JPS63318528A - 光集積回路 - Google Patents
光集積回路Info
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- JPS63318528A JPS63318528A JP15464387A JP15464387A JPS63318528A JP S63318528 A JPS63318528 A JP S63318528A JP 15464387 A JP15464387 A JP 15464387A JP 15464387 A JP15464387 A JP 15464387A JP S63318528 A JPS63318528 A JP S63318528A
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- optical
- light
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
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- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims 1
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Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光集積回路に関し、特に光通信ならびに光情報
処理分野における光源に関するものである。
処理分野における光源に関するものである。
従来の技術
近年光通信や光フアイバセンナへの応用を目的としたコ
ヒーレンスのよいレーザの開発が活発に行なわれている
。それらの中の1つの型として外部共振器型レーザが提
案されている。これは、半導体レーザの片側の端面から
出射した光をミラーあるいはグレーティングによシレー
ザに帰還するもので、単−縦モード発振、かつスペクト
ル線幅が1KHz以下のものが実現されている。
ヒーレンスのよいレーザの開発が活発に行なわれている
。それらの中の1つの型として外部共振器型レーザが提
案されている。これは、半導体レーザの片側の端面から
出射した光をミラーあるいはグレーティングによシレー
ザに帰還するもので、単−縦モード発振、かつスペクト
ル線幅が1KHz以下のものが実現されている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら従来のものは数多くの光学部品を組合せて
作られたものであり、かつ非常に精度の高いアライメン
トを必要とし、また機械的安定性も満足のできるもので
はなかった。さらには、必要以上にレーザのコヒーレン
スを向上させた場合、ファイバ結合端面等の微小反射率
を有する部分間で多重反射が顕著になり、ノイズ発生等
の原因として実用上問題となっていた。
作られたものであり、かつ非常に精度の高いアライメン
トを必要とし、また機械的安定性も満足のできるもので
はなかった。さらには、必要以上にレーザのコヒーレン
スを向上させた場合、ファイバ結合端面等の微小反射率
を有する部分間で多重反射が顕著になり、ノイズ発生等
の原因として実用上問題となっていた。
問題点を解決するための手段
半導体基板上に、入力および出力ポートとしてそれぞれ
2つのポートをもつ光スイッチあるいは光結合器を配置
し、入力ポートのうちの1つが同一半導体基板上の一部
に配置さ扛た電流注入により発光する活性領域につなが
っており、また前記出力ポートのうち少なくとも一方が
、前記活性領域から発した光に対して高反射率を有する
よう終端し、残りのポートのうちどちらか1つが、前記
半導体基板上の一部に配置された光検出器につながるよ
うに構成することにより上述の問題を解決するものであ
る。また前述の高反射率を実現するため、たとえば、通
常の伸開面あるいはそれに反射コート膜を施したものあ
るいは、回折格子を構成する。さらには前記回折格子を
構成する材料の屈折率を、電気光学効果あるいは、プラ
ズマ効果により制御できるようS成する。
2つのポートをもつ光スイッチあるいは光結合器を配置
し、入力ポートのうちの1つが同一半導体基板上の一部
に配置さ扛た電流注入により発光する活性領域につなが
っており、また前記出力ポートのうち少なくとも一方が
、前記活性領域から発した光に対して高反射率を有する
よう終端し、残りのポートのうちどちらか1つが、前記
半導体基板上の一部に配置された光検出器につながるよ
うに構成することにより上述の問題を解決するものであ
る。また前述の高反射率を実現するため、たとえば、通
常の伸開面あるいはそれに反射コート膜を施したものあ
るいは、回折格子を構成する。さらには前記回折格子を
構成する材料の屈折率を、電気光学効果あるいは、プラ
ズマ効果により制御できるようS成する。
作用
本発明は、外部共振器として、2×2光スイツチあるい
は光結合器および光導波路を有する外部共振器型レーザ
と、2×2光スイツチあるいは光結合器の1ポートとつ
ながるように配置された受光素子が、同一半導体基板上
に集積化さnた光集積回路となっている。レーザとして
は活性領域の一端と光スイッチあるいは光結合器の1つ
の出力ポートの一端を共振器としているため、比較的長
い外部共振器を有する外部共振器レーザとなっている。
は光結合器および光導波路を有する外部共振器型レーザ
と、2×2光スイツチあるいは光結合器の1ポートとつ
ながるように配置された受光素子が、同一半導体基板上
に集積化さnた光集積回路となっている。レーザとして
は活性領域の一端と光スイッチあるいは光結合器の1つ
の出力ポートの一端を共振器としているため、比較的長
い外部共振器を有する外部共振器レーザとなっている。
このためこのレーザの発振スペクトルは単一モードかつ
狭スペクトル線幅が得られる。さらにはこの発振光は2
×2光スイツチあるいは光結合器を通じて活性領域に帰
還されるためその帰還量を制御でき、最適な発振スペク
トル特性をもつレーザ光源が実現できる。
狭スペクトル線幅が得られる。さらにはこの発振光は2
×2光スイツチあるいは光結合器を通じて活性領域に帰
還されるためその帰還量を制御でき、最適な発振スペク
トル特性をもつレーザ光源が実現できる。
一方、光帰還を行なうための高反射率部に回折波長可変
の回折格子を設けることにより、発振波長の制御も可能
となる。
の回折格子を設けることにより、発振波長の制御も可能
となる。
実施例
第1図に本発明の光集積回路の第1実施例を示す。ここ
で1は半導体基板、2は発光部となる活性領域、3は3
次元光導波路、4は電気制御型2×2光スイツチ、5は
光検出器、6は3次元光導波路端面にコートされた反射
膜、7は3次元導波路端面にコートされた反射防止膜、
8は発光部2の片端面にコートされた反射膜である。と
こで光スイッチ4は方向性結合器型あるいは内部全反射
型などの構造のものが望ましい。また使用する半導体材
料はGILA!l *ム%aAg、 InP、 ZnS
等履−■または鳳−■の化合物半導体が考えられるが、
3次元光導波路3等のパッシブな部分に関しては上述の
半導体材料に限定するものではない。これらのことは以
下の実施例についても同様である。
で1は半導体基板、2は発光部となる活性領域、3は3
次元光導波路、4は電気制御型2×2光スイツチ、5は
光検出器、6は3次元光導波路端面にコートされた反射
膜、7は3次元導波路端面にコートされた反射防止膜、
8は発光部2の片端面にコートされた反射膜である。と
こで光スイッチ4は方向性結合器型あるいは内部全反射
型などの構造のものが望ましい。また使用する半導体材
料はGILA!l *ム%aAg、 InP、 ZnS
等履−■または鳳−■の化合物半導体が考えられるが、
3次元光導波路3等のパッシブな部分に関しては上述の
半導体材料に限定するものではない。これらのことは以
下の実施例についても同様である。
発光部2にて発した光は、3次元導波路3を通り光スイ
ッチ4に入る。光スイッチ4からの出力のうち一方は光
検出器6に達し光出力のモニタとして使われる。他方の
光は、反射膜6で反射され再び活性部に戻り帰還光とし
て利用されるが一部は光スイッチ4を経由して外部へ出
射される。ここで発光部6の1つの端面8と反射膜6を
端面とした外部共振器としてレーザ発振を起こすことが
可能となる。また光スイッチ4を制御することにより発
光部2への光帰還量を変化させることができる。レーザ
のスペクトル特性、特にスペクトル線幅は光帰還量に依
存するため、光スイッチ4によりスペクトル線幅を必要
に応じて変化させることができる。また光検出器の出力
をモニタすることにより、レーザ出力のモニタができム
PC動作が可能となる。
ッチ4に入る。光スイッチ4からの出力のうち一方は光
検出器6に達し光出力のモニタとして使われる。他方の
光は、反射膜6で反射され再び活性部に戻り帰還光とし
て利用されるが一部は光スイッチ4を経由して外部へ出
射される。ここで発光部6の1つの端面8と反射膜6を
端面とした外部共振器としてレーザ発振を起こすことが
可能となる。また光スイッチ4を制御することにより発
光部2への光帰還量を変化させることができる。レーザ
のスペクトル特性、特にスペクトル線幅は光帰還量に依
存するため、光スイッチ4によりスペクトル線幅を必要
に応じて変化させることができる。また光検出器の出力
をモニタすることにより、レーザ出力のモニタができム
PC動作が可能となる。
また、上述の発光部2とは従来から数多く報告されてい
るレーザ構造を有するもので、たとえばBH,CNBH
あるいはDCPBH等の埋込み型構造のものが望ましい
。
るレーザ構造を有するもので、たとえばBH,CNBH
あるいはDCPBH等の埋込み型構造のものが望ましい
。
また光検出器6は基本的には光を電気的に検出できるも
のであればよいが、ここではレーザとはぼ同一構成のも
のでよい。
のであればよいが、ここではレーザとはぼ同一構成のも
のでよい。
第2図は本発明第2の実施例を示したもので、16は、
3次元導波路3を導波する光を反射させるために光導波
路に設けられた回折格子である。
3次元導波路3を導波する光を反射させるために光導波
路に設けられた回折格子である。
またこれらの回折格子16には回折波長を電気的に制御
するための電極が構成されており、発振波長が選択、調
整することが可能となるものである。
するための電極が構成されており、発振波長が選択、調
整することが可能となるものである。
他の動作としては、第1の実施例と同じものである。
発明の効果
以上のように本発明によ扛ば、外部共振器型レーザにお
ける光帰還量を光スイッチにより制御することにより、
レーザのスペクトル線幅を高速で変化させることが可能
となり、また光検出器を集積化することにより、光出力
およびスペクトル線幅をモニタすることが可能となる。
ける光帰還量を光スイッチにより制御することにより、
レーザのスペクトル線幅を高速で変化させることが可能
となり、また光検出器を集積化することにより、光出力
およびスペクトル線幅をモニタすることが可能となる。
第1図は本発明の光集積回路の第1実施例の概略平面図
、第2図は本発明の光集積回路の第2実施例の概略平面
図である。 1・・・・・・半導体基板、2・・・・・・発光部、3
・・・・・・3次元光導波路、4・・・・・・2×2光
スイツチ、6・・・・・・光検出器、7・・・・・・反
射防止膜、6,8・・・・・・反射膜、16・・・・・
・回折格子。
、第2図は本発明の光集積回路の第2実施例の概略平面
図である。 1・・・・・・半導体基板、2・・・・・・発光部、3
・・・・・・3次元光導波路、4・・・・・・2×2光
スイツチ、6・・・・・・光検出器、7・・・・・・反
射防止膜、6,8・・・・・・反射膜、16・・・・・
・回折格子。
Claims (3)
- (1)半導体基板上に、光の入力および出力ポートとし
てそれぞれ2つの3次元光導波路で構成されたポートを
もつ光スイッチあるいは光結合器が配置されており、前
記入力ポートのうち一つが、前記半導体基板の一部に配
置された電流注入により発光しその光を前記入力ポート
方向に反射するよう構成された高反射率端を有する活性
領域につながっており、また前記出力ポートのうち少な
くとも一方が、前記活性領域から発した光に対して高反
射率を有する形で終端し、残りのポートのうち1つが、
前記半導体基板の一部に配置された光検出器につながっ
ている光集積回路。 - (2)光スイッチあるいは光結合器の出力ポートに設け
られた高反射率を有するものとして、回折格子が構成さ
れている特許請求の範囲第1項記載の光集積回路。 - (3)回折格子を構成している材料の屈折率を外部から
変化する特許請求の範囲第1項記載の光集積回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62154643A JPH0821706B2 (ja) | 1987-06-22 | 1987-06-22 | 光集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62154643A JPH0821706B2 (ja) | 1987-06-22 | 1987-06-22 | 光集積回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63318528A true JPS63318528A (ja) | 1988-12-27 |
JPH0821706B2 JPH0821706B2 (ja) | 1996-03-04 |
Family
ID=15588702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62154643A Expired - Fee Related JPH0821706B2 (ja) | 1987-06-22 | 1987-06-22 | 光集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0821706B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01142715A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-05 | Nec Corp | 光制御光素子 |
JP2004513534A (ja) * | 2000-04-06 | 2004-04-30 | 富士通株式会社 | 光分岐挿入装置における光チャネルスイッチングのための方法及び装置 |
JP2008227010A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Nec Corp | 光源装置 |
JP2017022247A (ja) * | 2015-07-09 | 2017-01-26 | 富士通株式会社 | 波長選択素子及び波長可変光源 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59154086A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-09-03 | Nec Corp | 周波数安定化半導体レ−ザ |
JPS59227180A (ja) * | 1983-06-08 | 1984-12-20 | Fujitsu Ltd | コヒ−レント光伝送用半導体レ−ザ装置 |
JPS61168957A (ja) * | 1985-01-07 | 1986-07-30 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | 二方向光通信装置とその製法 |
-
1987
- 1987-06-22 JP JP62154643A patent/JPH0821706B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59154086A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-09-03 | Nec Corp | 周波数安定化半導体レ−ザ |
JPS59227180A (ja) * | 1983-06-08 | 1984-12-20 | Fujitsu Ltd | コヒ−レント光伝送用半導体レ−ザ装置 |
JPS61168957A (ja) * | 1985-01-07 | 1986-07-30 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | 二方向光通信装置とその製法 |
Cited By (4)
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---|---|---|---|---|
JPH01142715A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-05 | Nec Corp | 光制御光素子 |
JP2004513534A (ja) * | 2000-04-06 | 2004-04-30 | 富士通株式会社 | 光分岐挿入装置における光チャネルスイッチングのための方法及び装置 |
JP2008227010A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Nec Corp | 光源装置 |
JP2017022247A (ja) * | 2015-07-09 | 2017-01-26 | 富士通株式会社 | 波長選択素子及び波長可変光源 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0821706B2 (ja) | 1996-03-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |