの変換
Ｗ１１０ｃからの信号によりテトロードチューブ５ａ＋
５ｂのフィラメントに電圧を印加し、加熱する加熱用回
路である。この場合、ＣＰＵ９からディジタルｌアナロ
グ変換器１０ｃに送られる信号は、テトロードチューブ
５ａ＋５ｂのフィラメントに対し、Ｘ線装置電源投入時
からは定格電圧に比べて微小電圧を印加させ、少なくと
もＸ線管７の管電圧を印加する一定時ｒｍ（アイドリン
グ時間）前から印加終了時までの時間にはＸ線条件設定
器１８であらかじめ設定されたＸ線条件に応じた電圧を
印加させることを内容とする信号である。
テトロードチューブ５ａｖ ｓｂのフィラメントに必要
な印加電圧は、Ｘ線管７のフィラメント印加電圧と同じ
く管電流に依存する。したがって、ここではＸ線管７の
フィラメント電圧を印加するためのＣＰＵ９からの信号
を共通に用いてテトロードチューブ５ａ＋５ｂのフィラ
メント印加電圧を制御するようにした。これによりテト
ロードチューブ５ａｅ５ｂのフィラメントには、Ｘ線条
件設定器１８により設定されたＸｄ管電流が得られるた
めに最適な電圧が印加されることになる。
な印加電圧は、Ｘ線管７のフィラメント印加電圧と同じ
く管電流に依存する。したがって、ここではＸ線管７の
フィラメント電圧を印加するためのＣＰＵ９からの信号
を共通に用いてテトロードチューブ５ａ＋５ｂのフィラ
メント印加電圧を制御するようにした。これによりテト
ロードチューブ５ａｅ５ｂのフィラメントには、Ｘ線条
件設定器１８により設定されたＸｄ管電流が得られるた
めに最適な電圧が印加されることになる。
その他、この第１図において第３図と同一符号は同−又
は相当部分を示す。
は相当部分を示す。
第２図は、このようなＸ線装置の動作を示すタイムチャ
ートで、図中Ａ点においてＸ線条件設定を変更（管電圧
を高く、管電流を少なく、放射時間を短く）シた場合を
例示している。
ートで、図中Ａ点においてＸ線条件設定を変更（管電圧
を高く、管電流を少なく、放射時間を短く）シた場合を
例示している。
次に上述本発明回路の動作について説明する。
まずＸ線装置電源は投入されているがＸ線管電圧を印加
させることのない状態（定常状態）においては、Ｘ線管
７のフィラメントと同様に、テトロードチューブ５ａ＋
５ｂのフィラメントにも加熱トランスｉ３ｂ、 １３ｃ
によってその定格電圧に比べて微小な電圧が印加されて
いる。これは、テトロードチューブフィラメントが全く
の冷却状態から、設定されたＸ線管電流を流し得る温度
まで達するには時間を要するからであるとともに、冷却
状態から急激に電圧を印加した時に生ずる突入電流によ
りテトロードチューブ５ａｔ ｓｂの寿命を縮めてしま
うことを防止するためである。
させることのない状態（定常状態）においては、Ｘ線管
７のフィラメントと同様に、テトロードチューブ５ａ＋
５ｂのフィラメントにも加熱トランスｉ３ｂ、 １３ｃ
によってその定格電圧に比べて微小な電圧が印加されて
いる。これは、テトロードチューブフィラメントが全く
の冷却状態から、設定されたＸ線管電流を流し得る温度
まで達するには時間を要するからであるとともに、冷却
状態から急激に電圧を印加した時に生ずる突入電流によ
りテトロードチューブ５ａｔ ｓｂの寿命を縮めてしま
うことを防止するためである。
このような状態からＸ線放射準備スイッチ１６が閉路さ
れると、その時をもってＸ線条件設定器１８によりあら
かじめ設定されたＸ線管電流値に応じた信号（設定Ｘ線
管電流データ）がＣＰＵ９から°出力される。この信号
は、ディジタル／アナログ変換器１０゜を経て加熱用回
路１９に与えられ、加熱トランス１３ｂによって設定Ｘ
線管電流値に応じたテトロードチューブフィラメント電
圧の印加が開始され、アイドリング状態となる６ Ｘ線放射準備スイツチ１６は、その後の一定時間のＸ線
放射スイッチＩ７の閉路、すなわち管電圧印加（Ｘ線放
射）を経て開路するが、その開路時から前記テトロード
チューブ５ａ＋ ｓｂのフィラメント印加電圧は微小電
圧に戻るものである。
れると、その時をもってＸ線条件設定器１８によりあら
かじめ設定されたＸ線管電流値に応じた信号（設定Ｘ線
管電流データ）がＣＰＵ９から°出力される。この信号
は、ディジタル／アナログ変換器１０゜を経て加熱用回
路１９に与えられ、加熱トランス１３ｂによって設定Ｘ
線管電流値に応じたテトロードチューブフィラメント電
圧の印加が開始され、アイドリング状態となる６ Ｘ線放射準備スイツチ１６は、その後の一定時間のＸ線
放射スイッチＩ７の閉路、すなわち管電圧印加（Ｘ線放
射）を経て開路するが、その開路時から前記テトロード
チューブ５ａ＋ ｓｂのフィラメント印加電圧は微小電
圧に戻るものである。
［発明の効果］
以上述べたように本発明は、Ｘ線装置の定常状態にあっ
ては高電圧制御用真空管のフィラメントへの印加電圧を
微小電圧で一定としたので、その真空管の寿命を大幅に
延ばすことができる。特に、Ｘ線装置使用後の電源切り
忘れにより前記真空管の寿命を縮めることは極めて大き
な損失であるが、本発明によればこのような場合でもそ
の損失を最小限に抑えることができるという効果がある
。
ては高電圧制御用真空管のフィラメントへの印加電圧を
微小電圧で一定としたので、その真空管の寿命を大幅に
延ばすことができる。特に、Ｘ線装置使用後の電源切り
忘れにより前記真空管の寿命を縮めることは極めて大き
な損失であるが、本発明によればこのような場合でもそ
の損失を最小限に抑えることができるという効果がある
。
第１図は本発明回路が適用されたＸ線装置の一例を示す
回路図、第２図は同装置の動作を示すタイムチャート、
第３図は従来回路を備えたＸ線装置の回路図である。 ２・・・高圧トランス−５ａｐ ｓｂ・・・テトロード
チューブ、７−Ｘ線管、 ９ ・＝ ＣＰ Ｕ 、 １
０ｂ −１０ｃ ”・ディジタル／アナログ変換器、１
３ａ”１３ｃ・・・加熱トランス、１４、１９・・・加
熱用回路、１５・・・開閉器、１Ｇ・・・Ｘ線放射準備
スイッチ、１７・・・Ｘ線放射スイッチ、■８・・・Ｘ
線条件設定器。
回路図、第２図は同装置の動作を示すタイムチャート、
第３図は従来回路を備えたＸ線装置の回路図である。 ２・・・高圧トランス−５ａｐ ｓｂ・・・テトロード
チューブ、７−Ｘ線管、 ９ ・＝ ＣＰ Ｕ 、 １
０ｂ −１０ｃ ”・ディジタル／アナログ変換器、１
３ａ”１３ｃ・・・加熱トランス、１４、１９・・・加
熱用回路、１５・・・開閉器、１Ｇ・・・Ｘ線放射準備
スイッチ、１７・・・Ｘ線放射スイッチ、■８・・・Ｘ
線条件設定器。
Claims (1)
- 高圧トランスとＸ線管の間に設けられた高電圧制御用真
空管で前記Ｘ線管の管電圧を制御するＸ線装置において
、前記高電圧制御用真空管のフィラメントに対し、Ｘ線
装置電源投入時からは定格電圧に比べて微小電圧を印加
させ、少なくとも前記Ｘ線管に管電圧を印加する一定時
間前から印加終了時までの時間にはあらかじめ設定され
たＸ線条件に応じた電圧を印加させる印加電圧制御手段
を具備することを特徴とするＸ線装置の高電圧制御用真
空管のフィラメント加熱回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17775386A JPH0665188B2 (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | Ｘ線装置の高電圧制御用真空管のフイラメント加熱回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17775386A JPH0665188B2 (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | Ｘ線装置の高電圧制御用真空管のフイラメント加熱回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6334899A true JPS6334899A (ja) | 1988-02-15 |
| JPH0665188B2 JPH0665188B2 (ja) | 1994-08-22 |
Family
ID=16036523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17775386A Expired - Lifetime JPH0665188B2 (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | Ｘ線装置の高電圧制御用真空管のフイラメント加熱回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0665188B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000252095A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線発生装置、ｘ線撮像装置及びｘ線検査システム |
| JP2007059233A (ja) * | 2005-08-25 | 2007-03-08 | Toshiba Corp | Ｘ線透視撮影装置 |
| WO2007142140A1 (ja) | 2006-06-06 | 2007-12-13 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 酸性置換基と不飽和マレイミド基を有する硬化剤の製造法並びに熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 |
| WO2009081601A1 (ja) | 2007-12-25 | 2009-07-02 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 熱硬化性樹脂組成物並びにこれを用いたプリプレグ及び積層板 |
| JP2011105945A (ja) * | 2011-01-04 | 2011-06-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 硬化剤の製造法，及びこれを用いた熱硬化性樹脂組成物 |
| US9603244B2 (en) | 2006-09-29 | 2017-03-21 | Hitachi Chemical Company, Ltd | Thermosetting resin composition and prepreg and laminate obtained with the same |
-
1986
- 1986-07-30 JP JP17775386A patent/JPH0665188B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000252095A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線発生装置、ｘ線撮像装置及びｘ線検査システム |
| JP2007059233A (ja) * | 2005-08-25 | 2007-03-08 | Toshiba Corp | Ｘ線透視撮影装置 |
| WO2007142140A1 (ja) | 2006-06-06 | 2007-12-13 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 酸性置換基と不飽和マレイミド基を有する硬化剤の製造法並びに熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 |
| US8461332B2 (en) | 2006-06-06 | 2013-06-11 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for producing curing agent having acidic substituent and unsaturated maleimide group, thermosetting resin composition, prepreg, and laminate |
| US8796473B2 (en) | 2006-06-06 | 2014-08-05 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for producing curing agent having acidic substituent and unsaturated maleimide group, thermosetting resin composition, prepreg, and laminate |
| US9603244B2 (en) | 2006-09-29 | 2017-03-21 | Hitachi Chemical Company, Ltd | Thermosetting resin composition and prepreg and laminate obtained with the same |
| WO2009081601A1 (ja) | 2007-12-25 | 2009-07-02 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 熱硬化性樹脂組成物並びにこれを用いたプリプレグ及び積層板 |
| KR20160006248A (ko) | 2007-12-25 | 2016-01-18 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 열경화성 수지 조성물, 및 이것을 이용한 프리프레그 및 적층판 |
| US10604641B2 (en) | 2007-12-25 | 2020-03-31 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Thermosetting resin composition and prepreg and laminate both made with the same |
| JP2011105945A (ja) * | 2011-01-04 | 2011-06-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 硬化剤の製造法，及びこれを用いた熱硬化性樹脂組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0665188B2 (ja) | 1994-08-22 |
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