JPH05264220A - 距離測定のための光学的方法と光学装置、および部品の相対的位置決めへのその応用 - Google Patents
距離測定のための光学的方法と光学装置、および部品の相対的位置決めへのその応用Info
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- JPH05264220A JPH05264220A JP4360022A JP36002292A JPH05264220A JP H05264220 A JPH05264220 A JP H05264220A JP 4360022 A JP4360022 A JP 4360022A JP 36002292 A JP36002292 A JP 36002292A JP H05264220 A JPH05264220 A JP H05264220A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 距離測定のための技術とその応用法としての
部品の位置決め、特に基板に挿入されたチップの位置決
め法を提供する。 【構成】 波長の異なる少なくとも２つの光波λ１およ
びλ２から成る入射ビーム１３を発し、これを参照ビー
ム１５と測定ビーム１７に分け、各ビームを参照反射体
１６と測定ビーム方向の位置を測定したい部品１９の領
域１８で反射させ、反射した参照ビーム１５ａと反射し
た測定ビーム１７ａを以下のような偏光状態、すなわち
上記測定ビームの光路長が変化するとその成分が回転
し、また、偏光状態のそれぞれ対応する２つの成分の角
位置が等しいところを境にして測定ビーム方向に互いに
隣接する範囲を決定するような偏光状態にある前記光波
を含む合成ビーム２０に再結合させ、合成ビーム２０か
ら前記光波の前記偏光状態のそれぞれ対応する２つの成
分の角位置α１およびα２を測定することと、参照位
置、とくに参照反射体の像から前記部品の上記領域まで
の距離を前記角位置の関数として計算することの各段階
を有する距離測定のための光学的方法および光学装置。
部品の位置決め、特に基板に挿入されたチップの位置決
め法を提供する。 【構成】 波長の異なる少なくとも２つの光波λ１およ
びλ２から成る入射ビーム１３を発し、これを参照ビー
ム１５と測定ビーム１７に分け、各ビームを参照反射体
１６と測定ビーム方向の位置を測定したい部品１９の領
域１８で反射させ、反射した参照ビーム１５ａと反射し
た測定ビーム１７ａを以下のような偏光状態、すなわち
上記測定ビームの光路長が変化するとその成分が回転
し、また、偏光状態のそれぞれ対応する２つの成分の角
位置が等しいところを境にして測定ビーム方向に互いに
隣接する範囲を決定するような偏光状態にある前記光波
を含む合成ビーム２０に再結合させ、合成ビーム２０か
ら前記光波の前記偏光状態のそれぞれ対応する２つの成
分の角位置α１およびα２を測定することと、参照位
置、とくに参照反射体の像から前記部品の上記領域まで
の距離を前記角位置の関数として計算することの各段階
を有する距離測定のための光学的方法および光学装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、距離測定のための光学
的方法と装置、および部品の位置決めへのその応用に関
するものである。
的方法と装置、および部品の位置決めへのその応用に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】距離の測定、さらに詳しくは距離の変化
の測定には例えばマイケルソン（ＭＩＣＨＥＬＳＯＮ）
型のような干渉計が長い間利用されており、このような
干渉計においては添付の図面の図１に示す通り、単色入
射ビーム１を分割プレート２によって参照ビーム３と測
定ビーム４に分け、例えば反射鏡５および６のような反
射体によってこれらを分割プレート２へ反射させ、合成
ビーム７へと再結合させる。
の測定には例えばマイケルソン（ＭＩＣＨＥＬＳＯＮ）
型のような干渉計が長い間利用されており、このような
干渉計においては添付の図面の図１に示す通り、単色入
射ビーム１を分割プレート２によって参照ビーム３と測
定ビーム４に分け、例えば反射鏡５および６のような反
射体によってこれらを分割プレート２へ反射させ、合成
ビーム７へと再結合させる。
【０００３】参照ビーム３と測定ビーム４の光路長が異
なる場合には、これらのビームの電磁波に位相のずれが
生じ、添付の図面の図２に示すような明暗交互の干渉縞
９および１０が合成ビーム７上に配置した観測面８で観
測できる。ここで観測面８にスリットを配置し、一方の
反射鏡、例えば反射鏡５を動かしたとすると、このスリ
ット上を明暗の縞が通ることになり、暗い縞２本の通過
で反射鏡５が波長の半分だけ変位したことと等しくな
る。
なる場合には、これらのビームの電磁波に位相のずれが
生じ、添付の図面の図２に示すような明暗交互の干渉縞
９および１０が合成ビーム７上に配置した観測面８で観
測できる。ここで観測面８にスリットを配置し、一方の
反射鏡、例えば反射鏡５を動かしたとすると、このスリ
ット上を明暗の縞が通ることになり、暗い縞２本の通過
で反射鏡５が波長の半分だけ変位したことと等しくな
る。
【０００４】従って、縞の数を計算すれば反射鏡５の変
位が測定でき、２つの縞の間で補間が可能となる。
位が測定でき、２つの縞の間で補間が可能となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記の干渉計の原理を
利用している市販の装置の精度は、利用する入射波の波
長の約１／４８である。従って、光源が６００ｎｍの赤
色の入射ビームを発した場合に得られる精度は高品質の
装置で約０．３ｎｍである。
利用している市販の装置の精度は、利用する入射波の波
長の約１／４８である。従って、光源が６００ｎｍの赤
色の入射ビームを発した場合に得られる精度は高品質の
装置で約０．３ｎｍである。
【０００６】干渉計の精度を高めるため、参照ビームと
測定ビームの相互の偏光を修正し、これらが再結合する
際にその光波が互いに直交するように偏光させる方法が
提案されている。このような場合には合成ビームは干渉
パターンをもたず、参照ビームと測定ビームの位相のず
れに基づく偏光波によって形成される。参照ビームと測
定ビームの光路差から生じるこの位相のずれは、回転板
エリプソメーターやその他の偏光分析器のような偏光測
定の分野で既知の装置を利用して偏光分析によって分析
できる。このような測定装置の精度は１／１００程度で
あるため、位相のずれの測定によって達成できる精度は
１ナノメートルの約１／１００である。
測定ビームの相互の偏光を修正し、これらが再結合する
際にその光波が互いに直交するように偏光させる方法が
提案されている。このような場合には合成ビームは干渉
パターンをもたず、参照ビームと測定ビームの位相のず
れに基づく偏光波によって形成される。参照ビームと測
定ビームの光路差から生じるこの位相のずれは、回転板
エリプソメーターやその他の偏光分析器のような偏光測
定の分野で既知の装置を利用して偏光分析によって分析
できる。このような測定装置の精度は１／１００程度で
あるため、位相のずれの測定によって達成できる精度は
１ナノメートルの約１／１００である。
【０００７】この測定技術では一方の反射鏡の変位は正
確に測定できるが、２πを法とする角度測定に内在する
不確実性のため、その反射鏡の位置に関しては依然とし
て不確実性が残る。位相差角度測定の１つの同じ結果に
対し、反射鏡までの距離ｄは、（＋）または（−）ｋλ
／２（λは利用する波長、ｋは自然数）により、実際に
は１つではない。
確に測定できるが、２πを法とする角度測定に内在する
不確実性のため、その反射鏡の位置に関しては依然とし
て不確実性が残る。位相差角度測定の１つの同じ結果に
対し、反射鏡までの距離ｄは、（＋）または（−）ｋλ
／２（λは利用する波長、ｋは自然数）により、実際に
は１つではない。
【０００８】本発明の目的は、距離測定のための別の技
術とそこから派生する応用法を提案することにある。
術とそこから派生する応用法を提案することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の主題は、まず第
一に、波長の異なる少なくとも２つの光波（λ１および
λ２）から成る入射ビームを発することと；このビーム
を参照ビームと測定ビームに分け、それぞれのビームを
参照反射体と測定ビーム方向の位置を測定したい部品の
領域で反射させることと；反射した参照ビームと測定ビ
ームを以下のような偏光状態、すなわち上記の測定ビー
ムの光路長が変化するとその成分が回転し、また、偏光
状態のそれぞれ対応する２つの成分の角位置が等しいと
ころを境にして測定ビーム方向に互いに隣接する範囲を
決定するような偏光状態にある前記光波を含む合成ビー
ムに再結合させることと；合成ビームから前記光波の前
記偏光状態のそれぞれ対応する２つの成分の角位置（α
１およびα２）を測定することと；参照位置から前記部
品の上記領域までの距離を前記角位置の関数として計算
することの各段階から構成される距離測定のための光学
的方法である。
一に、波長の異なる少なくとも２つの光波（λ１および
λ２）から成る入射ビームを発することと；このビーム
を参照ビームと測定ビームに分け、それぞれのビームを
参照反射体と測定ビーム方向の位置を測定したい部品の
領域で反射させることと；反射した参照ビームと測定ビ
ームを以下のような偏光状態、すなわち上記の測定ビー
ムの光路長が変化するとその成分が回転し、また、偏光
状態のそれぞれ対応する２つの成分の角位置が等しいと
ころを境にして測定ビーム方向に互いに隣接する範囲を
決定するような偏光状態にある前記光波を含む合成ビー
ムに再結合させることと；合成ビームから前記光波の前
記偏光状態のそれぞれ対応する２つの成分の角位置（α
１およびα２）を測定することと；参照位置から前記部
品の上記領域までの距離を前記角位置の関数として計算
することの各段階から構成される距離測定のための光学
的方法である。
【００１０】本発明によれば、この方法には、光路長方
程式の整数ｋ１およびｋ２に過剰分数の原理を応用し、
以下のいずれかの数式を用いて参照反射体の像からの上
記距離ｄを計算する段階を具備することが望ましい。す
なわち、数式 α１・λ１＋２・ｋ１・π・λ１＝α２・λ２＋２・ｋ
２・π・λ２＝４・π・ｎ・ｄ （ここでｎは測定媒質の屈折率である） または補正式 Ｃ１＋α１・λ１＋２・ｋ１・π・λ１＝Ｃ２＋α２・
λ２＋２・ｋ２・π・λ２＝４・π・ｎ・ｄ （ここでＣ１およびＣ２は波長λ１およびλ２を選択し
た場合の干渉計の色分散に伴う光路差である）のいずれ
かを利用する。
程式の整数ｋ１およびｋ２に過剰分数の原理を応用し、
以下のいずれかの数式を用いて参照反射体の像からの上
記距離ｄを計算する段階を具備することが望ましい。す
なわち、数式 α１・λ１＋２・ｋ１・π・λ１＝α２・λ２＋２・ｋ
２・π・λ２＝４・π・ｎ・ｄ （ここでｎは測定媒質の屈折率である） または補正式 Ｃ１＋α１・λ１＋２・ｋ１・π・λ１＝Ｃ２＋α２・
λ２＋２・ｋ２・π・λ２＝４・π・ｎ・ｄ （ここでＣ１およびＣ２は波長λ１およびλ２を選択し
た場合の干渉計の色分散に伴う光路差である）のいずれ
かを利用する。
【００１１】ある実施例では、この方法に２つの光波を
同時に出す段階を具備することが望ましい。別の実施例
においては、この方法には２つの光波を連続して出す段
階が含まれる。
同時に出す段階を具備することが望ましい。別の実施例
においては、この方法には２つの光波を連続して出す段
階が含まれる。
【００１２】本発明によれば、発射されるビームは多色
ビームが望ましく、とくに上記２つの光波を抽出する拡
張線スペクトルを有するものが望ましい。
ビームが望ましく、とくに上記２つの光波を抽出する拡
張線スペクトルを有するものが望ましい。
【００１３】本発明の１つの実施例では上記光波を入射
ビームから選択する。また、別の実施例では上記光波を
合成ビームから選択する。
ビームから選択する。また、別の実施例では上記光波を
合成ビームから選択する。
【００１４】本発明によれば、この方法には入射ビーム
を偏光させる段階を具備することが望ましい。
を偏光させる段階を具備することが望ましい。
【００１５】本発明によれば、この方法には参照ビーム
と測定ビームを互いに直角に偏光させる段階を具備する
ことが望ましい。
と測定ビームを互いに直角に偏光させる段階を具備する
ことが望ましい。
【００１６】本発明によれば、この方法には合成ビーム
をそれぞれλ１およびλ２の波長からなる２つの分析ビ
ームに分割する段階が含まれる。
をそれぞれλ１およびλ２の波長からなる２つの分析ビ
ームに分割する段階が含まれる。
【００１７】本発明によれば、上記光波の偏光状態の上
記角位置はエリプソメーター装置で分析すると効果的で
ある。
記角位置はエリプソメーター装置で分析すると効果的で
ある。
【００１８】本発明によれば、合成ビームの光波は測定
ビームの光路長の関数として方向が変化する非常に平坦
な楕円偏光波または直線偏光波に変換するのが望まし
い。
ビームの光路長の関数として方向が変化する非常に平坦
な楕円偏光波または直線偏光波に変換するのが望まし
い。
【００１９】本発明によれば、この方法には部品の上記
領域の反射係数と同じかまたはそれに近い反射係数を有
する参照反射体を利用する段階が含まれる。
領域の反射係数と同じかまたはそれに近い反射係数を有
する参照反射体を利用する段階が含まれる。
【００２０】ある実施例においては、この方法に再結合
させる上記ビームの強度を均等化または数値的に合わせ
る段階を具備することができる。
させる上記ビームの強度を均等化または数値的に合わせ
る段階を具備することができる。
【００２１】本発明による方法には、縞の分析によって
前記部品を事前に調節し、最もコントラストの大きい縞
を探す段階を具備することが望ましい。
前記部品を事前に調節し、最もコントラストの大きい縞
を探す段階を具備することが望ましい。
【００２２】本発明による方法には、参照ビームと測定
ビームの光路長が等しい、参照反射体の像を中心とする
範囲に部品の上記領域を配置する段階を具備すると効果
的である。
ビームの光路長が等しい、参照反射体の像を中心とする
範囲に部品の上記領域を配置する段階を具備すると効果
的である。
【００２３】また、上記の方法を実行するために利用で
きる、部品の領域の距離を測定するための装置も本発明
の主題である。
きる、部品の領域の距離を測定するための装置も本発明
の主題である。
【００２４】このような装置は、２つの偏光波から構成
されるビームを発するための手段と、入射ビームの偏光
がプレートのビーム入射面に対して平行または直角にな
るよう配置された分割プレートと、参照ビームの光路に
配置された参照反射体と、参照ビームまたは測定ビーム
の光路に配置され、そのビームの偏光面を９０度回転さ
せる四分の一波長板と、合成ビームの前記光波の偏光状
態の対応成分の角位置を分析する手段から構成すると効
果的である。
されるビームを発するための手段と、入射ビームの偏光
がプレートのビーム入射面に対して平行または直角にな
るよう配置された分割プレートと、参照ビームの光路に
配置された参照反射体と、参照ビームまたは測定ビーム
の光路に配置され、そのビームの偏光面を９０度回転さ
せる四分の一波長板と、合成ビームの前記光波の偏光状
態の対応成分の角位置を分析する手段から構成すると効
果的である。
【００２５】分析手段は、合成ビームの光路に配置さ
れ、そのビームの偏光を非常に平坦な楕円偏光または直
線偏光に変換する四分の一波長板と偏光子から構成され
る。
れ、そのビームの偏光を非常に平坦な楕円偏光または直
線偏光に変換する四分の一波長板と偏光子から構成され
る。
【００２６】また、分析手段にエリプソメーター装置を
具備することもできる。
具備することもできる。
【００２７】本発明による装置には、再結合させる上記
ビームの強度を均等化または数値的に合わせる段階を具
備することが望ましい。
ビームの強度を均等化または数値的に合わせる段階を具
備することが望ましい。
【００２８】本発明による装置には、前記光波の光検出
のための手段と像分析および計算装置から構成される分
析手段を具備することが望ましい。
のための手段と像分析および計算装置から構成される分
析手段を具備することが望ましい。
【００２９】さらに、上記の方法または上記の装置に利
用できる、ある部品をそれに隣接する他の部品に対して
位置決めするための方法も本発明の主題である。
用できる、ある部品をそれに隣接する他の部品に対して
位置決めするための方法も本発明の主題である。
【００３０】このような方法は、参照反射体の像平面か
ら第１の部品の３つの領域または点までの距離を測定す
ることと、その部品または反射鏡を像平面に対する調節
位置に変位させることと、参照反射体の像平面から第２
の部品の３つの領域または点までの距離を測定すること
と、その部品を第１部品または反射鏡の調節位置に対す
る調節位置に変位させることの各段階から構成すると効
果的である。
ら第１の部品の３つの領域または点までの距離を測定す
ることと、その部品または反射鏡を像平面に対する調節
位置に変位させることと、参照反射体の像平面から第２
の部品の３つの領域または点までの距離を測定すること
と、その部品を第１部品または反射鏡の調節位置に対す
る調節位置に変位させることの各段階から構成すると効
果的である。
【００３１】上記の方法には、参照反射体の上記像平面
に位置する１つの同じ平面に前記部品の領域を配置する
段階を具備することが望ましい。
に位置する１つの同じ平面に前記部品の領域を配置する
段階を具備することが望ましい。
【００３２】さらに上記の方法には、前記部品の相対的
な位置調節の参照反射体を変位させる段階を具備するこ
とができる。
な位置調節の参照反射体を変位させる段階を具備するこ
とができる。
【００３３】
【実施例】以下では、距離測定のための光学装置とその
動作について示した添付の図面の図３、５、６、および
本発明の特定の応用例について示した図４に基づき、本
発明について詳しく説明するが、図示した例に本発明が
限定されるものではない。
動作について示した添付の図面の図３、５、６、および
本発明の特定の応用例について示した図４に基づき、本
発明について詳しく説明するが、図示した例に本発明が
限定されるものではない。
【００３４】図３に参照符号１１で示した距離測定のた
めの光学装置は、構造的にはマイケルソン（ＭＩＣＨＥ
ＬＳＯＮ）型の干渉計に相当する。
めの光学装置は、構造的にはマイケルソン（ＭＩＣＨＥ
ＬＳＯＮ）型の干渉計に相当する。
【００３５】この装置は、事実上、入射ビーム１３を分
割プレート１４の方向に発する光源１２を備えており、
この光源は水銀蒸気アークまたはレーザーとするのが望
ましい。分割プレート１４は入射ビーム１３を参照ビー
ム１５と測定ビーム１７に分割し、参照ビーム１５は参
照反射鏡１６へ向かい、測定ビーム１７は参照ビーム１
７に沿った位置が知りたい部品１９の反射領域１８へ向
かう。参照ビーム１５と測定ビーム１７はそれぞれ反射
鏡１６と部品１９の領域１８で反射し、参照反射ビーム
１５ａおよび測定反射ビーム１７ａとなって分割プレー
ト１４へ向かい、再結合して合成ビーム２０を形成した
後、分析器２１へ向かう。
割プレート１４の方向に発する光源１２を備えており、
この光源は水銀蒸気アークまたはレーザーとするのが望
ましい。分割プレート１４は入射ビーム１３を参照ビー
ム１５と測定ビーム１７に分割し、参照ビーム１５は参
照反射鏡１６へ向かい、測定ビーム１７は参照ビーム１
７に沿った位置が知りたい部品１９の反射領域１８へ向
かう。参照ビーム１５と測定ビーム１７はそれぞれ反射
鏡１６と部品１９の領域１８で反射し、参照反射ビーム
１５ａおよび測定反射ビーム１７ａとなって分割プレー
ト１４へ向かい、再結合して合成ビーム２０を形成した
後、分析器２１へ向かう。
【００３６】入射ビーム１３上には光源１２が発するビ
ームから特定の波長を選択するための波長選択器が備え
てあり、続いて分割プレート１４に届く入射ビーム１３
の単色光波をプレート１４の入射面に対して平行に偏光
させる偏光子２３が位置する。また、偏光子２３は、入
射ビーム１３を分割プレート１４に対して直角に偏光さ
せるものでも構わない。
ームから特定の波長を選択するための波長選択器が備え
てあり、続いて分割プレート１４に届く入射ビーム１３
の単色光波をプレート１４の入射面に対して平行に偏光
させる偏光子２３が位置する。また、偏光子２３は、入
射ビーム１３を分割プレート１４に対して直角に偏光さ
せるものでも構わない。
【００３７】参照ビーム１５およびその反射ビーム１５
ａ上には四分の一波長板２４が備えてあり、その中性線
は入射ビーム１３上に配置した偏光子２３の偏光方向に
対して４５度である。従って、参照反射ビーム１５ａが
分割プレート１４に達するときには、これが測定ビーム
１７または測定反射ビーム１７ａに対して直角に偏光し
ている。
ａ上には四分の一波長板２４が備えてあり、その中性線
は入射ビーム１３上に配置した偏光子２３の偏光方向に
対して４５度である。従って、参照反射ビーム１５ａが
分割プレート１４に達するときには、これが測定ビーム
１７または測定反射ビーム１７ａに対して直角に偏光し
ている。
【００３８】参照反射ビーム１５ａおよび測定反射ビー
ム１７ａの振幅または強度は参照反射鏡１６および部品
１９の領域１８の反射係数に基づき、互いに等しいか近
い場合もあるが、一般的には異なるため、これらの強度
を等しくするか近づけるための切り替え式の中性フィル
タ２５を参照ビーム１５および１５ａ上に配置すること
が望ましい。
ム１７ａの振幅または強度は参照反射鏡１６および部品
１９の領域１８の反射係数に基づき、互いに等しいか近
い場合もあるが、一般的には異なるため、これらの強度
を等しくするか近づけるための切り替え式の中性フィル
タ２５を参照ビーム１５および１５ａ上に配置すること
が望ましい。
【００３９】エリプソメーターを形成し、合成ビーム上
に配置された分析手段２１は、中性線が入射面に対して
４５度であり、合成ビームの偏光を非常に平坦な楕円ま
たは直線偏光に変換できる四分の一波長板２６と、参照
位置に対する四分の一波長板を通った合成ビーム２０の
偏光状態の主成分の角位置の測定を可能にする偏光子２
７を備えている。
に配置された分析手段２１は、中性線が入射面に対して
４５度であり、合成ビームの偏光を非常に平坦な楕円ま
たは直線偏光に変換できる四分の一波長板２６と、参照
位置に対する四分の一波長板を通った合成ビーム２０の
偏光状態の主成分の角位置の測定を可能にする偏光子２
７を備えている。
【００４０】また、分析手段２１は、偏光子２７に連結
され、像分析および角計算装置２９に接続された光検出
手段２８を備えており、とくにこの光検出手段はカメラ
であることが望ましい。
され、像分析および角計算装置２９に接続された光検出
手段２８を備えており、とくにこの光検出手段はカメラ
であることが望ましい。
【００４１】この偏光子２７は、回転している場合には
消光または位相測定によって作用し、また、偏光測定、
糖計測、あるいはその他の分野で既知の他の角測定手段
によって代えることができる。分析手段２１はエリプソ
メーターとすると効果的である。
消光または位相測定によって作用し、また、偏光測定、
糖計測、あるいはその他の分野で既知の他の角測定手段
によって代えることができる。分析手段２１はエリプソ
メーターとすると効果的である。
【００４２】場合に応じて合成ビーム２０上への配置も
可能な選択器２２を通じて特定波長λの光波を選択す
る。偏光子２７では、主成分が参照角位置に対して指定
された角位置をとる非常に平坦な楕円または直線偏光を
示す偏光状態が得られる。
可能な選択器２２を通じて特定波長λの光波を選択す
る。偏光子２７では、主成分が参照角位置に対して指定
された角位置をとる非常に平坦な楕円または直線偏光を
示す偏光状態が得られる。
【００４３】部品１９が測定ビーム１７の方向に変位す
るとこの主成分が回転するが、この主成分の角位置の変
化は部品１９の位置変化に基づいており、λ／２の変位
に対して１８０度回転する。
るとこの主成分が回転するが、この主成分の角位置の変
化は部品１９の位置変化に基づいており、λ／２の変位
に対して１８０度回転する。
【００４４】選択器２２を通じて波長がそれぞれλ１と
λ２である２つの光波を同時にまたは連続して選択した
とすると、偏光子２７によって合成ビーム２０からはこ
れらの光波の偏光状態の主成分の位置に応じてそれぞれ
α１とα２の角度値をとる２つの角位置が得られる。
λ２である２つの光波を同時にまたは連続して選択した
とすると、偏光子２７によって合成ビーム２０からはこ
れらの光波の偏光状態の主成分の位置に応じてそれぞれ
α１とα２の角度値をとる２つの角位置が得られる。
【００４５】部品１９が測定ビーム１７に沿って変位す
ると、これらの角α１およびα２は別々に変化する。従
って、測定ビーム１７の方向に沿った部品１９の変位
を、波長がλ１とλ２である光波の偏光状態の２つの主
成分の角位置がそれぞれ同じかまたは重なるところを境
にして互いに隣接する範囲に分けることが可能になる。
これら１つ１つの範囲の長さｐは、過剰分数の原理を応
用し、以下の数式によって算出される。すなわち、
ると、これらの角α１およびα２は別々に変化する。従
って、測定ビーム１７の方向に沿った部品１９の変位
を、波長がλ１とλ２である光波の偏光状態の２つの主
成分の角位置がそれぞれ同じかまたは重なるところを境
にして互いに隣接する範囲に分けることが可能になる。
これら１つ１つの範囲の長さｐは、過剰分数の原理を応
用し、以下の数式によって算出される。すなわち、
【００４６】
【式１】 Ｅ（λ１）・λ２／２＝Ｅ（λ２）・１／２＝ｐ
【００４７】ここでＥ（λ１）およびＥ（λ２）は波長
λ１およびλ２に対応する整数であり、これらの波長に
対して同程度の精度を有する。
λ１およびλ２に対応する整数であり、これらの波長に
対して同程度の精度を有する。
【００４８】参照ビーム１５と測定ビーム１７の光路長
が等しくなる位置、すなわち参照反射鏡１６の像と呼ば
れるものに相当する位置に部品１９の領域１８が達する
と、偏光子２７において偏光状態の主成分が等しくなる
かまたは重なり合う。
が等しくなる位置、すなわち参照反射鏡１６の像と呼ば
れるものに相当する位置に部品１９の領域１８が達する
と、偏光子２７において偏光状態の主成分が等しくなる
かまたは重なり合う。
【００４９】部品１９の領域１８は反射鏡１６の像平面
のいずれかの側に位置する範囲の１つに位置しているた
め、像平面からのその距離ｄは、光路長方程式の整数ｋ
１およびｋ２に過剰分数の原理を応用することにより、
以下のいずれかの数式によって計算できる。すなわち、
数式
のいずれかの側に位置する範囲の１つに位置しているた
め、像平面からのその距離ｄは、光路長方程式の整数ｋ
１およびｋ２に過剰分数の原理を応用することにより、
以下のいずれかの数式によって計算できる。すなわち、
数式
【００５０】
【式２】α１・λ１＋２・ｋ１・π・λ１＝α２・λ２
＋２・ｋ２・π・λ２＝４・π・ｎ・ｄ
＋２・ｋ２・π・λ２＝４・π・ｎ・ｄ
【００５１】（ここでｎは測定媒質の屈折率である） または補正式
【００５２】
【式３】Ｃ１＋α１・λ１＋２・ｋ１・π・λ１＝Ｃ２
＋α２・λ２＋２・ｋ２・π・λ２＝４・π・ｎ・ｄ
＋α２・λ２＋２・ｋ２・π・λ２＝４・π・ｎ・ｄ
【００５３】（ここでＣ１およびＣ２は波長λ１および
λ２を選択した場合の干渉計の色分散に伴う光路差であ
り、α１およびα２はラジアンで表される）のいずれか
を利用する。
λ２を選択した場合の干渉計の色分散に伴う光路差であ
り、α１およびα２はラジアンで表される）のいずれか
を利用する。
【００５４】実際には、偏光状態の特徴付けが最も容易
であることから、部品１９の領域１８が反射鏡１６の像
平面を中心とする範囲に位置する場合に波長λ１および
λ２の光波の偏光状態を分析することが望ましい。
であることから、部品１９の領域１８が反射鏡１６の像
平面を中心とする範囲に位置する場合に波長λ１および
λ２の光波の偏光状態を分析することが望ましい。
【００５５】事実上、部品１９の領域１８をこの範囲に
配置する処理は可能であり、干渉縞の分析で知られてい
るように、部品１９の領域１８は明暗の縞のコントラス
トが最も大きいときにこの範囲に位置する。
配置する処理は可能であり、干渉縞の分析で知られてい
るように、部品１９の領域１８は明暗の縞のコントラス
トが最も大きいときにこの範囲に位置する。
【００５６】例 部品１９の領域１８を上記の２つの範囲に配置するた
め、選択器２２で可干渉距離が約１００μｍの光を選択
し、上記のように縞の分析を行う。最大コントラストの
領域に達したら、以下の手順を実行する。
め、選択器２２で可干渉距離が約１００μｍの光を選択
し、上記のように縞の分析を行う。最大コントラストの
領域に達したら、以下の手順を実行する。
【００５７】部品１９の領域１８の実際の位置から反射
鏡の像平面までの距離を測定するため、参照ビーム１５
と測定ビーム１７の光路長の等しさに基づき、水銀アー
クの発光から選択器２２によって例えば５４６．１ｎｍ
と５７７ｎｍの２つの波長を選択する。
鏡の像平面までの距離を測定するため、参照ビーム１５
と測定ビーム１７の光路長の等しさに基づき、水銀アー
クの発光から選択器２２によって例えば５４６．１ｎｍ
と５７７ｎｍの２つの波長を選択する。
【００５８】この場合には、Ｅ（λ１）が５４６１に等
しく、Ｅ（λ２）が５７７０に等しくなり、とくに参照
反射鏡の像平面を中心とする範囲の長さｐは、上記の数
式に基づき、５４６．１×５７７０／２ｎｍまたは５４
６１×５７７／２ｎｍ、すなわち１５７５４９８．５ｎ
ｍに等しくなる。上記の数式の一方を利用して反射鏡の
像に対するこの部品の位置が正確に計算できる範囲は、
（＋）７８７７４９．２５ｎｍから（−）７８７７４
９．２５ｎｍまでである。
しく、Ｅ（λ２）が５７７０に等しくなり、とくに参照
反射鏡の像平面を中心とする範囲の長さｐは、上記の数
式に基づき、５４６．１×５７７０／２ｎｍまたは５４
６１×５７７／２ｎｍ、すなわち１５７５４９８．５ｎ
ｍに等しくなる。上記の数式の一方を利用して反射鏡の
像に対するこの部品の位置が正確に計算できる範囲は、
（＋）７８７７４９．２５ｎｍから（−）７８７７４
９．２５ｎｍまでである。
【００５９】上記の数式においては、係数ｋ１およびｋ
２が異なるため、等式
２が異なるため、等式
【００６０】
【式４】α１・λ１＋２・ｋ１・π・λ１＝α２・λ２
＋２・ｋ２・π・λ２＝Ａ＝４・π・ｎ・ｄまたは等式
Ｃ１＋α１・λ１＋２・ｋ１・π・λ１＝Ｃ２＋α２・
λ２＋２・ｋ２・π・λ２＝Ｂ＝４・π・ｎ・ｄ
＋２・ｋ２・π・λ２＝Ａ＝４・π・ｎ・ｄまたは等式
Ｃ１＋α１・λ１＋２・ｋ１・π・λ１＝Ｃ２＋α２・
λ２＋２・ｋ２・π・λ２＝Ｂ＝４・π・ｎ・ｄ
【００６１】が得られる。
【００６２】続いて角α１およびα２を測定し、数式ｄ
＝Ａ／４・π・ｎまたは数式ｄ＝Ｂ／４・π・ｎによっ
てｄを計算する。
＝Ａ／４・π・ｎまたは数式ｄ＝Ｂ／４・π・ｎによっ
てｄを計算する。
【００６３】これらの計算は計算装置２９によって行
う。
う。
【００６４】部品１９の３つの領域１８について同じ測
定作業を繰り返せば、反射鏡１６の像平面に対する部品
１９の位置を距離で知ることができる。
定作業を繰り返せば、反射鏡１６の像平面に対する部品
１９の位置を距離で知ることができる。
【００６５】また、第２の部品の３つの領域について同
じ測定作業を、そこから部品１９とこの別の部品との相
対的な位置が推定できる。これらの部品相互の、または
上記の反射鏡１６の像平面に対するこれらの部品の相対
的位置がわかれば、例えばこれらの部品の正面が同じ平
面に、とくに参照反射鏡１６の像平面に位置するようそ
れぞれの部品を調節することができる。
じ測定作業を、そこから部品１９とこの別の部品との相
対的な位置が推定できる。これらの部品相互の、または
上記の反射鏡１６の像平面に対するこれらの部品の相対
的位置がわかれば、例えばこれらの部品の正面が同じ平
面に、とくに参照反射鏡１６の像平面に位置するようそ
れぞれの部品を調節することができる。
【００６６】これらの調節作業を繰り返すことにより、
参照反射鏡１６の像が測定ビーム１７の方向に沿って変
位するよう反射鏡１６を変位させ、据え付けた第１の部
品に対する反射鏡１６の相対的調節や第２の部品の調節
が可能となる。
参照反射鏡１６の像が測定ビーム１７の方向に沿って変
位するよう反射鏡１６を変位させ、据え付けた第１の部
品に対する反射鏡１６の相対的調節や第２の部品の調節
が可能となる。
【００６７】分析手段は自動計算装置に連結した像分析
器から構成すると効果的であり、さらにこの像分析器と
自動計算装置に反射鏡および／または第１部品および／
または第２部品の変位を制御するための手段を接続する
こともできる。
器から構成すると効果的であり、さらにこの像分析器と
自動計算装置に反射鏡および／または第１部品および／
または第２部品の変位を制御するための手段を接続する
こともできる。
【００６８】図４に示した特定の応用例においては、こ
の装置は基板３０ａの開口部３１に挿入されたチップ３
０の正確な位置決めに利用できる。この目的を達成する
には、チップ３０の正面から三角形を形成する位置関係
にある反射領域３２を３つ選択し、同様に基板３０ａの
正面から三角形を形成する位置関係にある反射領域３３
を３つ選択する。これでこれらの正面が１つの同じ平面
に広がるような位置決め操作が可能になる。
の装置は基板３０ａの開口部３１に挿入されたチップ３
０の正確な位置決めに利用できる。この目的を達成する
には、チップ３０の正面から三角形を形成する位置関係
にある反射領域３２を３つ選択し、同様に基板３０ａの
正面から三角形を形成する位置関係にある反射領域３３
を３つ選択する。これでこれらの正面が１つの同じ平面
に広がるような位置決め操作が可能になる。
【００６９】図３に示した距離測定のための光学装置は
とくに連続的に動作するよう設計されている、すなわち
波長がλ１とλ２の２つの光波を連続して分析するもの
であるが、以下では図５および６に基づき、とくに同時
的に動作するよう設計されている距離測定のための光学
装置２つについて説明する。
とくに連続的に動作するよう設計されている、すなわち
波長がλ１とλ２の２つの光波を連続して分析するもの
であるが、以下では図５および６に基づき、とくに同時
的に動作するよう設計されている距離測定のための光学
装置２つについて説明する。
【００７０】図５に関し、距離測定のための光学装置１
１１は、選択器２２がない点と、合成ビーム２０上の分
析またはエリプソメーター手段１２１が四分の一波長板
１２６と偏光子１２７、合成ビーム２０を２つの分析ビ
ーム１２０ａと１２０ｂに分割する分割器１３４、さら
にそのそれぞれを検出する光検出手段１２８ａおよび１
２８ｂを備えている点で図３に示した装置と異なること
が明らかである。ビーム１２０ａおよび１２０ｂ上には
それぞれ波長λ１λおよびλ２の光波を選択するフィル
タ１２２ａおよび１２２ｂが配置されている。光検出手
段には上記の数式を応用する像分析および計算装置１２
９が接続されている。このようにすれば、装置１２９は
同時に受け取った２つの光波λ１λとλ２に基づいて上
記の計算を行うことができる。
１１は、選択器２２がない点と、合成ビーム２０上の分
析またはエリプソメーター手段１２１が四分の一波長板
１２６と偏光子１２７、合成ビーム２０を２つの分析ビ
ーム１２０ａと１２０ｂに分割する分割器１３４、さら
にそのそれぞれを検出する光検出手段１２８ａおよび１
２８ｂを備えている点で図３に示した装置と異なること
が明らかである。ビーム１２０ａおよび１２０ｂ上には
それぞれ波長λ１λおよびλ２の光波を選択するフィル
タ１２２ａおよび１２２ｂが配置されている。光検出手
段には上記の数式を応用する像分析および計算装置１２
９が接続されている。このようにすれば、装置１２９は
同時に受け取った２つの光波λ１λとλ２に基づいて上
記の計算を行うことができる。
【００７１】また、このような同時性は、分析またはエ
リプソメーター手段２２１が合成ビーム２０を２つの分
析ビーム２２０ａと２２０ｂに分割する分割器２３４を
備えており、各分析ビーム上にはそれぞれ四分の一波長
板２２６ａおよび２２６ｂ、偏光子２２７ａおよび２２
７ｂ、また、波長がλ１とλ２の光波を選択するための
フィルタ２２２ａおよび２２２ｂが配置されており、フ
ィルタを通ったビーム２２０ａおよび２２０ｂを光検出
手段２２８ａおよび２２８ｂで検出し、さらにその光検
出手段が像分析および計算装置２２９に接続されている
図６の装置２１１を利用することによっても達成でき
る。提案する分析手段は、迅速な測定が可能なエリプソ
メーター装置から構成しても構わない。
リプソメーター手段２２１が合成ビーム２０を２つの分
析ビーム２２０ａと２２０ｂに分割する分割器２３４を
備えており、各分析ビーム上にはそれぞれ四分の一波長
板２２６ａおよび２２６ｂ、偏光子２２７ａおよび２２
７ｂ、また、波長がλ１とλ２の光波を選択するための
フィルタ２２２ａおよび２２２ｂが配置されており、フ
ィルタを通ったビーム２２０ａおよび２２０ｂを光検出
手段２２８ａおよび２２８ｂで検出し、さらにその光検
出手段が像分析および計算装置２２９に接続されている
図６の装置２１１を利用することによっても達成でき
る。提案する分析手段は、迅速な測定が可能なエリプソ
メーター装置から構成しても構わない。
【図１】本発明による距離測定のための光学装置の１実
施例を示す模式図である。
施例を示す模式図である。
【図２】本発明の特定の応用例を示す模式図である。
【図３】本発明の他の実施例を示す模式図である。
【図４】本発明の更に他の実施例を示す模式図である。
【図５】従来の距離測定方法を示す模式図である。
【図６】図１の方法において位相のずれを干渉縞として
観測する様子を示す模式図である。
観測する様子を示す模式図である。
【符号の説明】 １ 単色入射ビーム ２、１４ 分割プレート ３、１５ 参照ビーム ４、１７ 測定ビーム ５、６ 反射鏡 ７、２０ 合成ビーム ８ 観測面 ９、１０ 干渉縞 １１ 光学装置 １２ 光源 １３ 入射ビーム １５ａ 参照反射ビーム １６ 参照反射鏡 １７ａ 測定反射ビーム １８ 反射領域 １９ 部品 ２１ 分析手段 ２２ 選択器 ２３、２７、１２７、２２７ａ、２２７ｂ 偏光子 ２５ 中性フィルタ ２６、２２６ａ、２２６ｂ 四分の一波長板 ２８、２２８ａ、２２８ｂ 光検出手段 ２９、１２９、２２９ 角計算装置 ３０ チップ ３０ａ 基板 １２１ エリプソメータ手段 １２０ａ、１２０ｂ、２２０ａ、２２０ｂ 分析ビーム １２２ａ、１２２ｂ、２２２ａ、２２２ｂ フィルタ １３４、２３４ 分割器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジャン クロード オユイ フランス国 クロールス 38190 251ビー リュ ガストン アンジェラ シデック ス（番地なし)
Claims (24)
- 【請求項１】 波長の異なる少なくとも２つの光波（λ
１およびλ２）から成る入射ビーム（１３）を発するこ
とと、このビームを参照ビーム（１５）と測定ビーム
（１７）に分け、それぞれのビームを参照反射体（１
６）と測定ビーム方向の位置を測定したい部品（１９）
の領域（１８）で反射させることと、反射した参照ビー
ム（１５ａ）と反射した測定ビーム（１７ａ）を以下の
ような偏光状態、すなわち上記測定ビームの光路長が変
化するとその成分が回転し、また、偏光状態のそれぞれ
対応する２つの成分の角位置が等しいところを境にして
測定ビーム方向に互いに隣接する範囲を決定するような
偏光状態にある前記光波を含む合成ビーム（２０）に再
結合させることと、合成ビームから前記光波の前記偏光
状態のそれぞれ対応する２つの成分の角位置（α１およ
びα２）を測定することと、参照位置から前記部品の上
記領域までの距離を前記角位置の関数として計算するこ
との各段階を有する距離測定のための光学的方法。 - 【請求項２】 光路長方程式の整数ｋ１およびｋ２に過
剰分数の原理を応用することにより、以下の数式、すな
わち α１・λ１＋２・ｋ１・π・λ１＝α２・λ２＋２・ｋ
２・π・λ２＝４・π・ｎ・ｄ または以下の補正式、すなわち Ｃ１＋α１・λ１＋２・ｋ１・π・λ１＝Ｃ２＋α２・
λ２＋２・ｋ２・π・λ２＝４・π・ｎ・ｄ （ここでｎは測定媒質の屈折率であり、Ｃ１およびＣ２
は波長λ１およびλ２を選択した場合の干渉計の色分散
に伴う光路差であり、α１およびα２はラジアンであ
る）によって参照反射体の像からの上記距離を計算する
段階が含まれる、請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 ２つの光波を同時に発する段階が含まれ
る、請求項１および２の一方に記載の方法。 - 【請求項４】 ２つの光波を連続して発する段階が含ま
れる、請求項１および２の一方に記載の方法。 - 【請求項５】 発射されるビーム（１３）が多色ビーム
であり、とくに上記２つの光波を抽出する拡張線スペク
トルを有する、請求項１乃至４のいずれか１つに記載の
方法。 - 【請求項６】 上記光波を上記入射ビーム（１３）から
選択する、請求項５記載の方法。 - 【請求項７】 上記光波を上記合成ビーム（２０）から
選択する、請求項５記載の方法。 - 【請求項８】 入射ビーム（１３）を偏光させる段階が
含まれる、請求項１乃至７のいずれか１つに記載の方
法。 - 【請求項９】 参照ビーム（１５）と測定ビーム（１
７）を互いに直角に偏光させる段階が含まれる、請求項
１乃至８のいずれか１つに記載の方法。 - 【請求項１０】 合成ビームをそれぞれ波長λ１および
λ２の光波から成る２つの分析ビームに分割する段階が
含まれる、請求項１乃至９のいずれか１つに記載の方
法。 - 【請求項１１】 上記光波の偏光状態の上記角位置がエ
リプソメーター装置によって分析される、請求項１乃至
１０のいずれか１つに記載の方法。 - 【請求項１２】 合成ビーム（２０）の光波が測定ビー
ム（１７）の光路長の関数として方向が変化する非常に
平坦な楕円または直線偏光波に変換される、請求項１乃
至１１のいずれか１つに記載の方法。 - 【請求項１３】 部品（１９）の上記領域（１８）の反
射係数と同じかまたはそれに近い反射係数を有する参照
反射体（１６）を利用する段階が含まれる、請求項１乃
至１２のいずれか１つに記載の方法。 - 【請求項１４】 再結合させる上記ビーム（１５ａ、１
７ａ）の強度を均等化または数値的に合わせる段階が含
まれる、請求項１乃至１３のいずれか１つに記載の方
法。 - 【請求項１５】 縞の分析によって前記部品を事前に調
節する段階が含まれる、請求項１乃至１４のいずれか１
つに記載の方法。 - 【請求項１６】 参照ビームと測定ビームの光路長が等
しい、参照反射体の像を中心とする範囲に部品の上記領
域を配置する段階が含まれる、請求項１乃至１５のいず
れか１つに記載の方法。 - 【請求項１７】 ２つの偏光波から構成されるビームを
発するための手段（１２、２２、２３）と、入射ビーム
の偏光がプレートのビーム入射面に対して平行または直
角になるよう配置された分割プレート（１４）と、参照
ビーム（１５）の光路に配置された参照反射体（１６）
と、参照ビームまたは測定ビームの光路に配置され、そ
のビームの偏光面を９０度回転させる四分の一波長板
（２４）と、合成ビームの前記光波の偏光状態の対応成
分の角位置を分析するための手段（２１）から構成され
る、先行する請求項のいずれか１つに記載の方法を実行
するための、部品の領域の距離を測定するための装置。 - 【請求項１８】 分析手段がビームの偏光を非常に平坦
な楕円または直線偏光に変換するため合成ビームの光路
に配置された四分の一波長板（２６）と偏光子（２７）
から構成される、請求項１７記載の測定装置。 - 【請求項１９】 分析手段にエリプソメーター装置が含
まれる、請求項１７記載の測定装置。 - 【請求項２０】 前記光波の光検出のための手段と像分
析および計算装置から構成される分析またはエリプソメ
ーター手段が含まれる、請求項１７乃至１９のいずれか
１つに記載の測定装置。 - 【請求項２１】 再結合させる上記ビームの強度を均等
化または数値的に合わせる手段（２５）が含まれる、請
求項１７乃至２０のいずれか１つに記載の測定装置。 - 【請求項２２】 参照反射体の像平面から第１部品（３
０）の３つの領域または点（３２）までの距離を測定す
ることと、その部品または反射鏡を像平面に対する調節
位置に変位させることと、参照反射体の像平面から第２
部品（３０ａ）の３つの領域または点（３３）までの距
離を測定することと、その部品を第１部品または反射鏡
の調節位置に対する調節位置に変位させることの各段階
から構成される、請求項１乃至２１のいずれか１つに記
載の方法または装置を利用することによってある部品を
それに隣接する他の部品に対して位置決めするための方
法。 - 【請求項２３】 参照反射体の上記像平面に位置する１
つの同じ平面に前記部品（３０および３０ａ）の領域
（３２および３３）を配置する段階が含まれる、請求項
２２記載の位置決め方法。 - 【請求項２４】 位置決め中に参照反射体を変位させる
段階が含まれる、請求項２２および２３の一方に記載の
位置決め方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9116260 | 1991-12-27 | ||
| FR9116260A FR2685763B1 (fr) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | Procede et dispositif optiques de mesure de distance et leur application au positionnement relatif de pieces. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05264220A true JPH05264220A (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=9420594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4360022A Withdrawn JPH05264220A (ja) | 1991-12-27 | 1992-12-28 | 距離測定のための光学的方法と光学装置、および部品の相対的位置決めへのその応用 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5285252A (ja) |
| EP (1) | EP0549456A1 (ja) |
| JP (1) | JPH05264220A (ja) |
| FR (1) | FR2685763B1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5457534A (en) * | 1991-10-23 | 1995-10-10 | Phase Metrics | Method and apparatus to calibrate intensity and determine fringe order for interferometric measurement of small spacings |
| US5280340A (en) * | 1991-10-23 | 1994-01-18 | Phase Metrics | Method and apparatus to calibrate intensity and determine fringe order for interferometric measurement of small spacings |
| US5404221A (en) * | 1993-02-24 | 1995-04-04 | Zygo Corporation | Extended-range two-color interferometer |
| US6052190A (en) * | 1997-09-09 | 2000-04-18 | Utoptics, Inc. | Highly accurate three-dimensional surface digitizing system and methods |
| US8416409B2 (en) | 2010-06-04 | 2013-04-09 | Lockheed Martin Corporation | Method of ellipsometric reconnaissance |
| CN102944171B (zh) * | 2012-10-22 | 2015-05-20 | 华中科技大学 | 一种芯片位置和倾角检测装置及方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL6707681A (ja) * | 1967-06-02 | 1968-12-03 | ||
| NL7010130A (ja) * | 1970-07-09 | 1972-01-11 | ||
| CA979638A (en) * | 1972-05-15 | 1975-12-16 | Varian Associates | Polarization interferometer with beam polarizing and retarding means |
| GB1472894A (en) * | 1974-03-15 | 1977-05-11 | Nat Res Dev | Interferometric methods and apparatus for measuring distance to a surface |
| US4355899A (en) * | 1980-05-22 | 1982-10-26 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Interferometric distance measurement method |
| JPS57501026A (ja) * | 1980-07-24 | 1982-06-10 | ||
| US4695162A (en) * | 1984-05-24 | 1987-09-22 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Film thickness measuring apparatus |
| FR2655416A1 (fr) * | 1989-12-04 | 1991-06-07 | Vareille Aime | Dispositif optique de mesure de distance. |
-
1991
- 1991-12-27 FR FR9116260A patent/FR2685763B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1992
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| Publication number | Publication date |
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| FR2685763B1 (fr) | 1994-03-25 |
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