JPS63274592A

JPS63274592A - 製版材料

Info

Publication number: JPS63274592A
Application number: JP11162687A
Authority: JP
Inventors: Tetsuro Fukui; 哲朗福井; Kozo Arahara; 荒原　幸三; Hiroshi Fukumoto; 博福本
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1987-05-06
Filing date: 1987-05-06
Publication date: 1988-11-11

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、レーザー光線を用いて製版することが出来る
製版材料に関する。

〔従来の技術〕

近年、印刷スピードの高速化および効率化への要望は高
まる一方であり、印刷作業の工程における製版について
も作業の高速化及び効率化が望まれている。

従来の製版工程は、写真技術により光マスクを作成し、
その後、光マスクフィルムを２８版にかさねて全面露光
を行い、現像処理を行って印刷版を作成している。この
光マスクの作成工程は多量の銀を必要とすること、及び
複雑で多くの労力を必要とするため、その工程を省略し
た原稿から版材上に直接製版するダイレクト製版が注目
されている。

このダイレクト製版システムに電子写真法を利用して、
印刷版上にトナー像をのせ製版する方法とレーザー技術
を利用したレーザーダイレクト製版システムがある。

レーザーダイレクト製版システムに利用される記録方法
は、電子写真法、ヒートモードによる製版、フォトポリ
マーの硬化などにより製版する方法がある。これらの製
版に使われるレーザー光源は、電子写真法ではＡｒやＨ
ｅ−Ｎｅレーザー、ヒートモード用ではＹＡＧレーザ−
、フォトポリマー用ではＡｒレーザーが主である。

レーザー技術を利用することにより、情報をデジタル処
理したままの状態で製版出来、製版のスピードアップと
コストダウンが計られたが、レーザー光源が高価格で大
型なため、十分に利用されていないのが現状である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は、上記問題点を解決し、小型でかつ低価格の半
導体レーザーを利用した高感度の製版材料を提供するも
のである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明のかかる目的は、一般式（１）、（ｎ）及び（Ｉ
ＩＩ）で示される化合物のうち、少なくとも１種を含有
する光開始剤組成物と光重合性感光成分を主成分とした
製版材料によって達成される。

一般式（Ｉ）　　　　　　Ｒ。

一般式（ＩＩＩ）式中、Ａ、Ｂ、Ｄ及びＥは水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、アラルキル基又はアリール基（フェニル、ト
リル、キシリル、エチルフェニル、クロルフェニル、ジ
クロロフェニル、トリクロロフェニル、ブロモフェニル
、ジブロモフェニル、ニトロフェニル、メトキシフェニ
ル、エトキシフェニル、ジメチルアミノフェニル、ジエ
チルアミノフェニル、ジプロピルアミノフェニル、ジベ
ンジルアミノフェニル、ピロリジノフェニル、ジフェニ
ルアミノフェニルなど）を示し、これらの基は置換基を
有していてもよい。

ＲＩ　＋　Ｒ２＋　Ｒ３＋　Ｒ４およびＲ５は水素原子
、ハロゲン原子またはアルキル基（例えば、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、１ｓｏ−プロピル基、ｎ−
ブチル基、５ｅｃ−ブチル基、１ｓｏ−ブチル基、ｔ−
ブチル基、ｎ−アミル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル
基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基など）を示し、さ
らに他のアルキル基、例えば置換アルキル基（例えば、
２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、
４−ヒドロキシブチル基、２−アセトキシエチル基、カ
ルボキシメチル基、２−カルボキシエチル基、３−カル
ボキシプロピル基など）を示す。

Ｙは５員もしくは６員環を形成するのに必要な原子群を
有する２価の炭化水素基（例えば−ＣＨ２−ＣＨ２，モＣＨ２矢３゜など）を示
し、これらの５員または６員環は置換基を有していても
よく、ベンゼン環、ナフタレン環などと縮合していても
よい。

Ｘｅは、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン
、過塩素酸塩イオン、ベンゼンスルホン酸塩イオン、Ｐ
−トルエンスルホン酸塩イオン、メチル硫酸塩イオン、
エチル硫酸塩イオン、プロピル硫酸塩イオン、テトラフ
ルオロホウ酸塩イオン、テトラフェニルホウ酸塩イオン
、ヘキサフルオロリン酸塩イオン、ベンゼンスルフィン
酸塩イオン、酢酸塩イオン、トリフルオロ酢酸塩イオン
、プロピオン酢酸塩イオン、安息香酸塩イオン、シュウ
酸塩イオン、コハク酸塩イオン、マロン酸塩イオン、オ
レイン酸塩イオン、ステアリン酸塩イオン、クエン酸塩
イオン、−水素二リン酸塩イオン、二水素−リン酸塩イ
オン、ペンタクロロスズ酸塩イオン、クロロスルホン酸
塩イオン、フルオロスルホン酸塩イオン、トリフルオロ
メタンスルホン酸塩イオン、ヘキサフルオロアンチモン
酸塩イオン、モリブデン酸塩イオン、タングステン酸塩
イオン、チタン酸塩イオン、ジルコン酸塩イオンなどの
陰イオンを示す。

ｍ　、　ｎは０．１又は２である。

次に、前記一般式で示される化合物の代表例を第１表に
示す。

ただし、代表例の中で −は左と同じ置換基を意味する。

表Ｉ　　　Ｒ２Ｒ４Ｒ＊　　Ｒ６ｍ　　　ｎ　　　　Ｙ　
　　　　Ｚ　　　　Ｘ（−−−−００そＣＨ２）　３　
　　　　　Ｃ１１−−−００（−ＣＨＩ）、　　−Ｂｒ
→　　　−−−−００−１１−ＣＨ，）、　　−０１０
４１−−−−００（−ＣＨ２シ、−ＣｌＯ４（−−−−
００−ｆ−ＣＨ，）２−　　　　ＣｌＯ４１−−−−０
０（−（：）Ｉ２ンａ−（１０４１−−−−００（−Ｃ
Ｈ２）３−　　　　ＣｌＯ４−−−−−００４ＣＭ２シ
、−ＢＦ４ −　　−　　−　　−　　０　　０　　−１−ＣＨ２）
、　　−Ｃ４！Ｏ４Ｅ　　　ＲＩ　　Ｒ２Ｒ４Ｒ３Ｒ５
ｍ　　ｎ　　　ＹＺ　　　　Ｘ←　　Ｈ−−−−００子
ＣＨ２矢２−　　　（ＪＯ４←　　Ｈ−−００（−ＣＨ
２）２　−　　　　ＢＦ４←Ｈ−−、−、−１１−（Ｃ
Ｈ，）、−Ｃ１←　　ＣＩ　　　Ｈ←　　←　　、１　
　１　　千ＣＨ２矢、−ＣＩＯ４←　Ｈ←　−Ｈ−１０
（ＣＨ２矢２−　ＳＱＩ各ＣＨ３←　　Ｃ１←　　−Ｈ
−１０−Ｃ−ＣＨ２ン、−Ｃ１０４←Ｈ←−Ｈ−１０＋
ＣＨ２）ｓ　　−Ｃ１ｏ４ｓ ”　　　ＨＯＯ−Ｃ１１２−Ｃ−ＣＨ２−−Ｃ１ｏ４←
　ＣＨ３−−−−００壬ＣＴ（、ン２−　　　　ＣｌＯ
２−Ｈ←　　−Ｈ−２０壬ＣＨ２矢、　　　　　ＣｌＯ
４３← 虜　← ＲＩ　　Ｒ２Ｒ４Ｒ３Ｒ８ｍ　　ｎ　　　Ｙ　　　　Ｚ
　　　　ＸＨ−−−−００ＪｃＣＨ，ｆ、−（ｊ！０４
ＣＨ３Ｈ−Ｈ−２０（−ＣＨ２）２　−　　　　Ｃｌ０
１Ｈ←　　−）（−−−（−ＣＨむ、−ＣＩＣｊ！　　
ＣＨｓ　　　−ＣＨ３−−−−ｅｃＨ２）２　−　　　
　ＢｒＣｌ　　　Ｈ−Ｈ−−−（−ＣＨ２）、−ＣｌＯ
４働ＨＣＨ２−ＣＨ２−−−−αｚ−Ｃ−０１！−Ｃ／　０
４１ｇＣ１ｌ（）ｉ　　　−−−（−ＣＨ２γ、　　　　　Ｂ
Ｆ４ＨＣＨｓ　−ＣＨ３−−−’ｃｃＨ２＞ｔ　　５Ｃ
Ｂ−＠）−ＣＨ３ＣＩ　　　ＨＨ（ＣＨ２）　ｓ　　　
　　Ｃ１０４ＲＩ　　　Ｒ２Ｒ４Ｒ３Ｒ５ｍ　　　ｎ　
　　　Ｙ　　　　　Ｚ　　　　　　ＸＨＣ１’　　　−
ＣＩ　　　−−−−Ｏｈ−Ｃ−０１−−ＣｌＯ４１ｚ３ＨｘＨＨ’　　　　　　　　　−Ｃ１ｈ−Ｃ−０１ｚ−Ｃｌ
Ｏ４０Ｉ！０４６　　　Ｈ−Ｈ−−−−１’ｃＨ２γｓ−ＣｌＯ４
Ｂｒ　　　Ｈ−Ｈ−−−＋、ＣＨｚ＋ｚ　　　　　　　
　ＩＨＨ−Ｈ−−−＋ＣＨｔ＋ｓ　　　　　Ｃ１０＜Ｂ
ｒ　　Ｂｒ　　−Ｂｒ　　−−−−ＧＣＨｔ）ｚ　−Ｓ
Ｏ＋ＧＣＨ３ＲｚＨＨ−Ｈ−０１ｚ−Ｃ−ＣＩＩｚ−−Ｃ１０４（５ｓＢｒ　　ＣＨＩ　　−ＣＨｓ　−−−＋ＣＨ２）ｚ　　
ＳＯ＋（濾ＣＨ３Ｒ。

ＣＩＣＩＢｒＣＩＣｊ！ＲｌＬ　Ｒ４Ｒ３Ｒ５ｍｎ　　　　’／　　　　　Ｚ　
　　　　ＸＨ−Ｈ−−−モＣＨ２）２　　　　　　ＣＩ
Ｏ＜”　　　　　　　　　　　　　−０１ｚ−Ｃ−Ｇｌ
−−ＣｌＯ４１ｚ）ｉ　　　　　　Ｈ−一　　　−÷ＣＨ２シ２−　　　
１Ｂｒ　　　　　　　Ｂｒ　　　　　　　　　　　　（
ＣＨ２）　３　　　　　　　Ｉ働Ｈ−Ｈ−−−（１ｚ−Ｃ−０１ｓ−−ＢＦ４Ｒ３ａ−、ａ−１１Ｚ　Ｉ　　　　ＢＦ　４−　　−　　−
　０　　０　　　　−　　　ｚ、　　　Ｃｊ！０４、−
、＝−１１−Ｚ、　　　　　ＩＣＨＩ　　　Ｈ０１３２２Ｚｘ　　　　ＢＦ４−−−０
０−Ｚ、１ＲＩ　　　Ｒ２Ｒ４Ｒ３Ｒ５ｍ　　　ｎ　　　　　ｙ　
　　　　Ｚ　　　　　　　ＸＨ←←←−１１−Ｚ、　　
　　Ｃｊ！０４”　　　　　　　　Ｚｘ　　　　ＣｌＯ
４００−Ｚ、　　　　Ｃｌ０４Ｒａ−−ａ−１１７，２８Ｆ　４Ｈ”　　　−−−１１−Ｚ＋　　　　ＣＩ！０４−　　
−−　　−−００　　　−　　　　Ｚ２　　　ＣｌＯ４
−−−−−００−Ｚ２　　　　　ＴＨＣｍ！　　Ｈ（Ｊ−１１−Ｚ、　　　　Ｃｍ！０４−
　　−　　−　　−−　　ｏ　　　Ｏ−ｚ、　　　　Ｃ
ｆ、４Ｈ４−４−←　−１１−ｚ、　　　　Ｃｌ０４Ｒ
。

Ｒ，Ｒ４Ｒ，Ｒ１１ｍｎ　　　　”ｆ　　　　Ｚ　　　
　　　Ｘ←　　←　　←　　−１１−Ｚ、　　　　　　
１−　　０　　０　　　−　　　　Ｚ、　　　　　Ｃ’
ｆＯ４−−−００−Ｚ＋　　　　ＣｌＯ４ −−−００−ｚ、　　　　　ＢＦ４Ｑ　　　Ｑ　　　　−Ｚ、　　　　Ｃ４！０４、−、−
　　　←　　−１１−Ｚ、　　　　Ｃ１０４化合物　一
般式　　　　　Ａ　　　　　　　　　Ｄ　　　　　　　
ＢＥＮｏ、　　　　Ｎｏ。

Ｄ−ｎ　　ｒｖ　　（（がＮ（Ｃ）ｂ）ｚ　　　°　　
←　　←Ｄ−７２　　ｒＶ’　　舎Ｎ（ＣＨ＋）ｚ　　
’−＋ＣＨｓ　　”Ｄ−７３ＴＶ　　（ｃかＮ（Ｃ２Ｉ
ｓ）、　　←　各国ｚ）Ｉｓ←Ｄ−７４ＴＶ　　（（濾
Ｎ　（ＣｚＨω２　　←　　←　　←Ｄ−７５　　ｒＶ
　　舎Ｎ（αＨ６）２　　　“　　　００Ｄ−７６ｒｖ
　　−４かＮ（ＣＪＨυ２　　　　　＠　←ｏ−ｒｔ　
　Ｉｖ知戸＜ａｈ）ｔ　　←８ＣｚＨｓ　、−Ｄ−７８
１Ｖ　　ＱＮ（Ｑ出）２　←　ハチ、←Ｄ−７９ｒｖ　
　（（濾Ｎ（αＨも）２　　　←　　α３　　←Ｄ−問
　ｙ　　％ｗＣ囲ｓ）ｔ　　　←　（かｃｔ　　←Ｄ８
１　　ＴＶ　　＋Ｎ　（ＱＨｓ）２　　’−４Ｃ１←Ｒ
，Ｒ２Ｒ４Ｒ３Ｒ６ｍ　　　ｎ　　　　ＹＺ　　　　　
　ＸＨ−−−−００−Ｚ、　　　　　　ＩＨ←−−−ｏＯ−ｚ　　　　　　Ｃｍ！０゜Ｈ←−−−
００−Ｚｚ　　　　　ＣＣｌ０ａ　　　’−−−−００
−Ｚ＋　　　　Ｃ１，０ａ）１　　　←　　−−−００
−Ｚ２　　　Ｃ１！０４Ｈ←　　　−−−００−ｚ、　
　　　　ｃｌｏ。

ＣＨ，←−−−００−Ｚ、　　　　Ｃｊ’Ｏ。

−←　　−−−ｏｏ−ｚ、　　　　　　ｒ！（Ｃ４−−
−００−Ｚ、　　　　Ｃ１ｏｄＣ２Ｈｓ−−−−Ｏｏ　
　　　−ｚ、　　　　ＣｊＯ。

Ｈ←　　−−−００−Ｚ、　　　　Ｃｏｏ。

このような色素は有機溶剤に対する溶解性が良い。一般
に使用出来る溶剤としてじは、アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジ−イソプロピルエーテル、ジ−ｎ−プロピルエー
テル、ジ−ｎ−ブチルエーテルなどのエーテル類、酪酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸エチルなどのエ
ステル類、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエチ
レン、トリクロロエチレンなどのハロゲン化炭化水素類
、あるいはベンゼン、トルエン、キシレン、モノクロル
ベンゼン、ジクロルベンゼン、アニソールなどの芳香族
類、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノールなどのア
ルコール類がある。

上記溶媒を使用して一般式（Ｉ）、（ｎ）及び（ＩＩＩ
）で示される化合物を含有する光開始剤組成物及び光重
合性感光成分からなる皮膜を分散状態あるいは溶解状態
で基材上に作成させることが出来る。また、皮膜性、接
着性や耐久性向上のためにバインダーを適宜用いても良
く、塗膜形成能力をもつポリマーがすべて利用できる。

バインダーとしては例えば、ポリビニルピロリドン、ポ
リメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル
、及びそれらの共重合体などが挙げられる。

本発明の光開始剤組成物には、効果的にラジカルを発生
させるため光開始剤として有機過酸化物を含有している
ことが好ましい。この有機過酸化物は分子中に酸素−酸
素結合を少なくとも１個以上有する有機化合物のほとん
どすべてが含まれる。

例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘ
キサノンパーオキサイド、３，３．５−　トリメチルシ
クロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノ
ンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、
１．１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）　−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン、１．１−ビス（ｔ
ｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ｎ−ブチ
ル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）バレ
ラート、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）
ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ク
メンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンピン
ハイドロバーオキサイド、パラ−メンタンハイドロパー
オキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２、−シバイ
ドロバ−オキサイド、１，１，３．３−テトラメチルブ
チルハイドロパーオキサイド、ジーｔｅｒｔ−ブチルパ
ーオキサイド、ｔｅｒｔ−プチルタミルパーオキサイド
、ジクミルパーオキサイド、α、α′−ビス（ｔｅｒｔ
−ブチルパーオキシイソプロビル）ベンゼン、２．５−
ジメチル−２゜５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）
ヘキサン、２゜５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−
ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、アセチルパーオキサ
イド、イソブチリルパーオキサイド、オクタノイルパー
オキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパ
ーオキサイド、３，５．５−　）リメチルヘキサノイル
バーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、
２．４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ−ト
ルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジ
カーボネート、ジー２−エチルヘキシルパーオキシジカ
ーボネート、ジノルマルプロピルパーオキシジカーボネ
ート、ジー２−エトキシエチルパーオキシジカーボネー
ト、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、
ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカ
ーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、
ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔｅｒｔ
−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパー
オキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ
オクタノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−３，５
゜５−トリメチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパ
ーオキシラウレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベン
ゾエート、ジーｔｅｒｔ−シバーオキシイソフタレート
、２．５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキ
シ）ヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチル過酸化マレイン酸、ｔ
ｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロビルカーボネート等
が挙げられる。

また、その他の光重合開始剤を混合してもかまわない。

本発明に用いる光重合性感光成分は、すべての不飽和化
合物を挙げることができ、これらの不飽和化合物として
は、重合性のエチレン系不飽和結合を有する七ツマ−、
オリゴマー、ポリマーなどがあり、例えばアクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸及びその無水物
、フタル酸及びその無水物、フマル酸等の不飽和酸や（
メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、
（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸グリシ
ジル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、マレイン
酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメチル、
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート等の不飽和酸エステル、
及びスチレン、アクリルアミド、アクリロニトリル、Ｎ
−ビニルピロリドン、酢酸ビニル、さらに種々の不飽和
ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリウレタ
ンやエポキシ（メタ）アクリレート化合物などが挙げら
れる。

光開始剤組成物の添加量は光重合性感光成分ｉｏ。

重量部に対して０．１−１００重量部、好ましくは０．
５〜５０重量部である。また光開始剤組成物は前記一般
式（１）、（ＩＴ）、（ＩＩＩ）で示される化合物と有
機過酸化物とを有効成分として含有する場合、両者の配
合割合は重量比で、（１）、（ｎ）、（ＩＩＩ）で示さ
れる化合物：有機過酸化物＝０．１　：　９９．９〜１
００：０であり、好ましくは、３〜９５　：９７〜５で
ある。

本発明の製版材料は、前述のような光重合性感光成分に
、前記一般式（１）〜（ｍ）のうち少なくとも１種の化
合物と、好ましくは前記有機過酸化物を含有する光開始
剤組成物を添加し、必要に応じて通常の染料、顔料、禁
止剤およびバインダー等と適当な溶媒を加えて分散ある
いは溶解させ、基板上に製膜させる。。

基板としては、一般に使われている銅版、アルミ版など
の他に、ポリイミドフィルム、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、アラミドフィルムなどのフィルム類を用
いることができる。

次に本発明の実施例を挙げて説明する。

〈実施例１−４〉光重合性感光成分として、下記構造化合物１００部、バ
インダー（ＣＨ２＝ＣＨＣ００ＣＨ２ＣＨ２０ＣＯＮＨ−＠；ｒ
−＋２ＣＨ２として、ポリメチルメタクリレート３５部
を用い、これに光開始剤組成物として、下記第２表に示
したや化合物５部と有機過酸化物３部をジクロメタン２５０部
に溶解させアプリケーターを用いて耐熱処理をしたＰＥ
Ｔフィルム上に、４μ厚になるように塗布した。さらに
この上にポリビニルアルコール８μ厚の膜を塗布した。

この版材に２５ｍＷの半導体レーザー（８３０ｎｍ）ビ
ーム径０．４ｍｍを用いて露光し、塗膜の硬化するまで
の必要なエネルギー量を測定した。

第２表１．４　　　　ベンゾイルパーオキサイド　　　　　　
　　０．９０２．１４　　　　ジーｔ−プチルパーオキ
シイソフタレー）　１．３５３、　　４０　　　シクロ
ヘキサノンパーオキサイド　　　　１．１０４．５４　
　　ベンゾイルパーオキサイド　　　　　　　　０．５
５型かつ安価なレーザーを使用することができる。

〈実施例５〜８〉光重合性感光成分として、下記構造の化合物を用いた以
外は（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２０ＣＯＮト０→ＣＨ
２実施例１と同様に版材を作成した。必要エネルギーの
測定結果を第３表に示す。

第３表５．５　　　メチルシリロヘキサノンパーオキサイド　
０．８０６．１５　　　ベンゾイルパーオキサイド　　
　　　　　０．５５７．３８　　　ベンゾイルパーオキ
サイド　　　　　　　０．９５以上のように一般式（Ｉ
）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で示される化合物を光開始
剤組成物に含有させ製版することが出来た。

〔発明の効果〕

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一般式（ I ）、（II）及び（III）で示される化
合物のうち、少なくとも１種を含有する光開始剤組成物
と光重合性感光成分を主成分としたことを特徴とする製
版材料。式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼ 式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼ ただし、式中、Ａ、Ｂ、Ｄ及びＥは水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基を示す。Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４及びＲ＿５は水素原子
、ハロゲン原子、またはアルキル基を示す。ｍ、ｎは０
、１または２である。Ｘ＾■は陰イオンを示し、Ｚ＾■
は▲数式、化学式、表等があります▼または、▲数式、
化学式、表等があります▼を示す。Ｙは５員環または６員環を形成するのに必要な原子群を
有する２価の炭化水素基を示す。