JPS63277584A - 改良された施釉法 - Google Patents

改良された施釉法

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JPS63277584A
JPS63277584A JP11287687A JP11287687A JPS63277584A JP S63277584 A JPS63277584 A JP S63277584A JP 11287687 A JP11287687 A JP 11287687A JP 11287687 A JP11287687 A JP 11287687A JP S63277584 A JPS63277584 A JP S63277584A
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JP
Japan
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glaze
glaze layer
flame
heat
inorganic
Prior art date
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Pending
Application number
JP11287687A
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English (en)
Inventor
Tatsuya Nagata
達也 永田
Isozou Kubota
久保田 五十蔵
Haruyuki Mizuno
治幸 水野
Yasushi Shimizu
泰 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Inax Corp
Original Assignee
Inax Corp
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Publication date
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  • Glass Compositions (AREA)
  • Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は改良された塗布・溶射による施釉法に関する。
詳しくは、基材上に水ガラス等の耐熱付着性無機系物質
を塗布し、その後釉薬を塗布することにより、溶射熔融
時の釉層の基材への付着力(融着力)を増大させた施釉
法に関する。
[従来の技術およびその問題点] 建材用基材、特にコンクリート板、スレート板等の相対
的に低耐熱性の基材上に施釉して釉層を形成する場合、
該基材上に釉薬を塗布した後、プラズマ又はガス式溶射
装置、或いはその他の表面加熱装置を移動させるか該基
材を移動させて、該装置からの溶射炎又は熱により該基
材上の釉薬を溶かして、ガラス質層を形成する方法が知
られている。しかしながら、その際、溶射装置等から発
生する溶射炎等の勢いによって釉層が溶けてガラス層が
形成される前に、該塗布層が剥離する危険性が大きかっ
た。また、基材の中には釉薬との濡れ性(なじみ)が悪
く、溶射炎等による釉薬の熔融時に釉層が剥離すること
がある。
上記のような現象は、釉薬を塗布した基材全体をトンネ
ルキルンで焼成(約30時間府後)または高速度焼成炉
で焼成(約1時間取と)する場合には、実質的に発生し
ない現象である。これに対し、プラズマ炎またはガス炎
の照射による加熱溶射等では釉薬は実質的に瞬時に熔融
するので、このような現象が生起するものと考えられる
従って本発明の目的は、従来の釉薬の溶射熔融時におけ
る基材への低い付着力を改良し、両者の濡れ性を改良し
た施油法を提供することにある。
[問題点を解決するだめの手段] 本発明の改良された塗布・溶射による施釉法は、無機質
基材上に水溶性またはゾル形成性の耐熱付着性無機系物
質を塗布した後、該無機系物質上にエアースプレ 、幕
かけ法等により釉薬を塗布し、施釉面を乾燥させ、そし
て該施釉表面をプラズマ溶射装置、ガス式または火炎式
溶射装置、遠赤外線炉等により加熱溶射して釉層の少な
くとら表面を熔融させてガラス質釉層を形成することを
特徴とする。
上記の耐熱付着性無機系物質としては、水ガラス;リン
酸系化合物(例えばリン酸アルミニウム、リン酸ナトリ
ウム、リン酸カリウム、リン酸マグネシウム、リン酸お
よびリン酸エステル)、ホウ酸系化合物(例えばホウ酸
ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸およびホウ酸エス
テル)、ケイ酸エステル、コロイダルシリカ、アルミナ
ゾル等の濃厚水溶液または水性ゾルが例示される。代表
的には水ガラスが使用される。
上記の水ガラスとは、アルカリ−ケイ酸塩系ガラスの濃
厚水溶液(通常的30重量%以と)を意味する。ここで
該アルカリとは一般にNatOlLizOおよび/また
はに、oであり、5ift/アルカリのモル比は通常2
.1〜3.5である。例えば、ケイ酸リチウム、ケイ酸
ナトリウム、およびケイ酸カリウムの濃厚水溶液が例示
され、通常市販の水ガラス[組成(重量比)、5iOt
:30%、Na*0:10%、水=60%]が使用され
る。
上記の無機系物質の塗布量は代表的には約0゜5〜約5
 g / l OOc m″である。該物質の塗布は、
はけ塗り又はスプレー塗布のいずれでもよい。
上記の釉薬としては、従来の釉薬が使用できる。
釉薬の塗布量は、通常的I〜約500 g / I O
Oas”、代表的には約5〜約100g/cm”である
得られる釉層の厚さは通常約0.Imm〜数mmである
。なお、上記の釉薬として、釉薬中のガラスフリット1
00重量部に対して約1〜約40重量部、好ましくは約
3〜約30重量部、更に好ましくは約5〜約20重量部
の上記の耐熱付着性無機系物質が添加混合された、改良
釉薬を用いることができる。改良された該釉薬は、釉薬
原料のガラスフリットおよび必要に応じて粘土、電解質
、水、顔料等をボールミル等により十分綿層し、これに
必要に応じて適量の有機質バインダー(例えばメチルセ
ルロース、ポリビニルアルコール、澱粉)と共に、上記
の耐熱付着性無機系物質を上記範囲の量で加え、十分に
混合することにより製造できる。
[実施例] 本発明を以下の実施例により、更に具体的に説明する。
実施例1: タイル素焼き素地(+00x100mm角)上に、はけ
で市販の水ガラス(SiOt:30%。
Na2O:IQ%、水:60%)を約1g塗布した。そ
の上に、釉薬(組成:フリット100mW部、粘土5重
量部、および適量のカルボキシメチルセルロースと水)
をエアースプレーにて約5g塗布した。その後気中にて
約1時間放置して、施釉面を乾燥させた。次いでメテコ
社製5Pガン(ガス式溶射装置)の火炎を用いて、下記
の条件で釉薬塗膜だけを熔融した: 火炎走査速度:5〜20mm/秒 走査幅   =5〜20mm 基材−溶射ガン間距離=12〜20cmガス流量  :
酸素 35Q/分、 アセチレン 35e/分。
このようにして、第1図に示すような、タイル素地2上
に水ガラス層3および釉層4を有する三層構造の光沢の
ある施釉無機質建材lが得られた。
該釉層は火炎溶射時に全く剥離を生じなかった。
実施例2: コンクリート基材[30Qx300x80 (厚さ) 
m m l上に実施例1と同じ市販の水ガラスを10g
はけで塗布し、その上に実施例1と同じ釉薬を50g塗
布した。その後気中にて1時間放置乾燥した。次いでプ
ラズマテクニック社製Pl−A2000型プラズマ溶射
ガンを用い、下記の条件で釉薬塗膜だけを熔融した: プラズマ炎走査速度:50〜15mm/秒走査幅   
   :2mm 基材−プラズマガン間距H:9〜12cmプラズマ発生
条件:400〜600A。
65〜75v。
Ar流ff130〜60Q/分。
H8流1110〜15j/分。
このようにして、釉層の光沢面が得られた。釉薬のみを
用いた場合には溶射時に釉層の剥離がしばしば生じたの
に対して、本実施例の釉層は全く剥離が生じなかった。
[作用および効果] 基材上に釉薬を塗布する前に耐熱付着性無機系化合物を
塗布することにより、基材と釉層の融着力が増大する。
従って本発明の施油法は次の代表的な効果を奏する。す
なわち、■釉薬の塗布後、施釉面を溶射炎等で加熱して
釉層を熔融する際、釉層の剥離が生じず、均質な光沢面
が得られる。
■耐熱付着性無機系化合物が媒体となって釉薬と基材と
の濡れ性か向上するので、釉薬との濡れ性が悪い基材で
あっても釉層が基材に強固に融着される。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の方法により得られる施釉無機質建材
の縦断面図である。 l・・・施釉無機質建材、2・・・基材、3・・・水ガ
ラス層、4・・・釉層。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)無機質基材上に耐熱付着性無機系物質を塗布した
    後、釉薬を塗布し、次いで施釉表面を加熱溶射して釉層
    を熔融させてガラス質釉層を形成することを特徴とする
    、改良された塗布・溶射による施釉法。
  2. (2)上記の無機系物質が水ガラスである、特許請求の
    範囲第1項の施釉法。
  3. (3)上記の無機系物質の塗布量が0.5〜5g/10
    0cm^2の範囲である、特許請求の範囲第1または第
    2項の施釉法。
JP11287687A 1987-05-07 1987-05-07 改良された施釉法 Pending JPS63277584A (ja)

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