JPS63308524A - 干渉装置 - Google Patents

干渉装置

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JPS63308524A
JPS63308524A JP14434987A JP14434987A JPS63308524A JP S63308524 A JPS63308524 A JP S63308524A JP 14434987 A JP14434987 A JP 14434987A JP 14434987 A JP14434987 A JP 14434987A JP S63308524 A JPS63308524 A JP S63308524A
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interference
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Isuke Hirano
平野 伊助
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光のコヒーレンス度を測定するための干渉装置
に関する。
〔従来の技術〕
従来、光源から出る光のコヒーレンス長は、マイケルソ
ン干渉計を用いて次のように定義され、測定される。第
5図において、1は光源、2はコリメーンションレンズ
、3は半透鏡、4は第1の鏡、5は第2の鏡、6はスク
リーンである。光源1から発光された光はコリメーンシ
ョンレンズ2にて平行光束とされ、この平行光束は半透
鏡3で二分され、半透鏡3で反射された光は、固定され
た第1の鏡4によって元の方向へ反射され、半透鏡3を
透過してスクリーン6に達する。一方、二分された光の
うち半透鏡3を透過した光は、光軸方向に移動可能な第
2の鏡5によって元の方向へ反射され、半透鏡3により
反射されてツクリニン6に達し、第1の鏡4によって反
射された光と干渉して干渉縞をスクリーン6上に形成す
る。この干渉縞のスクリーン6上での強度分布■は、第
6図に示したように最大値I maxと最小値1 mi
nを一定周期で交互に繰り返すものとなる。そして、こ
の干渉縞の鮮明度■がI maxとI minを用いて
次のように表される。
V−(Imax −Tmin ) / (Imax +
 lm1n )第5図において、半透鏡3から第1の鏡
4の位置と等しい距離の位置から、第2の鏡5を光路長
Δβ/2だけ移動させた時の干渉縞の鮮明度の変化を測
定してグラフに描くと第7図のようになる。
干渉計の両方の光路長が等しい時鮮明度は1となり、両
者の光路長差Δβが大きくなるに従って鮮明度は低下す
る。鮮明度が1/eになる距離1cによって、光源から
発光される光のコヒーレンス長が定義される。
〔発明が解決すべき問題点〕
上記のような従来の測定方法を用いてパルス状の光信号
のコヒーレンス長を測定する時、パルスの周期に合わせ
て第2の鏡5を逐一移動しなければならない。このため
、パルス間隔の広い光や単一現象に関する光の場合にお
いては、連続的数値の必要なコヒーレンス長を単一の測
定で求めることはできない。
本発明の目的は、このような従来の光のコヒーレンス長
測定装置の欠点を除いて、1回の観測で光源または単一
現象により発せられた光のコヒーレンス度の測定を可能
にする干渉装置を提供することである。
〔問題点を解決するための手段〕
そのために本発明の干渉装置は、マイケルソン干渉計の
分割された2光路の一方の光路中に、光路長が異なる複
数の光学的遅延路を並列して設け、各光学的遅延路に対
応する位置の干渉縞の鮮明度を検出する検出装置を設け
ることによってコヒーレンス度を測定するように構成し
たことを特徴とする。
〔作用〕
本発明の干渉装置は、光源または単一現象によって生じ
た光1は、エシェロン8の別々の光路長を有する階段を
同時に透過して別々の位置の干渉縞を形成するので、こ
れら干渉縞は異なる光路差を有する光の干渉縞である。
従って、各干渉縞の鮮明度を求めることによって、この
光のコヒーレンス度を測定することができる。
〔実施例〕
以下、実施例を図面を参照して説明する。
第1図は本発明の干渉装置の一実施例の光路図、第2図
(イ)は第1図に用いるエシェロンの断面図、同図(ロ
)は波面の説明図、同図(ハ)は形成される干渉縞の平
面図で、7は1次元または2次元検出器、8はエシェロ
ンで9は第1の鏡からの波面、10は第2の鏡からの波
面である。
マイケルソン干渉計の分割された2光路の一方の光路の
平行光束中に、第2図(イ)に示したような断面形状の
光路長が階段状に変化する光学的遅延路(エシェロン)
8を挿入し、エシェロン8の各階段を透過した光の干渉
縞の鮮明度を同時に測定できるようにし、従来技術にお
けるような第2の鏡5を移動させる必要をなくしたもの
である。
すなわち、第1図において、光源または単一現象によっ
て生じた光1はコリメーションレンズ2にて所定の幅(
径)を持つ平行光束に変換され、この平行光束は半透鏡
3で二分され、半透鏡3で反射された光は第1の鏡4に
よって元の方向へ反射され、半透鏡3を透過して1次元
または2次元検出器7に達する。その時の波面9は、第
2図(ロ)に示したように、平面状となっている。一方
、二分された光のうち半透鏡3を透過した光はエシェロ
ン8を透過し、第2の鏡5によって元の方向へ反射され
、再びエシェロン8を通って半透鏡3へ達し、ここで反
射されて1次元または2次元検小器7に達する。この光
路を通った波面10は、第2図(ロ)に示したように、
エシェロン8の階段に対応して階段状になっている。す
なわち、同じ光源または単一現象によって生じた光1が
、光の進行方向と直交する方向に分布して平行に進み、
エシェロン8によって直交方向に別々に異なった光路差
が導入されることになる。この2つの波面9とlOが1
次元または2次元検出器7上で干渉して、第2図(ハ)
に示したような光源または単一現象によって生じた光1
のコヒーレンス度に対応して鮮明度が変化する干渉縞を
形成する。エシェロン8の各階段の光路長は既知である
ので、各階段に対応する干渉縞の鮮明度を求めることに
よってコヒーレンス度が検出できる。なお、第2図(ハ
)においてエシェロン8の1つの階段に1つの干渉縞が
位置するようになっているが、1つの階段に複数の干渉
縞がある方が縞のコントラスト(鮮明度)を求めるには
都合がよい。そのためには、波面9と10との間の相対
的傾きを変えるように干渉計を構成する光学要素を調整
すればよい。
また、コヒーレンス長がエシェロン8ではカバーできな
いような場合は、従来技術と同様に第2の鏡5を移動さ
せればよい。そして、この移動はエシェロン8の階段に
対応したステップで送ればよいので、測定は従来のもの
に比してより迅速となる。
第3図(イ)はストリークカメラを用いる場合のエシェ
ロンの配置、(ロ)はエシェロンの配置に対応するスト
リーク像、(ハ)はその時の干渉縞の強度分布を示して
いる。
第1図の検出器7としてストリークカメラを用いて高速
現象の過渡的測定を行うと、第3図(イ)に示したよう
なエシェロン8の配置に対して(ロ)に示したような時
間軸を伴ったストリーク像(干渉パターン)が得られる
(ストリークカメラについては、例えば特公昭60−1
7049号公報参照)。第3図(ロ)のx−x ’にお
ける干渉縞強度分布は第3図(ハ)のように、またこの
時の縞の濃淡は第3図(ニ)のようになり、これからこ
の現象によって生じた光のコヒーレンス度を求めること
ができる。従って、パルス光のコヒーレンス長を簡単に
求めることができる。
第4図は本発明の第2の実施例を示し、11は波長λ1
の光源、12は波長λ2の光源、13゜14はコリメー
ションレンズ、15は第1の偏光ビームスプリッタ、1
6は第2の偏光ビームスプリンタ、17は4分の1波長
板、18は検光子である。
また、二波長間の過渡的コヒーレンスも、第4図のよう
に干渉計を偏光干渉計とすることによって測定すること
ができる。波長λ、の光源11及び波長λ2の光源12
からの光はそれぞれコリメーションレンズ13及び14
によって平行光束とされ、第1の偏光ビームスプリッタ
15によって合成され、第2の偏光ビームスプリンタ1
6によって分割され、一方の光源からの光はここで反射
されて4分の1波長板17を通って偏光方向が元の偏光
方向に対して90°回転した直線偏光となって第2の偏
光ビームスプリッタ16を透過し、検光子18に達する
。他方の光源からの光は第2の偏光ビームスプリッタ1
6を透過し、4分の1波長板17を通って円偏光となり
、エシェロン8を透過し、第2の鏡5によって元の方向
へ反射され、再びエシェロン8.4分の1波長板17を
通って偏光方向が元の偏光方向に対して90°回転した
直線偏光となって第2の偏光ビームスプリンタ16によ
って反射され、検光子18に達する。
検光子18を通過した両方の光は1次元または2次元検
出器7上で干渉して干渉縞を形成する。このようにして
、例えば異なる2つの光のパルスの過渡的コヒーレンス
度を求めることができる。
なお、第1図、第4図に関する場合、1次元または2次
元検出器7とその信号処理系に画像蓄積機能を有するも
のを用いれば、単一現象のコヒーレンス度の測定も可能
となる。また、いずれの実施例においても、エシェロン
8の裏面を鏡面にし、第2の鏡5を省くことも可能であ
る。さらに、エシェロン8を用いる代わりに、第2の鏡
5として表面が階段状のものを用いることも可能である
(発明の効果〕 以上のように本発明によれば、従来のもののように逐次
的に測定をする必要がなく、1回の測定でコヒーレンス
度を測定することができるので、単一現象によって生じ
る光のコヒーレンス度を測定することが可能である。そ
して、1つの光パルスだけでなく、三波長間の過渡的コ
ヒーレンス度測定も可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の干渉装置の1実施例の光路図、第2図
(イ)は第1図に用いるエシェロンの断面図、同図(ロ
)は波面の説明図、同図(ハ)は形成される干渉縞の平
面図、第3図(イ)はストリークカメラを用いる場合の
エシェロンの配置を示す図、同図(ロ)はエシェロンの
配置に対応するストリーク像を示す図、同図(ハ)はそ
の時の干渉縞の強度分布図、同図(ニ)は縞の濃淡を示
す図、第4図は本発明の第2の実施例の光路図、第5図
は従来の干渉装置の光路図、第6図は干渉縞の強度分布
図、第7図は鮮明度とコヒーレンス長を説明するための
図である。 第1図・ 1・・・光源、2・・・コリメーションレンズ、3・・
・半透鏡、4・・・第1の鏡、5・・・第2の鏡、6・
・・スクリーン、7・・・1次元または2次元検出器、
8・・・エシェロン、9・・・第1の鏡からの波面、1
0・・・第2の鏡からの波面、11・・・波長λ1の光
源、12・・・波長λ2の光源、13.14はコリメー
ションレンズ、15・・・第1の偏光ビームスプリッタ
、16・・・第2の偏光ビームスプリッタ、17・・・
4分の1波長板、18・・・検光子。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)マイケルソン干渉計の分割された2光路の一方の
    光路中に、光路長が異なる複数の光学的遅延路を並列し
    て設け、各光学的遅延路に対応する位置の干渉縞の鮮明
    度を検出する検出装置を設けることによってコヒーレン
    ス度を測定するように構成したことを特徴とする干渉装
    置。
  2. (2)光路長が異なる複数の光学的遅延路を光路長が階
    段状に変化するエシェロン形状の透明体で構成したこと
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の干渉装置。
  3. (3)分割された2光路の一方の反射鏡と透明体を一体
    にしたことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の干
    渉装置。
  4. (4)分割された2光路の一方の反射鏡を光軸方向へ移
    動可能にしたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の干渉装置。
  5. (5)マイケルソン干渉計を偏光干渉計として構成した
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の干渉装置
  6. (6)鮮明度を検出する検出装置としてストリークカメ
    ラを用いたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の干渉装置。
  7. (7)鮮明度を検出する検出装置として画像蓄積機能を
    有するものを用いたことを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の干渉装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003530564A (ja) * 2000-04-12 2003-10-14 ナノ−オア テクノロジーズ インコーポレイテッド 空間・分光波頭分析測定方法及び装置

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