JPS63311736A - プリアラインメント装置 - Google Patents
プリアラインメント装置Info
- Publication number
- JPS63311736A JPS63311736A JP62148296A JP14829687A JPS63311736A JP S63311736 A JPS63311736 A JP S63311736A JP 62148296 A JP62148296 A JP 62148296A JP 14829687 A JP14829687 A JP 14829687A JP S63311736 A JPS63311736 A JP S63311736A
- Authority
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- Japan
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- wafer
- length
- alignment
- laser beam
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- Granted
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（概要）
本発明はプリアラインメント装置であって、レーザ光を
用いてウェハのＸ方向長さ及び２つのＹ方向長さを求め
、Ｘ方向長さが最大でＹ方向長さが互いに等しくＸ方向
長さよ゛り小となるようウェハの移動及び回転を制御す
ることにより、位置合わせの誤差が小さくし、汎用性を
向上させる。
用いてウェハのＸ方向長さ及び２つのＹ方向長さを求め
、Ｘ方向長さが最大でＹ方向長さが互いに等しくＸ方向
長さよ゛り小となるようウェハの移動及び回転を制御す
ることにより、位置合わせの誤差が小さくし、汎用性を
向上させる。
本発明はプリアラインメント装置に関し、投影露光装欝
に搬送するウェハの位置合わせを行なうアリアラインメ
ント装置に関する。
に搬送するウェハの位置合わせを行なうアリアラインメ
ント装置に関する。
フォトエツヂング等を行なうために投影露光装置にウェ
ハを搬送して装着する際には、プリアラインメント装置
を用いてウェハの位置合わせを行なう必要がある。これ
はウェハがカセットに不ｂｙｌいに収納されているため
である。
ハを搬送して装着する際には、プリアラインメント装置
を用いてウェハの位置合わせを行なう必要がある。これ
はウェハがカセットに不ｂｙｌいに収納されているため
である。
従来のプリアラインメント装置においては第４図に示す
如く、ウェハ１０のＦ面を真空ヂャツク１１で吸箸し、
真空ヂャック１１を回転させ、がつＸ方向及びＹ方向に
移動させて、−直線上に並べられたフォトセンサ１２．
１３．１４でウェハ１０のオリエンテーション・フラッ
ト（切欠）１０ａのエツジを検出し、フォトセンサ１５
でウェハ１０のエツジを検出することによりオリエンテ
ーション・フラット１０ａを基準とした位首合わせを行
なっている。
如く、ウェハ１０のＦ面を真空ヂャツク１１で吸箸し、
真空ヂャック１１を回転させ、がつＸ方向及びＹ方向に
移動させて、−直線上に並べられたフォトセンサ１２．
１３．１４でウェハ１０のオリエンテーション・フラッ
ト（切欠）１０ａのエツジを検出し、フォトセンサ１５
でウェハ１０のエツジを検出することによりオリエンテ
ーション・フラット１０ａを基準とした位首合わせを行
なっている。
しかるに、従来のプリアラインメント装置はフォトセン
サ１２〜１５でウェハ１０のエツジを検出しているため
、フォトセンサ１２〜１５夫々の取付位欝の誤差により
ウェハ１０の位置合わゼに誤差を生じるという問題点が
あった。
サ１２〜１５でウェハ１０のエツジを検出しているため
、フォトセンサ１２〜１５夫々の取付位欝の誤差により
ウェハ１０の位置合わゼに誤差を生じるという問題点が
あった。
また、ウェハ１０の直径が例えば４インチとしてフォト
センサ１２〜１５を設定しているプリアラインメント装
置においては直径が５インチ又は６インチのウェハ１０
の位回含わせを行なうことができず汎用性が低いという
問題点があった。
センサ１２〜１５を設定しているプリアラインメント装
置においては直径が５インチ又は６インチのウェハ１０
の位回含わせを行なうことができず汎用性が低いという
問題点があった。
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、位置合
わせの誤差が小さく、かつ汎用性が高いプリアラインメ
ント装置を提供することを目的とする。
わせの誤差が小さく、かつ汎用性が高いプリアラインメ
ント装置を提供することを目的とする。
本発明のプリアラインメント装置は、ウェハ（２０）を
第１のレーザ光でＸ方向に走査してウェハ（２０）の両
端を検出する検出手段（３０〜３３）と、 ウェハ（２０）を第２及び第３のレーザ光でＹ方向に互
いに平行に走査してウェハ（２０）の両端を検出する第
２及び第３の検出手段（３５〜４１）と、 第１の検出手段（３０〜３３）で検出された両端間の×
方向長さが最大で、第２及び第３の検出手段（３５〜４
１）夫々で検出された両端間のＹ方向長さが互いに等し
くｘ方向長さより小となるようウェハの移動及び回転を
制御する制御手段（４２）とを有する。
第１のレーザ光でＸ方向に走査してウェハ（２０）の両
端を検出する検出手段（３０〜３３）と、 ウェハ（２０）を第２及び第３のレーザ光でＹ方向に互
いに平行に走査してウェハ（２０）の両端を検出する第
２及び第３の検出手段（３５〜４１）と、 第１の検出手段（３０〜３３）で検出された両端間の×
方向長さが最大で、第２及び第３の検出手段（３５〜４
１）夫々で検出された両端間のＹ方向長さが互いに等し
くｘ方向長さより小となるようウェハの移動及び回転を
制御する制御手段（４２）とを有する。
（作用）
本発明装置においては、第１〜第３のレーザ光でウェハ
（２０）を走査してウェハ（２０）の両端を検出するた
め、精度が高く、位置合わせの誤差が小さくなる。また
、ウェハ（２０）の大ぎさが異なってもウェハ（２０）
の両端を検出でき、汎用性が向上する。
（２０）を走査してウェハ（２０）の両端を検出するた
め、精度が高く、位置合わせの誤差が小さくなる。また
、ウェハ（２０）の大ぎさが異なってもウェハ（２０）
の両端を検出でき、汎用性が向上する。
第１図は本発明のプリアラインメント装置の一実施例の
概略構成図、第２図はその一部の平面図を示す。
概略構成図、第２図はその一部の平面図を示す。
第１図中、ウェハ２０は真空チャック２１に吸着されて
保持されている。真空チャック２１の軸２２はモータ２
３により回転駆動される。軸２２及びモータ２３はＸス
テージ２４上に設けられており、Ｘステージ２４はモー
タ２５によりＸ方向に駆動される。Ｘステージ２４及び
干−タ２５はＹステージ２６上に設けられており、Ｙス
テージ２６はモータ２７によりＹ方向に駆動される。
保持されている。真空チャック２１の軸２２はモータ２
３により回転駆動される。軸２２及びモータ２３はＸス
テージ２４上に設けられており、Ｘステージ２４はモー
タ２５によりＸ方向に駆動される。Ｘステージ２４及び
干−タ２５はＹステージ２６上に設けられており、Ｙス
テージ２６はモータ２７によりＹ方向に駆動される。
真空チャック２１よりＸ方向に離間してレー奢ア光源３
０が設けられている。レーザ光源３０から発射されたレ
ーザ光は回転ミラー３１に照射される。回転ミラー３１
は例えば正八角柱であり、等速度で回転する。この回転
ミラー３１で反射されたレーザ光はウェハ２０をＸ方向
に走査Ｊる１、真空チャック２１のＸ方向両側のウェハ
２０の下方にはラインセンサ３２．３３が設けられてい
る。
０が設けられている。レーザ光源３０から発射されたレ
ーザ光は回転ミラー３１に照射される。回転ミラー３１
は例えば正八角柱であり、等速度で回転する。この回転
ミラー３１で反射されたレーザ光はウェハ２０をＸ方向
に走査Ｊる１、真空チャック２１のＸ方向両側のウェハ
２０の下方にはラインセンサ３２．３３が設けられてい
る。
ラインセンサ３２と３３はＸ方向に並べられており、上
記回転ミラー３１の反射レー骨ア光のうちウェハ２０外
方を走査するレーザ光がラインセンサ３２．３３に入射
する。
記回転ミラー３１の反射レー骨ア光のうちウェハ２０外
方を走査するレーザ光がラインセンサ３２．３３に入射
する。
同様にして、第２図に示す如く、真空チャック２１より
Ｙ方向に離間してレーザ光源３５．３６が並設されてい
る。レーザ光源３５．３６夫々から発射されたレーザ光
は回転ミラー３７に照射される。回転ミラー３７は例え
ば正八角柱であり、等速度で回転する。この回転ミラー
３７で反射されたレーザ光はウェハ２０をＹ方向に走査
する。
Ｙ方向に離間してレーザ光源３５．３６が並設されてい
る。レーザ光源３５．３６夫々から発射されたレーザ光
は回転ミラー３７に照射される。回転ミラー３７は例え
ば正八角柱であり、等速度で回転する。この回転ミラー
３７で反射されたレーザ光はウェハ２０をＹ方向に走査
する。
真空チャック２１のＹ方向両側のウェハ２０の下方には
レーザ光′１ｆＸ！３５に対応してラインセンυ３８．
３９が設けられ、レーデ光源３６に対応してラインセン
サ４０．４１が設けられている。ラインセンサ３８と３
９．４０と４１は夫々Ｙ方向に並べられており、上記回
転ミラー３７の反射レーザ光のうちウェハ２０外方を走
査するレーザ光がラインセンタ３８〜４１に入射する。
レーザ光′１ｆＸ！３５に対応してラインセンυ３８．
３９が設けられ、レーデ光源３６に対応してラインセン
サ４０．４１が設けられている。ラインセンサ３８と３
９．４０と４１は夫々Ｙ方向に並べられており、上記回
転ミラー３７の反射レーザ光のうちウェハ２０外方を走
査するレーザ光がラインセンタ３８〜４１に入射する。
ラインセンサ３２．３３．３８〜４１夫々はレーザ光が
照射された部分がＨレベルで照射されない部分がＬレベ
ルとなりウェハ２０の端部を検出した受光信号を生成す
る。人々の受光信号は第１図に示す制御回路４２に供給
される。
照射された部分がＨレベルで照射されない部分がＬレベ
ルとなりウェハ２０の端部を検出した受光信号を生成す
る。人々の受光信号は第１図に示す制御回路４２に供給
される。
制御回路４２は第３図に示す如く、ラインセンサ３２と
３３の受光信号からウェハ２０のＸ方向長さｘｌを輝出
しくステップ５０）、Ｘ方向長さ×１をウェハ２０の直
径に対応した値及び前回のＸ方面長さと比較してＸ方向
長さ×１が最大値であるかどうかを判別する（ステップ
５１）。最大値でなければモータ２５に制御信号を供給
してウェハ２０をＹ方向に移動させるか、またはｔ−タ
２３で回転させ（ステップ５２）、上記ステップ５０．
５１を繰り返す。
３３の受光信号からウェハ２０のＸ方向長さｘｌを輝出
しくステップ５０）、Ｘ方向長さ×１をウェハ２０の直
径に対応した値及び前回のＸ方面長さと比較してＸ方向
長さ×１が最大値であるかどうかを判別する（ステップ
５１）。最大値でなければモータ２５に制御信号を供給
してウェハ２０をＹ方向に移動させるか、またはｔ−タ
２３で回転させ（ステップ５２）、上記ステップ５０．
５１を繰り返す。
ステップ５１でＸ方向長さＸ＋が最大値であると判別さ
れると、ラインセンサ３８と３９．４０と４１夫々の受
光信号からＹ方向長さＹｌ、Ｙ２夫々を算出しくステッ
プ５３）、Ｙ方向長さＹｌ 。
れると、ラインセンサ３８と３９．４０と４１夫々の受
光信号からＹ方向長さＹｌ、Ｙ２夫々を算出しくステッ
プ５３）、Ｙ方向長さＹｌ 。
Ｙｌが等しいかどうかを判別する（ステップ５４）。
ここで、両者が等しくなければｔ−タ２７に制御信号を
供給してウェハ２０をＸ方向に移動させるか、またはモ
ータ２３で回転させ（ステップ５５）、上記ステップ５
３．５４を繰り返す。この際、Ｘ方向長さ×１は最大値
を保持しつつ、ウェハ２０を動かす。
供給してウェハ２０をＸ方向に移動させるか、またはモ
ータ２３で回転させ（ステップ５５）、上記ステップ５
３．５４を繰り返す。この際、Ｘ方向長さ×１は最大値
を保持しつつ、ウェハ２０を動かす。
ステップ５４でＹ方向長さＹｌ 、Ｙｌが等しいζ刊が
Ｊ３ｎ◇とスＴツ１３ ｔ）ｌｊ移口し、ここでＹ方向
長さＹｌ 、ＹｌがＸ方向長さＸ＋より所定値α以上短
いかどうかが判別されこれを満足しない場合にはモータ
２３に制御信号を供給してウェハ２０を回転させ（ステ
ップ５７）、Ｘ方向長さＸ＋及びＹ方向長さＹｌ 、’
Ｙ２を算出する（ステップ５８）。この所定値αはウェ
ハ２０の直径とオリエンテーション・フランｔ−２０ａ
を通る径との差より僅かに小さい値である。なお、ステ
ップ５７の実行時にはＸ方向長さＸ＋が最大値を維持し
、Ｙ方向長さＹｌ、Ｙｌが同一を維持するよう七−夕２
３，２５の制御を行なう。これは真空チレック２１が必
ずしもウェハ２０の中心を吸着しているとは限らないか
らである。
Ｊ３ｎ◇とスＴツ１３ ｔ）ｌｊ移口し、ここでＹ方向
長さＹｌ 、ＹｌがＸ方向長さＸ＋より所定値α以上短
いかどうかが判別されこれを満足しない場合にはモータ
２３に制御信号を供給してウェハ２０を回転させ（ステ
ップ５７）、Ｘ方向長さＸ＋及びＹ方向長さＹｌ 、’
Ｙ２を算出する（ステップ５８）。この所定値αはウェ
ハ２０の直径とオリエンテーション・フランｔ−２０ａ
を通る径との差より僅かに小さい値である。なお、ステ
ップ５７の実行時にはＸ方向長さＸ＋が最大値を維持し
、Ｙ方向長さＹｌ、Ｙｌが同一を維持するよう七−夕２
３，２５の制御を行なう。これは真空チレック２１が必
ずしもウェハ２０の中心を吸着しているとは限らないか
らである。
このようにしてウェハ２０は第２図に示す如く、オリエ
ンテーション・フラット２０ａをラインセンサ３９．４
１に対応さけて位置合わせされ、ステップ５６の満足に
よりんり御回路４２は位置合わけ処理を終了する。
ンテーション・フラット２０ａをラインセンサ３９．４
１に対応さけて位置合わせされ、ステップ５６の満足に
よりんり御回路４２は位置合わけ処理を終了する。
このように、レーザ光でウェハ２０を走査してウェハ２
０のエツジを検出しているため、誤差が小さく高精度の
位置合わせを行なうことができる。
０のエツジを検出しているため、誤差が小さく高精度の
位置合わせを行なうことができる。
また、ラインセンサ３２，３３．３８〜４１夫々の長さ
が数インチであれば、ウニ［ハ２０の直径が４インチ、
５インチ、６インチと異なっても位置合わせを行なうこ
とができ、汎用性が非常に高い。
が数インチであれば、ウニ［ハ２０の直径が４インチ、
５インチ、６インチと異なっても位置合わせを行なうこ
とができ、汎用性が非常に高い。
上述の如く、本発明のブリアラインメント装置によれば
、ウェハの位置合わせの粘度が向上すると共に、ウェハ
の直径が異なっても位置合わせを行なうことができ汎用
性が向上し、実用」−ぎわめて有用である。
、ウェハの位置合わせの粘度が向上すると共に、ウェハ
の直径が異なっても位置合わせを行なうことができ汎用
性が向上し、実用」−ぎわめて有用である。
第１図は本発明のブリアラインメント装置の概略構成図
、 第２図は第１図の装置の一部の平面図、第３図は制御回
路の動作説明用ノロ−チャー１−１第４図は従来装置の
位置合わせを説明するための図である。 図面中、 ２０はウェハ、 ２０ａはオリエンテーション・フラット、２１は真空ヂ
ャック、 ２２は軸、 ２３．２５．２７はモータ、 ２４はＸステージ、 ２６はＹステージ、 ３０．３５．３６はレーザ光源、 ３１．３７は回転ミラー、 ３２．３３．３８〜４１はライン、センサ、４２は制御
回路、 ５０〜５８はステップである。 １ 図 ＄１０Ｌ；ホＴキ１１の一卸ｔ♀面阻 第２図 御搾ヤ佼僅の負咋３υ牛円７０−４ヤード３３ ！ ネ迎摩り直１１のＡ立量令せＥ言乏州亨るた」夕の図窺
４図
、 第２図は第１図の装置の一部の平面図、第３図は制御回
路の動作説明用ノロ−チャー１−１第４図は従来装置の
位置合わせを説明するための図である。 図面中、 ２０はウェハ、 ２０ａはオリエンテーション・フラット、２１は真空ヂ
ャック、 ２２は軸、 ２３．２５．２７はモータ、 ２４はＸステージ、 ２６はＹステージ、 ３０．３５．３６はレーザ光源、 ３１．３７は回転ミラー、 ３２．３３．３８〜４１はライン、センサ、４２は制御
回路、 ５０〜５８はステップである。 １ 図 ＄１０Ｌ；ホＴキ１１の一卸ｔ♀面阻 第２図 御搾ヤ佼僅の負咋３υ牛円７０−４ヤード３３ ！ ネ迎摩り直１１のＡ立量令せＥ言乏州亨るた」夕の図窺
４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ウエハ（２０）をＸ方向及び該Ｘ方向と直交するＹ方向
に移動し、かつ回転させて、該ウェハ（２０）のオリエ
ンテーション・フラット（２０ａ）を基準とした位置合
わせを行なうプリアラインメント装置において、 該ウェハ（２０）を第１のレーザ光で該Ｘ方向に走査し
て該ウェハ（２０）の両端を検出する検出手段（３０〜
３３）と、 該ウェハ（２０）を第２及び第３のレーザ光で該Ｙ方向
に互いに平行に走査して該ウエハ（２０）の両端を検出
する第２及び第３の検出手段（３５〜４１）と、 該第１の検出手段（３０〜３３）で検出された両端間の
Ｘ方向長さが最大で、該第２及び第３の検出手段（３５
〜４１）夫々で検出された両端間のＹ方向長さが互いに
等しく該Ｘ方向長さより小となるよう該ウェハの移動及
び回転を制御する制御手段（４２）とを有することを特
徴とするプリアラインメント装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62148296A JP2513697B2 (ja) | 1987-06-15 | 1987-06-15 | プリアラインメント装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62148296A JP2513697B2 (ja) | 1987-06-15 | 1987-06-15 | プリアラインメント装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63311736A true JPS63311736A (ja) | 1988-12-20 |
| JP2513697B2 JP2513697B2 (ja) | 1996-07-03 |
Family
ID=15449604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62148296A Expired - Lifetime JP2513697B2 (ja) | 1987-06-15 | 1987-06-15 | プリアラインメント装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2513697B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0536837U (ja) * | 1991-10-14 | 1993-05-18 | 株式会社アドバンテスト | ウエーハｏｆ位置検出装置 |
-
1987
- 1987-06-15 JP JP62148296A patent/JP2513697B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0536837U (ja) * | 1991-10-14 | 1993-05-18 | 株式会社アドバンテスト | ウエーハｏｆ位置検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2513697B2 (ja) | 1996-07-03 |
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