JPS63285904A - サ−ミスタ用酸化物半導体 - Google Patents

サ−ミスタ用酸化物半導体

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JPS63285904A
JPS63285904A JP62120428A JP12042887A JPS63285904A JP S63285904 A JPS63285904 A JP S63285904A JP 62120428 A JP62120428 A JP 62120428A JP 12042887 A JP12042887 A JP 12042887A JP S63285904 A JPS63285904 A JP S63285904A
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thermistor
constant
atomic
oxide semiconductor
oxide
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JP62120428A
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Takuoki Hata
畑 拓興
Kaori Okamoto
岡本 香織
Isao Shimono
功 下野
Masatsune Oguro
小黒 正恒
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高応答性の温度センサとして利用できるとこ
ろの負の抵抗温度係数を有するサーミスタ用酸化物半導
体に関するものである。
従来の技術 従来、汎用ディスク型サーミスタとしては、Mn−Go
−Ni−Cu酸化物系サーミスタ材料であって、しかも
その結晶構造がスピネル構造をとるものが主に用いられ
てきた。サーミスタ材料の電気的特性としては1.一般
的に、比抵抗およびサーミスタ定数B−1示される。サ
ーミスタ定数(以下B定数と記す)は抵抗の温度勾配を
表すもので、具体的にはサーミスタ材料のバンドギャッ
プに相当する活性化エネルギーにより決定される。従っ
てB定数が大きい程、温度に対する抵抗値変化が大きく
、すなわち応答性が良くなる。また、比抵抗とB定数に
は図に示すように相関性があり、現在の汎用サーミスタ
材料は図中2で囲んだ領域、つまり比抵抗が数10〜数
100にΩ’m、B定数2500〜6000にのものが
用いられている。
また、酸化コバルトとリチウムを組合わせた酸化物半導
体としては、一般的に酸化物半導体材料の導電機構の1
つとして説明される原子価制御理論の実例で古(V!!
RWEYらにより取り上げられている。(Philip
s Re5erch Reportしかしながら、Vl
ll:RW1!:Yらの検討はあくまでも学究的な段階
で終っており、サーミスタとしての用途開発以前のもの
であって、サーミスタ材料としての検討は二本入夫によ
って記載されたもの(■日立製作所、中央研究所創立二
十周年記念論文集、P30〜46、昭和37年)がある
だけである。この二本の検討結果によれば比抵抗および
B定数とも低く、サーミスタとして適するものではなく
、これに準するものと記載されている。
発明が解決しようとする問題点 従来より、自動車の水温計用あるいはアイロンの温度セ
ンサ用などとして、応答性を良くすることを目的にしだ
比抵抗が低く、B定数の高いサーミスタ材料が要望され
てきたが、上記図の汎用サーミスタ材料ではこの要望を
満足することができなかった。
本発明は、この要望を満足できるサーミスタ材料、すな
わちサーミスタ用酸化物半導体を提供することを目的と
するものである。
問題点を解決するだめの手段 上記要望を達成するだめに、本発明は前述のGo−Li
系酸化物半導体を見直し、改良を加えることによって解
決できたものである。本発明のサーミスタ用酸化物半導
体は、金属酸化物の焼結混合体よりなり、その金属元素
としてコバルト(Go)68.0〜99.2原子%、銅
(Cu ) 0.2〜5.5原子係およびリチウム(L
i)0,3〜24.○原子チ、ケイ素(Si)o、o 
〜2.6原子%(但しo、oは除く)の4種を合計10
0原子係含有してなるものである。
作用 この構成により図の実線で囲まれた領域1の比抵抗が低
くB定数の高いサーミスタ用酸化物半導体を得ることと
なる。ここで、この半導体は酸化コパル) (Coo)
が基本組成であって、四酸化二コバルト(CO304)
が生成される場合には、ホッピング伝導の寄与により、
高B定数を達成することができない。
実施例 以下、本発明の実施例について説明する。
市販の原料酸化コバルト、酸化銅、酸化リチウムおよび
酸化ケイ素を後述する表に示すようにそれぞれの原子俤
の組成になるように配合した。サーミスタ製造工程を例
示すると、これらの配合組成物をボールミルで湿式混合
し、そのスラリーを乾燥後800℃の温度で仮焼し、そ
の仮焼物を再びボールミルで湿式粉砕混合を行った。こ
うして得られたスラリーを乾燥し、ポリビニルアルコー
ルをバインダーとして添加混合し、所要量採って円板状
に加圧成形し成形品を多数作り、これらを窒素ガスフロ
ー中1200℃〜1300℃で2時間焼成した。こうし
て得られた円板状焼結体の両面にムgを主成分とする電
極を設けた。これらの試料について26℃および50℃
での抵抗値(それぞれのR23およびR58)を測定し
、26℃での比抵抗ρ25を下記(1)式より、またB
定数を下記(2)式より算出した。
R25=R25×6           ・・・・・
・(1)(S=電極面積、d=電極間距離) これらの結果を下表にまとめて示す。
(以 下 余 白) 上述したように図中実線で囲んだ領域1が本発明の目的
とする低比抵抗、高B定数の領域である。
この領域は、センサとして高応答性を達成するために機
器側から要望された電気特性をサーミスタ材料の特性(
比抵抗およびB定数)として置き換えたものである。
前表において、試料番号1,4,6,9,10゜13.
14.18は、この実線で囲んだ領域1に含まれない。
つまり機器メーカの要望を満足しないという点から、本
発明の範囲外とした。
今回の試料は、乾式成形後焼成したものを用いだが、ビ
ードタイプの素子でもよく、素子製造方法に何ら拘束さ
れるものではない。また、混合、粉砕にはジルコンア玉
石を用いた。
発明の効果 以上のように本発明によれば、コバルト、銅、リチウム
にさらにケイ素を加えることにより、3成分系材料より
さらに低比抵抗、高B定数化を狙ったものである。そし
て、ケイ素はリチウムとガラス化しやすいため、コ六ル
トに固溶するリチウム量を補う必要がある。このケイ素
添加による効果として若干のB定数アップが見られるが
、ガラス相の寄与があるかどうかは不明である。
以上述べたように、本発明は低比抵抗、高B定数を有す
る負の抵抗温度係数を有するサーミスタ用酸化物半導体
を提供するものであるが、センサとして温度に対して高
応答性が図れること、またこれにより節電できることに
なる。まだ、従来にない低比抵抗、高B定数のサーミス
タ材料であることから、センナとして全く新しい用途が
展開されることが期待できるものである。
【図面の簡単な説明】
図は負の抵抗温度係数を持つサーミスタ材料の特性相関
を示す図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 金属酸化物の焼結混合体からなり、その構成金属元素と
    して、コバルト68.0〜99.2原子%、銅0.2〜
    5.5原子%及びリチウム0.3〜24.0原子%、ケ
    イ素0.2〜2.5原子%(但し0.0は除く)の4種
    を合計100原子%含有することを特徴とするサーミス
    タ用酸化物半導体。
JP62120428A 1987-05-18 1987-05-18 サ−ミスタ用酸化物半導体 Expired - Lifetime JP2578803B2 (ja)

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