JPS63285904A - サ−ミスタ用酸化物半導体 - Google Patents
サ−ミスタ用酸化物半導体Info
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- JPS63285904A JPS63285904A JP62120428A JP12042887A JPS63285904A JP S63285904 A JPS63285904 A JP S63285904A JP 62120428 A JP62120428 A JP 62120428A JP 12042887 A JP12042887 A JP 12042887A JP S63285904 A JPS63285904 A JP S63285904A
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高応答性の温度センサとして利用できるとこ
ろの負の抵抗温度係数を有するサーミスタ用酸化物半導
体に関するものである。
ろの負の抵抗温度係数を有するサーミスタ用酸化物半導
体に関するものである。
従来の技術
従来、汎用ディスク型サーミスタとしては、Mn−Go
−Ni−Cu酸化物系サーミスタ材料であって、しかも
その結晶構造がスピネル構造をとるものが主に用いられ
てきた。サーミスタ材料の電気的特性としては1.一般
的に、比抵抗およびサーミスタ定数B−1示される。サ
ーミスタ定数(以下B定数と記す)は抵抗の温度勾配を
表すもので、具体的にはサーミスタ材料のバンドギャッ
プに相当する活性化エネルギーにより決定される。従っ
てB定数が大きい程、温度に対する抵抗値変化が大きく
、すなわち応答性が良くなる。また、比抵抗とB定数に
は図に示すように相関性があり、現在の汎用サーミスタ
材料は図中2で囲んだ領域、つまり比抵抗が数10〜数
100にΩ’m、B定数2500〜6000にのものが
用いられている。
−Ni−Cu酸化物系サーミスタ材料であって、しかも
その結晶構造がスピネル構造をとるものが主に用いられ
てきた。サーミスタ材料の電気的特性としては1.一般
的に、比抵抗およびサーミスタ定数B−1示される。サ
ーミスタ定数(以下B定数と記す)は抵抗の温度勾配を
表すもので、具体的にはサーミスタ材料のバンドギャッ
プに相当する活性化エネルギーにより決定される。従っ
てB定数が大きい程、温度に対する抵抗値変化が大きく
、すなわち応答性が良くなる。また、比抵抗とB定数に
は図に示すように相関性があり、現在の汎用サーミスタ
材料は図中2で囲んだ領域、つまり比抵抗が数10〜数
100にΩ’m、B定数2500〜6000にのものが
用いられている。
また、酸化コバルトとリチウムを組合わせた酸化物半導
体としては、一般的に酸化物半導体材料の導電機構の1
つとして説明される原子価制御理論の実例で古(V!!
RWEYらにより取り上げられている。(Philip
s Re5erch Reportしかしながら、Vl
ll:RW1!:Yらの検討はあくまでも学究的な段階
で終っており、サーミスタとしての用途開発以前のもの
であって、サーミスタ材料としての検討は二本入夫によ
って記載されたもの(■日立製作所、中央研究所創立二
十周年記念論文集、P30〜46、昭和37年)がある
だけである。この二本の検討結果によれば比抵抗および
B定数とも低く、サーミスタとして適するものではなく
、これに準するものと記載されている。
体としては、一般的に酸化物半導体材料の導電機構の1
つとして説明される原子価制御理論の実例で古(V!!
RWEYらにより取り上げられている。(Philip
s Re5erch Reportしかしながら、Vl
ll:RW1!:Yらの検討はあくまでも学究的な段階
で終っており、サーミスタとしての用途開発以前のもの
であって、サーミスタ材料としての検討は二本入夫によ
って記載されたもの(■日立製作所、中央研究所創立二
十周年記念論文集、P30〜46、昭和37年)がある
だけである。この二本の検討結果によれば比抵抗および
B定数とも低く、サーミスタとして適するものではなく
、これに準するものと記載されている。
発明が解決しようとする問題点
従来より、自動車の水温計用あるいはアイロンの温度セ
ンサ用などとして、応答性を良くすることを目的にしだ
比抵抗が低く、B定数の高いサーミスタ材料が要望され
てきたが、上記図の汎用サーミスタ材料ではこの要望を
満足することができなかった。
ンサ用などとして、応答性を良くすることを目的にしだ
比抵抗が低く、B定数の高いサーミスタ材料が要望され
てきたが、上記図の汎用サーミスタ材料ではこの要望を
満足することができなかった。
本発明は、この要望を満足できるサーミスタ材料、すな
わちサーミスタ用酸化物半導体を提供することを目的と
するものである。
わちサーミスタ用酸化物半導体を提供することを目的と
するものである。
問題点を解決するだめの手段
上記要望を達成するだめに、本発明は前述のGo−Li
系酸化物半導体を見直し、改良を加えることによって解
決できたものである。本発明のサーミスタ用酸化物半導
体は、金属酸化物の焼結混合体よりなり、その金属元素
としてコバルト(Go)68.0〜99.2原子%、銅
(Cu ) 0.2〜5.5原子係およびリチウム(L
i)0,3〜24.○原子チ、ケイ素(Si)o、o
〜2.6原子%(但しo、oは除く)の4種を合計10
0原子係含有してなるものである。
系酸化物半導体を見直し、改良を加えることによって解
決できたものである。本発明のサーミスタ用酸化物半導
体は、金属酸化物の焼結混合体よりなり、その金属元素
としてコバルト(Go)68.0〜99.2原子%、銅
(Cu ) 0.2〜5.5原子係およびリチウム(L
i)0,3〜24.○原子チ、ケイ素(Si)o、o
〜2.6原子%(但しo、oは除く)の4種を合計10
0原子係含有してなるものである。
作用
この構成により図の実線で囲まれた領域1の比抵抗が低
くB定数の高いサーミスタ用酸化物半導体を得ることと
なる。ここで、この半導体は酸化コパル) (Coo)
が基本組成であって、四酸化二コバルト(CO304)
が生成される場合には、ホッピング伝導の寄与により、
高B定数を達成することができない。
くB定数の高いサーミスタ用酸化物半導体を得ることと
なる。ここで、この半導体は酸化コパル) (Coo)
が基本組成であって、四酸化二コバルト(CO304)
が生成される場合には、ホッピング伝導の寄与により、
高B定数を達成することができない。
実施例
以下、本発明の実施例について説明する。
市販の原料酸化コバルト、酸化銅、酸化リチウムおよび
酸化ケイ素を後述する表に示すようにそれぞれの原子俤
の組成になるように配合した。サーミスタ製造工程を例
示すると、これらの配合組成物をボールミルで湿式混合
し、そのスラリーを乾燥後800℃の温度で仮焼し、そ
の仮焼物を再びボールミルで湿式粉砕混合を行った。こ
うして得られたスラリーを乾燥し、ポリビニルアルコー
ルをバインダーとして添加混合し、所要量採って円板状
に加圧成形し成形品を多数作り、これらを窒素ガスフロ
ー中1200℃〜1300℃で2時間焼成した。こうし
て得られた円板状焼結体の両面にムgを主成分とする電
極を設けた。これらの試料について26℃および50℃
での抵抗値(それぞれのR23およびR58)を測定し
、26℃での比抵抗ρ25を下記(1)式より、またB
定数を下記(2)式より算出した。
酸化ケイ素を後述する表に示すようにそれぞれの原子俤
の組成になるように配合した。サーミスタ製造工程を例
示すると、これらの配合組成物をボールミルで湿式混合
し、そのスラリーを乾燥後800℃の温度で仮焼し、そ
の仮焼物を再びボールミルで湿式粉砕混合を行った。こ
うして得られたスラリーを乾燥し、ポリビニルアルコー
ルをバインダーとして添加混合し、所要量採って円板状
に加圧成形し成形品を多数作り、これらを窒素ガスフロ
ー中1200℃〜1300℃で2時間焼成した。こうし
て得られた円板状焼結体の両面にムgを主成分とする電
極を設けた。これらの試料について26℃および50℃
での抵抗値(それぞれのR23およびR58)を測定し
、26℃での比抵抗ρ25を下記(1)式より、またB
定数を下記(2)式より算出した。
R25=R25×6 ・・・・・
・(1)(S=電極面積、d=電極間距離) これらの結果を下表にまとめて示す。
・(1)(S=電極面積、d=電極間距離) これらの結果を下表にまとめて示す。
(以 下 余 白)
上述したように図中実線で囲んだ領域1が本発明の目的
とする低比抵抗、高B定数の領域である。
とする低比抵抗、高B定数の領域である。
この領域は、センサとして高応答性を達成するために機
器側から要望された電気特性をサーミスタ材料の特性(
比抵抗およびB定数)として置き換えたものである。
器側から要望された電気特性をサーミスタ材料の特性(
比抵抗およびB定数)として置き換えたものである。
前表において、試料番号1,4,6,9,10゜13.
14.18は、この実線で囲んだ領域1に含まれない。
14.18は、この実線で囲んだ領域1に含まれない。
つまり機器メーカの要望を満足しないという点から、本
発明の範囲外とした。
発明の範囲外とした。
今回の試料は、乾式成形後焼成したものを用いだが、ビ
ードタイプの素子でもよく、素子製造方法に何ら拘束さ
れるものではない。また、混合、粉砕にはジルコンア玉
石を用いた。
ードタイプの素子でもよく、素子製造方法に何ら拘束さ
れるものではない。また、混合、粉砕にはジルコンア玉
石を用いた。
発明の効果
以上のように本発明によれば、コバルト、銅、リチウム
にさらにケイ素を加えることにより、3成分系材料より
さらに低比抵抗、高B定数化を狙ったものである。そし
て、ケイ素はリチウムとガラス化しやすいため、コ六ル
トに固溶するリチウム量を補う必要がある。このケイ素
添加による効果として若干のB定数アップが見られるが
、ガラス相の寄与があるかどうかは不明である。
にさらにケイ素を加えることにより、3成分系材料より
さらに低比抵抗、高B定数化を狙ったものである。そし
て、ケイ素はリチウムとガラス化しやすいため、コ六ル
トに固溶するリチウム量を補う必要がある。このケイ素
添加による効果として若干のB定数アップが見られるが
、ガラス相の寄与があるかどうかは不明である。
以上述べたように、本発明は低比抵抗、高B定数を有す
る負の抵抗温度係数を有するサーミスタ用酸化物半導体
を提供するものであるが、センサとして温度に対して高
応答性が図れること、またこれにより節電できることに
なる。まだ、従来にない低比抵抗、高B定数のサーミス
タ材料であることから、センナとして全く新しい用途が
展開されることが期待できるものである。
る負の抵抗温度係数を有するサーミスタ用酸化物半導体
を提供するものであるが、センサとして温度に対して高
応答性が図れること、またこれにより節電できることに
なる。まだ、従来にない低比抵抗、高B定数のサーミス
タ材料であることから、センナとして全く新しい用途が
展開されることが期待できるものである。
図は負の抵抗温度係数を持つサーミスタ材料の特性相関
を示す図である。
を示す図である。
Claims (1)
- 金属酸化物の焼結混合体からなり、その構成金属元素と
して、コバルト68.0〜99.2原子%、銅0.2〜
5.5原子%及びリチウム0.3〜24.0原子%、ケ
イ素0.2〜2.5原子%(但し0.0は除く)の4種
を合計100原子%含有することを特徴とするサーミス
タ用酸化物半導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62120428A JP2578803B2 (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | サ−ミスタ用酸化物半導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62120428A JP2578803B2 (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | サ−ミスタ用酸化物半導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63285904A true JPS63285904A (ja) | 1988-11-22 |
JP2578803B2 JP2578803B2 (ja) | 1997-02-05 |
Family
ID=14785975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62120428A Expired - Lifetime JP2578803B2 (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | サ−ミスタ用酸化物半導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2578803B2 (ja) |
-
1987
- 1987-05-18 JP JP62120428A patent/JP2578803B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2578803B2 (ja) | 1997-02-05 |
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