JPS63302987A - 水質調整装置 - Google Patents

水質調整装置

Info

Publication number
JPS63302987A
JPS63302987A JP13875387A JP13875387A JPS63302987A JP S63302987 A JPS63302987 A JP S63302987A JP 13875387 A JP13875387 A JP 13875387A JP 13875387 A JP13875387 A JP 13875387A JP S63302987 A JPS63302987 A JP S63302987A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
tank
value
water quality
level
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13875387A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiro Sakaida
境田 敏郎
Hideo Ito
日出男 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Priority to JP13875387A priority Critical patent/JPS63302987A/ja
Publication of JPS63302987A publication Critical patent/JPS63302987A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は温水流通系において温水と接する機器内面のア
ルミニウムや鉄が温水中の各種成分の影響で孔食、腐食
により劣化を受けるのを可能な限り防ぐことによって、
機器寿命の延長をはからせる如くした水質調整装置の構
成に関する。
(従来の技術) 水用熱交換器や水用配管などの淡水と接する機器表面が
使用中に腐食を受けることは一般に知られており、この
場合の腐食が淡水中の塩素イオン。
硫酸イオン、炭酸カルシウムの各濃度によって影響を受
けるものであるのも知られている。
かかる点から従来は、特開昭60−132637号公報
に開示される如き薬液注入装置によって汁液を行い水質
調節をしていた。
(発明が解決しようとする問題点) このような水質調整手段は、定濃度、定容量の薬液を間
欠的に投入する方式であって、一時的に測定した水質分
析にもとづいて補給水量に対応して薬液投入を行うもの
であるから、連続的に温水が変量消費されることにより
これに見合った原水補給が成される如き温水流通系の場
合などでは変化を来す水質に対応した調整は簡単には行
い難く適正な水質制御になっていないのが問題であった
本発明はかかる問題点に対処して成されたものであって
温水の消費に見合って定量的に原水補給が行われる毎に
水質を自動測定して最適な注入薬液種別及び注入量を算
出し、この算出結果にもとづいて必要薬液を必要量汁液
することによって、常時水質の高純度保持を可能ならし
め、もって温水流通系におけるアルミニウム、鉄の孔食
進行速度を低下させることを目的とする。
(問題点を解決するための手段) しかし・て本発明は添付図面の実施例によっても明らか
な如く、温水用原水を貯溜するタンク(1)、前記タン
ク(1)内の貯溜水位を高水位と低水位との間に保持せ
しめる原水自動補給装置(5)を備えた給水系に設けら
れてなり、タンク(1)に接続させて貯溜水中の成分濃
度の分析可能に設けた水質分析2g(6)と、硫酸イオ
ン液、塩素イオン液及び炭酸カルシウム液を個別に夫々
貯溜する第1乃至第3液槽(71,(8)、 (91と
、それ等3つの液槽(71,+81. (91内の各貯
溜液を選択的、かつ定量的に前記タンク(1)に注液可
能に設けた定量汁液装置QO)と、前記定量注液装置α
0)を作動せしめてタンク(1)内貯溜水の水質を基準
値よりも高く保持せしめる制御系0.!lとを備えてい
て、前記制御系(2)は、タンク(1)内水位が前記原
水自動補給装置(5)の作動によって上界し高水位に達
する毎に水質分析器による分析結果を検出する水質入力
部(21)と、この水質入力部(21)による分析結果
からに値(孔食進行速度)を演算して基準値と比較する
に値判定部(22)と、このに値判定部(22)による
比較結果が基準値に比して実際値の方が高い場合に定量
汁液装置α0)の選択注液作動を行わせる出力部(23
)とにより形成せしめた水質調整装置を特徴とする。
(作用) 本発明は後記するに値の演算を行うことによって、水質
の理論的な解析が可能であり、また、水質の悪化の場合
には、塩素イオン、硫酸イオン。
炭酸カルシウムの少なくとも一種を定量的に注入するこ
とによって水質の改善を果たし得る。
さらに温水の消費がタンク(1)内における所定量の減
少に見合って成される度毎に水質の測定及び調整をタン
ク(1)側で行うことにより常に高水質の状態で原水を
貯溜し得る。
なお、K値の算出は、下記式すなわち、K□O,205
(Ce −)2+  (−0,430(SO4”−)−
0,174(CaCO+)+16.341 ) (Cβ
−)+0.238(SO4” −)2−6.850(5
04”−)−0,214(SiOz)2+1).885
(SiOz) +0.021(CaCO*)2−107
.261但し、CX−:塩素イオン濃度(PPM)so
4”−:硫酸イオン?二度(PPM)CaCOz  :
全硬度(PPM) SiO□ ニジリカ濃度(PPM) にもとづいて行われるものである。
(実施例) 以下、本発明の実施例を添付図面にもとづいて説明する
第1図は本発明の1実施例に係る給水系であって、(1
)はタンクで図示しない温水ボイラに供給する原水を貯
溜する容器であって、勿論温水ボイラ自体の缶体も対象
となるものであり、孔食、腐食を比較的骨は易いアルミ
ニウム、鉄の金属層を内壁に露出した構造のタンクであ
る。
上記タンクfilの側壁下部には、第1電(イ番弁θ3
)を有する給水管(2)例えば水道水管を接続しており
、さらに、この側壁下部と対向する反対側の側壁下部に
は第2電磁弁Oaを有する送水管(3)を接続しており
、この送水管(3)を負荷側の例えば温水ボイラに連結
せしめている。
さらにタンク+1)は、モータ(20)によ回転駆動さ
れる攪拌装置0υを器内にしnませて有すると共に、内
壁の高位置個所に貯溜水位の高水位を設定する高水位検
知器0ωを、また、低位置個所に低水位を設定する低水
位検知器0υを夫々配設してとり、一方、水質分析器(
6)を付設せしめていて、その抽水管が器内に臨まされ
ている。
かかる構造を有するタンク(1)は器内の原水が送水管
(3)を介し負荷側に送られることにより一$i量して
きて低水位検知器OQの低水位レベルまで低下すると、
後述する制御系0乃の作動によって第1電磁弁0蜀が開
弁じて給水管(2)を経、原水の供給が行われ、この給
水により増量して高水位検知器αりの高水位レベルまで
上昇すると第1電磁弁Q3が閉弁することにより、器内
の貯溜水位が高水位と低水位との間に常時保持されるよ
うになっており、従って両検知器α9.06)と第1電
磁弁Q3)とによって原水自動補給装置(5)が構成さ
れるものである。
前記タンク(1)には、さらに第1乃至第3液槽(7)
+81. (91と、定量汁液装置00)と、制御系α
乃とが並設されていて、前記水質分析器(6)と併せて
それ等機器が本発明を特徴づける水質調整装置の構成要
素を成している。
水質分析器(6)は、前述した如く抽水管をタンク(1
)内の水相に臨ませていて、抽水管を介し少量の貯溜原
水を測定試料として抽出して原水中の塩素イオン(C1
−)、硫酸イオン(504”つ及びシリカ(SiO□)
の各濃度と全硬度(CaCOz)とをPPM単位で分析
測定し得るようになっている。
なお、この水質分析器(6)は、イオン濃度測定器、例
えばイオン交換クロマトグラフィと、濃度測定器例えば
比色計及びメチルレッド滴定装置とを備えていて、前者
のイオン濃度測定器により、測定試料の水中に含まれる
塩素イオン及び硫酸イオンの濃度を吸収の時間差で測定
することが可能であり、一方、後者の濃度測定器により
、前記水の中に含まれる炭酸カルシウム濃度(全硬度)
及びシリカ濃度を交互に測定可能なようにしたものが例
として挙げられる。
第1乃至第3液槽(7)〜(9)は硫酸イオン液、塩素
イオン液、炭酸カルシウム液を個別に夫々所要量貯溜し
得る容器に形成していて、タンク(1)の近傍に設置せ
しめている。
次に定量注液装置00)は、前記3つの液槽(71,(
81゜(9)の各成敗り出し口とタンク(1)の器内と
の間に亘らせて設けていて、図示例は各成敗り出し口に
接続した各配管中に夫々介設した第3乃至第5電磁弁0
η、 Q81. Q9)と、それ等電磁弁αη、0の、
Q9の各出口に対し吸込側を一括接続すると共に、吐出
側をタンク(1)の器内に配管を介し臨ませてなる定容
積形のポンプ(24)、例えばダイアフラムポンプとに
より定量注液装置(10)を構成している。
この装置は前記制御系(2)からの指令を受けて、第1
乃至第3液槽(7)〜(9)内の各貯溜液を選択して、
すなわち各電磁0η〜aΦのうちいずれかを選択し開弁
させると共に、ポンプ(24)を付勢して、タンク(1
)に対し指定する液槽内の液を定量的に汁液するように
なっている。
一方、前記制御系(ロ)は、水質分析器(6)により分
析して得た各濃度情報にもとづいて、定量注液装置(1
01等に制御出力を与える装置であって、第1図に示す
如く、必要時に発せられる指令に応じて水質分析器(6
)の分析結果を検出する水質入力部(21)と、この水
質入力部(21)による水質分析器(6)の分析結果か
らに値(孔食進行速度)を演算して、これを基準値と比
較するに値判定部(22)と、このに値判定部(22)
による比較結果が基準値に比し実際値の方が高い場合に
出力を発する出力部(23)とにより構成している。
上述の制御系(2)はマイクロコンピュータを構成部材
とするものであって、第2図に示すように、主として中
央処理装置(CPLI) (25)と、I’+01’l
及びRA門を要素とするストアードプログラム部(26
)と、オペレーションシステム部(27)と、バッファ
メモリ(28)と、水質入力部としてデータ入力部(2
1)と、出力部(23)とを備えている。
しかして前記CPU (25)では、水質分析器(6)
から入力される4種の濃度信号にもとづき所定の演算を
行い、実際のに値が基準値よりも低いか高いかを判定す
ると共に、高い場合にはさらに各液槽(7)2f8)、
 t9)のうちのどの液槽から液を補給することによっ
てに値を下げ得るかの判定をも行わせて、対応する出力
を出力部(23)から発生させるように形成している。
ところでCPU (25)で行わせる演算の基礎となる
に値の内容について概要説明すると、日本全国から設定
した19地域における淡水についてのに値、成分及び緒
特性を測定した結果は、K値が大きい順に整理して示し
てものとして下記第1表の通りであって、PH平均値は
6.4〜7.5の範囲におさまっていて、かかる比較的
狭い範囲の間での腐食速度の変化は少ないと考えられる
また、温度及びリン酸イオン濃度の変化幅も表示してい
ないが極めて小さいために、これらが腐食速度に与える
影響は小さいと思料する。
従って、残りのCI−、So、 z−、sto!及びC
aCO3の各濃度とに値との関係を検討するに、K値は
概して水中の上記各成分の増加に伴って増加する傾向が
あるが、それでも両者の間の関係は明確とは云い難い。
なお、同様の傾向が腐食重量減少と上記各種成分との間
にも認められた。
特に注目されるのは種別P−Hでは、水質が比較的良好
であるにもかかわらずに値は大きく、種別L−Nでは逆
の傾向を示していることであった。
以下余白 第  1  表 以上の点を参考にしてCI!−?H度を5 PPM毎に
区分すると、他の成分とに値の間には明らかに特定の傾
向が見られ、その傾向は各07!−C度について共通で
あるように思われる。
すなわち、種々の解析を行ってみたところ、5Oa−−
濃度に関しては、各C1一’4度区分について種別G、
M、に、Jを谷とする2次式的傾向が認められ、Sin
g濃度及びCaCO3濃度については、各CZ−濃度区
分でそれら成分の増加に比例して孔食が促進される傾向
が明らかとなっている。
以上の分析結果から19地区でのデータをもとに孔食進
行速度を前記4種水性成分で回帰した。
その際、回帰式は変数の数の制限と前述の検討結果から
4種成分はそれぞれ独立に2次式的に作用すると考え、
さらにce−97,度は他の成分と1次式的な相互作用
を持つものとの前提で次のように定めた。
Y−aCCI−−)2 +   (b(So4 2−)
+C(SiOz)+d(CaCO:+)+e) x((
J−) +f(SO4”−)2+g(So4”−)+h
(Sing)2+1(SiOz)+j(CaCO3)2
 +k(CaCOz)+  I!  ・ ・ ・ (八
)ここでY=孔食進行速度(K)(μm /:41Tn
;f、 )であり、また、各成分濃度の単位は全て(P
PM)である。
回帰式の導出は(A)式をもとに各独立変数の導入及び
棄却の基準をF(φ1.φN 、 0.01)とする変
数増減法により、不必要な変数を排除した。
その結果得られた式は下記の通りである。
K=0.205 (CI−)” +  (−0,430
(SOa”−)−0,174(CaCOs)+16.3
41 ) ((J−)+0.238(SO4” −)”
−6,850(S04.”−)−0,214(SiOz
)”+1).885(SiOz) +0.021(Ca
COs)”−107,261・・・(B) ところで前記(B)式にもとづいてCaCO5を54P
PM一定とし、かつ(SiOz)濃度を15.10.5
PPMの3種に夫々定めた条件で(+4−)濃度を5P
PM差で異なるパラメータとして(SO−−)濃度とに
値との関係を画いてみたところ、第5図(イ)〜(ハ)
に示す如くなり、K値が実用許容値であるしきい値(K
a)としての例えば50を基準として、50以下の適合
値となるためには(504”−)を増減調節させればよ
いことがわかる。
なお、((J−)濃度、 (Sing)濃度、 (Ca
CO3)濃度が決まっている場合のに値の判定値は前記
(B)式を(so、”−)について微分することにより
容易にもとめられる。
より、 0.476 (S04z−)  =0.43(CI −
)+ 6.85、’、  (SO4”−)=0.903
 ((J−)+ 14.39が得られるので、この値と
現在溶存する(SO4”−)との差を増減調節すれば、
最低のに値を示す淡水に改質することが可能である。
特にに値が減少するs o 、 2− 濃度の領域(す
なわち前記微分値が負の場合)では、S04”−fm度
を単に増大させる如き手段のみでこの改質が可能である
同様な考え方によって、(SO4”−) 濃度をパラメ
ータとした場合に(C1−)?ffi度をに値が最低値
となるための値を調節することも可能である。
よって、上述の演算・判定機能をCPU (25)に備
えさせることにより、水質改善のためのデータ及びこれ
に対応した出力を発せしめることが可能である。
次に第1図乃至第4図を参照しながら水質調整装置の作
動を説明すると、負荷側の温水ボイラの運転に応動させ
て水質調整装置を起動させる。
(ステップ■)。
温水ボイラに所定量の給水が成されると、タンク(1)
内の水位は低水位まで下がるので、第2電磁弁Q4)が
閉弁され、第1電磁弁a1が開弁される。
(ステップ■)。
その結果、タンク(1)内の貯溜水は、温水ボイラ側へ
の供給によって水位低下していたのが、第1電磁弁03
1の開弁により給水が成される(ステップ■)ことによ
り漸次水位上昇を来し、高水位検知器Q51が高水位ま
で上昇したことを検知して出力を発すると(ステップ■
)、第1電磁弁Q3を閉じさせて(ステップ■)、タン
ク(1)への原水供給は終了する。
タンク+1)内水位が上昇により高水位に達したところ
で、その際発する信号により水質分析器(6)を同時に
作動させることによってタンク(1)内反水中の成分濃
度(CI −+ SOa ”−+ 5I02 + Ca
CO3各濃度)全濃度及び分析させて(ステップ■)、
この測定分析した濃度情報をCI’U (25)に送り
込ませる。
CPU (25)ではに値判定部(22)によりに値の
演算につづいて基準値との比較による判定を行わせる(
ステップ■)。
CPU (25)のに値の判定は、前記(B)式にもと
づく実際値の演算を行って基準値(Ko)例えば50(
第5図参照)と比較する手順により行うものであり、K
〉50であるとする結果が出された場合は、さらにに値
を50に下げるために必要な注入液の種別。
液量の算出を行うと共に、第3〜第5電磁弁0η〜Qg
1のいずれかの開弁が必要かを判定させる(ステップ■
)。
なお、K値が50以下であること、また、所定周期で測
定分析したに値の最終値が極少値により近付き例えば(
極少値+5)以下になったことの2つの判断基準をCP
U (25)が備えている場合には液剤の供給が可能か
否かの判断(ステップ■)に置換え得る。
CPU (25)によるに値の判定が所定値以下である
との結果になり、そして液剤の供給が必要であると判断
するとくステップ■)、各電磁弁α1〜0嘩中の対応す
るものの開弁による液剤の供給が成される(ステップ■
)。
また、このステップ■に合わせて攪拌機(20)を作動
させる(ステップ@l)。
この液剤供給の1例を第5図(ロ)により説明すると、
K値かに、 = 65であったとすると、原水のCe−
濃度が20 PPMである場合にはson”−?a度を
高めることによってKI#40まで下げることが可能で
あることを示しているところから、第3電磁弁07)を
開弁じ、かつポンプ(24)を運転して第1液槽(7)
からso、!−液を必要量送り込ませればよいことがわ
かる。
また、C1−?f4度が低(、かつSO4,”−濃度が
高くてに値かに3と高い場合には第4電磁弁0榎を開弁
し、ポンプ(24)を運転し第2液槽(8)からCβ−
液を必要量送り込ませることによりC7!−?3度を1
0 PPMから20 PPMまで高めてに3をに、まで
下げさせることが可能である。
このときの供給すべき液剤の量は水質分析器(6)の測
定結果及びに値算出式(B)から算出可能であって、所
定量の供給によりに値が50以下になったことを判定す
ると(ステップ■)、温水ボイラ側への給水が必要な場
合は第2電磁弁圓を開弁させてに値の低い水を供給せし
める(ステップ0)。
この給水によってタンク(1)内水位が低下するので、
低水位検知器θQによりこれを検知しくステップ@)、
所定の低水位まで下った場合はステップ■に移行させる
が、所定低水位まで下り切らないときは第2電磁弁00
が開弁じている時間を計測し所定時間例えば数時間経過
することをチェックするとくステップ0)、前述するス
テップ■に移行させ水質分析を行わせる。
なお、このステップ0は水質が急激に変化することが通
常者えられないことから不必要な動作を排するために行
わせる行程である。
しかして、定量注液装置00)のステップ■に関するサ
ブルーチンは第4図に示す通りであって、タンク(1)
内の原水のに値を(B)式にもとづき計算しくステップ
o)、シリカ濃度が所定値以下になるようシリカ濃度の
調節(ステップ■[相])を行った後に、塩素イオン液
の供給によってに値を下げ得るかを判断(ステップO)
し、下げ得る状態(第5図(日)のに3状態)であれば
塩素イオン液を補給する(ステップ@))。
一方、塩素イオン液の補給では下げ得なくて、硫酸イオ
ン液の補給によってに値を下げ得る状態(第5図(ロ)
のに、状態)であると判断するとくステップ[相])、
硫酸イオン液を補給する(ステップ[相])。
かくして水質調節が円滑に行われる。
(発明の効果) つづいて本発明の効果を述べると下記の通りである。
(1)本発明は理論的根拠にもとづく正確なに値(孔食
進行速度)を求めて、このに値が基準値よりも低く水質
が良好な状態になるように、タンク(1)内の原水を補
給する度毎にチェック及び汁液による水質保持をはから
せているので、アルミニウム、鉄の孔食、腐食を防止し
て温水流通系統の機器長寿命化を果たし得る。
(n)運転で消費された原水を、その消費分に見合って
補給し貯溜せしめた直後において水質の測定及び改善を
行わせているので、水質は常に安定した値を維持し得る
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に係る装置回路図、第2図は本
発明の例に係る制御系のブロック示構造図、第3図及び
第4図は同じ(制御系の作動態様を示すフローチャート
、第5図(イ)〜(ハ)は01″濃度をパラメータとし
たに値−5on”−濃度関係線図である。 (1)・・・タンク、 (5)・・・原水自動補給装置
、(6)・・・水質分析器、 (7)・・・第1液槽、
(8)・・・第2液槽、 (9)・・・第3液槽、00
・・・定量注液装置、 @・・・制御系、(21)・・
・水質入力部、(22)・・・K値判定部、(23)・
・・出力部。 第1図 第2図 z2にイ[’J足1目( 第3図 第4図 第50 (イン o4 Oa

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、温水用原水を貯溜するタンク(1)、前記タンク(
    1)内の貯溜水位を高水位と低水位との間に保持せしめ
    る原水自動補給装置(5)を備えた給水系に設けられて
    なり、タンク(1)に接続させて貯溜水中の成分濃度の
    分析可能に設けた水質分析器(6)と、硫酸イオン液、
    塩素イオン液及び炭酸カルシウム液を個別に夫々貯溜す
    る第1乃至第3液槽(7)、(8)、(9)と、それ等
    3つの液槽(7)、(8)、(9)内の各貯溜液を選択
    的、かつ定量的に前記タンク(1)に注液可能に設けた
    定量注液装置(10)と、前記定量注液装置(10)を
    作動せしめてタンク(1)内貯溜水の水質を基準値より
    も高く保持せしめる制御系(12)とを備えていて、前
    記制御系(12)は、タンク(1)内水位が前記原水自
    動補給装置(5)の作動によって上昇し高水位に達する
    毎に水質分析器による分析結果を検出する水質入力部(
    21)と、この水質入力部(21)による分析結果から
    K値(孔食進行速度)を演算して基準値と比較するK値
    判定部(22)と、このに値判定部(22)による比較
    結果が基準値に比して実際値の方が高い場合に定量注液
    装置(10)の選択注液作動を行わせる出力部(23)
    とにより形成せしめたことを特徴とする水質調整装置。
JP13875387A 1987-06-01 1987-06-01 水質調整装置 Pending JPS63302987A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13875387A JPS63302987A (ja) 1987-06-01 1987-06-01 水質調整装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13875387A JPS63302987A (ja) 1987-06-01 1987-06-01 水質調整装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63302987A true JPS63302987A (ja) 1988-12-09

Family

ID=15229377

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13875387A Pending JPS63302987A (ja) 1987-06-01 1987-06-01 水質調整装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63302987A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019195329A (ja) * 2018-05-08 2019-11-14 國立中正大學 自動水質調整システムとその方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019195329A (ja) * 2018-05-08 2019-11-14 國立中正大學 自動水質調整システムとその方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR0119116B1 (ko) 현상액 관리장치
KR100837673B1 (ko) 약액 공급 장치 및 슬러리의 조합 방법
KR100548750B1 (ko) 슬러리 혼합용 전도율 귀환 제어 시스템
EP2480943B1 (en) Method and system for preparation of liquid mixtures
US3990088A (en) System for controlling replenishment of developer solution in a photographic processing device
FI106097B (fi) Optimoiva pesuaineen säädin
US4480901A (en) Arrangement for and a method of processing photosensitive articles
US3970457A (en) Automatic replenishment method and apparatus for photographic processes
JPH0343346B2 (ja)
Shinskey Control of pH
JP2003158111A (ja) 半導体処理装置の薬液濃度制御装置
JPS63302987A (ja) 水質調整装置
US20040253737A1 (en) Device and method for monitoring and regulating a process solution
US11802848B2 (en) pH measuring device and pH measuring method
KR200261175Y1 (ko) 반도체웨이퍼세정용약액공급장치
US5185623A (en) Apparatus for treating a photosensitive material and method of adding water for use in the same
US3214301A (en) Automatic ph control of chemical treating baths
JP3115101B2 (ja) 液体中和装置
EP0433801A1 (en) Sizing machine
JPS6320492A (ja) 水質調整装置
US5065417A (en) Method and apparatus for monitoring the partial density of metal and acid in pickling baths
KR20000033348A (ko) 정수장의 응집제 투여방법 및 그 장치
JP3610858B2 (ja) 酸濃度計および酸濃度測定法
JPH0143633Y2 (ja)
WO2021181947A1 (ja) 電解質濃度測定装置