JPS63284159A - チオエ−テル基を有するカテコ−ル類の合成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、チオエーテル基を有するカテコール類を選択
的に高収率で合成する方法に関する。

（従来の技術） チオエーテル基を有するカテコール類は、写真用化合物
として有用な化合物である０例えばその有用性は、特開
昭６１−２３３７４１号に記載されている。さらに防腐
剤、防錆剤、保恒剤、医薬品などの中間体として用途の
開発が見込まれる化合物である。

従来、カテコール類にスルフィド類を導入する場合、例
えばスルフェニルクロリド類を用いる方法が知られてい
る。しかし電子吸引性基を有するカテコール類にスルフ
ィド類を導入する場合は、その反応性が低下するためス
ルフェニルクロリド類を用いても反応が進行しない場合
が多い、その時は、触媒として塩化アルミニウムを用い
ることが知られており、その例は特開昭６１−２３３７
４１号に記載されている。しかしながら、本願明細書の
特許請求の範囲第（２）項に記載の一般式（Ｖ）の化合
物に、塩化アルミニウムの存在下、スルフェニルクロリ
ド類を反応させると、カテコール部位に反応点が２ケ所
あるため各々の位置にスルフィド類が導入されたものと
、２ケ所スルフイド類が導入されたものとが生成するこ
とが判明した。

このため望みにかなった位置に導入されたものを得るに
は、何らかの分離操作を必要とし、その結果当然のこと
ながら収率の低下を招いた。また、塩化アルミニウムを
用いる場合、極低温（−２０℃〜−１０℃）の反応温度
を必要とし、反応操作の煩わしさは否めない事実であっ
た。このような理由から、カテコール類に選択的にスル
フィド類を導入する方法が望まれていた。

（発明が解決すべき問題点） 工業的に有用なチオエーテル基を有するカテコール類を
、温和な反応条件で収率良くかつ選択的に合成する方法
を提供することが本発明の目的である。

（問題点を解決するための手段） 前記の目的は、下記一般式（１）で示されるカテコール
類と下記一般式（■）で示される化合物とを、３価のリ
ン存在下で反応させ、下記一般式（ＩＩＩ）で示される
化合物を合成することを特徴とするチオエーテル基を有
するカテコール類の合成方法によって達成された。

一般式（１）　　　　　　一般式（ＩＩ）式中、Ｒ３は
、ベンゼン環に置換可能な置換基を表わし、Ｒ１は脂肪
族基、芳香族基もしくは複素環基を表わし、Ｘはハロゲ
ン原子（例えば、塩素原子、臭素原子）又はイミド基（
例えば、フタルイミド基、スクシンイミド基）を表わし
、ｎは０ないし２の整数を表わす。ここでｎが２のとき
２つのＲ４は各々同じものまたは異なるものを表わす。

一般式（Ｉ）で表わされる化合物のうち好ましい化合物
は、一般式（Ｖ）で表わされる。

一般式（Ｖ） 式中Ｒｓ、Ｒｎは、ベンゼン環に置換可能な置換基を表
わし、Ｒ２はベンゼン環に置換可能なハメットのσ値で
０ないし１．０に含まれる電子吸引性基を表わし、ｎは
０ないし４の整数を表わす。

ここでｎが複数のときＲ４は同じでも異なっていてもよ
く、Ｒ１が相互に結合して環を形成していてもよい、ハ
メットのσ値については、例えばＴｅｒｒｙ　Ｍａｒｃ
ｈ、”Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｒｙ”＋第２５３真に記載されている。

さらに詳しくは、置換基Ｒ３、Ｒ４は、ハロゲン原子（
例えば、塩素原子、臭素原子）直鎖または分岐、鎖状ま
たは環状、飽和または不飽和置換または無置換の脂肪族
基（例えばメチル、プロピル、ｔ−ブチル、トリフルオ
ロメチル、トリデシル、３−（２，４−ジ−ｔ−アミル
フェノキシ）プロピル、２−ドデシルオキシエチル、３
−フェノキシプロビル、２−へキシルスルホニル−エチ
ル、シクロペンチル、ベンジル）、アリール基（例えば
フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、４−テトラデカン
アミドフェニル）、ペテロ環！（例えば、２−フリル、
２−チェニル、２−ピリミジル、２−ベンゾチアゾリル
）、シアノ基、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキ
シ、２−メトキシエトキシ、２−ドデシルオキシエトキ
シ、２−メタンスルホニルエトキシ）、アリールオキシ
基（例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−
ｔ−ブチルフェノキシ）、ヘテロ環オキシ基（例えば、
２−ベンズイミダゾリルオキシ）、アシルオキシ基（例
えば、アセトキシ、ヘキサデカノイルオキシ）、カルバ
モイルオキシ基（Ｎ−エチルカルバモイルオキシ）、シ
リルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ）、ス
ルホニルオキシ基（例えば、ドデシルスルホニルオキシ
）、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド、ベンズア
ミド、テトラデカンアミド、α−（２，４−ジー１−ア
ミルフェノキシ）ブチルアミド、２．４−ジ−ｔ−アミ
ルフェノキシアセトアミド、α−（４−（４−ヒドロキ
シフェニルスルホニル）フェノキシ））デカンアミド、
イソペンタデカンアミド）、アニリノ基（例えばフェニ
ルアミノ、２−クロロアニリノ、２−クロロ−５−テト
ラデカンアミドアニリノ、２−クロロ−５−ドデシルオ
キシカルボニルアニリノ、Ｎ−アセチルアニリノ、２−
クロロ−５−（α−（２−１−ブチル−４−ヒドロキシ
フェノキシ）ドデカンアミド）アニリノ）、ウレイド基
（例えばフェニルウレイド、メチルウレイド、Ｎ、Ｎ−
ジブチルウレイド）、イミド基（例えば、Ｎ−スクシン
イミド、３−ペンジルヒダントイニル、４−（２−エチ
ルヘキサノイルアミノ）フタルイミド）、スルファモイ
ルアミノ基（例えば、Ｎ、Ｎ−ジプロピルスルファモイ
ルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−デシルスルファモイルアミ
ノ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチル
チオ、テトラデシルチオ、２−フェノキシエチルチオ、
３−フェノキシプロピルチオ、３−　（４−ｔ−ブチル
フェノキシ）プロピルチオ）、了り−ルチオ基（例えば
、フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェ
ニルチオ、３−ペンタデシルフェニルチオ、２−カルボ
キシフェニルチオ、４−テトラデカンアミドフェニルチ
オ）、ヘテロ環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリル
チオ）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メト
キシカルボニルアミノ、テトラデシルオキシカルボニル
アミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば
、フェノキシカルボニルアミノ、２，４−ジーｔｅｒ　
ｔ−ブチルフェノキシカルボニルアミノ）、スルホンア
ミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ヘキサデカン
スルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ｐ−トルエ
ンスルホンアミド、オクタデカンスルホンアミド、２−
メチルオキシ−５−ｔ−ブチルベンゼンスルホンアミド
）、カルバモイル基（例えば、Ｎ−エチルカルバモイル
、Ｎ、Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−（２−ドデシル
オキシエチル）カルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシ
ルカルバモイル、Ｎ−（３−（２，４−ジーＬｅｒｔ−
アミ／Ｌ／　７　ｘ、　／キシ）プロピル）カルバモイ
ル）、アシル基（例工ば、アセチル基、（２，４−ジー
ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）アセチル、ベンゾイル）
、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイ
ル、Ｎ。

Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−（２−ドデシルオ
キシエチル）スルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシ
ルスルファモイル、Ｎ、Ｎ−ジエチルスルファモイル）
、スルホニル基（例えば、メタンスルホンル、オクタン
スルホニル、ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル
）、スルフィニルｉ（ｆＭえば、オクタンスルフィニル
、ドデシルスルフィニル、フェニルスルフィニル）、ア
ルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、
ブチルオキシカルボニル、ドデシルカルボニル、オクタ
デシルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（例
えば、フェニルオキシカルボニル、３−ペンタデシルオ
キシ−カルボニル）を表わす。

Ｒ１は、ベンゼン環に置換可能なハメットのσ値で０か
ら１．０に含まれる電子吸引性基を表わし、例としては
、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子）、シアノ
基、ニトロ基、アリールオキシ基（例えばフェノキシ）
、アシルオキシ基（例えばアセトキシ）、カルバモイル
オキシ基、スルホニルオキシ基、アシルアミノ基（例え
はアセトアミド、プロピルアミド、（ｔｌ−ブチルアミ
ド）、スルホンアミド基、カルバモイル基、アシル基（
例えばアセチル、ベンゾイル）、スルホニル基、アルコ
キシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、ブチル
オキシカルボニル）、了り−ルオキシカルボニル基、等
があげられる。

一般式（ＩＩ）で表わされる化合物のうち特に好ましい
化合物は、一般式（■）で表わされる。

一般式（■） ＣＩｌＳ　　Ｒｔ 式中、Ｒｔは炭素数１ないし１５の脂肪族基、芳香族基
もしくは、複素環基を表わす、脂肪族基とは、直鎖また
は分岐、鎖状または環状、飽和または不飽和、置換また
は無置換の脂肪族基である。

代表的な例としてはエチル基、（ｔｌブチル基、メチル
基、（１）プロピル基、ベンジル基、シクロヘキシル基
、（３１ブチル基、ヘプチル基または２−エチルヘキシ
ル基などが挙げられる。

芳香族基とは、置換もしくは無置換のフェニル基または
置換もしくは無置換のナフチル基である。

この中で置換フェニル基が好ましい例である。置換基と
して例えば脂肪族基（例えば（【）ブチル基）、アルコ
キシ基、ニトロ基、シアノ基、またはハロゲン原子（例
えばクロル原子）などを有してもよい。

複素環基とは、複素原子として窒素原子、イオウ原子ま
たは酸素原子から選ばれる５員または６貝の置換または
無置換の複素環基である０代表的な複素環基の例として
は、５−　（１，２，３，４＝テトラゾリル）基、５−
　（１，２，４−１−リアゾリル）基、２−　（１，３
，４−チアジアゾリル）基、２−　（１，３，４−オキ
サジアゾリル）基、ベンズイミダゾリル基、ベンズオキ
サシリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。複
素環基の置換基としては、フェニル基、脂肪族基（例え
ばメチル基）、脂肪族チオ基（例えばメチルチオ基）、
またはアシルアミノ基（例えばアセトアミド基）が代表
的な例である。

一般式（Ｖ）および（■）において、ｎが複数のときＲ
４が相互に結合して環を形成するときの代表的な例は、
一般式（Ａ）および（Ｂ）で表わされるものである。

一般式（Ａ）　　　　　　　一般式（Ｂ）式中、Ｒｚ、
ＲｓおよびＲ１はすでに説明したのと同じ意味を表わす
。

次に本発明により合成できる一般式（■）で示される化
合物の具体例を以下に示す、但しこれらに限定されるわ
けではない。

ＣＨｌ 側 ＣＯ＊ＧＨｚＣＨｓ Ｈ ■ Ｃ，Ｈ。

αの Ｑｌ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｏ■ 奪 Ｃ，Ｈｓ ０■ Ｈ ０■ Ｈ３ 一般式（Ｖ）で示される化合物と、一般式（Ｖｌ）で示
される化合物と反応し、一般式（■）で示される化合物
を収率良く、選択的に得る反応は、３価のリンの存在下
で達成された。以下に本発明を構成する合成方法につい
て詳しく説明する。

この反応において３価のリンとしては、トリフェニルホ
スフィン、トリアルキルホスフィン（例えば、トリ　（
ＩＩ）−ブチルホスフィン）、三塩化リン、三臭化リン
、トリフェニルホスファイト、トリエチルホスファイト
などが用いられる。この中で好ましい例は、トリフェニ
ルホスフィン、トリアルキルホスフィンである。ここで
フェニルの置換基として好ましくはメチル基、メトキシ
基である。使用量は一般式（ＩＶ）の化合物１モルに対
し、０．７〜５．０モル、好ましくは、０．９〜３．０
モルが適切である０本発明において用いられる反応溶媒
としては、プロトン性溶媒、または非プロトン性溶媒の
高極性ないし低極性のいずれの溶媒も適宜選択してまた
は混合して用いることができる。

好ましくは非プロトン性溶媒である。例えば、アミド類
（例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、ホルムアミド、Ｎ−メチルピロリド
ン）、ニトリル［（例えばアセトニトリル、プロピオン
トリル、ベンゾニトリル〉、エーテル［（例えばテトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチ
ルエーテル）、芳香族Ｗ４（例えばベンゼン、トルエン
）、ハロゲン系溶媒類（例えばクロロホルム、ジクロロ
メタン、四塩化炭素）、エステル類（例えば酢酸エチル
、酢酸ブチル）、ジメチルスルホキシド、スルホランが
あげられる。これらの中で特に好ましい溶媒は、エーテ
ル類、ハロゲン系溶媒類、エステル類である。

本発明において、反応温度は、０℃ないし１００℃、好
ましくは２０℃ないし８０℃である０反応温度は化合物
の種類によって適宜選択される。

また反応時間は、概ね１時間ないし３時間であった。一
般式（Ｖｌ）で表わされる化合物の使用量は、一般式（
Ｖ）の化合物１モルに対し、０．７〜１０．０モル、好
ましくは１．０〜６．０モルで適宜選択される。

（実施例） 以下に本発明により実施したチオエーテル基を有するカ
テコール類の代表的合成例について具体的に示す。

（例１）例示化合物＋１１の合成 化合物（３１）、３．０ｇ　（４，９８−０１）　、化
合物（３２）、４．２ｇ　（２０，０麟−０１）、およ
びトリフェニルホスフィン１．３１　ｇ　（４，９８ｓ
ｕ＋ｏｌ）をテトラヒドロフラン６〇−に加えた０反応
温度を６５℃に保ち１時間、攪拌した後、水約１００１
１１１、酢酸エチル約１００ｍ加え、分液ロートに移し
２回抽出した。１０％炭酸水素ナトリウム水溶液で２回
洗浄した後、１０％塩酸水溶液で洗い、水洗して中和し
た。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下
、酢酸エチルを留去し、残香に塩化メチレン１０−、ヘ
キサン１２ｗ１１を加え再結晶した。結晶を口別するこ
とにより目的の例示化合物（１１を２．４ｇ得た。

収率は６３％であった。融点（分解点）は１６２〜１８
５℃であった。

例（２）例示化合物（１１の合成 ↓ ＋１１ 化合物（３１）、３．０ｇ　（４，９８ｗｍｏｌ）　、
化合物（３２）、４．２ｇ　（２０，０ｍｍｏｌ）およ
びトリ　（ＩＩ）−ブチルホスフィン１．００　ｇ　（
４，９８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン６０−に溶解
し、反応温度を６５℃に保ち１時間攪拌した０反応汲水
約１００ａｄ、酢酸エチル約１０（ｌｄを加え分液ロー
トに移し２回抽出した。

１０％炭酸水素ナトリウム水溶液で２回洗浄した後、１
０％塩酸水溶液で洗い水洗して中和した。

酢酸エチル層を無水硫酸す）　ＩＪウム乾燥し、減圧下
、酢酸エチルを留去し、残金に塩化メチレン１０−、ヘ
キサン１２−を加え、再結晶した。・結晶を日別するこ
とにより目的の例示化合物（１）を２．３ｇ得た。収率
は５７．５％であった。

例（３）　　例示化合物（５）の合成 Ｐｈｓ ↓ 化合物（３３）５０．０　ｇ　（０，０６モル）、化合
物（３４）４４．７　ｇ　（０，２１モル）、およびト
リフェニルホスフィン１５．７ｇ　（０，０６モル）を
テトラヒドロフラン１１に溶解し、環流下１時間撹拌し
た。その後本釣２１酢酸エチル１．４７！加え、分液ロ
ートに移し２回抽出し、１０％炭酸水素ナトリウム水溶
液で３回洗浄した後、１０％塩酸水溶液で洗い水洗して
中和した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで充分乾
燥し、減圧下、酢酸エチルを留去し、残金に塩化メチレ
ンｉｏｏｗ１１、ベキ９フエ２０ｗｒｌ加え再結晶した
。結晶を日別することにより目的の例示化合物（５）を
３８．９ｇ　（収率６４％）得た。融点（分解点）は１
７３〜２０３℃であった。高速液体クロマトグラフィー
による分析の結果、ピーク面積強度比で９８．４％の純
度であった。

高速液体クロマトグラフィーの測定条件カラム：　１５
３Ｘ　Ｏ，６ａｓφのＯＤＳカラム溶離溶離液ニジオキ
サン／アセトニトリル／水口クロロホルム／リン酸リエ
チルアミ ン＝４０／３０／３０／　２　／　０．２　（ｖｏ１％
）例（４）　　例示化合物（５）の合成 化合物（３３）　１．０ｇ、トリフェニルホスフィン３
１５■を四塩化炭素１０ｍ、テトラヒドロフラン１５＋
ｄの混合溶媒に溶解し１時間加熱還流した。

その後化合物（３４）を３８３■加えさらに２時間加熱
還流した０反応汲水２０−１酢酸エチル４０ｍ加え２回
抽出し、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液で３回洗浄し
た後、１０％塩酸水溶液で洗い水洗して中和した。酢酸
エチル層を無水硫酸ナトリウムで充分乾燥し、減圧上酢
酸エチルを留去し、残金に塩化メチレン１０−ヘキサン
１２Ｍ！加え再結晶した。結晶を日別することにより目
的の例示化合物（５）を７８８■（収率６５％）得た。

高速液体クロマトグラフィーによる分析の結果ピーク面
積強度で９８．０％の純度であった。

流　　１　：　　１．Ｏｍ／ｓｉｎ 検出波長：２５４ｎｍ 例（５）例示化合物Ｏ１の合成 ｉｌ ↓ αの 化合物（３３）２０．８ｇ　（０，０２５モル）、化合
物（３５）１９．８ｇ　（０，１モル）およびトリフェ
ニルホスフィン６．６ｇ　（０，０２５モル）をテトラ
ヒドロフラン６００−に溶解し、還流下３時間、攪拌し
た。その後、本釣Ｉ！、酢酸エチル１．２１加え２回抽
出し、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液で３回洗浄した
後、１０％塩酸水溶液で洗い、水洗して中和した。

酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで充分乾燥し、減圧
下、酢酸エチルを留去し、残香にアセトニトリル１１０
ｉ加え再結晶した。結晶を日別することにより、目的の
例示化合物Ｏ１を１２．８ｇ　（収率５３％）得た。融
点（分解点）は、２５７〜２６３℃であった。

例（６）例示化合物０１の合成 ０■ しＬｌｇｌ；ＨｚＬ；Ｈ３ Ｐｈｓ ↓ α１ 化合物（３３）５０．０　ｇ　（０，０６モル）、化合
物（３６）６８．６ｇ　（０，２４モル）およびトリフ
ェニルホスフィン１５．７ｇ　（０，０６モル）をテト
ラヒドロフラン１１に溶解し、還流下３０分間攪拌した
。その後水約２１、酢酸エチル１．４１加え２回抽出し
、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液で３回洗浄した後、
１０％塩酸水溶液で洗い、水洗して中和した。酢酸エチ
ル層を無水硫酸ナトリウムで充分乾燥し、減圧下、酢酸
エチルを留去し残香にアセトニトリル２５〇−加え再結
晶した。結晶を日別することにより、目的の例示化合物
ａＳを４１．１ｇ　（収率６３．５％）得た。融点（分
解点）は２０５〜２０６℃であった。高速液体クロマト
グラフィーによる分析の結果ピーク面積強度比で９４％
の純度であった。

（測定条件は例＋２１と同じ） 例（７）　　例示化合物αりの合成 Ｏｆ（ ↓ αり 化合物（３３）　２．０ｇ　（１，２ｍｍｏｌ）　、化
合物（３７）２．９５ｇ　（６，０ｍｍｏｌ）およびト
リフェニルホスフィン６３ＯＮをテトラヒドロフラン４
０ｄに溶解し、還流下５時間攪拌した。その後水約１０
０ｄ、酢酸エチル１００＋ｄ加え、２回抽出し、１０％
炭酸水素ナトリウム水溶液で３回洗浄した後、１０％塩
酸水溶液で洗い、水洗して中和した。酢酸エチル層を無
水硫酸す）　ＩＪウムで充分乾燥し、減圧下、酢酸エチ
ルを留去し、残香にアセトニトリルを加えた。結晶を日
別した後、０液の溶媒を留去し、残香にクロロホルム１
０−、ヘキサン１２−を加え再結晶した。結晶を日別す
ることにより、目的の例示化合物Ｑ９を０．５　ｇ得た
。高速液体クロマトグラフィーによる純度は９７％であ
った。（測定条件は例（２）と同じ）融点（分解点）は
２０７〜２１２℃であった。

比較実験例１ ０■ ↓ 化合物（３３）　１４０．０ｇ　（０，１７モル）と塩
化アルミニウム２２．４ｇ　（０，１７モル）とを２．
８１のテトラヒドロフランに溶解し、反応温度を一１５
０℃に保ち、化合物（３４）５７．３　ｇ　（０，２７
モル）の７０（ｌｄ塩化メチレン溶液を３時間滴下した
０反応汲水約５１１酢酸エチル約５１加え２回抽出し、
更に１０％炭酸水素ナトリウム水溶液で３回洗浄した後
、１０％塩酸水溶液で洗い水洗して一中和した。酢酸エ
チル層を無水硫酸ナトリウムで充分乾燥し、減圧下、酢
酸エチルを留去し、残香にクロロホルム４３７−、ヘキ
サン６００−を加え、晶析した。

結晶を口割し、得られた粗結晶８８．７ｇをメタトル３
００−に溶解し、メタノールを留去した後残金に塩化メ
チレン３９０−、ヘキサン３２０−加え、再結晶した。

得られた結晶を口割することにより目的物（５）を６８
．５ｇ　（収率４０．０％）得た。高速液体クロマトグ
ラフィーによる純度は、９５．０％であった。

比較実験例２ 化合物（３３）　２．０　ｇ　（２，４０ｓｎｏｌ）と
化合物（３４）２．５５ｇ　（１２，０ｇｍｏｌ）とを
４０艷のテトラヒドロフランに溶解し、１時間加熱還流
した０反応後酢酸エチル４〇−加え２回水洗し、更に１
０％炭酸水素ナトリウム水溶液で３回洗浄した後１０％
塩酸水溶液で洗い中和した。酢酸エチル層を無水硫酸ナ
トリウムで充分乾燥し、減圧下、酢酸エチルを留去した
後残金にクロロホルム１０ｍ、ヘキサン１０ｄを加え晶
析した。得られた結晶を口割することにより目的物（５
）を０．５０ｇ　（収率２０％）得た。

比較実験例１．２の反応と実施例（２）の反応の高速液
体クロマトグラフィーによる生成物の生成比率を表１に
示す。

＋ （測定条件は例（２）と同様） 表１の結果から本発明の方法は比較例に比べ好収率でか
つ高選択的に反応が進行することがわかる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記一般式（ I ）で示されるカテコール類と下
   記一般式（II）で示される化合物とを、３価のリン存在
   下で反応せしめ下記一般式（III）で示される化合物を
   合成することを特徴とするチオエーテル基を有するカテ
   コール類の合成方法。 一般式（ I ）▲数式、化学式、表等があります▼　一
   般式（II）Ｘ−Ｓ−Ｒ＿２一般式（III）▲数式、化学
   式、表等があります▼　一般式（IV）ＰＹ＿３式中、Ｒ
   ＿１は置換基を表わし、Ｒ＿２は、脂肪族基、芳香族基
   もしくは複素環基を表わし、Ｘはハロゲン原子もしくは
   イミド基を表わし、ｎは０ないし２の整数を表わす。こ
   こでｎが複数のとき２つのＲ＿１は、各々同じものまた
   は異なるものを表わす。Ｙは、脂肪族基もしくは芳香族
   基を表わす。
2. （２）上記一般式（ I ）、（II）、及び（III）がそれ
   ぞれ下記一般式（Ｖ）、（VI）、及び（VII）であるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第（１）項に記載のチオ
   エーテル基を有するカテコール類の合成方法。 一般式（Ｖ）▲数式、化学式、表等があります▼　一般
   式（VI）Ｃｌ−Ｓ−Ｒ＿２　一般式（VII）▲数式、化
   学式、表等があります▼式中、Ｒ＿３およびＲ＿４は、
   ベンゼン環に置換可能な基を表わし、Ｒ＿５はベンゼン
   環に置換可能なハメットのσ値で０〜１．０に含まれる
   電子吸引性基を表わし、ｎは０ないし３の整数を表わす
   。ここでｎが複数のときＲ＿４は同じでも異なっていて
   もよく、Ｒ＿４が相互に結合して環を形成していてもよ
   い。