JPS6333953Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6333953Y2 JPS6333953Y2 JP6275883U JP6275883U JPS6333953Y2 JP S6333953 Y2 JPS6333953 Y2 JP S6333953Y2 JP 6275883 U JP6275883 U JP 6275883U JP 6275883 U JP6275883 U JP 6275883U JP S6333953 Y2 JPS6333953 Y2 JP S6333953Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- gas circulation
- cooling
- circulation system
- heat treatment
- Prior art date
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- Expired
Links
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 27
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 33
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Furnace Details (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はバツチ式の真空又は雰囲気熱処理装置
に関する。
に関する。
熱処理において、被処理物を酸化から保護する
ため、真空又は不活性ガス雰囲気中で加熱冷却す
ることは広く行なわれている。この場合被処理物
は十分冷却した後大気中に取り出す必要がある。
ため、真空又は不活性ガス雰囲気中で加熱冷却す
ることは広く行なわれている。この場合被処理物
は十分冷却した後大気中に取り出す必要がある。
被処理物が大型品である場合又は小型物をバス
ケツトに収容若しくは長尺の棒状材を速状に結束
する等の集合状態で熱処理する場合、冷却速度が
低下し、十分な冷却のため長時間を要する。この
ためバツチ式の場合加熱室に隣接して設けられた
冷却室にガス冷却器及びガス循環フアンからなる
ガス循環系を設け、このガス循環系内に被処理物
を置くようにすることが一般的に行なわれてい
る。
ケツトに収容若しくは長尺の棒状材を速状に結束
する等の集合状態で熱処理する場合、冷却速度が
低下し、十分な冷却のため長時間を要する。この
ためバツチ式の場合加熱室に隣接して設けられた
冷却室にガス冷却器及びガス循環フアンからなる
ガス循環系を設け、このガス循環系内に被処理物
を置くようにすることが一般的に行なわれてい
る。
従来のガス循環系では、冷却室からこのガス循
環系内に被処理物を搬入、搬出するための開口を
設けたままであつた。すなわち従来のこの種の熱
処理装置は設計理念として、被処理物は少断面
で、細長の配置とし、その細長の方向に搬入、搬
出することにより、加熱及び冷却の速度を増加
し、また搬送装置を合理化し、したがつて細長の
両端部は一般の冷却の場合と同様冷却速度は速く
開口があるままでも冷却速度は特に低下せず、さ
らに開口を閉鎖した場合、細長方向の温度分布を
悪化させる場合もあるとされていた。
環系内に被処理物を搬入、搬出するための開口を
設けたままであつた。すなわち従来のこの種の熱
処理装置は設計理念として、被処理物は少断面
で、細長の配置とし、その細長の方向に搬入、搬
出することにより、加熱及び冷却の速度を増加
し、また搬送装置を合理化し、したがつて細長の
両端部は一般の冷却の場合と同様冷却速度は速く
開口があるままでも冷却速度は特に低下せず、さ
らに開口を閉鎖した場合、細長方向の温度分布を
悪化させる場合もあるとされていた。
しかし本考案者のテストでは、この被処理材の
両端部に開口があれば被処理材の細長方向中央部
のガス循環速度が大幅に低下し、冷却速度が低下
するのみならず、細長方向の温度分布にも悪影響
を与えることが判つた。
両端部に開口があれば被処理材の細長方向中央部
のガス循環速度が大幅に低下し、冷却速度が低下
するのみならず、細長方向の温度分布にも悪影響
を与えることが判つた。
本考案は被処理物と循環ガスとの接触状態を改
善し、有効な冷却を可能とする熱処理装置を提供
することを目的とする。
善し、有効な冷却を可能とする熱処理装置を提供
することを目的とする。
本考案は被熱処理物の搬入、搬出のためにガス
循環系に設けられた開口部に開閉可能な整流板を
設けたことを特徴とする真空又は雰囲気熱処理装
置である。
循環系に設けられた開口部に開閉可能な整流板を
設けたことを特徴とする真空又は雰囲気熱処理装
置である。
次に実施例の図面により本考案を説明する。第
１図及び第２図は本考案を真空熱処理装置に応用
した一実施例の断面図であり、第１図は正断面
図、第２図はこれのガス循環系部の構断面図であ
る。
１図及び第２図は本考案を真空熱処理装置に応用
した一実施例の断面図であり、第１図は正断面
図、第２図はこれのガス循環系部の構断面図であ
る。
加熱室Ａは気密設体内に電熱ヒーター等を有し
て設けられており、この加熱室Ａと仕切り弁６を
隔てて隣接し気密殻体で被われてなる冷却室Ｂが
設けられている。この冷却室Ｂ内には、被処理材
M′を収容するガス循環系が設けられ、この循環
系はガス循環フアン７、ガス冷却器８，８′、冷
却室Ｂから隔絶するための隔壁並びに、その加熱
室Ａ側及び反加熱室側にそれぞれ整流板１及び２
を有する。整流板１，２は軸受３を支点とし、レ
バー４を介してシリンダ５で駆動され矢印１′及
び２′のように90゜旋回してガス循環系と冷却室Ｂ
との間を開閉可能である。
て設けられており、この加熱室Ａと仕切り弁６を
隔てて隣接し気密殻体で被われてなる冷却室Ｂが
設けられている。この冷却室Ｂ内には、被処理材
M′を収容するガス循環系が設けられ、この循環
系はガス循環フアン７、ガス冷却器８，８′、冷
却室Ｂから隔絶するための隔壁並びに、その加熱
室Ａ側及び反加熱室側にそれぞれ整流板１及び２
を有する。整流板１，２は軸受３を支点とし、レ
バー４を介してシリンダ５で駆動され矢印１′及
び２′のように90゜旋回してガス循環系と冷却室Ｂ
との間を開閉可能である。
次に動作を述べる。図示しない排気系で真空に
保持された加熱室Ａで必要な加熱処理を受けた高
温の被処理物Ｍは、冷却室Ｂを同様に排気し、ガ
ス循環フアン７を駆動した状態で、仕切弁６及び
整流板１を開いてガス循環系に搬出M′された後、
仕切弁６及び整流板１を閉じ図示しないガス導入
系から冷却室Ｂに不活性ガスを導入する。この不
活性ガスはガス循環系内にも進入し、ここでガス
循環フアン７を出たガスは隔壁に案内され斜め下
方のガス冷却器８，８′を通過して冷却され、ガ
ス吹出口９から被処理材M′の下方に出、被処理
物の前後左右を通つて、あるいは被処理物相互間
に連通した空隙がある場合はこの空隙をも通つて
被処理物上方に達するように循環する。
保持された加熱室Ａで必要な加熱処理を受けた高
温の被処理物Ｍは、冷却室Ｂを同様に排気し、ガ
ス循環フアン７を駆動した状態で、仕切弁６及び
整流板１を開いてガス循環系に搬出M′された後、
仕切弁６及び整流板１を閉じ図示しないガス導入
系から冷却室Ｂに不活性ガスを導入する。この不
活性ガスはガス循環系内にも進入し、ここでガス
循環フアン７を出たガスは隔壁に案内され斜め下
方のガス冷却器８，８′を通過して冷却され、ガ
ス吹出口９から被処理材M′の下方に出、被処理
物の前後左右を通つて、あるいは被処理物相互間
に連通した空隙がある場合はこの空隙をも通つて
被処理物上方に達するように循環する。
従来の同種の装置においては第１図１，２に示
す整流板がなかつたので、吹出口９から出たガス
は被処理物の前後において一旦冷却室内に流出し
た後被処理物の上方部分から循環系内に進入する
ように障害物たる被処理物を避けて通るごとく循
環していた。この結果被処理物の長さ方向の中央
部の左右（ガス冷却器８，８側）の流速を大幅に
低下する。被処理材両端部を過度に冷却するのみ
ならず、ガス循環フアン７、ガス冷却器８，８′
部のガス流量をいずらに増加させていた。
す整流板がなかつたので、吹出口９から出たガス
は被処理物の前後において一旦冷却室内に流出し
た後被処理物の上方部分から循環系内に進入する
ように障害物たる被処理物を避けて通るごとく循
環していた。この結果被処理物の長さ方向の中央
部の左右（ガス冷却器８，８側）の流速を大幅に
低下する。被処理材両端部を過度に冷却するのみ
ならず、ガス循環フアン７、ガス冷却器８，８′
部のガス流量をいずらに増加させていた。
本実施例で被処理物の長さ方向の中央部の左右
のガス流速は整流板１，２を開放した場合に比し
全閉したときは、25〜30％増加し、かつ被処理物
に均等に当つて冷却効果が均一化し、被処理物の
品質バラツキ範囲を減少し、さらに半冷時間の約
20％短縮できた。
のガス流速は整流板１，２を開放した場合に比し
全閉したときは、25〜30％増加し、かつ被処理物
に均等に当つて冷却効果が均一化し、被処理物の
品質バラツキ範囲を減少し、さらに半冷時間の約
20％短縮できた。
本実施例は循環ガスが加熱される部分を上向冷
却される部分を下向流とし、かつ遠心型フアンを
上部に堅軸として設け上向流を吸込み前後左右方
向に吐き出すようにしたので循環ガスに滞留部が
なくスムーズな流れが得られる特徴を有する。
却される部分を下向流とし、かつ遠心型フアンを
上部に堅軸として設け上向流を吸込み前後左右方
向に吐き出すようにしたので循環ガスに滞留部が
なくスムーズな流れが得られる特徴を有する。
以上述べたように、本考案は、従来ガス循環系
内で被処理物の両端部に位置する被処理物の搬入
搬出のための開口が被処理物の長さ方向の中央部
の冷却速度にあまり影響を与えないものであると
の考えを実験の結果修正し、これにしたがつてな
されたものであり、冷却速度向上に大きい効果を
有するものである。
内で被処理物の両端部に位置する被処理物の搬入
搬出のための開口が被処理物の長さ方向の中央部
の冷却速度にあまり影響を与えないものであると
の考えを実験の結果修正し、これにしたがつてな
されたものであり、冷却速度向上に大きい効果を
有するものである。
第１図及び第２図は本考案の実施例の正断面
図、第２図は第１図のガス循環系部の断面図であ
る。 Ａ……加熱室、Ｂ……冷却室、Ｍ，M′……被
処理物、１，２……整流板、６……仕切弁、７…
…ガス循環フアン、８，８′……ガス冷却器。
図、第２図は第１図のガス循環系部の断面図であ
る。 Ａ……加熱室、Ｂ……冷却室、Ｍ，M′……被
処理物、１，２……整流板、６……仕切弁、７…
…ガス循環フアン、８，８′……ガス冷却器。
Claims (1)
- 外気としや断された加熱室、この加熱室に隣接
して設けられた外気としや断された冷却室並びに
この冷却室内に設けられ系内のガスを冷却するガ
ス冷却器及び系内のガスを循環するガス循環フア
ンを有するガス循環系からなるバツチ式真空又は
雰囲気熱処理装置において、冷却室とガス循環系
との間の被熱処理物の搬入搬出のための開口部に
開閉可能な整流板を設けたことを特徴とする真空
又は雰囲気熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6275883U JPS59185262U (ja) | 1983-04-26 | 1983-04-26 | 真空又は雰囲気熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6275883U JPS59185262U (ja) | 1983-04-26 | 1983-04-26 | 真空又は雰囲気熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59185262U JPS59185262U (ja) | 1984-12-08 |
| JPS6333953Y2 true JPS6333953Y2 (ja) | 1988-09-08 |
Family
ID=30192946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6275883U Granted JPS59185262U (ja) | 1983-04-26 | 1983-04-26 | 真空又は雰囲気熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59185262U (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102174668B (zh) * | 2008-07-24 | 2014-11-05 | 易普森国际有限公司 | 金属工件热处理用的甑式炉 |
| JP5511240B2 (ja) * | 2009-07-01 | 2014-06-04 | Ｄｏｗａサーモテック株式会社 | ワークのガス冷却装置およびガス冷却方法 |
-
1983
- 1983-04-26 JP JP6275883U patent/JPS59185262U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59185262U (ja) | 1984-12-08 |
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