JPS63306429A - 自動車用ec防眩ミラ−の製造方法 - Google Patents
自動車用ec防眩ミラ−の製造方法Info
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- JPS63306429A JPS63306429A JP62142293A JP14229387A JPS63306429A JP S63306429 A JPS63306429 A JP S63306429A JP 62142293 A JP62142293 A JP 62142293A JP 14229387 A JP14229387 A JP 14229387A JP S63306429 A JPS63306429 A JP S63306429A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は自動車用のEC防眩ミラーを製造する方法に係
り、特に1反射率の変化が全面均一に行われるように改
良された未公知の新規なEC防眩ミラーを製造する方法
に関するものである。
り、特に1反射率の変化が全面均一に行われるように改
良された未公知の新規なEC防眩ミラーを製造する方法
に関するものである。
[従来の技術]
自動車用のミラー類(インサイドミラー、アウトサイド
ミラー、ドアミラー)は、後方視界を確認して安全運転
を行う為に不可欠のものであるが、後続車のライトなど
の強い光が反射されると眩惑を感じるという支障を生じ
る。
ミラー、ドアミラー)は、後方視界を確認して安全運転
を行う為に不可欠のものであるが、後続車のライトなど
の強い光が反射されると眩惑を感じるという支障を生じ
る。
この眩惑を軽減させるため、夜間においてはミラーの反
射率を減少させることが有効である。
射率を減少させることが有効である。
こうした目的で、反射率を増減させるように調節できる
構造の防眩ミラーが用いられる。
構造の防眩ミラーが用いられる。
従来一般に、プリズム式防眩ミラー、及び、液晶式防眩
ミラーが実用化されており、更にエレクトロミズム(以
下、ECと略称する)を利用したEC式防眩ミラーが開
発され、実用化されようとしている。
ミラーが実用化されており、更にエレクトロミズム(以
下、ECと略称する)を利用したEC式防眩ミラーが開
発され、実用化されようとしている。
第5図はEC式防眩ミラーの断面を描いた説明図であっ
て、読図の便宜上その厚さ寸法を拡大してあり、図の右
方がミラーの背面である。
て、読図の便宜上その厚さ寸法を拡大してあり、図の右
方がミラーの背面である。
ガラス基板1の上に第1電極として透明導電層2を設け
る。材質としては1例えばITO(インヂュウム・スズ
・酸化物)、SnO,が用いられる。
る。材質としては1例えばITO(インヂュウム・スズ
・酸化物)、SnO,が用いられる。
更にその上に、還元反応によって着色するEC(例えば
W○、、Mob、)の第1EC層3、電解質層(例えば
Ta、O,、ZrO2,5i02)4.酸化反応によっ
て着色するEC(例えばCr、03゜Nip、Ire、
)の第2EC層5、第2電極兼反射Jl(材質はAt、
Agなと)6が順次に成層され、その上を電気絶縁性の
保護層7で覆われている。
W○、、Mob、)の第1EC層3、電解質層(例えば
Ta、O,、ZrO2,5i02)4.酸化反応によっ
て着色するEC(例えばCr、03゜Nip、Ire、
)の第2EC層5、第2電極兼反射Jl(材質はAt、
Agなと)6が順次に成層され、その上を電気絶縁性の
保護層7で覆われている。
なお、上記第1ECの材料と第2ECの材料とを入れ替
えて構成されることもある。
えて構成されることもある。
前記の第1電極2と第2電極6との間に直流電圧(0,
5〜2.0v程度)を印加し、その極性を切り替えると
、第1.第2EC層内で電気料学的に酸化、還元反応が
行われて、第1EC層3および第2EC層5が着色した
り消色したりする。
5〜2.0v程度)を印加し、その極性を切り替えると
、第1.第2EC層内で電気料学的に酸化、還元反応が
行われて、第1EC層3および第2EC層5が着色した
り消色したりする。
この着色、消色によって通過光の吸収率が変化し、ミラ
ーとしての機能について見ると反射率が変化する。
ーとしての機能について見ると反射率が変化する。
上に述べたように第1.第2電極間に電圧を印加して電
気化学的反応を行わせる際、短時間であるが比較的大電
流(例えば、 15cnX10aa程度の大きさの場合
、0.8A〜1.OA)が流れる。
気化学的反応を行わせる際、短時間であるが比較的大電
流(例えば、 15cnX10aa程度の大きさの場合
、0.8A〜1.OA)が流れる。
上記のように大電流が流れるので、薄層である第1.第
2電極内には電圧降下が生じる。
2電極内には電圧降下が生じる。
上記の電圧降下のため、防眩ミラーのEC層に電流密度
の不均一を生じ、発色、消色にむらを生じる。この発色
むらは電圧印加を停止した後にも残る。
の不均一を生じ、発色、消色にむらを生じる。この発色
むらは電圧印加を停止した後にも残る。
上記の電圧降下に因る発色むらを無くするため前記第1
電極の周囲の内、第2電極リード線引出部近傍を除く部
分に帯状の金属薄膜を設け、前記第2電極は、これを第
2EC層の上に施した金属被膜によって構成するととも
に、該金属被膜は反射層を兼ねたものとする構成が考え
られる。
電極の周囲の内、第2電極リード線引出部近傍を除く部
分に帯状の金属薄膜を設け、前記第2電極は、これを第
2EC層の上に施した金属被膜によって構成するととも
に、該金属被膜は反射層を兼ねたものとする構成が考え
られる。
上記の構成は本発明の発明者が創作して、本出願人が別
途特許出願中の発明(以下、先願という)である。
途特許出願中の発明(以下、先願という)である。
第6図(A)は上記先願の一実施例を示す背面図、第6
図CB)は上図のB−B断面図である。
図CB)は上図のB−B断面図である。
ほぼ方形のガラス基板1の背面に、第1電極としての透
明導電層2.第1EC層3.電解質層4゜第2EC層5
、及び、第2電極兼反射層の金属層6が順次に成層され
ている。
明導電層2.第1EC層3.電解質層4゜第2EC層5
、及び、第2電極兼反射層の金属層6が順次に成層され
ている。
そして、第LEC層3.電解質層4.第2EC層5.金
属層6から若干離間せしめて、透明導電層2の周囲に1
対のL字形をなす帯状金属薄層8が設けられている。
属層6から若干離間せしめて、透明導電層2の周囲に1
対のL字形をなす帯状金属薄層8が設けられている。
9は、帯状金属薄層8からリード線を引き出すために該
帯状金属薄層8を挟みつけて固着した端子金具である。
帯状金属薄層8を挟みつけて固着した端子金具である。
10は、第2電極(兼反射層)6からリード線を引き
出すために該第2電極6を挟みつけて固着した端子金具
である。仮想線で示した11は、この防眩ECミラーの
背面を覆っている電気絶縁材料製の保護層である。
出すために該第2電極6を挟みつけて固着した端子金具
である。仮想線で示した11は、この防眩ECミラーの
背面を覆っている電気絶縁材料製の保護層である。
透明導電層2は比較的高抵抗を有しているので、これに
電流が流れると電圧降下を生じる。しかし、先願を適用
して電気抵抗の少ない帯状金属薄膜8が設けられている
と、この帯状金属薄膜8に沿ってその長手方向の電圧分
布は略々一様になる。このため、電圧、電流の不均一に
よる着色むらが防止される。
電流が流れると電圧降下を生じる。しかし、先願を適用
して電気抵抗の少ない帯状金属薄膜8が設けられている
と、この帯状金属薄膜8に沿ってその長手方向の電圧分
布は略々一様になる。このため、電圧、電流の不均一に
よる着色むらが防止される。
[発明が解決しようとする問題点]
第6図(A)に示した先願のEC防眩ミラー背面図の中
から、成層した構成部材を抽出して示すと第9図の如く
である。
から、成層した構成部材を抽出して示すと第9図の如く
である。
このような成層構造を構成するため、従来の技術を適用
すると、次記■、■の方法が考えられる。
すると、次記■、■の方法が考えられる。
以下、説明の便宜上、これらをそれぞれ従来方法I、従
来方法■と呼ぶことにする。
来方法■と呼ぶことにする。
前掲の第9図の成層構造を構成するため、従来方法1.
IIとも、先ず第7図に示す如くガラス基・板の背面に
、1対の切欠部2a、2bを有する透明導電層2を設け
る。
IIとも、先ず第7図に示す如くガラス基・板の背面に
、1対の切欠部2a、2bを有する透明導電層2を設け
る。
次いで、第8図に示す如く、上記透明導電層2の上に(
背面側に)第1EC層3.電解質層4゜及び第2EC層
5を順次に成層する。
背面側に)第1EC層3.電解質層4゜及び第2EC層
5を順次に成層する。
従来方法Iは、次記の如く、工程1−1〜工程[5によ
り構成される。
り構成される。
(工程夏−+)ガラス基板1の背面の全面に透明導電層
2を形成する。この工程にはスパッタ、イオンプレート
、CVDなどの公知技術を適用し得る。
2を形成する。この工程にはスパッタ、イオンプレート
、CVDなどの公知技術を適用し得る。
(工程■−2)ホトレジスト塗布→パターン露光。
剥離→薬品処理(エツチング処理)→洗浄の操作で、(
即ちホトレジスト処理と薬品処理とによって)第7図に
示した透明導電層2の切欠2a、切欠2bを形成する。
即ちホトレジスト処理と薬品処理とによって)第7図に
示した透明導電層2の切欠2a、切欠2bを形成する。
これにより第7図に示した状態の中間製品が得られる。
(工程l−3)外周部にマスク(図示せず)を当て、第
1EC層3.電解質層4.第2EC層5を順次に成層し
、第8図に示した中間製品を得る。
1EC層3.電解質層4.第2EC層5を順次に成層し
、第8図に示した中間製品を得る。
(工程l−4)背面側の全面に金属膜を形成して覆う、
該金属膜の材料はAl、Agなどが適しており。
該金属膜の材料はAl、Agなどが適しており。
蒸着、スパッタ、イオンプレートなどの公知技術を適用
し得る。
し得る。
(工程1−s)前述の工程1−、におけると同様のホト
レジスト処理及び薬品処理によって、前記金属膜の不要
部分を除去し、帯状金属薄膜8及び第2電極兼反射層6
を形成する。
レジスト処理及び薬品処理によって、前記金属膜の不要
部分を除去し、帯状金属薄膜8及び第2電極兼反射層6
を形成する。
上に述べた従来方法Iにおいては。
(a)工程I−2と工程1−sとの2回繰り返して露光
操作を行い、露光パターンを用いる上に、工程t−sの
成層にもマスクを用いるので、パターンのズレを生じる
虞れが大きく、製品歩留まりが悪くなる。
操作を行い、露光パターンを用いる上に、工程t−sの
成層にもマスクを用いるので、パターンのズレを生じる
虞れが大きく、製品歩留まりが悪くなる。
パターンのズレを無くするように加工精度を上げようと
すると製造コストが上昇し、パターンのズレを許容する
ように公差を大きくすると、ミラー外周部の非有効部分
が拡大して製品品質を低下させる。
すると製造コストが上昇し、パターンのズレを許容する
ように公差を大きくすると、ミラー外周部の非有効部分
が拡大して製品品質を低下させる。
(b)工程[2において透明導電層に直接ホトレジスト
処理を施して洗浄するので、該透明導電層の清浄度維持
が容易でない。
処理を施して洗浄するので、該透明導電層の清浄度維持
が容易でない。
(c)工程1−3のマスクと、工程t−sのホトレジス
ト用スクリーンパターンとの位置ズレを生じやすい。
ト用スクリーンパターンとの位置ズレを生じやすい。
といった不具合が有る。
また、従来方法■は次記の如く工程■−3〜工程11−
3によって構成される。
3によって構成される。
(工程11−+)第7図に示した切欠2a、 2bが出
来るようにマスクを当てて、ガラス基板1の背面に透明
導電層2を形成する。これにより第7図に示した中間製
品が得られる。
来るようにマスクを当てて、ガラス基板1の背面に透明
導電層2を形成する。これにより第7図に示した中間製
品が得られる。
(工程II−z)前記従来方法Iにおける工程!−3と
同様にして、第1EC層3.電解質層4.第2EC層5
を順次に成層して、第8図に示した中間製品を得る。
同様にして、第1EC層3.電解質層4.第2EC層5
を順次に成層して、第8図に示した中間製品を得る。
(工程n−g)帯状金属薄膜8の形状と、第2電極兼反
射層6の形状とを露出させるようにマスクを当て、Ag
eまたはAlの薄層を形成する。この操作には蒸着、ス
パッタ、イオンプレートなどの公知技術を任意に選定し
て適用することが出来る。
射層6の形状とを露出させるようにマスクを当て、Ag
eまたはAlの薄層を形成する。この操作には蒸着、ス
パッタ、イオンプレートなどの公知技術を任意に選定し
て適用することが出来る。
これにより第9図に示した中間製品が得られる。
上記の従来技術■によれば、
(a)工程■−1と、工程lN−2と、工程11−sと
、3回にわたって蒸着マスクを用いるのでパターンのズ
レを生じ易い。
、3回にわたって蒸着マスクを用いるのでパターンのズ
レを生じ易い。
上記パターンのズレを防止するように加工精度を上げよ
うとすると製造コストが増加する。一方、該パターンの
ズレを許容するように公差を大きくすると、ミラー外周
部の非有効部が拡大して製品品質を低下させる。
うとすると製造コストが増加する。一方、該パターンの
ズレを許容するように公差を大きくすると、ミラー外周
部の非有効部が拡大して製品品質を低下させる。
(b)上記の如く3回にわたって蒸着マスクを取り替え
使用しなければならないので、所要工数が大きくなって
生産性が良くない。
使用しなければならないので、所要工数が大きくなって
生産性が良くない。
(c)同様の理由により、−貫自動ラインによって加工
することが容易でない、連続式蒸着(インライン方式)
を用いることは不可能ではないが、真空槽内でのマスク
交換手段が複雑、高価となる上に、メンティナンスが容
易でない。
することが容易でない、連続式蒸着(インライン方式)
を用いることは不可能ではないが、真空槽内でのマスク
交換手段が複雑、高価となる上に、メンティナンスが容
易でない。
本発明は上述の事情に鑑みて為されたもので。
(イ)パターンのズレを生じる虞れが少なく、容易に高
精度の製品が得られ、 (ロ)真空槽内におけるパターン交換の必要が無く、従
って連続式蒸着(インライン方式)の適用に好適であり
、 (ハ)加工用機器のメンティナンスの容易な、先願゛に
係るEC防眩ミラー(電圧降下による着色むらの無い防
眩ミラー)の製造方法を提供することを目的とする。
精度の製品が得られ、 (ロ)真空槽内におけるパターン交換の必要が無く、従
って連続式蒸着(インライン方式)の適用に好適であり
、 (ハ)加工用機器のメンティナンスの容易な、先願゛に
係るEC防眩ミラー(電圧降下による着色むらの無い防
眩ミラー)の製造方法を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
上記の目的を達成するため、本発明の製造方法は、前記
先願に係るEC防眩ミラーを製造する際。
先願に係るEC防眩ミラーを製造する際。
(i)ガラス基板の背面のほぼ全面に透明導電層を形成
する工程と、 (i)上記透明導電層の上に、その周囲近傍を除く全面
に、第1EC層、電解質層、第2EC層を成層する工程
と、 (i)前記の透明導電層及び第2EC層の露出面を覆っ
て金属膜を形成する工程と、 (ir)上記の金属膜にホトレジスト処理を施した後、
薬品処理によって該金属膜の不要部分と透明導電膜の不
要部分とを除去し、残存金属膜によって帯状金属薄膜と
、第2電極兼反射層を形成する工程とを設けたものであ
る。
する工程と、 (i)上記透明導電層の上に、その周囲近傍を除く全面
に、第1EC層、電解質層、第2EC層を成層する工程
と、 (i)前記の透明導電層及び第2EC層の露出面を覆っ
て金属膜を形成する工程と、 (ir)上記の金属膜にホトレジスト処理を施した後、
薬品処理によって該金属膜の不要部分と透明導電膜の不
要部分とを除去し、残存金属膜によって帯状金属薄膜と
、第2電極兼反射層を形成する工程とを設けたものであ
る。
[作用]
上記の方法によれば、真空槽内でパターンを用いるのは
前記(ii)項の成層工程のみであり、真空槽内での一
貫自動操作を行うのに適している。また、(if)項の
成層工程で用いる蒸着マスクは単純なパターンなのでメ
ンティナンスが容易である。
前記(ii)項の成層工程のみであり、真空槽内での一
貫自動操作を行うのに適している。また、(if)項の
成層工程で用いる蒸着マスクは単純なパターンなのでメ
ンティナンスが容易である。
[実施例]
第1図乃至第4図は本発明方法の1実施例を示す工程図
であり、最終工程後の中間製品を示す第4図は前記従来
方法における最終工程後の中間製品(第9図)と略々同
様の構成である。
であり、最終工程後の中間製品を示す第4図は前記従来
方法における最終工程後の中間製品(第9図)と略々同
様の構成である。
(i)第1図に示すごとく、ガラス基板1の背面の略々
全面に、透明導電層2を設ける。
全面に、透明導電層2を設ける。
本実施例においては、ガラス基板1の周囲の約1m幅の
部分を除いて透明導電層2を設けた。ガラス基板1の周
囲のエツジ部は使用中に損耗を受は易いからである。
部分を除いて透明導電層2を設けた。ガラス基板1の周
囲のエツジ部は使用中に損耗を受は易いからである。
本実施例においては、後述の如く高精度のパターン構成
が出来るので、素材であるガラス基板1の周囲に研摩処
理を施し、その輪郭形状を高精度に仕上げである。
が出来るので、素材であるガラス基板1の周囲に研摩処
理を施し、その輪郭形状を高精度に仕上げである。
(i)第2図に示すごとく、透明導電層2の周囲、数閣
幅の環状部分2aを除いて、(蒸着マスクを用いて)第
1EC層3.電解質層4.第2EC層5を成層する。こ
の(ii)項の工程は、従来方法Iにおける工程t−s
や従来方法■における工程If−2と同様乃至は類似の
操作である。
幅の環状部分2aを除いて、(蒸着マスクを用いて)第
1EC層3.電解質層4.第2EC層5を成層する。こ
の(ii)項の工程は、従来方法Iにおける工程t−s
や従来方法■における工程If−2と同様乃至は類似の
操作である。
即ち、外周部にマスクを当て、蒸着、スパッタ。
イオンプレート、CVDなど公知技術の中から任意に選
定して用いることが出来る。
定して用いることが出来る。
(i)第3図に示すように、透明導電層2の全面に相当
する区域に金属膜12を被覆する。これにより。
する区域に金属膜12を被覆する。これにより。
透明導電層2の露出部分と第2EC層5の露出部分とが
金属膜12で覆われる。この(迅)項の工程は、従来方
法Iにおける工程I−,と同様乃至は類似の操作である
。
金属膜12で覆われる。この(迅)項の工程は、従来方
法Iにおける工程I−,と同様乃至は類似の操作である
。
(り上記の金属膜12に、ホトレジスト処理及び薬品処
理を施して不要部分を除去して、第4図に示す1対の帯
状金属薄膜8、及び、第2電極兼反射層6を残す、この
(tv)の工程は、従来方法Iにおける工程I−5と類
似の操作であるが、本実施例においては、本(神)工程
において透明導電層2の切欠2a、、2bが形成される
。
理を施して不要部分を除去して、第4図に示す1対の帯
状金属薄膜8、及び、第2電極兼反射層6を残す、この
(tv)の工程は、従来方法Iにおける工程I−5と類
似の操作であるが、本実施例においては、本(神)工程
において透明導電層2の切欠2a、、2bが形成される
。
このように1本実施例は(i)〜(iv)の各工程中に
おいて、蒸着マスクを用いるのは(i)の工程だけであ
り、しかもこの蒸着形状が単純であるため高精度を得や
すい。また、ホトレジストを用いるのは(tv)の工程
だけであるので、全体として工程が簡単で操作が容易で
あり、かつ、蒸着パターンの使用が1回であるからパタ
ーン同志の間のズレを生じない、また1本例を一貫自動
生産設備によって行う場合に蒸着マスクの変更操作を必
要としないので、所要設備が簡単で、設備コストや稼働
コストが安く、生産性が良い。
おいて、蒸着マスクを用いるのは(i)の工程だけであ
り、しかもこの蒸着形状が単純であるため高精度を得や
すい。また、ホトレジストを用いるのは(tv)の工程
だけであるので、全体として工程が簡単で操作が容易で
あり、かつ、蒸着パターンの使用が1回であるからパタ
ーン同志の間のズレを生じない、また1本例を一貫自動
生産設備によって行う場合に蒸着マスクの変更操作を必
要としないので、所要設備が簡単で、設備コストや稼働
コストが安く、生産性が良い。
[発明の効果コ
以上説明したように、先願の発明に係るEC防眩ミラー
(電圧降下を防止して着色むらを無くするための帯状金
属薄膜を透明導電層の周囲に設けたEC防眩ミラー)の
製造に本発明を適用すると。
(電圧降下を防止して着色むらを無くするための帯状金
属薄膜を透明導電層の周囲に設けたEC防眩ミラー)の
製造に本発明を適用すると。
(イ)パターンのズレを生じる虞れが、少なく、容易に
高精度の製品が得られ。
高精度の製品が得られ。
(ロ)真空槽内におけるパターン交換の必要が無く。
従って連続式蒸着(インライン方式)の適用に好適であ
り。
り。
(ハ)加工用機器のメンティナンスが容易であるという
優れた実用的効果を奏する。
優れた実用的効果を奏する。
第1図乃至第4図は本発明方法の説明図である。
第5図はEC防眩ミラーの説明図である。
第6図は先願のEC防眩ミラーの説明図である。
第7図乃至第9図は、上記先願に係る防眩ミラーを、従
来技術を適用して製造する場合を示した説明図である。 特許出願人 市光工業株式会社 代理人 弁理士 秋 本 正 実(外1名)第1図 (多りECM)3
来技術を適用して製造する場合を示した説明図である。 特許出願人 市光工業株式会社 代理人 弁理士 秋 本 正 実(外1名)第1図 (多りECM)3
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ガラス基板上に設けた第1電極としての透明導電層と、
電気化学的酸化還元反応に伴って色調を変える第1EC
層と、電解質層と、電気化学的還元酸化反応によって色
調を変える第2EC層と、第2電極としての導電層及び
化学的反射面とを順次に成層した自動車用のEC式防眩
ミラーであって、ほぼ方形のガラス基板の2組の対角の
それぞれの組にそれぞれ第1電極のリード線引出部、及
び、第2電極のリード線引出部を配設し、 前記第1電極の周囲の内、第2電極リード線引出部近傍
を除く部分に帯状の金属薄膜を設け、前記第2電極は、
これを第2EC層の上に施した金属被膜によって構成す
るとともに、該金属被膜は反射層を兼ねたものとした自
動車用EC防眩ミラーを製造する方法において、 (i)ガラス基板の背面のほぼ全面に透明導電層を形成
する工程と、 (ii)上記透明導電層の上に、その周囲近傍を除く全
面に、第1EC層、電解質層、第2EC層を成層する工
程と、 (iii)前記の透明導電層及び第2EC層の露出面を
覆って金属膜を形成する工程と、(iv)上記の金属膜
にホトレジスト処理を施した後、薬品処理によって該金
属膜の不要部分と透明導電膜の不要部分とを除去し、残
存金属膜によって帯状金属薄膜と、第2電極兼反射層を
形成する工程と、を設けたことを特徴とする自動車用E
C防眩ミラーの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62142293A JPS63306429A (ja) | 1987-06-09 | 1987-06-09 | 自動車用ec防眩ミラ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62142293A JPS63306429A (ja) | 1987-06-09 | 1987-06-09 | 自動車用ec防眩ミラ−の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63306429A true JPS63306429A (ja) | 1988-12-14 |
Family
ID=15312010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62142293A Pending JPS63306429A (ja) | 1987-06-09 | 1987-06-09 | 自動車用ec防眩ミラ−の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63306429A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017169243A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 株式会社 村上開明堂 | 固体型ecミラーおよびその製造方法 |
-
1987
- 1987-06-09 JP JP62142293A patent/JPS63306429A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017169243A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 株式会社 村上開明堂 | 固体型ecミラーおよびその製造方法 |
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