JPS63316342A - Magneto-optical recording medium - Google Patents
Magneto-optical recording mediumInfo
- Publication number
- JPS63316342A JPS63316342A JP15202287A JP15202287A JPS63316342A JP S63316342 A JPS63316342 A JP S63316342A JP 15202287 A JP15202287 A JP 15202287A JP 15202287 A JP15202287 A JP 15202287A JP S63316342 A JPS63316342 A JP S63316342A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- magneto
- optical recording
- sputtering
- target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 11
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 4
- 238000005275 alloying Methods 0.000 abstract description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005374 Kerr effect Effects 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばレーザー光等、の照射による加熱によ
り、記ｔｉ−再生・消去が可能な光磁気記録媒体に関す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a magneto-optical recording medium that can be read and erased by heating by irradiation with, for example, laser light.
従来の光磁気記録媒体に３いて、記録媒体として例えば
、特開昭５７−９４９４８のように重希土類金属Ｔｂ、
Ｄｙｔ Ｇｄのうち一種類以上およＣ７ＦｅまたはＣｏ
のうち−！１類以上で形成された非晶質合金が用いられ
てきた。Conventional magneto-optical recording media include, for example, heavy rare earth metals Tb, as in JP-A-57-94948.
One or more types of Dyt Gd and C7Fe or Co
Among them! Amorphous alloys formed from one or more types have been used.
レーザー光のスポットで、記録層を加熱しながら、外部
磁界を加え居転磁区を形成することにより記録を行ない
、記録時より低パワーの直線偏光した上記レーザー光の
スポットを入射し、カー効果あるいはファラデイ効果を
利用して再生を行なう、いわゆる光磁気記録方式に用い
られる記録媒体においては、少なくとも次の性質を清た
すことが必要である。Recording is performed by applying an external magnetic field to the recording layer while heating the recording layer with a laser beam spot, forming a transposed magnetic domain. A recording medium used in a so-called magneto-optical recording system that performs reproduction using the Faraday effect must satisfy at least the following properties.
１、 半導体レーザーで記録・再生・消去を行える程度
にキュリ一温度が低く、通常の使用環境での温度に比べ
てキュリ一温度が充分高いこと。1. The Curie temperature is low enough to allow recording, playback, and erasing with a semiconductor laser, and the Curie temperature is sufficiently high compared to the temperature in the normal usage environment.
２、 記録媒体が多結晶であると生ずる粒界ノイズ、単
結晶であると生ずる製造上の困難さを回避するため、記
録媒体が非晶質であること。この場合、結晶化温度がキ
ュリ一温度に比べて充分高いことが必要である。2. The recording medium must be amorphous in order to avoid the grain boundary noise that occurs when the recording medium is polycrystalline and the manufacturing difficulties that occur when the recording medium is single crystal. In this case, it is necessary that the crystallization temperature is sufficiently higher than the Curie temperature.
３、 再生は、媒体のカー効果、またはファラデイ効果
を利用するため、上記の効果に起因するカー回転角、ま
たはフッラブイ回転角が大きいこと。3. Since the reproduction utilizes the Kerr effect or Faraday effect of the medium, the Kerr rotation angle or Fullback rotation angle caused by the above effects must be large.
４、記録密度を上げるためｇ！直磁化瞑であること。4. To increase recording density g! Be direct magnetization meditation.
そのため上記のような重希土類−遷移金属非晶質合金が
記録媒体として用いられてきた。Therefore, heavy rare earth-transition metal amorphous alloys as described above have been used as recording media.
光磁気記録媒体は、非晶質であることが必要であるため
、作製法としてスパッタリング、蒸着などの気相急冷法
が利用されている。しかし、光磁気記録媒体として用い
られるｍ希土類−遷移金属非晶質合金とほぼ同組成の合
金を溶解、鋳造により作製することは、これらの合金が
割れ易いため困難である。そのため、スパッタリングに
より光磁気記録媒体を作製する場合には単一のターゲッ
トから記録媒体を作製できないので、例えば、遷移金属
ターゲット上に希土類金属などのチップを置いた複合タ
ーゲット、または特開昭５９−２００７６２、特開昭５
９−２０８８１５のような、埋め込み式ターゲットを用
いなければならなかった。重希土類−遷移金属合金のス
パッタリング用ターゲットは通常、溶解・鋳造により得
た塊を粉砕したのち焼結することによっても得られるこ
とが知られているが、この方式ではターゲット中に含ま
れる酸素や炭素などの不純物の濃度を０．１重量％以下
に抑えることは困難である。そのためスパッタリング用
ターゲット、あるいは蒸発源のもつ不純物が光磁気記録
媒体中に混入し、その磁気特性をその本来のものより低
下させてしまうという欠点を存する。Since magneto-optical recording media must be amorphous, vapor phase rapid cooling methods such as sputtering and vapor deposition are used as a manufacturing method. However, it is difficult to produce alloys having substantially the same composition as the rare earth-transition metal amorphous alloys used as magneto-optical recording media by melting and casting because these alloys are easily cracked. Therefore, when producing a magneto-optical recording medium by sputtering, it is not possible to produce the recording medium from a single target. 200762, Japanese Patent Publication No. 5
An embedded target, such as 9-208815, had to be used. It is known that sputtering targets for heavy rare earth-transition metal alloys are usually obtained by pulverizing a lump obtained by melting and casting and then sintering it, but this method eliminates the oxygen and It is difficult to suppress the concentration of impurities such as carbon to 0.1% by weight or less. Therefore, impurities contained in the sputtering target or the evaporation source are mixed into the magneto-optical recording medium, resulting in a disadvantage that the magnetic properties thereof become lower than their original properties.
また、他の製造方法として、希±頂金属と遷移金属とを
各々、異なるカソードでスパッタする多元スパッタ法も
行われている。しかしこの方法では、均一な組成の膜を
再現性良く作製することが困難である。一方、希土類金
属と遷移金属からなる光磁気記録媒体においては、その
特性が組成に対して非常に敏感なので、この方法では、
ｆｆｉ産はほとんど不可能である。Furthermore, as another manufacturing method, a multi-source sputtering method is also used in which a rare apex metal and a transition metal are sputtered using different cathodes. However, with this method, it is difficult to produce a film with a uniform composition with good reproducibility. On the other hand, since the properties of magneto-optical recording media made of rare earth metals and transition metals are very sensitive to the composition, this method
ffi production is almost impossible.
製造上の問題以外にも記録特性の問題がある。In addition to manufacturing problems, there are problems with recording characteristics.
公知のように（第１Ｏ回応用磁気学会学術講演概要集
１９８６．１１ １３５頁）スパッタリング用ターゲッ
トの酸素濃度が多いときには、そのターゲットから作ら
れた光磁気記録媒体の特性はそうでないターゲットから
作られたものに比べて劣ってしまう。As is known (Summary of the 1st Oth Academic Conference of the Japan Society of Applied Magnetics)
(November 1986, p. 135) When a sputtering target has a high oxygen concentration, the characteristics of a magneto-optical recording medium made from that target are inferior to those made from a target other than that.
本発明はこのような問題点を解決するもので、重希土類
金属、遷移金属のほか、Ｔｉ、Ｂのうち−ａＶａ以上か
らなる合金を用いることにより、従来のものに比べて高
性能な光磁気記録媒体を提供することにある。The present invention solves these problems by using an alloy consisting of -aVa or more of Ti and B in addition to heavy rare earth metals and transition metals. The goal is to provide recording media.
本発明の光磁気記録媒体は、スパッタリング法により単
一のスパッタリング・ターゲットから作製ａれ、ｉｎ希
土類金１ｆｉＴｂ、Ｄｙ、Ｇｄ （以下ＨＲとよぶ、）
一種類以上、遷移金属Ｆｅ、Ｃｏ。The magneto-optical recording medium of the present invention is manufactured from a single sputtering target by a sputtering method, and is made of rare earth gold (1fiTb, Dy, Gd (hereinafter referred to as HR)).
One or more transition metals, Fe, Co.
Ｎｉのうち一種類以上、およびＴｉ、Ｈのうち一種類以
上の元素（以下、Ａと呼ぶ）から構成されることを特徴
とする０組成式を
ＨＲＩ−ｘＴＭｌ−ｘ−ｙＡＹ
としたとき、本発明においては、
０．１＜ｘ＜０．４゜
０．０５＜ｙ＜０．．２
である合金塊を切削または研磨して得られた物をスパッ
タリング・ターゲットとして用い、上記組成の光磁気記
録媒体を作製する。また、スパッタリング・ターゲット
の酸素濃度は、１ｆｆｔｆｆｉ％以下であることを特徴
とする。Ｘはより好ましくは、０．１＜ｘ＜０゜３１最
も好ましくは０．２＜ｘく０．３である。またｙはより
好ましくは０．０５＜ｙ＜０．１５．最も好ましくは、
０．０５＜ｙ＜０．１である。本発明の光磁気記録媒体
の最も大きな特徴は、その製造法にある。鋳造法により
作製されたスパッタリング用ターゲットを用いて、スパ
ッタリング法で基板上に非晶質合金を付着することによ
り記録媒体をつくることを目的として鋭意研究した結果
、次のような全く新しい知見に基づ（光磁気記録媒体の
組成を発見した。本発明の光磁気記録媒体は以下に述べ
る工程により作られる。まずＨＲ，ＴＭおよびＴｉ、Ｈ
のうち一種類以上の元素を溶解・鋳造により所望のター
ゲットの大きさより大きな合金塊をつ（り加工・研磨し
て成型し、ターゲットとするかあるいは小さな合金塊を
つくり貼り合わせ、ターゲットとする。この工程におい
て、従来のように合金塊を粉砕・焼結することなくスパ
ッタリング命ターゲットを作製できる合金組成を選んだ
ところに本発明の特長がある。この際合金ターゲットを
つくるためには、従来から用いられてきたＨＲ，ＴＭの
はかＴｉ、Ｈのうち一種類以上の元素が不可欠でありこ
れらの元素の添加により溶解、鋳造時の鋳型の温度制御
が不要となり生産効率の向上及び歩留りの向上をはかる
ことができる。これらなしではすでに述べたように、＃
型の温度制御を行ったとしても鋳造した合金が割れてし
まうためス／′ｔツタリング用合金ターゲットを作製す
ることは不可能であった。このようにして、作られた合
金ターゲットを用いてスパッタリング法により、光磁気
記録媒体を作製する。When the compositional formula 0, which is characterized by being composed of one or more elements of Ni and one or more elements of Ti and H (hereinafter referred to as A), is HRI-xTMl-x-yAY, this In the invention, 0.1<x<0.4°0.05<y<0. ．． A magneto-optical recording medium having the above composition is manufactured using a material obtained by cutting or polishing the alloy ingot of 2 as a sputtering target. Further, the sputtering target is characterized in that the oxygen concentration is 1 fftffi% or less. X is more preferably 0.1<x<0°31 and most preferably 0.2<x0.3. Moreover, y is more preferably 0.05<y<0.15. Most preferably,
0.05<y<0.1. The most significant feature of the magneto-optical recording medium of the present invention is its manufacturing method. As a result of intensive research aimed at creating a recording medium by depositing an amorphous alloy onto a substrate using a sputtering method using a sputtering target made by a casting method, we have discovered the following completely new findings. (The composition of a magneto-optical recording medium has been discovered.The magneto-optical recording medium of the present invention is made by the process described below.First, HR, TM, Ti, H
One or more of these elements is melted and cast into an alloy ingot larger than the desired target size, processed and polished to form a target, or a small alloy ingot is made and bonded together to become a target. In this process, the present invention is characterized by selecting an alloy composition that allows the production of a sputtering target without pulverizing and sintering an alloy ingot as in the conventional method. One or more of the elements used in HR, TM, Ti, and H are essential, and the addition of these elements eliminates the need to control the temperature of the mold during melting and casting, improving production efficiency and yield. As already mentioned, without these #
Even if the temperature of the mold was controlled, the cast alloy would crack, making it impossible to produce an alloy target for sputtering. A magneto-optical recording medium is produced by sputtering using the alloy target thus produced.
鋳造法によって作った、不純物ｉｇＢ度が非常に低レベ
ルのスパッタリング用合金ターゲットを用いると、従来
の光磁気記録媒体においては不可欠であったＴｂを含ま
ない光磁気記録媒体も量産できるようになるという知見
も得られた。このことにより単一のターゲットであるた
めに生ずる製造コストの低下のほかにも必要に応じて高
価なＴｂを使用せずに光磁気記録媒体を製造できるため
材料コストをさげることができた。不純物の少ない合金
ターゲットによれば、Ｔｂを用いた場合、従来のＴｂを
含む光磁気記録媒体よりも高性能のものが得られること
は言うまでもない。By using an alloy target for sputtering that is made using a casting method and has an extremely low level of impurity igB, it will become possible to mass produce magneto-optical recording media that do not contain Tb, which is essential in conventional magneto-optical recording media. Knowledge was also obtained. This not only reduces manufacturing costs due to the use of a single target, but also reduces material costs because magneto-optical recording media can be manufactured as needed without using expensive Tb. It goes without saying that an alloy target with fewer impurities can provide higher performance than conventional magneto-optical recording media containing Tb when Tb is used.
（実施例１）
本実施例で述べる試料はすべてスパッタリングにより作
製され、その際に用いたターゲットは鋳造により作られ
た合金塊を成型することで得た合金塊である。このよう
にして得られた合金ターゲットの対応表および酸素濃度
を分析した結果をそれぞれ表１．２に示す。(Example 1) All the samples described in this example were produced by sputtering, and the target used at that time was an alloy ingot obtained by molding an alloy ingot made by casting. Table 1.2 shows the correspondence table of the alloy targets thus obtained and the results of oxygen concentration analysis.
表１
表２
このように本発明の光磁気記録媒体においては焼結法に
よらずともターゲットを作ることができるため上記のよ
うな結果になっている０通常、焼結法によってできたタ
ーゲットの酸素濃度は０．１重要パーセントを下回るこ
とはない。Table 1 Table 2 As described above, in the magneto-optical recording medium of the present invention, the target can be made without using the sintering method, resulting in the above results.Normally, targets made by the sintering method The oxygen concentration never falls below 0.1 significant percent.
（実施例２）
鋳造により得られた合金塊を成型して得たターゲットを
用いてスパッタリングを行う際のスパッタリング装置内
の構成を第１図に示す。ターゲットの合金化により、１
つの゛ターゲットからはスバブタすることは可能となり
光磁気記録媒体をスパッタリングによってｆｆｉ産する
際の効率を上げることが可能となった。(Example 2) FIG. 1 shows the internal configuration of a sputtering apparatus when sputtering is performed using a target obtained by molding an alloy ingot obtained by casting. By alloying the target, 1
It has become possible to sputter from a single target, and it has become possible to increase the efficiency in producing ffi of a magneto-optical recording medium by sputtering.
（実施例３）
表１に示した資料番号１，２．３の光磁気記録媒体の、
記録特性の記録・再生特性を調べるために、溝付きポリ
カーボネイトの上に設けられた窒化アルミニウムの保護
層上に記録層を設けさらなその上に窒化アルミニウムの
保護層を設けたものを作った。記録層および保護層の膜
厚はそれぞれ１１００ｎである。結果を表３に示す。試
料番号２の試料のＣ／Ｎ比と記録パワーとの関係を第２
図に示す。(Example 3) The magneto-optical recording medium of document number 1, 2.3 shown in Table 1,
In order to investigate the recording and reproducing characteristics of recording characteristics, a recording layer was provided on a protective layer of aluminum nitride provided on a grooved polycarbonate, and a protective layer of aluminum nitride was further provided on top of the recording layer. The recording layer and the protective layer each have a thickness of 1100 nm. The results are shown in Table 3. The relationship between the C/N ratio and recording power of sample number 2 is shown in the second
As shown in the figure.
表３
評価はディスク回転数９０Ｏｒｐｍ、記録ビット長１，
７μｍ１分解能帯域３０ ｋ Ｈｚで行った。Table 3 Evaluations are as follows: disk rotation speed: 90 rpm, recording bit length: 1,
It was performed with a resolution band of 7 μm and 30 kHz.
最適記録パワーは二次高調波抑圧比が最小となる記録パ
ワーから定めた。このようにＴｂを含む記録媒体はもち
ろん、そうでない記録媒体においても好ましい記録・再
生特性を存する。The optimum recording power was determined from the recording power that minimized the second harmonic suppression ratio. As described above, not only recording media containing Tb but also recording media not containing Tb have favorable recording and reproducing characteristics.
以上述べてきたように本発明によれば、スパッタリング
・ターゲットの合金化を達成できる。そのため、生産性
および記録媒体としての特性の両方を向上することがで
きる。As described above, according to the present invention, alloying of a sputtering target can be achieved. Therefore, both productivity and characteristics as a recording medium can be improved.
第１図は、本発明の光磁気記録体を製造するために用い
たスパッタリングＲ’ Ｉを示す図。
１０１・・・合金ターゲット
１０２・・・磁石
１０３・・・真空槽
１０４・・・基板電極
１０５・・・基板
第２図は、本発明の光磁気記録媒体のＣ／Ｎ比と記録レ
ーザーパワーとの関係を示す図。
以 上
出願人 セイコーエプソン株式会ｔｔ
代理人 弁理士 最 上 務 他１名第１１FIG. 1 is a diagram showing sputtering R'I used for manufacturing the magneto-optical recording medium of the present invention. 101...Alloy target 102...Magnet 103...Vacuum chamber 104...Substrate electrode 105...Substrate FIG. 2 shows the C/N ratio and recording laser power of the magneto-optical recording medium of the present invention. A diagram showing the relationship between. Applicant: Seiko Epson Co., Ltd. Agent: Patent Attorney Tsutomu Mogami and 1 other person No. 11
Claims (1)
リング法により、単一のスパッタリング・ターゲットか
ら作製される情報記録媒体に於て、重希土類金属Ｔｂ、
Ｄｙ、Ｇｄのうち、一種類以上、遷移金属Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉのうち一種類以上及びＴｉ、Ｂのうち一種類以上か
らなる合金を用いることを特徴とする光磁気記録媒体。 （２）該スパッタリング・ターゲットとして、組成式を
、 （Ｔｂ、Ｄｙ、Ｇｄ）ｘ（Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ）１−ｘ−
ｙ（Ｔｉ、Ｂ）ｙ と表したとき、 ０．１０＜ｘ＜０．４ ０．０５＜ｙ＜０．２ の範囲にある合金を用いることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の光磁気記録媒体。 （３）該スパッタリング・ターゲットが鋳造法によって
得られた合金塊を切削または研磨したものを用いること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光磁気記録媒
体。 （４）該スパッタリング・ターゲットの酸素濃度が１重
量％以下であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の光磁気記録媒体。[Claims] (1) In an information recording medium in which information can be recorded, reproduced, and erased by light and is manufactured from a single sputtering target by a sputtering method, a heavy rare earth metal Tb,
One or more of Dy, Gd, transition metals Fe, Co,
A magneto-optical recording medium characterized by using an alloy consisting of one or more types of Ni and one or more types of Ti and B. (2) As the sputtering target, the composition formula is (Tb, Dy, Gd) x (Fe, Co, Ni) 1-x-
Claim 1, characterized in that an alloy in the range of 0.10<x<0.4 0.05<y<0.2 is used when expressed as y(Ti, B)y. magneto-optical recording medium. (3) The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the sputtering target is a cut or polished alloy ingot obtained by a casting method. (4) The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the sputtering target has an oxygen concentration of 1% by weight or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15202287A JPS63316342A (en) | 1987-06-18 | 1987-06-18 | Magneto-optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15202287A JPS63316342A (en) | 1987-06-18 | 1987-06-18 | Magneto-optical recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63316342A true JPS63316342A (en) | 1988-12-23 |
Family
ID=15531349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15202287A Pending JPS63316342A (en) | 1987-06-18 | 1987-06-18 | Magneto-optical recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63316342A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0224853A (en) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magneto-optical recording medium |
| JPH02123542A (en) * | 1988-11-02 | 1990-05-11 | Fujitsu Ltd | Magneto-optical disk and its production |
-
1987
- 1987-06-18 JP JP15202287A patent/JPS63316342A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0224853A (en) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magneto-optical recording medium |
| JPH02123542A (en) * | 1988-11-02 | 1990-05-11 | Fujitsu Ltd | Magneto-optical disk and its production |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0515778B2 (en) | ||
| JPS63316342A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JP3076141B2 (en) | Magnetic thin film target material and method of manufacturing the same, Fe-MC soft magnetic film and method of manufacturing the same, and magnetic head and magnetic recording / reproducing apparatus using the same | |
| JPS63316340A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS63316341A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS63308750A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPH01105344A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS6334753A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS62222609A (en) | Photomagnetic recording medium | |
| JP3534264B2 (en) | Target material for magnetic thin film and method for manufacturing the same | |
| JPS63275058A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS6376134A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS6039157A (en) | Manufacture of amorphous magnetic alloy | |
| JPS62262245A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS62246159A (en) | Photomagnetic recording medium | |
| JPS6334752A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPH0690813B2 (en) | Amorphous magneto-optical layer | |
| JPS59162250A (en) | Magnetic alloy | |
| JPS6348636A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS63100636A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS6299937A (en) | Photomagnetic recording medium | |
| JPS6243847A (en) | Photomagnetic recording medium | |
| JP2636813B2 (en) | Soft magnetic thin film | |
| JP2543677B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS633406A (en) | Magnetically soft thin film |